CN201538707U - 超临界水氧化装置 - Google Patents

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申哲民
叶春
孔海南
倪永斌
张石磊
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Abstract

一种废水处理技术领域的超临界水氧化装置,包括:反应釜、中心管、沉淀室、控制阀、储泥仓、排泥阀和排水阀,其中:反应釜的出口与中心管的上端相连接,中心管的下端固定设置于沉淀室内,排水阀设置于沉淀室的侧面,控制阀的入口与沉淀室的出口相连接,控制阀的出口与储泥仓相连接,排泥阀设置于储泥仓的出口。本实用新型可以将超临界水热反应产生的泥浆可以从底部分离排出,设备不易造成设备堵塞,可连续处理高固体含量流体。

Description

超临界水氧化装置
技术领域
本实用新型涉及的是一种废水处理技术领域的装置,具体是一种连续处理高固体含量流体的超临界水氧化装置。
背景技术
超临界水热技术(supercritical water,SCW),近年来,在国内外发展迅猛,在化工、医药、石油、环保、生物质能等领域有广阔的应用前景。超临界水热技术的优点在于:环境友好、用途广泛,对难降解有机物的处理效率高(99.9999%以上),反应非常快,超临界水热装置小,结构紧凑。超临界水热技术用于对废水中的有机物氧化降解处理,形成了超临界水氧化技术(Supercritical water oxidation,SCWO),可以连续运行。连续式超临界水热反应完成后,生成了包括水、气体和固体的混合物,其排放的气体中无NOX、酸气(如HCl或SOX等)和粉尘微粒等,CO的含量低,废水有机物氧化彻底,完全符合排放水标准和气体排放标准。
超临界水热技术的不足在于:超临界状态下无机物溶解度减小,产生较多的结晶垢体,容易造成设备堵塞,连续运转困难,超临界水热技术难以连续处理高固体含量的流体,包括污泥、废水等。
传统的排渣技术主要有:机械刮渣,超声波粉碎排渣等。但对于超临界设备并不适用,超临界设备是高温高压设备,机械刮渣操作难度大,渣体不易排出,容易造成反应压力和温度的下降。超声波粉碎排渣处理成本过高,渣体不易排出。容易造成二次堵塞。
实用新型内容
本实用新型针对现有技术存在的上述不足,提供一种超临界水氧化装置,在超临界反应釜的下设有一套水渣分离装置,泥渣通过沉淀分离从底部排出,而水溶液从分离装置的上部流出。
本实用新型是通过以下技术方案实现的,本实用新型包括:反应釜、中心管、沉淀室、控制阀、储泥仓、排泥阀和排水阀,其中:反应釜的出口与中心管的上端相连接,中心管的下端固定设置于沉淀室内,排水阀设置于沉淀室的侧面,控制阀的入口与沉淀室的出口相连接,控制阀的出口与储泥仓相连接,排泥阀设置于储泥仓的出口。
所述的沉淀室位于反应釜下,与中心管相连,呈漏斗形,便于渣体的沉淀。
所述的排水阀位于沉淀室上部,处于沉淀室内的高度高于中心管的下端的高度。
所述的储泥仓呈筒形,其直径小于等于沉淀室的直径。
本实用新型可以将超临界水热反应产生的泥浆可以从底部分离排出,设备不易造成设备堵塞,可连续处理高固体含量流体。
附图说明
图1为本实用新型的结构示意图。
具体实施方式
下面对本实用新型的实施例作详细说明,本实施例在以本实用新型技术方案为前提下进行实施,给出了详细的实施方式和具体的操作过程,但本实用新型的保护范围不限于下述的实施例。
如图1所示,本实施例包括:反应釜1、中心管2、沉淀室3、控制阀4、储泥仓5、排泥阀6和排水阀7,其中:反应釜1的出口与中心管2的上端相连接,中心管2的下端固定设置于沉淀室3内,排水阀6设置于沉淀室3的侧面,控制阀4的入口与沉淀室3的出口相连接,控制阀4的出口与储泥仓5相连接,排泥阀6设置于储泥仓5的出口。
所述的排水阀7位于沉淀室3内的高度高于中心管2的下端的高度。
所述的储泥仓5的直径小于沉淀室3的直径。
本实施例工作时,超临界反应釜1的水溶液从中心管2的出水口流出后向四周和向上流动,从分离装置上部的排水阀7流出;沉淀室3的直径是中心管的3-10倍,水流速降低后其中的颗粒物沉淀逐渐累积到沉淀室3的底部形成泥渣浆。沉淀室3的底部设有控制阀4,打开后可使沉淀室3的泥渣浆流入到位于其底部的储泥仓5,储泥仓底部的排泥阀6可定期打开排泥。

Claims (3)

1.一种超临界水氧化装置,其特征在于,包括:反应釜、中心管、沉淀室、控制阀、储泥仓、排泥阀和排水阀,其中:反应釜的出口与中心管的上端相连接,中心管的下端固定设置于沉淀室内,排水阀设置于沉淀室的侧面,控制阀的入口与沉淀室的出口相连接,控制阀的出口与储泥仓相连接,排泥阀设置于储泥仓的出口。
2.根据权利要求1所述的超临界水氧化装置,其特征是,所述的排水阀位于沉淀室内的高度高于中心管的下端的高度。
3.根据权利要求1所述的超临界水氧化装置,其特征是,所述的储泥仓的直径小于等于沉淀室的直径。
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