CN1537783A - 连续式真空封口、镀膜方法与装置 - Google Patents

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Abstract

一种连续式真空封口、镀膜方法与装置,该装置包含有一前容置室、一与该前容置室相接的真空工作室,及一与该真空工作室相接的后容置室,而其方法包含:将一待加工物置入该前容置室内,再将该前容置室及该真空工作室抽成真空,然后控制该前容置室及该真空工作室内的真空压力达到平衡,并使该待加工物置入该真空工作室内进行充填封口或镀膜以形成加工成品,同时再将该后容置室抽成真空并控制其真空压力与该真空工作室平衡,以使该加工成品进入该后容置室内,最后再对该后容置室注入气体以取出该加工成品。

Description

连续式真空封口、镀膜方法与装置
(1)技术领域
本发明是有关于一种封口、镀膜方法与装置,特别是指一种对至少一待加工物进行充填封口或镀膜以形成加工成品的连续式真空封口、镀膜方法与装置。
(2)背景技术
一般对于一待加工物用于真空充填封口的真空装置是具有一真空工作室,且在该真空工作室上另设有一切换件,当该待加工物置入该真空工作室后,由该切换件切换为真空模式而对该真空工作室进行抽真空的动作,当达到真空状态后,再由切换件切换成加工模式以对该待加工物进行充填封口的动作,当该待加工物完成充填封口而形成一加工成品后,再开启该真空工作室(此时空气会进入)以取出加工成品,而等下一个待加工物置入该真空工作室后,再由切换件切换成真空模式以进行抽真空的动作,如此反复循环地运作。
但是此种反复循环运作的真空装置具有以下缺点:
1.每次完成加工成品并取出后,空气会进入该真空工作室内,因此须再切换至真空模式以对该真空工作室再次进行抽真空的动作,而经过数次空气进入再抽真空的重复动作后,难免会使该真空工作室内的真空状况未能达到理想,当对该待加工物施予填充液体时,极容易因真空度的不稳定而导致填充液体被抽出或溅出,严重影响真空充填封口的成效。
2.因该真空工作室具有相当体积,所以每次进行抽真空动作时须费时一段时间才能够让下一个待加工物进行充填封口,因此也造成生产线的停顿,无法连续而只能够作批次作业,并有生产量小、生产速度慢的缺点,且每次对该真空工作室抽真空均耗费相当电力,严重影响经济效益与成本,所以有改善的必要。
(3)发明内容
本发明的目的在于提供一种对至少一待加工物进行充填封口或镀膜,并能有效提升优良率及生产量,且能更精确完美地形成加工成品的连续式真空封口、镀膜方法与装置。
本发明提供一种连续式真空封口、镀膜装置,包含有一真空工作室、一与该真空工作室前端相接的前容置室、一与该真空工作室后端相接的后容置室,及一压力平衡自动调整单元;该前容置室具有一第一扇门,而该真空工作室与该前容置室相接处具有一第二扇门,以及该真空工作室与该后容置室相接处另具有一第三扇门,同时该后容置室另具有一第四扇门。
本发明提供一种连续式真空封口、镀膜方法,包含有以下步骤:
(甲)将至少一待加工物置入该前容置室内,并同时关闭该第一、第二、第三及第四扇门;接着进行步骤(乙),将该前容置室及该真空工作室抽成真空,并使该真空工作室持续地维持在真空的状态;然后进行步骤(丙)借由该压力平衡自动调整单元以控制该前容置室及该真空工作室内的真空压力达到平衡;接着再进行步骤(丁),当该前容置室及该真空工作室内的真空压力达到平衡时,开启该第二扇门以使该待加工物进入该真空工作室内,然后再关闭该第二扇门,并在该真空工作室内对该待加工物进行充填封口或镀膜的动作以形成加工成品;接着进行步骤(戊),当该待加工物于该真空工作室内进行充填封口或镀膜的同时,对该后容置室进行抽真空的动作;然后进行步骤(己),当该待加工物形成加工成品后,借由该压力平衡调整单元而再次对该真空工作室及该后容置室内的真空压力进行平衡控制,而当二者的真空压力达到平衡时,开启该第三扇门以使该加工成品进入该后容置室内,并再关闭该第三扇门;最后进行步骤(庚),将该后容置室注入气体以使该第四扇门开启,并取出该加工成品。这样,该真空工作室即可在整个运作过程中均保持理想的真空状态,不会有空气的进入而需数次反复地进行抽真空的动作,进而顺利地进行充填封口或镀膜的动作而有效提升加工成品的优良率及产量。
(4)附图说明
下面结合附图及实施例对本发明进行详细说明:
图1是本发明连续式真空封口、镀膜方法与装置一第一较佳实施例的装置配置示意图。
图2是一流程图,并说明该第一较佳实施例中,该真空封口方法的实施步骤。
图3是该第一较佳实施例的一装置配置示意图,并说明一真空工作室的一第二扇门开启以使一待加工物进入的情形。
图4是该第一较佳实施例的一装置配置示意图,并说明该第二扇门关闭以使该待加工物隔绝于该真空工作室内以形成一加工成品的情形。
图5是该第一较佳实施例的一装置配置示意图,并说明一第三扇门开启以使该加工成品进入一后容置室内的情形。
图6是该第一较佳实施例的一装置配置示意图,并说明一第四扇门开启以顺利取出该加工成品的情形。
图7是一流程图,并说明本发明连续式真空封口、镀膜方法与装置的一第二较佳实施例中,该真空镀膜方法的实施步骤。
图8是该第二较佳实施例的一装置配置示意图,并说明一待加工物于一真空工作室内进行镀膜动作以形成一加工成品的情形。
(5)具体实施方式
为了方便说明,以下的实施例,相同的元件以相同的标号表示。
如图1所示,是本发明连续式真空封口、镀膜方法与装置的第一较佳实施例,该连续式真空装置包含有:一前容置室1、一真空工作室2、一后容置室3及一压力平衡自动调整单元4。该压力平衡自动调整单元具有一设置于该前容置室1与该真空工作室2间的第一压力平衡自动调整机构41,及一设置于该真空工作室2与该后容置室3间的第二压力平衡自动调整机构42,而该前容置室1的前端具有一可开启关闭的第一扇门11,且该第一扇门11开启时,可供至少一待加工物5置入于该前容置室1内。图1中仅显示一待加工物5。但也可同时置入多件待加工物。
该真空工作室2的前端与该前容置室1的后端相接,并在相接处具有一可开启关闭的第二扇门21,且当该第二扇门21开启时,该真空工作室2可与该前容置室1相通,而当该第二扇门21关闭时,该真空工作室2则与该前容置室1隔绝,此外,该真空工作室2的后端另具有一可开启关闭的第三扇门。
该后容置室3的前端是与该真空工作室2的后端相接,同时该后容置室3的后端具有一可开启关闭第四扇门31,另外,当该真空工作室2的第三扇门22开启时,该真空工作室2可与该后容置室3相通,而当该第三扇门22关闭时,该真空工作室2则与该后容置室3隔绝。
该第一压力平衡自动调整机构41是可控制该前容置室1与该真空工作室2内的真空压力达到平衡,而该第二压力平衡自动调整机构42则是可控制该真空工作室2与该后容置室3内的真空压力达到平衡。
配合图2所示,图2是显示本发明利用前述连续式真空装置进行真空封口的步骤流程图,现就以步骤流程的方式加以说明:
首先进行步骤(71),将该至少一待加工物5置入该前容置室1内,并如图1所示同时关闭该第一、第二、第三及第四扇门11、21、22、31。
接着进行步骤(72),将该前容置室1及该真空工作室2抽成真空,并使该真空工作室2持续地维持在真空的状态。
然后进行步骤(73),借由所设置的第一压力平衡自动调整机构41以使得该前容置室1与该真空工作室2内的真空压力达到平衡。
然后进行步骤(74),当该前容置室1与该真空工作室2内的真空压力达到平衡时,开启该真空工作室2的第二扇门21以使该待加工物5进入该真空工作室2内(见图3),然后再关闭该第二扇门21,并在该真空工作室2内对该待加工物5进行充填及封口的动作以形成加工成品5’(见图4)。
接着进行步骤(75),当该待加工物5于该真空工作室2内进行充填封口的同时,对该后容置室3进行抽真空的动作。
然后进行步骤(76),当该待加工物5形成加工成品5’后,借由所设置的第二压力平衡调整机构42而对该真空工作室2及该后容置室3内的真空压力进行平衡控制,而当二者的真空压力达到平衡时,开启该第三扇门22以使该加工成品5’进入该后容置室3内(见图5),并再关闭该第三扇门22。
最后进行步骤(77),当该加工成品5’进入该后容置室3后,对该后容置室3注入气体以改变真空状态,并使该第四扇门31开启以顺利取出该加工成品5’(见图6)。这样,该真空工作室2在整个充填封口的过程中均可保持在理想的真空状态下,不会有空气的进入而需数次反复地进行抽真空的动作,进而能顺利地进行充填封口的动作,且能更进一步地有效提升优良率并精确完美地形成加工成品5’。此外,在本实施例中是将该待加工物5置入该前容置室1后,再由该真空工作室2内进行充填封口的动作,而实际操作上,亦可将该待加工物5预先充填后再置入该前容置室1,最后再由该真空工作室2内进行封口的动作,这样亦能有效达到提升优良率并更精确完美地形成加工成品5’的目的。
如图7、8所示,是本发明连续式真空封口、镀膜方法与装置的第二较佳实施例,其连续式真空装置与该第一较佳实施例相同,因此不再赘述,而其真空镀膜方法与真空封口方法不同处在于步骤(74’)中,是在该真空工作室2内对至少一待加工物6进行镀膜的动作以形成加工成品6’,换言之,该真空装置除可用于真空充填封口外,亦可运用在真空镀膜上,而使得该真空装置具有双重用途的功效。
本发明连续式真空封口、镀膜方法与装置主要是对于进行加工处理(充填封口、镀膜)的真空工作室2,在其前后端各设置一较小空间的前容置室1及后容置室3作为真空隔绝的衔接,而具有以下优点:
1.该真空工作室2在整个加工处理的过程中均可保持在理想的真空状态,不会有取出加工成品5’(6’)时导致空气进入而需反复数次抽真空并影响加工成效的问题发生,且能更进一步地有效提升优良率以精确完美地形成加工成品5’(6’)。
2.由于该前容置室1及该后容置室3的空间是远小于该真空工作室2,因此在抽真空时的抽气量小,所消耗的电力较少,其抽真空时间亦较短,而使得该待加工物5(6)在置入该前容置室1及取出该加工成品5’(6’)后均能对该前容置室1及该后容置室3迅速完成抽真空的动作,并使得整体运作更加顺畅连续,而提高加工成品的产量,所以确实能达到本发明的目的。

Claims (5)

1.一种连续式真空封口方法,用于一真空装置上以对至少一待加工物进行充填封口的动作,该真空装置包含有一真空工作室、一与该真空工作室的前端相接的前容置室,及一与该真空工作室的后端相接的后容置室,此外,该前容置室具有一第一扇门,而该真空工作室与该前容置室相接处具有一第二扇门,以及该真空工作室与该后容置室相接处另具有一第三扇门,同时该后容置室另具有一第四扇门,其特征在于,该真空封口方法包含有以下步骤:
(甲)将该至少一待加工物置入该前容置室内,并同时关闭该第一、第二、第三及第四扇门;
(乙)将该前容置室及该真空工作室抽成真空,并使该真空工作室持续地维持在真空的状态;
(丙)控制该前容置室及该真空工作室内的真空压力达到平衡;
(丁)当该前容置室及该真空工作室内的真空压力达到平衡时,开启该第二扇门以使该待加工物进入该真空工作室内,然后再关闭该第二扇门,并在该真空工作室内对该容器进行充填及封口的动作以形成加工成品;
(戊)当该待加工物于该真空工作室内进行充填封口的同时,对该后容置室进行抽真空的动作;
(己)当该待加工物形成加工成品后,再次对该真空工作室及该后容置室内的真空压力进行平衡控制,而当二者的真空压力达到平衡时,开启该第三扇门以使该加工成品进入该后容置室内,并再关闭该第三扇门;及
(庚)将该后容置室注入气体以使该第四扇门开启,并取出该加工成品。
2.一种连续式真空封口方法,用于一真空装置上以对至少一待加工物进行真空镀膜的动作,该真空装置包含有一真空工作室、一与该真空工作室的前端相接的前容置室,及一与该真空工作室的后端相接的后容置室;该前容置室具有一第一扇门,而该真空工作室与该前容置室相接处具有一第二扇门,以及该真空工作室与该后容置室相接处另具有一第三扇门,同时该后容置室另具有一第四扇门,其特征在于,该真空镀膜方法包含有以下步骤:
(甲)将该至少一待加工物置入该前容置室内,并同时关闭该第一、第二、第三及第四扇门;
(乙)将该前容置室及该真空工作室抽成真空,并使该真空工作室持续地维持在真空的状态;
(丙)控制该前容置室及该真空工作室内的真空压力达到平衡;
(丁)当该前容置室及该真空工作室内的真空压力达到平衡时,开启该第二扇门以使该待加工物进入该真空工作室内,然后再关闭该第二扇门,并在该真空工作室内对该待加工物进行真空镀膜的动作以形成加工成品;
(戊)当该待加工物于该真空工作室内进行真空镀膜的同时,对该后容置室进行抽真空的动作;
(己)当该待加工物形成加工成品后,再次对该真空工作室及该后容置室内的真空压力进行平衡控制,而当二者的真空压力达到平衡时,开启该第三扇门以使该加工成品进入该后容置室内,并再关闭该第三扇门;及
(庚)将该后容置室注入气体以使该第四扇门开启,并取出该加工成品。
3.一种连续式真空装置,可供至少一待加工物进行真空加工的动作以形成加工成品,其特征在于,该真空装置包含有:
一前容置室,可供该待加工物的置入,并具有一可开启关闭的第一扇门;
一真空工作室,可供该待加工物进行真空加工的动作以形成加工成品,该真空工作室的前端是与该前容置室相接,并在相接处具有一可开启关闭的第二扇门,当该第二扇门开启时,该真空工作室可与该前容置室相通,而当该第二扇门关闭时,该真空工作室则与该前容置室隔绝;该真空工作室的后端另具有一可开启关闭的第三扇门;
一后容置室,与该真空工作室的后端相接并具有一可开启关闭第四扇门,当该真空工作室的第三扇门开启时,该真空工作室可与该后容置室相通,而当该第三扇门关闭时,该真空工作室则与该后容置室隔绝;及
一压力平衡自动调整单元,可分别控制该前容置室与该真空工作室以及该真空工作室与该后容置室内的真空压力达到平衡,当该前容置室与该真空工作室内的真空压力达到平衡时,可开启该真空工作室内的第二扇门以使该待加工物进入该真空工作室内,并再关闭该第二扇门,而当该待加工物进入该真空工作室内并形成加工成品后,该压力平衡自动调整单元再次控制该真空工作室与该后容置室的真空压力达到平衡,并开启该第三扇门以使该加工成品进入该后容置室内,最后再开启该第四扇门以取出该加工成品。
4.如权利要求3所述的连续式真空装置,其特征在于:
当该待加工物置入该真空工作室内时,可对该待加工物进行充填封口的动作以形成加工成品。
5.如权利要求3所述的连续式真空装置,其特征在于:
当该待加工物置入该真空工作室内时,可对该待加工物进行真空镀膜的动作以形成加工成品。
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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN101144149B (zh) * 2006-09-11 2010-12-22 柏腾科技股份有限公司 无时间延迟的连续式真空制程设备及真空加工方法
CN102853212A (zh) * 2012-09-20 2013-01-02 赵炳泉 分仓式真空隔热板连续封装生产线及生产方法
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