CN1703375A - 紫外线流体处理系统 - Google Patents
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Abstract
一种用来设置在凸缘管流体传输系统中的流体处理系统(100)。流体处理系统(100)包括球墨铸铁法兰管接头(105)。球墨铸铁管接头(105)包括:基本对齐的第一凸缘开口(110)和第二凸缘开口(120)以形成流动轴线,该对齐的轴线与通过第一开口(110)和第二开口(120)的流体流方向(A)基本平行;以及包括第一盖元件(155)第三凸缘开口(130),该第一盖元件(155)具有至少一个与其连接的包括至少一个细长辐射源的辐射源组件(160),该细长的辐射源具有基本横向于流动轴线的纵向轴线。在其优选形式中,流体处理系统可以有利地被利用以处理诸如水的流体,例如市政废水,市政饮用水等。由于利用标准球墨铸铁管接头(105),流体处理系统是特别有利的,因此该系统可以容易地“拼接”在现有的管系统中。这使系统安装方便并且也能够明显地降低系统的制造成本。
Description
技术领域
在它的一个方面,本发明涉及一种用于设置在凸缘管流体传输系统中的流体处理系统。在它的另一方面,本发明涉及一种将流体处理系统安装于现有管的流体传输系统中的方法。
背景技术
流体处理装置和系统是已知的。例如,美国专利4,482,809、4,872,980、5,006,244和Re.36,896(所有的都转让给本发明的受让人)都描述重力进料流体处理系统,该系统使用紫外线(UV)辐射使存在于流体中的微生物成为无活性的。
在美国专利4,482,809、4,872,980、5,006,244中描述的装置和系统通常包括几个UV灯,每个灯安装于在框架两个支撑臂之间延伸的套管中。该框架浸入于流体中以被处理,然后按要求照射。暴露的流体受到的辐射量由流体接近灯的距离决定。可以使用一个或多个UV传感器来监测灯的UV辐射输出,并且在处理装下游利用水平门(LEVEL GATES)将液面控制在某个范围。由于流量较高,在重力进料系统中实现精确的液面控制是很难的,液面的起伏是不可避免的,这种起伏将导致被处理流体的不均匀辐射。
然而,上述系统中存在着缺点。根据被处理过的流体质量,围绕UV灯的套管周期性地被外来的物质覆盖,从而阻止向流体中发射UV辐射的能力。当被覆盖时,以由过去操作数据确定的时间间隔或从UV传感器测量得到的间隔,套管必须被手工清洁以除去覆盖的物质。不管UV灯框架是否是在开放的槽状系统或封闭系统中使用,清洁套管都是不实际的。
在敞开的槽状系统中,包括套管的组件通常从槽中拆下并浸入包含合适的清洁流体的单独箱中。在封闭系统中,必须关闭装置,然后装满合适的清洁流体清洁该装置或者以用于敞开的槽状系统中所描述方式拆下灯来清洁该装置。在任何一种类型的系统中,操作者必须接受系统相当长的停工期和/或投入大量额外资金以在适当的位置设置具有合适控制系统的足够的冗余系统,该系统能从被清洁的系统中转移流体流。
在专利文件Re.36,896描述的系统在本领域有显著的优点,在于它避免了美国专利4,482,809、4,872,980和5,006,244导致的许多缺点。遗憾的是,在专利文件Re.36,896描述的系统虽然理想地适合用于敞开的槽状系统但是不容易用于在管中压力下供应流体流的完全封闭系统。
已知的封闭的流体处理装置,例如见,美国专利5,504,335(转让给本发明的受让人)。美国专利5,504,335公开一种封闭流体处理装置,该装置包括用来接受流体流的外壳。该外壳包括流体入口、流体出口、设置在该流体入口和流体出口之间的流体处理区和至少一个组件设置在流体处理区的辐射源组件。流体入口、流体出口和流体处理区相互之间是同轴的。该至少一个辐射源组件包括辐射源,该辐射源以可密封方式连接于以可密封方式安装在外壳上的支臂。辐射源设置成与流体流基本平行。辐射源组件通过设置在外壳中部的开口可移动至流体入口和流体出口,因此避免需要实际地移动用来对辐射源服务的装置。
国际公开号WO 01/25154(转让给本发明的受让人)是另一个现有技术参考文献,它公开一种封闭流体处理装置。具体说,该参考文献公开了一种封闭式流体处理装置,其包括用来接受流体流外壳。该外壳包括流体入口、流体出口、设置在该流体入口和流体出口之间的流体处理区和至少一个辐射源,该辐射源具有设置在流体处理区与通过外壳的流体流方向基本成横向的纵向轴线。该流体入口、流体出口和流体处理区相互之间同轴地设置。流体入口包括具有两个特征的开口。第一,该开口的横截面积小于流体处理区的横截面积。第二,开口具有最大的直径,该直径基本平行与设置在流体处理区中的辐射源的纵向轴线。
虽然在美国专利5,504,335和国际公开号WO 01/25154中公开的封闭流体处理装置在本领域中领先,但是仍然还有改进的余地。特别地,在本领域通常由不锈钢制成这样封闭流体处理装置是传统的。在一些情况下,这导致极大地提高流体处理的成本。非常想得到,能够利用传统的管接头的流体处理系统。这样的装置将导致直接制造成本显著降低,并且,在一些安装中,使系统能够容易地安装在现有管道系统中。
发明内容
本发明的目的是避免或减轻至少一个现有技术中的上述缺点。
因此,在它的一个方面,本发明提供一种用于设置在凸缘管流体传输系统的流体处理系统,该流体处理系统包括:
球墨铸铁法兰管接头,其包括:
第一凸缘开口和第二凸缘开口,它们基本对以形成流动轴线,该对齐的轴线与通过第一开口和第二开口的流体流方向基本平行;以及
包括第一盖元件的第三凸缘开口,该第一盖元件具有至少一个与其连接的包括至少一个细长辐射源的辐射源组件,该辐射源具有基本横向于所述流动轴线的纵向轴线。
在它的另一方面,本发明提供一种将流体处理系统安装于现有的用管子输送流体的流体输送系统中的方法,该方法包括以下步骤:
从现有管的流体输送系统选取一节管子,用来形成凸缘流体出口和凸缘流体入口;
在凸缘流体出口和凸缘流体入口之间设置球墨铸铁法兰管接头,该球墨铸铁法兰管接头包括:
第一凸缘开口和第二凸缘开口,它们基本对齐以形成流动轴线,该对齐的轴线与通过第一开口和第二开口的流体流动方向基本平行;以及
包括第一盖元件的第三凸缘开口,该第一盖元件具有至少一个与其连接的包括至少一个细长辐射源的辐射源组件,该辐射源具有基本横向于所述流动轴线的纵向轴线;
以基本流体密封方式连接第一凸缘开口和凸缘流体出口;以及
以基本流体密封方式连接第二凸缘开口和凸缘流体入口。
在它的另一方面,本发明提供一种用于设置在凸缘管流体传输系统的流体处理系统,该流体处理系统包括:
凸缘非金属管接头,其包括:
第一凸缘开口和第二凸缘开口,它们基本对齐以形成流动轴线,该轴线与通过第一开口和第二开口的流体流动方向基本平行;以及
包括第一盖元件的第三凸缘开口,该第一盖元件具有至少一个与其连接的包括至少一个细长辐射源的辐射源组件,该辐射源具有基本横向于所述流动轴线的纵向轴线。
因此,本发明人已经种研制出一用于设置在凸缘管流体传输系统中的新颖的流体处理系统。在它的优选的形式中,本流体处理系统可以有利地利用以处理诸如水的流体,例如,市政污水,市政饮用水等。由于它采用标准球墨铸铁管接头,本流体处理系统是特别有利的,并且因此能够容易地“拼接”到现有的管系统中,经常被称作为管架空过道。这使系统便于安装并且能够显著地降低系统的制造成本。
本流体处理系统利用球墨铸铁法兰管接头,其中设置有多个辐射源组件,每个辐射源组件包括至少一个细长的辐射源,该辐射源具有与通过球墨铸铁法兰管接头的流体流动轴线基本成横向的纵向轴线。该凸缘管接头由标准球墨铸铁管接头构成,因此大大地降低了直接制造成本并且便于将系统安装于现有的流体传输管道系统中。
球墨铸铁法兰管接头可以采取多种不同形状。例如,凸缘管接头可以是T形、十字形、Y形等。
在该流体处理系统中的辐射源的纵向轴线设置为与通过该球墨铸铁法兰管接头的流体的流动轴线基本成横向。虽然辐射源优选的定向是这样的,它的纵向轴线基本垂直于通过球墨铸铁法兰管接头的流体的流动轴线,但也可以这样定位辐射源的纵向轴线,使它的纵向轴线相对于通过球墨铸铁法兰管接头的流体的流动轴线成一角度。
球墨铸铁法兰管接头在本领域是已知的并且通常可以作为“现货供应”类型产品购买。关于从U.S.Pipe购买的球墨铸铁法兰管接头的更多信息,见后面的附录。
附图说明
下面将参考附图详细地描述本发明的实施例,其中相同的标号表示相同的部件,并且其中:
图1示出本发明流体处理系统第一实施例的透视图;
图2以分解形式示出在图1中所示的流体处理系统;
图3示出本发明流体处理系统第二实施例的透视图;以及
图4至6以分解形式示出在图3中所示的流体处理系统。
具体实施方式
参考图1和2,图1和2示出流体处理系统100。流体处理系统100包括球墨铸铁法兰管接头105。管接头105包括第一凸缘开口110和第二凸缘开口120。第一凸缘开口110包括具有一系列连接孔117的凸缘板115。第二凸缘开口120包括具有一系列连接孔127的凸缘板125。
管接头105还包括第三凸缘开口130和第四凸缘开口140。第三凸缘开口130包括凸缘板135和一系列连接孔137。第四凸缘开口140包括凸缘板145和一系列连接孔147。
因此,很明显,凸缘开口110和120沿箭头A所示的流体流动方向同轴地对齐。同样地,凸缘开口130和140沿轴线(没有清楚示出)同轴地对齐,该轴向取向成与对齐的凸缘开口110和120的轴线垂直。
流体处理系统100还包括可插入的辐射源组件150。辐射源组件150包括具有一系列连接孔157的盖板155,这些连接孔与第三凸缘板135连接孔137基本对齐。辐射源组件150还包括一对辐射源组件160。每一个辐射源组件包括设置在诸如石英(这些元件没有清楚地示出)的保护套中的辐射源。优选地,该辐射源是紫外线辐射源,诸如低压紫外线辐射灯、中压紫外线辐射灯、低压高输出紫外线辐射灯、汞合金紫外线辐射灯等。
辐射源组件150还包括轴165,沿着该轴可以前后移动清洁装置(在图1和2中没有示出)。电动机170设置在辐射源组件盖板155的相对侧,用来运转清洁装置。
流体处理系统100还包括盖板180,其包括一对用来接纳辐射源组件160末端的支撑插座162和用来接纳轴165远端的支撑插座167。盖板180还包括一系列与在凸缘板145中的连接孔147基本对齐的连接孔187。
可以通过对齐连接孔157和137并且以传统的方式用螺栓将板155固定到凸缘板135,装配流体处理系统100。同样地,对齐盖板180与凸缘板145,以便支撑插座162接纳辐射源组件160并且支撑插座167接纳轴165。
一旦在流体处理系统100装配后,就可以将该系统安装于现有的流体传输系统中。传统的流体传输系统由秋墨铸铁管接头、聚合物材料等构成。通过拆去现有的流体传输系统部分以产生凸缘流体出口和凸缘流体入口(未示出),以便可以安装流体处理系统100。然后对准凸缘板115与凸缘流体出口并且对准凸缘板125和凸缘流体入口。以传统方式制作流体类型连接并且然后以传统的方式准备操作流体处理系统100。
参考图3至6,图3至6描述了流体处理系统200。一般地说,流体处理系统200与在图1至2中所示的流体处理系统100不同之处在于,前者利用十字形球墨铸铁管接头,而后者利用T形球墨铸铁管接头。
流体处理系统包括第一凸缘开口210。第一凸缘开口210包括凸缘板215,其具有设置在其中的一系列连接孔217。流体处理系统还包括第二凸缘开口220。第二凸缘开口220包括凸缘板225,其具有设置在其中的一系列连接孔227。球墨铸铁管接头205或者类似物(例如,管接头由其他材料构成,诸如聚合物、塑料、玻璃纤维、这些材料合成物等)还包括第三凸缘开口230。第三凸缘开口230包括具有一些列连接孔237的凸缘板235。
如图所示,第一凸缘开口210和第二凸缘开口220沿着平行于由箭头B(图4)所示的通过流体处理系统200的流体流动方向同轴地对齐。
流体处理系统200还包括可插入的辐射源组件250。辐射源组件250包括具有一系列连接孔257的凸缘板255。辐射源组件250还包括一对辐射源组件260,其在结构上与上述参考附图1和2的辐射源组件160相似。辐射源组件250还包括轴265,沿着该轴可以前后移动清洁装置300。在辐射源组件250的远端设置有弯曲板275。弯曲板275包括一对能接纳辐射源组件260的每个远端的插座262。弯曲板275还包括能接纳轴265远端的插座267。一对连接杆280用来将弯曲板275连接于凸缘板255。
辐射源组件250还包括电动机270,用来沿轴265前后移动清洁装置300。凸缘板255包括一对当清洁装置在“暂停”位置时用来接纳清洁装置300的插座278。
清洁装置300可以是上述Re.36,896中描述的类型。因此,清洁装置300可以包括用来接纳清洁流体的清洁腔,清洁流体依靠机械作用和化学作用以从辐射源组件260的外部除去覆盖的物质。或者,清洁装置300可以是所谓机械清洁装置,其仅依靠机械相互作用以从辐射源组件260的外部除去覆盖的物质。诸如海绵的微孔材料可以用在任何一种清洁装置中,即设置在Re.36,896中所述设备中的清洁腔中或与之集成一体,或者仅在自身上依靠机械作用。
流体处理系统200可以以与上述用于参考图1和2中的流体处理系统100相似的方式装配。在这种情况下,弯曲板275具有构成球墨铸铁管接头205灯的内部的形状,这最好参考附图3。装配好的装置然后可以以上述参考流体处理系统100和图1和2的相似方式安装。
由于与辐射源组件连接的凸缘管接头由球墨铸铁制成,本流体处理系统是特别有利的。而且,这样能够相当简单地将装置改装在现有的流体传输系统中。还有,处理系统是相当容易可用的,并且,例如,辐射源组件可以离线(off-line)服务,而不需中断整个流体传输系统的流体传输。辐射灯可以从灯套中拆下而不必中断通过反应器的流体的流动。对于掌握本说明书的本领与技术人员来说其它的优点是显而易见的。
虽然已经参考说明的实施例和例子描述了本发明,但是该描述不应解释为限制性的。因此,说明的实施例的各种变形以及本发明的其他实施例,对于参考该说明的本领域技术人员是显而易见的。例如,在该流体处理系统的球墨铸铁接头或类似物种可以利用螺栓连接或非螺栓连接。而且,也可以使用vanstone类型凸缘或者使用溶剂焊接连接流体处理单元。见下列因特网站www.ipexinc.com/products/industrial.html或http://www.ipexinc.com/industrial/fittings.html,见“vanstone”凸缘的说明第二十三页。而且可以修改在图3至6中所述的辐射源组件250而省略弯曲板275。因此认为权利要求将包括任何这样的修改或实施例。
所有引用的公开物、专利和专利申请均全文引入本文以供参考,如同每个单独的公开物、专利或专利申请被特别地或单独地指明以包含其整个内容。
附页
Ductile Iron Flanged Pipe With Threaded Flanges andFlanged FittingsFor Water and Other Liquids
FF-2
Claims (60)
1.一种用于设置在凸缘管流体传输系统中的流体处理系统,该流体处理系统包括:
球墨铸铁法兰管接头,其包括:
(a)第一凸缘开口和第二凸缘开口,它们基本对齐以形成流动轴线,该轴线与通过该第一开口和第二开口的流体流动方向基本平行;以及
(b)包括第一盖元件的第三凸缘开口,该第一盖元件具有至少一个与其连接的包括至少一个细长辐射源的辐射源组件,该辐射源具有基本横向于流动轴线的纵向轴线。
2.如权利要求1所述的流体处理系统,其中第一盖元件以基本流体紧密密封方式与第三凸缘开口的凸缘部分接合。
3.如权利要求1至2中任一项所述的流体处理系统,其中该第一盖元件包括辐射源开口,通过该开口辐射源可以以可拆卸方式插入到球墨铸铁法兰管接头中。
4.如权利要求1至3中任一项所述的流体处理系统,其中该第一盖元件还包括第一支撑件,用来支撑辐射源组件的近端。
5.如权利要求4中所述的流体处理系统,其中该辐射源组件相对于第一支撑件是悬臂的。
6.如权利要求1至5中任一项所述的流体处理系统,其中该球墨铸铁法兰管接头还包括第四凸缘开口,其与第三凸缘开口基本对齐以形成基本横向于所述流动轴线的交叉流动轴线。
7.如权利要求6所述的流体处理系统,其中该第四凸缘开口包括第二盖元件。
8.如权利要求7所述的流体处理系统,其中该第二盖元件以基本流体紧密密封方式与第四凸缘开口的凸缘部分接合。
9.如权利要求7至8中任一项所述的流体处理系统,其中该第二盖元件还包括第二支撑件,用来支撑辐射源组件的远端。
10.如权利要求9所述的流体处理系统,其中该第二支撑件包括用来接纳辐射源组件远端的插座。
11.如权利要求1至10中任一项所述的流体处理系统,其中该辐射源的纵向轴线基本垂直于流动轴线的方向。
12.如权利要求1至11中任一项所述的流体处理系统,其中该第一盖元件具有与其连接的多个辐射源组件。
13.如权利要求1至12中任一项所述的流体处理系统,还包括清洁装置,用来从辐射源组件的表面除去覆盖的物质。
14.如权利要求13所述的流体处理系统,其中该清洁装置包括与辐射源组件的外表面接触的清洁套。
15.如权利要求14所述的流体处理系统,其中该清洁套包括机械擦拭器。
16.如权利要求15所述的流体处理系统,其中该机械擦拭器包括O形环。
17.如权利要求15所述的流体处理系统,其中该机械擦拭器包括机械刷。
18.如权利要求15所述的流体处理系统,其中该机械擦拭器包括微孔材料。
19.如权利要求14所述的流体处理系统,其中该清洁套包括用来接纳清洁流体的腔。
20.如权利要求19所述的流体处理系统,其中该腔包括机械清洁元件。
21.如权利要求20所述的流体处理系统,其中该机械清洁元件包括多孔材料。
22.如权利要求20所述的流体处理系统,其中该机械清洁元件包括微孔材料。
23.如权利要求1至22中任一项所述的流体处理系统,其中该第一凸缘开口的直径在从约3英寸至约64英寸的范围内。
24.如权利要求1至22中任一项所述的流体处理系统,其中该第二凸缘开口的直径在从约3英寸至约64英寸的范围内。
25.如权利要求1至22中任一项所述的流体处理系统,其中该第三凸缘开口的直径在从约3英寸至约64英寸的范围内。
26.如权利要求1至25中任一项所述的流体处理系统,其中该第一凸缘开口、第二凸缘开口和第三凸缘开口中每一个包括基本相同的直径。
27.如权利要求1至25中任一项所述的流体处理系统,其中(i)该第一凸缘开口和第二凸缘开口包括基本相同的直径,以及(ii)该第三凸缘开口具有与第一凸缘开口和第二凸缘开口不同的直径。
28.如权利要求1至27中任一项所述的流体处理系统,其中该辐射源包括紫外线辐射源。
29.如权利要求1至28中任一项所述的流体处理系统,其中该至少一个辐射源组件还包括围绕该至少一个细长的辐射源的保护套管。
30.如权利要求1至29中任一项所述的流体处理系统,其中该第一盖元件包括多个辐射源组件,每个辐射源组件包括至少一个细长的辐射源。
31.一种将流体处理系统安装于现有的用管子输送流体的输送系统中的方法,该方法包括以下步骤:
(a)从现有的用管子输送流体的流体输送系统取出一节管子,用来形成凸缘流体出口和凸缘流体入口;
(b)在凸缘流体出口和凸缘流体入口之间设置球墨铸铁法兰管接头,该球墨铸铁法兰管接头包括:
(i)第一凸缘开口和第二凸缘开口,它们基本对齐以形成流动轴线,该对齐的轴线与通过第一开口和第二开口的流体的流动方向基本平行;以及
(ii)包括第一盖元件的第三凸缘开口,该第一盖元件具有至少一个与其连接的包括至少一个细长辐射源的辐射源组件,该辐射源具有基本横向于流动轴线的纵向轴线;
(c)以基本流体密封方式连接第一凸缘开口和凸缘流体出口;以及
(d)以基本流体密封方式连接第二凸缘开口和凸缘流体入口;
32.如权利要求31所述的方法,其中该第一盖元件以基本流体紧密密封方式与第三凸缘开口的凸缘部分接合。
33.如权利要求31至32中任一项所述的方法,其中该第一盖元件包括辐射源开口,通过该开口辐射源可以以可拆卸方式插入到该球墨铸铁法兰管接头中。
34.如权利要求31至33中任一项所述的方法,其中该第一盖元件还包括第一支撑件,用来支撑辐射源组件的近端。
35.如权利要求34所述的方法,其中辐射源组件相对于第一支撑件是悬臂的。
36.如权利要求31至35中任一项所述的方法,其中该球墨铸铁法兰管接头还包括第四凸缘开口,其与第三凸缘开口基本对齐以形成基本横向于所述流动轴线的交叉流动轴线。
37.如权利要求36所述的方法,其中该第四凸缘开口包括第二盖元件。
38.如权利要求37所述的方法,其中该第二盖元件以基本流体紧密密封方式与第四凸缘开口的凸缘部分接合。
39.如权利要求37至38中任一项所述的方法,其中该第二盖元件还包括第二支撑件,用来支撑辐射源组件远端。
40.如权利要求39所述的方法,其中该第二支撑件包括用来接纳辐射源组件远端的插座。
41.如权利要求31至40中任一项所述的方法,其中该辐射源的纵向轴线基本垂直于流动轴线的方向。
42.如权利要求31至41中任一项所述的方法,其中该第一盖元件具有与其连接的多个辐射源组件。
43.如权利要求31至42中任一项所述的方法,包括清洁装置,用来从辐射源组件的表面除去覆盖的污垢物质。
44.如权利要求43所述的方法,其中该清洁装置包括与辐射源组件的外表面接触的清洁套。
45.如权利要求44中所述的方法,其中该清洁套包括机械擦拭器。
46.如权利要求45所述的方法,其中该机械擦拭器包括O形环。
47.如权利要求45所述的方法,其中该机械擦拭器包括机械刷。
48.如权利要求45所述的方法,其中该机械擦拭器包括微孔材料。
49.如权利要求44所述的方法,其中该清洁套包括用来纳接清洁流体的腔。
50.如权利要求49所述的方法,其中该腔包括机械清洁元件。
51.如权利要求50所述的方法,其中机械清洁元件包括多孔材料。
52.如权利要求50所述的方法,其中该机械清洁元件包括微孔材料。
53.如权利要求31至52中任一项所述的方法,其中该第一凸缘开口的直径在从约3英寸至约64英寸的范围内。
54.如权利要求31至52中任一项所述的方法,其中该第二凸缘开口包括直径范围从约3英寸至约64英寸。
55.如权利要求31至52中任一项所述的方法,其中第三凸缘开口的直径在从约3英寸至约64英寸的范围内。
56.如权利要求31至55中任一项所述的方法,其中该第一凸缘开口、第二凸缘开口和第三凸缘开口中每一个包括基本相同的直径。
57.如权利要求31至56中任一项所述的方法,其中该辐射源包括紫外线辐射源。
58.如权利要求31至57中任一项所述的方法,其中该至少一个辐射源组件还包括围绕至少一个细长的辐射源的保护套管。
59.如权利要求31至58中任一项所述的方法,其中该第一盖元件包括多个辐射源组件,每个辐射源组件包括至少一个细长的辐射源。
60.一种用于设置在凸缘管流体传输系统的流体处理系统,该流体处理系统包括:
凸缘非金属管接头,其包括:
(a)第一凸缘开口和第二凸缘开口,它们基本对齐以形成流动轴线,该轴线与通过第一开口和第二开口的流体的流动方向基本平行;以及
(b)包括第一盖元件的第三凸缘开口,该第一盖元件具有至少一个与其连接的包括至少一个细长辐射源的辐射源组件,该辐射源具有基本横向于所述流动轴线的纵向轴线。
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