CN1880982A - 彩色滤光片和其制备方法 - Google Patents

彩色滤光片和其制备方法 Download PDF

Info

Publication number
CN1880982A
CN1880982A CNA200510035395XA CN200510035395A CN1880982A CN 1880982 A CN1880982 A CN 1880982A CN A200510035395X A CNA200510035395X A CN A200510035395XA CN 200510035395 A CN200510035395 A CN 200510035395A CN 1880982 A CN1880982 A CN 1880982A
Authority
CN
China
Prior art keywords
barricade
black matrix
ink
group unit
preparation
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
CNA200510035395XA
Other languages
English (en)
Other versions
CN100405092C (zh
Inventor
周景瑜
陈健宏
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Hongfujin Precision Industry Shenzhen Co Ltd
Hon Hai Precision Industry Co Ltd
Original Assignee
Hongchuang Technology Co ltd
Hongfujin Precision Industry Shenzhen Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Hongchuang Technology Co ltd, Hongfujin Precision Industry Shenzhen Co Ltd filed Critical Hongchuang Technology Co ltd
Priority to CNB200510035395XA priority Critical patent/CN100405092C/zh
Priority to US11/450,257 priority patent/US7396619B2/en
Publication of CN1880982A publication Critical patent/CN1880982A/zh
Application granted granted Critical
Publication of CN100405092C publication Critical patent/CN100405092C/zh
Expired - Fee Related legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B5/00—Optical elements other than lenses
    • G02B5/20—Filters
    • G02B5/201—Filters in the form of arrays
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41M—PRINTING, DUPLICATING, MARKING, OR COPYING PROCESSES; COLOUR PRINTING
    • B41M3/00—Printing processes to produce particular kinds of printed work, e.g. patterns
    • B41M3/003—Printing processes to produce particular kinds of printed work, e.g. patterns on optical devices, e.g. lens elements; for the production of optical devices
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
    • G02F1/1335—Structural association of cells with optical devices, e.g. polarisers or reflectors
    • G02F1/133509—Filters, e.g. light shielding masks
    • G02F1/133514—Colour filters
    • G02F1/133516—Methods for their manufacture, e.g. printing, electro-deposition or photolithography

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Optical Filters (AREA)

Abstract

本发明涉及一种彩色滤光片和其制备方法，该彩色滤光片包括：一透明基板；多个形成于该透明基板表面的黑色矩阵；多个形成于该黑色矩阵表面的挡墙，该多个挡墙和黑色矩阵限定多个像素区，其中以直线排列的多个像素区和与其相邻的黑色矩阵和挡墙定义为一群组单元，该群组单元包括内部挡墙和外部挡墙，且该内部挡墙至少形成一通道，或者该内部挡墙的全部或局部高度小于该外部挡墙高度；多个红绿蓝三种颜色层以规则顺序形成于该多个群组单元内的像素区，其中每个群组单元内的像素区形成相同颜色的颜色层。本发明的彩色滤光片的颜色层品质更佳且具有类似连续分布的颜色梯度。

Description

彩色滤光片和其制备方法
【技术领域】
本发明涉及一种彩色滤光片和其制备方法。
【背景技术】
由于液晶显示器(Liquid Crystal Display，LCD)为非主动发光的元件，必须透过内部的背光源提供光源，搭配驱动IC与液晶控制形成黑、白两色的灰阶显示，再透过彩色滤光片(Color Filter)的红(R)、绿(G)、蓝(B)三种颜色层提供色相，形成彩色显示画面，因此彩色滤光片为液晶显示器彩色化的关键元件。
如图1所示，现有技术的彩色滤光片10包括：一玻璃基板12；一形成于该基板12表面的多个黑色矩阵(Black Matrix，BM)14，用于定义液晶显示面板的像素大小；一形成于该黑色矩阵14表面的挡墙(Bank)16，用于容纳并隔开形成RGB颜色层的墨水以避免产生混色；以及一透明导电层18于挡墙16上方封装该三种颜色层。
如图2所示，现有技术的另一种彩色滤光片20包括：一玻璃基板22；一形成于该基板22表面的多个黑色矩阵24，该黑色矩阵24内分别容纳RGB颜色层；以及一透明导电层28在该黑色矩阵24上方封装该RGB颜色层。该彩色滤光片20与彩色滤光片10不同之处在于彩色滤光片20未设有挡墙。
目前，现有技术的彩色滤光片制备方法主要有：颜料分散方法(Pigment-dispersed Method)和喷墨方法(Ink Jet Method)。
颜料分散方法：利用旋转涂覆(Spin Coating)方式，将RGB三种颜色光阻分别涂覆在一透明基板上。当完成一种颜色光阻的旋转涂覆后，通过曝光显影制程在该透明基板的特定位置上留下此种颜色光阻，此过程必须重复三次以得到三颜色光阻。然而，使用旋转涂覆方式将颜色光阻涂覆在透明基板上时，由于离心力，颜色光阻可能出现旋转中心较薄而外缘较厚的问题，而且当透明基板的面积愈来愈大时，此问题将愈严重，另外，大部分颜色光阻被旋转到基板以外，造成大量原料浪费。而且三种颜色光阻依序分别执行三次曝光显影步骤，颜色光阻的图案可能出现错位的情形。通过曝光显影制程移除不需要的颜色光阻时，因为颜色光阻分布不均匀的问题，可能发生部分颜色光阻未被移除的情形。所以，颜料分散方法具有制程复杂、原料成本高、品质较难保证的缺点。
喷墨方法：使用一喷墨装置将含有RGB颜色层的墨水同时喷射在一透明基板上的黑色矩阵内，墨水滴被干燥后在该透明基板上形成着色的RGB颜色层图案。使用喷墨方法能够一次形成RGB颜色层，使得制备过程大量简化，成本大幅降低。
但是，使用喷墨装置进行喷射作业过程中，有时会在某个像素区出现不喷墨水滴，或喷墨量不足，从而造成彩色滤光片的RGB像素品质缺陷。而且当单点喷射的墨水掺杂不同量的气泡时，最后形成的颜色层将出现不同的厚度误差，从而影响彩色滤光片的RGB像素品质。
另外，采用现有技术的喷墨法制备彩色滤光片容易造成数字化颜色梯度，如喷一滴墨水进入像素区时，其颜色浓度为第一阶；喷两滴墨水时，其颜色浓度为第二阶，如此重复。所以，现有技术的喷墨法较难形成类似连续分布的颜色梯度。
有鉴于此，提供一种通过减少喷墨量不均匀以及减少喷墨误差以提高彩色滤光片品质的彩色滤光片和其制备方法实为必要。
【发明内容】
下面将以多个实施例说明一种通过减少喷墨量不均匀以及减少喷墨误差以提高彩色滤光片品质的彩色滤光片和其制备方法。
为实现上述内容，提供一种彩色滤光片，其包括：一透明基板；多个形成于该透明基板上的黑色矩阵；多个形成于该黑色矩阵上的挡墙，该多个挡墙和黑色矩阵限定多个像素区，其中以直线排列的多个像素区和与其相邻的黑色矩阵和挡墙定义为一群组单元，该群组单元包括内部挡墙和外部挡墙，且该内部挡墙至少形成一通道，或者该内部挡墙的全部或局部高度小于该外部挡墙高度；多个红、绿、蓝三种颜色层以规则顺序形成于该多个群组单元内的像素区，其中每个群组单元内的像素区形成相同颜色的颜色层。
优选的，该群组单元限定的多个像素区的个数小于或等于十个。
以及，提供一种彩色滤光片的制备方法，其步骤如下：
提供一透明基板；
在该基板上表面形成多个黑色矩阵；
在该黑色矩阵上表面形成多个挡墙，该多个挡墙和黑色矩阵限定多个像素区，其中以直线排列的多个像素区和与其相邻的黑色矩阵和挡墙定义为一群组单元，每个群组单元包括内部挡墙和外部挡墙，且该内部挡墙至少形成一通道，或者该内部挡墙的全部或局部高度小于外部挡墙高度；
通过一喷墨装置将所需颜色的墨水注入群组单元的多个像素区，相同颜色的墨水在每个群组单元的多个像素区均匀流平；
固化多个像素区内的墨水，分别形成红、绿、蓝颜色层。
相对于现有技术，本实施例的彩色滤光片和其制备方法由于采用将多个直线排列的像素区群组化，并将每个群组单元的内部挡墙开设通道的设计，能提高本实施例的彩色滤光片颜色层的品质，且使彩色滤光片具有类似连续分布的颜色梯度，另外在制备过程中能减少因气泡引起的喷墨误差。
【附图说明】
图1是一种现有技术的彩色滤光片的剖面示意图。
图2是另一种现有技术的彩色滤光片的剖面示意图。
图3是本发明第一实施例彩色滤光片的立体结构示意图。
图4是本发明图3沿IV-IV线的剖面示意图。
图5是本发明第一实施例彩色滤光片的一群组单元的立体结构示意图。
图6是本发明第一实施例彩色滤光片的一种RGB像素分布示意图。
图7是本发明第一实施例彩色滤光片的另一种RGB像素分布示意图。
图8是本发明第二实施例彩色滤光片的立体结构示意图。
图9是本发明第三实施例彩色滤光片的制备步骤流程图。
【具体实施方式】
下面将结合附图对本发明实施例作进一步的详细说明。
请一起参阅图3、图4和图5，本发明第一实施例提供一彩色滤光片30，其包括：一透明基板32、多个黑色矩阵34、多个挡墙36和多个RGB颜色层35。
该多个黑色矩阵34形成于该透明基板32上表面。该多个黑色矩阵34分隔成连续的多个小块矩阵，其为像素区，其用于容纳颜色层35。每个像素区为一像素，所以，该黑色矩阵34可定义液晶显示面板的像素大小。本实施例中该多个黑色矩阵34的宽度D1为20微米，像素区的宽度D2为90微米。
该多个挡墙36形成于该多个黑色矩阵34上表面，从而与该多个黑色矩阵34同时围住该像素区。该多个挡墙36的宽度小于或等于该黑色矩阵34的宽度。本发明以直线排列的多个像素区和与其相邻的黑色矩阵34和挡墙36定义为一群组单元39。该群组单元39包括多个像素区以及隔住该多个像素区的多个内部挡墙36′，该内部挡墙36′分别具有至少一通道362，其用于连通相邻的像素区。该群组单元限定的多个像素区的个数优选为小于或等于十个。
本实施例的每个群组单元39包括三个像素区、多个黑色矩阵34和多个外部挡墙36、内部挡墙36′。该多个内部挡墙36′分别具有一通道362。多个RGB颜色层35分别形成于相邻的该多个群组单元39的多个像素区内。每个群组单元39的多个像素区都形成同种颜色的颜色层。
请一起参阅图6和图7，本实施例的彩色滤光片的RGB颜色层分布为直条型设计。其具体分布优选为：在Y轴方向上，具有相同色素的群组单元周期排列；在X轴方向上，群组单元的排列次序以RGB或RGBBGR次序周期排列。或者X轴与Y轴的分布相互对换。可以理解，在X轴方向上，该群组单元的排列次序并不限于以RGB或RGBBGR次序周期排列，只要与其搭配驱动IC能满足控制相关不同分布设计的像素即可。另外，本实施例的群组设计并不限于X轴或Y轴的直线方向，对角相邻的直线排列的多个像素区也可进行群组设计。
可以选择的是，本发明的彩色滤光片群组设计除于群组单元的内部挡墙形成至少一通道外，也可采用其中内部挡墙的全部或局部高度小于外部挡墙的高度，该设计同样能达到使墨水于群组单元内均匀流平的功效，只要喷墨后墨水的高度高于该内部挡墙的局部高度。下面继续介绍同时于内部挡墙形成至少一通道和其全部高度小于外部挡墙高度的实施例。
请参阅图8，本发明第二实施例提供一种彩色滤光片80，其结构与第一实施例的彩色滤光片30相似，其不同的处在于：多个群组单元的内部挡墙86′的高度小于外部挡墙86的高度。此结构的优点在于当墨水较大量时，墨水可以快速地于群组单元内流平。
另外，本发明的彩色滤光片进一步包括一保护层均匀覆盖于多个黑色矩阵、阻隔壁和RGB颜色层上方。该保护层用于保护RGB颜色层以及增加表面平滑性。该保护层可选用环氧树脂系、压克力树脂系、聚亚醯胺树脂系或聚乙烯醇树脂等高分子材料。
本发明的彩色滤光片进一步包括一导电层形成于多个黑色矩阵、阻隔壁和RGB颜色层上方，或者形成于上述该保护层上方，用于与液晶设计图案电极(Pattern Electrodes)构成正负极以驱动液晶分子旋转。该导电层可选用透明导电层或金属导电层。该透明导电层优选氧化铟锡薄膜(ITO Film)，该金属导电层优选铝导电层。
可以理解，本发明的彩色滤光片采用将多个直线排列的像素区群组化，并将每个群组单元的内部挡墙开设通道，此设计的优点在于：采用喷墨装置进行单点喷射墨水时，群组单元内的多个像素区的喷墨量如果出现不同时，可通过通道的作用，使墨水于群组单元内均匀流平，墨水干燥后能得到更加均匀的颜色层。
请参阅图9，本发明第三实施例提供一种彩色滤光片的制备方法，其步骤如下：
步骤100：提供一透明基板，本实施例中该基板选用透明玻璃材料。
步骤200：在该基板上表面形成多个黑色矩阵。该步骤200具体包括以下分步骤：
(a1)通过裂缝式(Slit)或旋转式(Spin)涂覆机将有机黑色负型光阻材料涂覆在该基板上表面。
(b1)再利用光罩式曝光机，将具有黑色矩阵图案的光罩设于该有机黑色负型光阻材料上方，并曝光该有机黑色负型光阻材料。
(c1)利用显影蚀刻方式将有机黑色负型光阻材料未曝光处除去，形成多个黑色矩阵。
另外，该步骤200还可采用以下分步骤：
(a2)以蒸镀或溅镀方式在基板上表面形成铬(Cr)或其合金的薄膜。
(b2)在该薄膜表面涂覆正型光阻材料。
(c2)利用光罩式曝光机，将具有黑色矩阵图案的光罩设于该正型光阻材料上方，并曝光该正型光阻材料。
(d2)利用显影蚀刻方式将曝光处的该光阻材料除去。
(e2)利用蚀刻方式将该曝光处的铬或其合金的薄膜除去。
(f2)再利用去除剂将正型光阻材料完全去除，形成铬或其合金材料的黑色矩阵。
上述两分步骤都能在基板表面形成多个黑色矩阵，只是其材质有所不同。可以理解，上述步骤也可使用有机黑色正型光阻材料，或在铬或其合金上涂覆负型光阻材料，其相应的光罩设计和制程中曝光处材料是留下或去除具有差异外，并不影响本案发明的实施。
步骤300：在该多个黑色矩阵上表面形成多个挡墙，该多个挡墙和黑色矩阵用于限定多个像素区，其中以直线排列的多个像素区和与其相邻的黑色矩阵和挡墙定义为一群组单元，每个群组单元包括内部挡墙和外部挡墙，且该内部挡墙至少形成一通道，或者该内部挡墙的全部或局部高度小于外部挡墙高度。其中，该步骤300在该群组单元的内部挡墙至少形成一通道的制备具体包括以下分步骤：
(a3)利用干膜法(Dry Film Lamination)、湿式旋转法(Wet Spin Coating)或湿式裂缝式涂覆法(Wet Slit Coating)在该基板上表面涂覆挡墙负型光阻材料，并覆盖该多个黑色矩阵。
(b3)利用光罩式曝光机，将具有群组单元设计的挡墙图案的光罩设于该挡墙光阻材料上方且与黑色矩阵对准，并曝光该挡墙负型光阻材料。该群组化设计可参考第一实施例。该光罩于形成群组单元的内部挡墙处开设有通道。
(c3)利用显影蚀刻方式，将未曝光处的挡墙负型光阻材料去除，形成设在黑色矩阵上表面的挡墙，且群组单元的内部挡墙形成一通道。
可以理解，上述步骤也可使用挡墙正型光阻材料，其相应的光罩设计和制程中曝光处材料是留下或去除具有差异外，并不影响本案发明的实施。
另外，为使群组单元的内部挡墙全部或局部高度小于该群组单元的外部挡墙的高度。其变化在于将步骤300替换为：在制备挡墙时，采用两次曝光显影制程，分别制备上下排列的第一层挡墙和第二层挡墙，该两层挡墙的结合可在欲设群组单元内外挡墙处形成高度差；或者采用具有灰阶度设计的光罩进行一次曝光显影制程，使群组单元的内部挡墙高度小于该群组单元的外部挡墙高度。上述制备步骤也可同时在内部挡墙形成一通道，且使该其全部或局部高度小于外部挡墙高度。
步骤400：通过一喷墨装置将需要颜色的墨水注入群组单元的多个像素区，相同颜色的墨水在每个群组单元的多个像素区均匀流平。
该步骤400包括同步喷墨法和分步喷墨法。同步喷墨法为同时在多个像素区内喷射所需的RGB三色墨水，并通过加热和抽真空方式对墨水进行干燥处理。分步喷墨法为依次喷射同色墨水在所设计群组单元图案的多个像素区内，并通过加热和抽真空方式对同色墨水进行干燥处理。每个群组单元的多个像素区喷射同色墨水相同颜色的墨水，墨水在每个群组单元的多个像素区可实现均匀流平。
该喷墨装置可选用热泡式喷墨装置(Thermal Bubble Ink Jet PrintingApparatus)或压电式喷墨装置(Piezoelectric Ink Jet Printing Apparatus)。
步骤500：固化多个像素区内的墨水，分别形成RGB颜色层。此步骤主要通过一加热装置或一发光装置进行加热或紫外光照射固化RGB三色墨水，或者同时采用上述两者方式。
本实施的彩色滤光片制备方法可进一步包括一步骤600：在该基板上形成覆盖该多个黑色矩阵、挡墙和颜色层的一保护层或一导电层，或同时依次形成一保护层和一导电层。
此外，除如前所述，直接形成一保护层或一导电层，或同时依次形成一保护层和一导电层外，另外可在形成一保护层或一导电层之前，加入前处理步骤，所以该步骤600包括分步骤如下：
(a4)利用研磨或蚀刻方式，将挡墙相对于颜色层突出的部分磨平，以达成平坦度的要求。
(b4)于该基板上形成覆盖该多个黑色矩阵、挡墙和颜色层的一保护层或一导电层。
或者该步骤600具体包括另一分步骤：
(a5)利用研磨或蚀刻方式，将挡墙相对于颜色层突出的部分磨平，以达成平坦度的要求。
(b5)于该基板上形成覆盖该多个黑色矩阵、挡墙和颜色层的一保护层。
(c5)于该保护层上形成一导电层。
另外，根据本发明的制备方法，也可得到去除挡墙的彩色滤光片。如于第三实施例的制备方法中将步骤600进一步改进为：
(a6)采用去除剂完全去除该多个挡墙。
(b6)于该基板上形成覆盖该多个黑色矩阵和颜色层的一保护层或一导电层。
或者将步骤600再进一步改进为：
(a7)采用去除剂完全去除该多个挡墙。
(b7)于该基板上形成覆盖该多个黑色矩阵和颜色层的一保护层。
(c7)于该保护层上方形成一导电层。
可以理解，上述步骤600的分步骤中，导电层的制程可采用真空溅镀装置进行溅镀等工艺，而保护层则可采用旋转涂覆或裂缝涂覆等制程。
本发明将同一颜色的多个直线排列像素区定义为一群组单元，同一群组单元的内部挡墙设有通道，使内部的颜色墨水互相连通，从而能达到相同液位，因此即使有发生单点不喷或喷墨量不足，也会因此使影响变小。另外，当单点喷射的墨水掺杂不同量的气泡时，可通过通道的作用，使气泡量在群组单元内被平均，从而起到减少喷墨误差的作用。所以，彩色滤光片颜色层的品质得到提高。
进一步的，采用本技术方案的喷墨法，通过群组化设计，在不同颜色的群组单元的像素区内，喷不同数量的墨滴，通过内部挡墙的通道使多个像素区内的墨水互相流平，即可达到类似连续分布的颜色梯度(颜色梯度与颜色层厚度成正比关系)。
下面采用两组实验数据进行比对，以说明本技术方案的优点：
  未群组化设计   喷墨滴数
  直线排列的三个像素区   第一像素区   3   4
  第二像素区   3   4
  第三像素区   3   4
  颜色层厚度(微米)   1.2   1.6
  群组化设计   喷墨滴数
  直线排列的三个像素区   第一像素区   3   3   3   4
  第二像素区   3   4   4   4
  第三像素区   3   3   4   4
  颜色层厚度(微米)   1.2   1.33   1.46   1.6
另外，本领域技术人员还可在本发明精神内做其它变化，当然，这些依据本发明精神所做的变化，都应包含在本发明所要求保护的范围之内。

Claims (27)

1.一种彩色滤光片，其包括：
 一透明基板；
多个形成于该透明基板上的黑色矩阵；
多个形成于该黑色矩阵上的挡墙，该多个挡墙和黑色矩阵限定多个像素区，其中以直线排列的多个像素区和与其相邻的黑色矩阵和挡墙定义
为一群组单元，该群组单元包括内部挡墙和外部挡墙；
和多个红、绿、蓝颜色层以规则顺序形成于该多个群组单元内的像素区，
其中每个群组单元内的像素区形成相同颜色的颜色层，其特征在于每个群组单元的内部挡墙至少形成一通道，或者该内部挡墙的全部或局部高度小于外部挡墙高度，用于使颜色层的墨水于每个群组单元的空间内均匀流平。
2.如权利要求1所述的彩色滤光片，其特征在于该群组单元限定的多个像素区的个数小于或等于十个。
3.如权利要求1所述的彩色滤光片，其特征在于该多个挡墙的宽度小于或等于该黑色矩阵的宽度。
4.如权利要求1所述的彩色滤光片，其特征在于该透明基板为透明玻璃。
5.如权利要求1所述的彩色滤光片，其特征在于该彩色滤光片进一步包括一保护层，其形成于该黑色矩阵、挡墙和颜色层上。
6.如权利要求5所述的彩色滤光片，其特征在于该保护层包括环氧树脂系、压克力树脂系、聚亚醯胺树脂系或聚乙烯醇树脂高分子材料。
7.如权利要求1所述的彩色滤光片，其特征在于该彩色滤光片进一步包括一导电层，其形成于该黑色矩阵、挡墙和颜色层上。
8.如权利要求5所述的彩色滤光片，其特征在于该彩色滤光片进一步包括一导电层，其形成该保护层上。
9.如权利要求7或8所述的彩色滤光片，其特征在于该导电层包括透明导电层或金属导电层。
10.如权利要求9所述的彩色滤光片，其特征在于该透明导电层为氧化铟锡材料。
11.如权利要求9所述的彩色滤光片，其特征在于该金属导电层为铝金属膜。
12.一种彩色滤光片的制备方法，其步骤如下：
(1)提供一透明基板；
(2)于该基板上形成多个黑色矩阵；
(3)于该黑色矩阵上形成多个挡墙，该多个挡墙和黑色矩阵限定多个像素区，其中以直线排列的多个像素区和与其相邻的黑色矩阵和挡墙定义为一群组单元，每个群组单元包括内部挡墙和外部挡墙，且该内部挡墙至少形成一通道，或者该内部挡墙的全部或局部高度小于外部挡墙高度；
(4)通过一喷墨装置将所需颜色的墨水注入群组单元的多个像素区，相同颜色的墨水于每个群组单元的多个像素区内均匀流平；
(5)固化多个像素区内的墨水，分别形成红、绿、蓝三色颜色层。
13.如权利要求12所述的制备方法，其特征在于该步骤(2)包括以下分步骤：
将有机黑色光阻材料涂覆于该基板上；
将具有黑色矩阵图案的光罩设于该有机黑色光阻材料上，并曝光该有机黑色材料；
利用显影蚀刻方式将非黑色矩阵图案部分的该有机光阻材料除去，形成多个黑色矩阵。
14.如权利要求12所述的制备方法，其特征在于该步骤(2)包括以下分步骤：
以蒸镀或溅镀方式于基板上形成铬或其合金的薄膜；
于该薄膜表面涂覆光阻材料；
将具有黑色矩阵图案的光罩设于该光阻材料上方，并曝光该光阻材料；
利用显影蚀刻方式将非黑色矩阵图案部分的该光阻材料除去；
利用蚀刻方式将该非黑色矩阵图案部分的铬或其合金的薄膜除去；
利用去除剂将光阻材料完全去除，形成铬或其合金材料的黑色矩阵。
15.如权利要求12所述的制备方法，其特征在于该步骤(3)包括以下分步骤：
于该基板上涂覆挡墙光阻材料，并覆盖该多个黑色矩阵；
将具有群组单元设计的挡墙图案的光罩设于该挡墙光阻材料上方且与黑色矩阵对准，并曝光该挡墙光阻材料；
利用显影蚀刻方式将非挡墙图案的挡墙光阻材料除去，形成设于黑色矩阵上表面的多个挡墙，且群组单元的内部挡墙形成一通道。
16.如权利要求12所述的制备方法，其特征在于该步骤(3)挡墙的制备为采用两次曝光显影制程，使群组单元的内部挡墙高度小于该群组单元的外部挡墙高度。
17.如权利要求12所述的制备方法，其特征在于该步骤(3)挡墙的制备为采用具有灰阶度设计的光罩进行一次曝光显影制程，使群组单元的内部挡墙高度小于该群组单元的外部挡墙高度。
18.如权利要求12所述的制备方法，其特征在于该步骤(4)包括同步喷墨法或分步喷墨法。
19.如权利要求18所述的制备方法，其特征在于该同步喷墨法为同时于多个像素区内喷射所需的红、绿、蓝三色墨水，并通过加热或抽真空方式，或两者兼有的，对墨水进行干燥处理。
20.如权利要求18所述的制备方法，其特征在于该分步喷墨法为依次喷射同色墨水于所设计图案的多个像素区内并对墨水以加热和抽真空方式，或两者兼有的，进行干燥。
21.如权利要求12所述的制备方法，其特征在于该喷墨装置包括热泡式喷墨装置或压电式喷墨装置。
22.如权利要求12所述的制备方法，其特征在于该步骤(5)采用加热或紫外光照射方式固化红、绿、蓝三色墨水，或者同时采用上述两者方式。
23.如权利要求12所述的制备方法，其特征在于该彩色滤光片制备方法进一步包括一步骤(6)：在该基板上形成覆盖该多个黑色矩阵、挡墙和颜色层的一保护层或一导电层，或同时依次形成一保护层和一导电层。
24.如权利要求23所述的制备方法，其特征在于该步骤(6)包括下列分步骤：利用研磨或蚀刻方式，将挡墙相对于颜色层突出的部分磨平；于该基板上形成覆盖该多个黑色矩阵、挡墙和颜色层的一保护层或一导电层。
25.如权利要求23所述的制备方法，其特征在于该步骤(6)包括下列分步骤：利用研磨或蚀刻方式，将挡墙相对于颜色层突出的部分磨平；于该基板上形成覆盖该多个黑色矩阵、挡墙和颜色层的一保护层；于该保护层上形成一导电层。
26.如权利要求23所述的制备方法，其特征在于该步骤(6)包括下列分步骤：采用去除剂完全去除该多个挡墙；
于该基板上形成覆盖该多个黑色矩阵和颜色层的一保护层或一导电层。
27.如权利要求23所述的制备方法，其特征在于该步骤(6)包括下列分步骤：
采用去除剂完全去除该多个挡墙；
于该基板上形成覆盖该多个黑色矩阵和颜色层的一保护层；
于该保护层上形成一导电层。
CNB200510035395XA 2005-06-17 2005-06-17 彩色滤光片和其制备方法 Expired - Fee Related CN100405092C (zh)

Priority Applications (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CNB200510035395XA CN100405092C (zh) 2005-06-17 2005-06-17 彩色滤光片和其制备方法
US11/450,257 US7396619B2 (en) 2005-06-17 2006-06-09 Color filter and manufacturing method therefor

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CNB200510035395XA CN100405092C (zh) 2005-06-17 2005-06-17 彩色滤光片和其制备方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
CN1880982A true CN1880982A (zh) 2006-12-20
CN100405092C CN100405092C (zh) 2008-07-23

Family

ID=37519245

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CNB200510035395XA Expired - Fee Related CN100405092C (zh) 2005-06-17 2005-06-17 彩色滤光片和其制备方法

Country Status (2)

Country Link
US (1) US7396619B2 (zh)
CN (1) CN100405092C (zh)

Cited By (14)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN102707352A (zh) * 2011-04-19 2012-10-03 京东方科技集团股份有限公司 彩色滤光片和彩色滤光片的制造方法
CN102789019A (zh) * 2011-05-16 2012-11-21 元太科技工业股份有限公司 彩色滤光片及其制造方法与应用
CN102819058A (zh) * 2012-08-30 2012-12-12 广州中国科学院先进技术研究所 一种多通道集成滤光片的制作方法
CN102830456A (zh) * 2011-06-15 2012-12-19 上海天马微电子有限公司 彩色滤光片及其形成方法
CN103364989A (zh) * 2013-05-22 2013-10-23 华映视讯（吴江）有限公司 彩色滤光基板的制造方法
CN105445996A (zh) * 2015-12-29 2016-03-30 昆山龙腾光电有限公司 彩色滤光片基板的制造方法及彩色滤光片基板
CN105527746A (zh) * 2016-02-15 2016-04-27 京东方科技集团股份有限公司 显示母板及其制作方法、显示装置
CN108051944A (zh) * 2017-12-29 2018-05-18 深圳市华星光电技术有限公司 一种制备低段差的彩色滤光片的方法及彩色滤光片
WO2018218881A1 (en) * 2017-06-01 2018-12-06 Boe Technology Group Co., Ltd. Display substrate, display apparatus, and method of fabricating display substrate
CN110085623A (zh) * 2018-05-09 2019-08-02 广东聚华印刷显示技术有限公司 像素结构及其制备方法和显示装置
CN111650793A (zh) * 2020-06-28 2020-09-11 上海中航光电子有限公司 显示面板及其阵列基板
CN111965883A (zh) * 2020-08-06 2020-11-20 武汉华星光电技术有限公司 显示屏及其制造方法
CN112748609A (zh) * 2019-10-31 2021-05-04 夏普福山半导体株式会社 显示装置以及显示装置的制造方法
CN113345336A (zh) * 2021-05-31 2021-09-03 上海天马微电子有限公司 一种显示面板及其制造方法

Families Citing this family (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
TWI333896B (en) * 2007-10-01 2010-12-01 Au Optronics Corp Bank structure for a display panel and method of manufacturing the same
TW200916846A (en) * 2007-10-01 2009-04-16 Au Optronics Corp Color filter structure and method of making the same
TW201237472A (en) * 2011-03-01 2012-09-16 Au Optronics Corp Color filter array and manufacturing method thereof
CN104299968B (zh) * 2014-09-22 2017-04-26 京东方科技集团股份有限公司 电致发光器件及其制造方法、显示基板和显示装置
CN109427847B (zh) * 2017-08-29 2020-12-11 京东方科技集团股份有限公司 发光层的制造方法、电致发光器件及显示装置

Family Cites Families (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6630274B1 (en) * 1998-12-21 2003-10-07 Seiko Epson Corporation Color filter and manufacturing method therefor
JP2001264740A (ja) * 2000-03-16 2001-09-26 Seiko Epson Corp 液晶装置とその製造方法および電子機器
US6677243B2 (en) * 2000-06-02 2004-01-13 Canon Kabushiki Kaisha Method of manufacturing optical element
JP2003107231A (ja) * 2001-09-27 2003-04-09 Seiko Epson Corp カラーフィルタの製造方法とカラーフィルタ及びそれを備えた液晶装置と電子機器
TW526340B (en) * 2001-12-25 2003-04-01 Ind Tech Res Inst Method for manufacturing color filters by micro fluid
JP4515699B2 (ja) * 2002-10-17 2010-08-04 大日本印刷株式会社 カラーフィルタの製造方法
JP2004004945A (ja) * 2003-07-18 2004-01-08 Seiko Epson Corp カラーフィルタおよびその製造方法、電気光学装置、電子機器

Cited By (20)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN102707352A (zh) * 2011-04-19 2012-10-03 京东方科技集团股份有限公司 彩色滤光片和彩色滤光片的制造方法
CN102789019A (zh) * 2011-05-16 2012-11-21 元太科技工业股份有限公司 彩色滤光片及其制造方法与应用
US8896946B2 (en) 2011-05-16 2014-11-25 E Ink Holdings Inc. Color filter, applications thereof and method for manufacturing the same
CN102830456A (zh) * 2011-06-15 2012-12-19 上海天马微电子有限公司 彩色滤光片及其形成方法
CN102819058A (zh) * 2012-08-30 2012-12-12 广州中国科学院先进技术研究所 一种多通道集成滤光片的制作方法
CN102819058B (zh) * 2012-08-30 2016-01-06 广州中国科学院先进技术研究所 一种多通道集成滤光片的制作方法
CN103364989A (zh) * 2013-05-22 2013-10-23 华映视讯（吴江）有限公司 彩色滤光基板的制造方法
CN105445996A (zh) * 2015-12-29 2016-03-30 昆山龙腾光电有限公司 彩色滤光片基板的制造方法及彩色滤光片基板
CN105527746B (zh) * 2016-02-15 2018-09-04 京东方科技集团股份有限公司 显示母板及其制作方法、显示装置
CN105527746A (zh) * 2016-02-15 2016-04-27 京东方科技集团股份有限公司 显示母板及其制作方法、显示装置
WO2018218881A1 (en) * 2017-06-01 2018-12-06 Boe Technology Group Co., Ltd. Display substrate, display apparatus, and method of fabricating display substrate
US11327355B2 (en) 2017-06-01 2022-05-10 Boe Technology Group Co., Ltd. Display substrate, display apparatus, and method of fabricating display substrate
CN108051944A (zh) * 2017-12-29 2018-05-18 深圳市华星光电技术有限公司 一种制备低段差的彩色滤光片的方法及彩色滤光片
CN110085623A (zh) * 2018-05-09 2019-08-02 广东聚华印刷显示技术有限公司 像素结构及其制备方法和显示装置
CN110085623B (zh) * 2018-05-09 2021-04-06 广东聚华印刷显示技术有限公司 像素结构及其制备方法和显示装置
CN112748609A (zh) * 2019-10-31 2021-05-04 夏普福山半导体株式会社 显示装置以及显示装置的制造方法
CN111650793A (zh) * 2020-06-28 2020-09-11 上海中航光电子有限公司 显示面板及其阵列基板
CN111965883A (zh) * 2020-08-06 2020-11-20 武汉华星光电技术有限公司 显示屏及其制造方法
CN111965883B (zh) * 2020-08-06 2024-03-29 武汉华星光电技术有限公司 显示屏及其制造方法
CN113345336A (zh) * 2021-05-31 2021-09-03 上海天马微电子有限公司 一种显示面板及其制造方法

Also Published As

Publication number Publication date
US7396619B2 (en) 2008-07-08
CN100405092C (zh) 2008-07-23
US20060284957A1 (en) 2006-12-21

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN1880982A (zh) 彩色滤光片和其制备方法
CN1065048C (zh) 滤色片、其生产方法及设有滤色片的液晶显示器件
CN1658050A (zh) 液晶面板的基板及形成配向膜的方法
US9107274B2 (en) Color display element manufacturing method and color display element
CN100529877C (zh) 彩色滤光片及其制造方法
US8619220B2 (en) Liquid crystal display panel and color filter
CN1700043A (zh) 图案部件及其制造方法
CN100447591C (zh) 彩色滤光片基板的形成方法
CN1629699A (zh) 滤色片阵列基板的制造方法
CN101029946A (zh) 彩色滤光片的制造方法
CN1991529A (zh) 使用喷墨系统形成间隔体的方法和制造lcd装置的方法
CN102707353B (zh) 彩色滤光片及其制造方法
CN1605465A (zh) 描绘方法、描绘装置及显示装置
CN1195998C (zh) 微流体制造彩色滤光片的方法
CN101021582A (zh) 彩色滤光片及其制造方法
KR101111112B1 (ko) 영상표시장치의 제조방법
CN100468094C (zh) 彩色滤光片的制造方法
CN101038402A (zh) 液晶显示面板
CN1306287C (zh) 滤色器、显示装置及其制造方法
CN100338515C (zh) 滤色片基板及其制造方法和显示装置
CN100426015C (zh) 彩色滤光片分隔墙及其制造方法,彩色滤光片及其制造方法
CN1825179A (zh) 液晶显示面板及其制作方法
CN1839338A (zh) 用于制造彩色显示设备的方法和彩色显示设备
CN1517727A (zh) 彩色滤光片的制造方法
CN201587179U (zh) 喷墨系统

Legal Events

Date Code Title Description
C06 Publication
PB01 Publication
C10 Entry into substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
ASS Succession or assignment of patent right

Owner name: HONGCHUANG TECHNOLOGY CO., LTD.

Free format text: FORMER OWNER: HONGFUJIN PRECISION INDUSTRY (SHENZHEN) CO., LTD.; APPLICANT

Effective date: 20070202

C41 Transfer of patent application or patent right or utility model
TA01 Transfer of patent application right

Effective date of registration: 20070202

Address after: Hsinchu Science Industrial Park, Taiwan Province, No. 24-1 East Fourth Street, 4 floor, Hsinchu

Applicant after: Hongchuan Science & Technology Co., Ltd.

Address before: 518109, No. two, No. tenth, East Ring Road, Pinus tabulaeformis Industrial Zone, Longhua Town, Baoan District, Guangdong, Shenzhen, 2

Applicant before: Hongfujin Precision Industry (Shenzhen) Co., Ltd.

Co-applicant before: Hongchuan Science & Technology Co., Ltd.

C14 Grant of patent or utility model
GR01 Patent grant
ASS Succession or assignment of patent right

Owner name: HONGHAI PRECISION INDUSTRY CO., LTD.

Owner name: HONGFUJIN PRECISION INDUSTRY (SHENZHEN) CO., LTD.

Free format text: FORMER OWNER: HONGCHUANG TECHNOLOGY CO., LTD.

Effective date: 20100416

C41 Transfer of patent application or patent right or utility model
COR Change of bibliographic data

Free format text: CORRECT: ADDRESS; FROM: 000000 FLOOR 4, NO.24-1, GONGYE EAST 4TH ROAD, HSINCHU CITY, HSINCHU SCIENCE PARK, TAIWAN PROVINCE TO: NO.2, EAST RING 2ND ROAD, YOUSONG 10TH INDUSTRY DISTRICT, LONGHUA TOWN, BAO AN DISTRICT, SHENZHEN CITY, GUANGDONG PROVINCE

TR01 Transfer of patent right

Effective date of registration: 20100416

Address after: Guangdong province Shenzhen city Baoan District town Longhua tenth Industrial Zone tabulaeformis East Ring Road No. 2 two

Co-patentee after: Hon Hai Precision Industry Co., Ltd.

Patentee after: Hongfujin Precise Industry (Shenzhen) Co., Ltd.

Address before: 000000 Hsinchu Science Industrial Park, Taiwan Province, No. 4, 24-1 East Fourth Street, Hsinchu

Patentee before: Hongchuan Science & Technology Co., Ltd.

CF01 Termination of patent right due to non-payment of annual fee

Granted publication date: 20080723

Termination date: 20150617

EXPY Termination of patent right or utility model