CN1527048A - X射线诱导光电子相衬成像装置 - Google Patents

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陈建文
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    • A61B6/00Apparatus for radiation diagnosis, e.g. combined with radiation therapy equipment
    • A61B6/48Diagnostic techniques
    • A61B6/484Diagnostic techniques involving phase contrast X-ray imaging

Abstract

一种X射线诱导光电子相衬成像装置,它包含X射线源,其特征在于沿X射线前进方向依次是待测样品、光电子转换器、加速阳极、电磁放大透镜组、CCD,该CCD的输出连计算机,光电子转换器位于待测样品之后,与待测样品的距离Z2为:Z2=0.49Z1/(λU2Z1-0.49)式中:λ-X射线波长,U-物体空间频率,Z1-待测样品和X射线源的距离。所述的光电子转换器、加速阳极、电磁放大透镜组和CCD都装在一真空系统之内。本发明既具有硬X射线高穿透性能,又兼备了光电子能有效放大的特性,可实时地、快速地观察自然活体状态下生物体、各种材料的位相分布。

Description

X射线诱导光电子相衬成像装置
技术领域:
本发明是关于X射线相衬成像装置,特别是涉及一种X射线诱导光电子相衬成像装置。
背景技术:
X射线用于成像已有100年的历史,已成为医学、生物学及材料科学中不可缺少的诊断工具。早期的X射线成像技术,是根据样品的密度分布差异、组成以及厚度的不同,来获得像的衬度。但在硬X射线范围,诸如生物体软组织、聚合物及碳纤维等以轻元素为主的物体吸收极小,产生的对比度也很小。对于这类弱吸收物体,硬X射线的位相移动却很大。近年来,随着高亮度同步辐射光源及X射线激光的迅猛发展,位相衬度成像已经成为国际上成像领域的一个研究热点,在医学诊断、生物和材料研究等领域有显著的优越性,极具推广应用的潜力。
当X射线穿透物质时,它的位相变化给出了产生位相衬度的可能性。目前世界上几个研究小组探讨新的X射线成像方法,主要可分为三类:干涉法、衍射法及类同轴全息成像法分别对和2进行测量。其中,Wilkins等人给出的一种非常简单的、基于菲涅尔衍射的X射线相位成像方法特别引人注意,它实质上就是X射线同轴盖柏全息的记录,亦称之为X射线相位直接成像(参见在先技术:S.W.Wilkins,T.E.Gureyev,D.Gao et al.,Nature,1996,384,335-338)。
我们知道,当光波通过物体时,要产生散射和吸收,在离样品适当距离将获得清晰的样品吸收衬度像,这是常规显微和层析的成像基础。
从X射线光学,我们已经知道:X射线的折射率nx=1-δ,δ=r0λ2Natf/2π,式中,λ为X射线波长,r0为经典电子半径,Nat为单位体积内原子数密度,f为原子散射因子。尽管1-δ和1的差值只有10-5,但当使用非常小的λ值时,即使是不太大的厚度或密度的变化,也可能产生相当大的位相畸变。如果采用相干光或部分相干光通过物体时,除了吸收以外,还要产生位相变化,即发生波前的畸变。这种波面畸变导致部分波面的传播方向发生变化,使波面重叠而形成干涉,这样,位相变化转化成强度变化,这是相衬成像的物理基础,也是相衬层析的物理基础,更为重要的是,这种图像不经任何重构技术,可直接获得位相变化图像。
在标量近似的前提下,对样品的光学复传递函数F有
w(x,y)=F(x,y)w(x,y)             (1)
其中,w和w0分别表示通过薄样品前后在物平面上点(x,y)处的单色场。包含有折射率实部和虚部的传递函数F可表示为
F(x,y)=M(x,y)el(x,y)        (2)
其中,M代表吸收,而表示相位变化
M ( x , y ) = exp ( - 1 2 ∫ μ ( x , y , z ) dz ) - - - ( 3 )
Figure A0315108300042
μ为线性吸收系数,且n为折射率的实部。上两式中的积分路径均沿光束的传播方向z。
通常折射率与1相差很小(在10-5量级)。对于成像过程可以用两种方法分析:一是将光波穿过样品之后的传播看作球面波,用菲涅尔—基尔霍夫积分方法分析;一是将入射光平面波传播穿过样品视为通过一滤波器,其后的空间传播都采用傅立叶光学的方法分析。
以一维情况下的单色波exp{-ikz}为例(不失一般性),考虑一弱吸收的位相物体,我们可以得到方程
I ( x ) ≈ 1 - λ 2 2 π r e z ρ n ( x )
在一个特定的物—像平面距离有
I(x)=1-2reλρe(x)
在傍轴近似条件下,相位本身出现在光强分布的表达式中,从上式还可以看到,波长λ以一个一次因子出现在第二项中,其对成像的影响很小,也就是说,相衬成像对时间相干性的要求不是很高,这就提供了采用微聚焦X射线管进行成像的可能。当然采用单色性好的同步辐射源,将能获得清晰度较高的图像。
这种硬X射线相衬成像分辨率常常受记录介质分辨率的影响,分辨率为10μm的量级。
发明内容:
本发明针对上述在先技术中所存在的缺点,提出一种新的装置,即X射线诱导光电子相衬成像装置。
当硬X射线穿透样品以后,如果将探测器直接放在样品后面,记录的是一张基于吸收衬度机制的X射线投影图。如果探测器和样品距离满足以下公式时:
Z 2 = 0.49 Z 1 λ U 2 Z 1 - 0.49
就可以获得物体的位相衬度像,式中:λ是X射线波长,U是物体空间频率,Z1是待测样品和X射线源的距离。
特别要指出的是,这种相衬像反映的是物体折射率发生突变的地方。
具体地说,本发明的技术解决方案是:
一种X射线诱导光电子相衬成像装置,它包含X射线源,其特征在于沿x射线前进方向依次是待测样品、光电子转换器、加速阳极、电磁放大透镜组、CCD,该CCD的输出连计算机,而光电子转换器位于待测样品之后,与待测样品的距离Z2为:
Z 2 = 0.49 λ U 2 Z 1 - 0.49
式中:λ-X射线波长,
      U-物体空间频率,
      Z1-待测样品和X射线源的距离。
所述的光电子转换器、加速阳极、电磁放大透镜组和CCD都装在一真空系统之内。
所述的X射线源是一台微聚焦的X射线管或者是一个同步辐射源。
所述的待测样品是安放在一具有上下、前后调节功能的样品平台的。
所述的光电子转换器,它能将硬X射线转换成电子,例如光阴极。
本发明的X射线诱导光电子相衬成像装置,与在先技术相比,它既有硬X射线穿透能力很强的优势,又具有光电子能被高倍放大的功能,能高分辨率地观察到样品中折射率突变部分的细节。
附图说明:
图1为本发明X射线诱导光电子相衬成像装置的结构框图。
具体实施方式
本发明的X射线诱导光电子相衬成像装置的结构如图1所示。它包含8个部分:X射线源1,样品台2,光电子转换器3,加速阳极4,电磁放大透镜组5,CCD6,计算机7,真空系统8。
所说的X射线源1是一台微聚焦的X射线管或者是一个同步辐射源。
所说的待测样品2放置一样品平台上,该样品平台具有上下、前后调节功能。
所说的光电子转换器3,它能将硬X射线转换成电子,例如光阴极。光阴极的材料通常有三类:(1)金属类,主要有金、铜、镁、钽等,其特性是阈值功率高,量子效率低,由于大部分入射光能转换成热能,对高重复率运转的光阴极需要冷却;优点是容易制备,使用寿命长,对真空度要求低,一般为10-5~10-8。(2)金属化合物及合金,典型的有LaB6,有较高的量子效率,对紫外波段有较高的灵敏度,对真空度要求也低。(3)半导体光阴极。主要是多碱锑化物材料。如:Cs3Sb,CsK2Sb和GaAs等。半导体光阴极的量子效率最高,可达2~8%;阈值功较低,可以获得较高的电流密度。唯一的缺点是寿命短,只有几十个小时。(参见文献:陈建文、欧阳斌、王之江,强激光技术进展,1992年,第3辑,1-5)。
实际中必须根据X射线光子的波长、所需光阴极的阈值功及量子效率等各方面的综合性能,从三类材料中作出选择。这里我们选择使用寿命长的金属作光阴极。
所说的加速阳极4,它能将光电子加速。
所说的电磁放大透镜组5,它用来将加速电子进行放大。
所说的CCD6,是用来记录放大了的含有物体位相信息的图像。
所说的计算机7,是用来显示CCD6接收到由样品产生的位相衬度的图像。
所说的真空系统8,是用来给光电子有一个正常运行的环境。
当硬X射线1和置于样品台上的样品相互作用,并传播到Z2距离之后,此时的X射线强度分布中含有位相信息,即包含的是相衬图像,在这一位置放有光电转换器3,即相衬图像变成电子相衬图像,由于电子能被加速阳极4和电磁放大透镜组5放大,并被CCD6和计算机7接受和显示,图像可以放大到100万倍,能观察到很微小的细节。
本发明的硬X射线诱导光电子相衬成像装置,既具有硬X射线高穿透性能,又兼备了光电子能有效方大的特性,可以实时地、快速地观察自然活体状态下生物体、各种材料的位相分布,特别是折射率发生突变部分,是通常基于吸收机制X射线投影成像以及电子显微成像所不能完成的工作,对于人体各种病变以及早期癌症诊断方面将有潜在的巨大的用途!

Claims (5)

1、一种X射线诱导光电子相衬成像装置,它包含X射线源(1),其特征在于沿x射线前进方向依次是待测样品(2)、光电子转换器(3)、加速阳极(4)、电磁放大透镜组(5)、CCD(6),该CCD(6)的输出连计算机(7),而光电子转换器(3)位于待测样品(2)之后,与待测样品(2)的距离Z2为:
Z 2 = 0.49 Z 1 λ U 2 Z 1 - 0.49
式中:λ-X射线波长,
      U-物体空间频率,
      Z1-待测样品(2)和X射线源(1)的距离。
2、根据权利要求1所述的X射线诱导光电子相衬成像装置,其特征在于所述的光电子转换器(3)、加速阳极(4)、电磁放大透镜组(5)和CCD(6)都装在一真空系统(8)之内。
3、根据权利要求1所述的X射线诱导光电子相衬成像装置,其特征在于所述的X射线源(1)是一台微聚焦的X射线管或者是一个同步辐射源。
4、根据权利要求1所述的X射线诱导光电子相衬成像装置,其特征在于所述的待测样品(2)是安放在一具有上下、前后调节功能的样品平台上的。
5、根据权利要求1所述的X射线诱导光电子相衬成像装置,其特征在于所述的光电子转换器(3)能将硬X射线转换成电子,例如光阴极。
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