CN1557260A - 脑出血穿刺定位仪 - Google Patents
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Abstract
本发明公开了一种脑出血穿刺定位仪,包括定位仪主杆,穿刺点臂,靶点臂,定位缺口,靶点缺口,主杆调节钮和方向导引尺,所述定位仪主杆长度可以调节,其位置由主杆调节钮固定,定位仪主杆一端垂直连接有穿刺点臂,在其另一端同一方向垂直连接有靶点臂,且所述穿刺点臂和所述靶点臂长度相等,定位缺口位于穿刺点臂前端,靶点缺口位于靶点臂前端,且靶点缺口位置和定位缺口位置一致,方向导引尺设置在穿刺点臂上。该定位仪制作容易,用法简单,定位准确,脑出血穿刺手术成功率高。
Description
技术领域
本发明涉及一种定位仪,尤其涉及一种应用在脑出血穿刺手术中的定位仪。
背景技术
现有技术中,对于高血压脑出血等不需要精确定位的颅穿手术的穿刺方法一般采用垂直矢面法,但这种方法使相当一部分患者脑组织损伤较多,且穿刺引流管在血肿内的距离短,不利于血肿的消除。
发明内容:
本发明的目的在于克服上述现有技术之不足,提供一种定位准确,经济方便的脑出血穿刺定位仪。
本发明采用的技术方案是:一种脑出血穿刺定位仪,包括定位仪主杆,穿刺点臂,靶点臂,定位缺口,靶点缺口,主杆调节钮和方向导引尺,所述定位仪主杆长度可以调节,其位置由主杆调节钮固定,所述定位仪主杆一端垂直连接有穿刺点臂,在其另一端同一方向垂直连接有靶点臂,且所述穿刺点臂和所述靶点臂长度相等,所述定位缺口位于穿刺点臂前端,所述靶点缺口位于靶点臂前端,且靶点缺口位置和定位缺口位置一致,所述方向导引尺设置在穿刺点臂上,还可沿穿刺点臂方向折叠。
按照本发明提供的脑出血穿刺定位仪相对于现有技术,具有如下优点:由于采用了由可调节长度的定位仪主杆和与定位仪主杆连接的穿刺点臂和靶点臂组成的定位装置,可选血肿距颅骨最近的位置,避开重要解剖结构,按血肿长轴方向对血肿进行穿刺,以达最小损伤,取得最佳引流效果。该定位仪制作容易,用法简单,定位准确,脑出血穿刺手术成功率高。
附图说明:
图1为按照本发明提供的脑出血穿刺定位仪的一种实施例的构造示意图;
图2为本发明的定位仪主杆的剖面图。
具体实施方式:
下面结合附图所示的实施例对本发明做进一步说明:
参见图1,图2所示,作为本发明的一种实施例,脑出血穿刺定位仪包括定位仪主杆1、穿刺点臂2、靶点臂3、定位缺口4,靶点缺口7、主杆调节钮5和方向导引尺6。定位仪主杆1由可相对滑动的两部分组成,其中定位仪主杆1′上设置T形槽,定位仪主杆1″上设置有与T形槽可相对滑动配合的凸棱,该两部分由主杆调节钮5固定,定位仪主杆1一端垂直连接有穿刺点臂2,在另一端同一方向垂直连接有靶点臂3,且穿刺点臂2和所述靶点臂3长度相等,定位缺口4位于穿刺点臂2前端,靶点缺口7位于靶点臂3前端,且定位缺口4和靶点缺口7的位置位于同一直线上,方向导引尺6设置在穿刺点臂上。
本发明的使用过程如下:首先在CT的引导下,根据CT有血肿切层中选取血肿最大层面作为预定穿刺平面,把血肿距颅骨最近的位置b点为穿刺点,按血肿的长轴ab所示,以头颅a点为靶点,并进行双标记,然后重扫该CT层面确认,把定位缺口4和靶点缺口7卡在穿刺点b和靶点a,在穿刺点b处作标记,将方向导引尺6置于垂直于穿刺点臂位置,然后按方向导引尺6导引的方向进行钻颅和引流。
Claims (2)
1、一种脑出血穿刺定位仪,其特征在于:所述脑出血穿刺定位仪包括有定位仪主杆,穿刺点臂,靶点臂,定位缺口,靶点缺口,主杆调节钮和方向导引尺,所述定位仪主杆长度可以调节,其位置由主杆调节钮固定,所述定位仪主杆一端垂直连接有穿刺点臂,在其另一端同一方向垂直连接有靶点臂,且所述穿刺点臂和所述靶点臂长度相等,所述定位缺口位于穿刺点臂前端,所述靶点缺口位于靶点臂前端,且靶点缺口位置和定位缺口位置一致,所述方向导引尺设置在穿刺点臂上,沿穿刺点臂方向折叠。
2、根据权利要求1所述的脑出血穿刺定位仪,所述定位仪主杆由可相对滑动的两部分组成,其中一部分上设置有槽,另一部分上设置有与槽滑动配合的凸棱。
Priority Applications (1)
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CNA2004100006860A CN1557260A (zh) | 2004-01-16 | 2004-01-16 | 脑出血穿刺定位仪 |
Applications Claiming Priority (1)
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Publications (1)
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CN1557260A true CN1557260A (zh) | 2004-12-29 |
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Family Applications (1)
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Country Status (1)
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2004
- 2004-01-16 CN CNA2004100006860A patent/CN1557260A/zh active Pending
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Legal Events
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C02 | Deemed withdrawal of patent application after publication (patent law 2001) | ||
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