CN201105401Y - 环抛机校正盘减荷装置 - Google Patents

Abstract

本实用新型公开了一种环抛机校正盘减荷装置，属于光学机械技术领域。它包括真空系统、回转系统、提升系统和自动控制系统；真空系统包括真空吸盘、和真空发生器；回转系统包括回转轴、缓冲器；提升系统包括气缸比例阀；自动控制系统包括人机界面。本实用新型可大大提高了环抛机的加工效率，校正盘可单独清洗，并可方便地翻转进行面形检测。本装置不工作时可将校正盘离线存放，克服了固着式减荷装置存在的缺点。适合各种环抛机校正盘的减压使用。

Description

环抛机校正盘减荷装置

所属技术领域

本实用新型涉及光学元件加工设备，尤其是环行抛光机的辅助设备，属于光学机械技术领域。

背景技术

环抛是加工平面光学元件的主要工序，环抛机校正盘的面形质量直接影响着沥青抛光盘的质量，从而影响工件的加工质量。由于校正盘直径大、重量重，以及其自身的压力分布的均匀性、磨擦发热等因素，很难使校正盘的面形长时间保持良好的平整度，不得不对校正盘进行经常的调整和监测，从而使加工效率非常低。解决的办法之一是对校正盘进行适当减荷，目前一般采用固着式减荷置来解决这一问题，这种方式的结构是减荷装置和校正盘连接为一体，存在着校正盘清洗不方便、不能翻转检测的缺点，并且装置不工作时须长时间悬吊，存在安全隐患。

实用新型内容

为了克服现有的固着式校正盘减荷装置的不足，本实用新型提供一种真空吸盘式环抛机校正盘减荷装置。

本实用新型解决其技术问题所采用的技术方案是：环抛机校正盘减荷装置，包括真空系统、回转系统、提升系统和自动控制系统；真空系统包括真空吸盘3、吸盘分管4-1、吸盘总管4-2、旋转接头4-3、真空总管4和真空发生器11；回转系统包括回转轴5、回转轴提升支架6、缓冲器7；提升系统包括气缸1、气缸支架2、比例阀12和压力显示器14；自动控制系统包括人机界面15及控制电路；气缸1固定在气缸支架2上，气缸1经缓冲器7与回转轴提升支架6相连；回转轴提升支架6经连接轴7-2与回转轴5相连，回转轴5再与吸盘爪3-1相连，吸盘爪3-1与真空吸盘3相连；提升系统的气路连接结构为：比例阀12的进气口16接压缩空气气源21，出气口20接气缸1；真空系统的气路连接顺序依次为：吸盘3、吸盘分管4-1、吸盘总管4-2、旋转接头4-3、真空总管4到真空发生器11，真空发生器11的进气口18接压缩空气气源21。

真空吸盘3的上升是由汽缸活塞的向上运动实现的，气缸1采用单向进气方式，当按上升按纽时，压缩空气进入气缸1的下腔，推动活塞向上运动，由与之连接的回转轴提升支架6、回转轴5，带动真空吸盘3平稳上升，与校正盘9分离；当按下降按纽时，气缸1下腔的压缩空气缓慢释放，压力变小，真空吸盘3在系统的重力作用下平稳下降，落到校正盘9的表面。压力的大小由调压旋钮13进行进行调整，由压力显示屏14显示其数值。

真空吸盘3下降到校正盘9表面设定位置后，开启真空发生器11，由人机界面15键盘上的按钮调整显示屏上的参数，设定提升力的数值，由比例阀12实现对真空发生器11的压力(真空度)控制，达到设定的真空度(提升力数值)时，真空吸盘3将校正盘9吸牢，真空系统封闭，以此实现对校正盘9的减压提升。提升力的数值在0～100％范围连续可调。

本实用新型的有益效果是，采用真空吸附方式实现了对环抛机校正盘的减荷提升，使修磨好的校正盘面形能长时间地保持，大大提高了加工效率。校正盘可单独清洗，并可方便地翻转进行面形检测。本装置不工作时可将校正盘离线存放，克服了固着式结构存在的缺点。

附图说明

图1是本实用新型总体结构示意图；

图2是本实用新型吸盘系统提升时的状态示意图；

图3是图2的A-A剖视图。

具体实施方式

下面结合附图和实施例对本实用新型进一步说明。

如图1-3，环抛机校正盘减荷装置，包括真空系统、回转系统、提升系统和自动控制系统；真空系统包括真空吸盘3、吸盘分管4-1、吸盘总管4-2、旋转接头4-3、真空总管4和真空发生器11；回转系统包括回转轴5、回转轴提升支架6、缓冲器7；提升系统包括气缸1、气缸支架2、比例阀12和压力显示器14；自动控制系统包括人机界面15及控制电路；气缸1固定在气缸支架2上，气缸1经缓冲器7与回转轴提升支架6相连；回转轴提升支架6经连接轴7-2与回转轴5相连，回转轴5再与吸盘爪3-1相连，吸盘爪3-1与真空吸盘3相连；提升系统的气路连接结构为：比例阀12的进气口16接压缩空气气源21，出气口20接气缸1；真空系统的气路连接顺序依次为：吸盘3、吸盘分管4-1、吸盘总管4-2、旋转接头4-3、真空总管4到真空发生器11，真空发生器11的进气口18接压缩空气气源21。

回转轴5与缓冲器7的连接轴7-2套接，可使回转轴5随校正盘9的转动而转动，确保校正盘9在加工过程中自由转动。

旋转接头4-3连接吸盘总管4-2和真空总管4，可以使真空总管不随吸盘系统转动，保证管路系统正常工作。

真空吸盘3和吸盘爪3-1之间采用调心轴承8连接，使真空吸盘3可以沿水平方向自由旋转，并可在垂直方向略为倾斜转动，以保证真空吸盘3与校正盘9的表面紧密接触。

真空吸盘和吸盘爪3-13为6个(图中示意为3个)，沿回转轴5的径向辐射排列，相互之间的夹角为60°，真空吸盘3的圆心与回转轴5的轴心距离为校正盘9半径的1/2，真空吸盘3的半径为校正盘9的半径的1/6，每个真空吸盘3的最大提升力为270kg，在0～270kg范围内连续可调。

吸盘爪3-1之间设有吸盘支架3-2，以此保持吸盘爪3-1不易变形，使各真空吸盘3的盘面保持在同一平面上。

校正盘9工作时可能产生轴向的跳动，为保证运行的平稳，回转轴提升支架6与气缸1经缓冲器7相连，缓冲器7为一弹性部件，对真空吸盘3及回转轴5的上下串动起到缓冲的作用。

缓冲器7设有伸缩轴7-1，伸缩轴7-1与气缸1相连，提升真空吸盘3时，伸缩轴7-1收缩，落下真空吸盘3时，伸缩轴7-1伸展。

回转轴5的下部设有可拆装的定位轴5-1，以使整个吸盘系统与校正盘9保持同心，调整时使其与校正盘9上的定位圆9-1同轴心，保持重复定位精度。

气缸支架2用于安装气缸1，并与装置支架17固定连接。

人机界面15由显示屏和键盘组成，抛光机加工运行时，工件19置于抛光盘10上，根据校正盘9对抛光盘10的工作压力、时间等参数的要求，设置气缸1中的气压，使气缸1具有向上的拉升力。可以按照要求通过键盘设置各项参数，实现自动控制。

为保证气缸气压的稳定，设置了比例阀12，当外加气源(压缩空气)气压发生波动时，可修正比例阀12的输出，以使气缸1的气压保持稳定，以此保持校正盘9对抛光盘的压力保持不变。

上面已结合附图对本实用新型的具体实施方式进行了示例性的描述，显然本实用新型不限于此，在本实用新型范围内进行的各种改型均没有超出本实用新型的保护范围。

Claims (7)

1、一种环抛机校正盘减荷装置，其特征在于，包括真空系统、回转系统、提升系统和自动控制系统；真空系统包括真空吸盘(3)、吸盘分管(4-1)、吸盘总管(4-2)、旋转接头(4-3)、真空总管(4)和真空发生器(11)；回转系统包括回转轴(5)、回转轴提升支架(6)、缓冲器(7)；提升系统包括气缸(1)、气缸支架(2)、比例阀(12)和压力显示器(14)；自动控制系统包括人机界面(15)及控制电路；气缸(1)固定在气缸支架(2)上，气缸(1)经缓冲器(7)与回转轴提升支架(6)相连；回转轴提升支架(6)经连接轴(7-2)与回转轴(5)相连，回转轴(5)再与吸盘爪(3-1)相连，吸盘爪(3-1)与真空吸盘(3)相连；提升系统的气路连接结构为：比例阀(12)的进气口(16)接压缩空气气源(21)，出气口(20)接气缸(1)；真空系统的气路连接顺序依次为：吸盘(3)、吸盘分管(4-1)、吸盘总管(4-2)、旋转接头(4-3)、真空总管(4)到真空发生器(11)，真空发生器(11)的进气口(18)接压缩空气气源(21)。

2、根据权利要求1所述的环抛机校正盘减荷装置，其特征在于，所述的真空吸盘(3)与吸盘爪(3-1)之间连接有调心轴承(8)。

3、根据权利要求1所述的环抛机校正盘减荷装置，其特征在于，所述的真空吸盘(3)及吸盘爪(3-1)为3-6个，沿回转轴(5)径向等角度辐射排列，真空吸盘(3)的圆心与回转轴(5)的轴心距离为校正盘半径的1/2-2/3。

4、根据权利要求1所述的环抛机校正盘减荷装置，其特征在于，所述的吸盘爪(3-1)之间设有吸盘支架(3-2)。

5、根据权利要求1所述的环抛机校正盘减荷装置，其特征在于，所述的缓冲器(7)设有伸缩轴(7-1)，缓冲器(7)经伸缩轴(7-1)与气缸活塞相连。

6、根据权利要求1所述的环抛机校正盘减荷装置，其特征在于，所述的回转轴(5)的下部设有定位轴(5-1)。

7、根据权利要求1所述的环抛机校正盘减荷装置，其特征在于，所述的气缸支架(2)与装置支架(17)固定连接。

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