CN1258123C - 防止回溅的装置与方法 - Google Patents

Abstract

本发明是有关于一种防止回溅的装置，是用于面板或基板的黄光制作过程，以防止滴置于基板或面板表面的液体(例如显影液或光阻液)，经旋涂后，溅散于周缘后又回溅至基板或面板。因而引起图样或黄光制作过程的缺陷，造成产品的劣化。该防止回溅的装置主要包含：一旋转器，至少一液体喷洒单元，至少一围绕部分该旋转器的挡板，以及一粗糙化单元。而防止回溅的方法，在此也一并揭示。

Description

防止回溅的装置与方法

技术领域

本发明是关于一种防止回溅的装置与方法，尤指一种适用于显影(Developer)或洗涤(Scrubber)制作过程中，防止显影液或水回溅的装置与方法。

背景技术

一般制造薄膜电晶体液晶显示器(TFT-LCD)时，必须先在干净的玻璃板上制作薄膜电晶体的图案，其制作过程与一般半导体制造流程非常类似。首先要沈积薄膜，例如金属膜或介电薄膜；然后进入黄光室喷上光阻液，再套上光罩进行曝光：接着送到显影区喷洒显影液，以去除照光后的光阻，使光阻层定型；最后再用蚀刻将露出的薄膜去除，并于蚀刻后将留下的光阻去除，电晶体所需要的电路图案就制作完成。

进行显影的方式有很多种：一般采用将显影液喷洒在置于旋转器的基板上，如图2所示，显影机台100为防止液体飞溅，因而于旋转器110外围的外盖120(Outercup)上缘设计有一段约十公分的挡板121，挡板121为与外盖120一体成型的平面光滑不锈钢材质制成。在此种设计下，显影液在旋转器110高速旋转时，虽可被不锈钢外盖挡下，不会溅至显影机台外部，但显影液130与不锈钢挡板121的高速碰撞下，会有部分的显影液再回溅至基板内，如箭头131所示。造成产品的优良率下降，此种情形在基板变薄的情形下更显严重，因基板在高速旋转下会使边缘起伏的角度更大，如双箭头132所示，使回溅更为严重。例如0.63mm厚的玻璃其回溅程度就比0.70mm厚的玻璃严重。

此外，在洗涤(Scrubber)机台内，常有因清洗后高速旋干时，去离子水(DI-water)回溅至基板表面，造成水气残留而影响镀膜性质或后面制作过程的良率或可靠度降低的情况。

发明内容

本发明的主要目的在于，提供一种防止回溅的装置，能防止液体回溅至基板表面，而提高产品的良率及可靠度。

本发明的另一个目的在于，提供一种防止回溅的方法，能防止液体回溅至基板表面，而提高产品的良率及可靠度。

为实现上述目的，本发明提供的一种防止回溅的装置，是配合一基板，主要包含：

一旋转器，用以容置及旋转该基板；

至少一液体喷洒单元，位于该旋转器的一侧，用以喷洒一液体至该基板；

至少一围绕部分该旋转器的挡板，用以防止该液体溅出；

一粗糙化单元，是披覆于部分该挡板上，用以防止该液体被该挡板回溅。

所述的防止回溅的装置，其中该基板为硅晶圆，面板或玻璃板。

所述的防止回溅的装置，其中该液体为水或显影液。

所述的防止回溅的装置，其中该挡板为不锈钢板。

所述的防止回溅的装置，其中该粗糙化单元为海绵、不锈钢网、或粗糙的不锈钢表面。

所述的防止回溅的装置，其适用于显影机台(Developer)或洗涤机台(Scrubber)。

为实现上述目的，本发明提供的一种防止回溅的方法，是配合一基板，主要包括以下步骤：

(A)提供一制作过程机台，该制作过程机台包含

一旋转器，用以旋转该基板；

一液体喷洒单元，位于该旋转器的一侧，用以喷洒一液体至该基板；

一围绕部分该旋转器的挡板，用以防止该液体溅出；

(B)将该挡板的表面粗糙化。

所述的防止回溅的方法，其中该制作过程机台为显影机台(Developer)或洗涤机台(Scrubber)。

所述的防止回溅的方法，其中该基板为硅晶圆，面板或玻璃板。

所述的防止回溅的方法，其中该液体为水或显影液。

所述的防止回溅的方法，其中该挡板为不锈钢板。

所述的防止回溅的方法，其中步骤(B)的方法为以钢网摩擦该挡板表面。

所述的防止回溅的方法，其中步骤(B)更包含装设一粗糙化单元于该挡板外侧。

所述的防止回溅的方法，其中该粗糙化单元为海绵或不锈钢网。

本发明装置或方法中的基板无限制，可为任何公知的基板，较佳为硅晶圆，面板或玻璃板。本发明装置或方法中的液体无限制，可为任何公知的液体，较佳为该液体为水或显影液。本发明装置或方法中的挡板无限制，可为任何公知的挡板，较佳为该挡板为不锈钢板。

本发明装置或方法中的粗糙化单元无限制，可为任何公知的粗糙化单元，较佳为该粗糙化单元为海绵、不锈钢网、或粗糙的不锈钢表面。本发明装置或方法中适用的机器无限制，可为任何公知的机器，较佳为适用于显影机台(Developer)或洗涤机台(Scrubber)。

本发明的优点在于，能以简便的方式有效的提高产品的优良率。

附图说明

图1是本发明一较佳实施例的显影室的示意图；

图2是公知的显影室剖视图。

具体实施方式

为能更清楚的说明发明的技术内容，特举较佳具体实施例说明如下。

请参见图1，图1为一显影室的示意图。显影室1包含旋转器10，用以旋转基板20；液体喷嘴30，位于旋转器10的侧边，可喷洒显影液至基板20；一围绕旋转器10的平面光滑不锈钢挡板40，用以防止显影液溅出显影室。为针对现行的显影槽结构进行改善，以降低显影液回溅的比例，在本实施例中，将厚度介于1mm～20mm的不锈钢网50披覆于挡板40上，利用过滤膜原理，液体分子易进不易出，且即使有回溅亦可使液体分子因二次撞击减少体积及作用力，而以微粒分子方式反弹，让显影机台内的抽气装置带走，以减少显影液被挡板40回溅至基板20的机率。测量不锈钢网50披覆于挡板40的前后情况，因显影液回溅造成的产率损失比较，其结果列于下表1：

表1

显影室挡墙结构	产率损失
		原不锈钢挡墙	0.11％
加装不锈钢网	0.01％

故加装不锈钢网50确实可增加挡板40的表面粗糙度，并降低液体分子与其表面产生完全弹性碰撞的比例。除本实施例使用的不锈钢网50之外，任何可增加挡板40表面粗糙度、耐化学药品等的物质皆可被使用；例如亦可使用海绵。或是直接使挡板40表面粗糙化，让撞击至挡板表面的显影液分子不易产生弹性碰撞，而回溅至基板表面。其中，表面粗糙化的方法，例如可以为机械敲击、喷击、表面喷覆、摩擦或是化学蚀刻等方式。

另外，除上述的显影室之外，本发明亦可使用于任意的喷洒液体旋涂机制的制作过程手段，如洗涤制作过程(Scrtlbber)。

上述实施例仅是为了方便说明而举例而已，本发明所主张的权利范围自应以专利范围所述为准，而非仅限于上述实施例。

Claims (14)

1、一种防止回溅的装置，是配合一基板(20)，其特征在于，主要包含：

一旋转器(10)，用以容置及旋转该基板(20)；

至少一液体喷洒单元(30)，位于该旋转器(10)的一侧，用以喷洒一液体至该基板(20)；

至少一围绕部分该旋转器(10)的挡板(40)，用以防止该液体溅出；

一粗糙化单元(50)，是披覆于部分该挡板(40)上，用以防止该液体被该挡板(40)回溅。

2、根据权利要求1所述的防止回溅的装置，其特征在于，其中该基板为硅晶圆，面板或玻璃板。

3、根据权利要求1所述的防止回溅的装置，其特征在于，其中该液体为水或显影液。

4、根据权利要求1所述的防止回溅的装置，其特征在于，其中该挡板为不锈钢板。

5、根据权利要求1所述的防止回溅的装置，其特征在于，其中该粗糙化单元为海绵、不锈钢网、或粗糙的不锈钢表面。

6、根据权利要求1所述的防止回溅的装置，其特征在于，其适用于显影机台或洗涤机台。

7、一种防止回溅的方法，是配合一基板(20)，其特征在于，主要包括以下步骤：

(A)提供一制作过程机台(1)，该制作过程机台(1)包含

一旋转器(10)，用以旋转该基板(20)；

一液体喷洒单元(30)，位于该旋转器(10)的一侧，用以喷洒一液体至该基板(20)；

一围绕部分该旋转器(10)的挡板(20)，用以防止该液体溅出；

(B)将该挡板(20)的表面粗糙化。

8、根据权利要求7所述的防止回溅的方法，其特征在于，其中该制作过程机台为显影机台或洗涤机台。

9、根据权利要求7所述的防止回溅的方法，其特征在于，其中该基板为硅晶圆，面板或玻璃板。

10、根据权利要求7所述的防止回溅的方法，其特征在于，其中该液体为水或显影液。

11、根据权利要求7所述的防止回溅的方法，其特征在于，其中该挡板为不锈钢板。

12、根据权利要求7所述的防止回溅的方法，其特征在于，其中步骤(B)的方法为以钢网摩擦该挡板表面。

13、根据权利要求7所述的防止回溅的方法，其特征在于，其中步骤(B)更包含装设一粗糙化单元于该挡板外侧。

14、根据权利要求7所述的防止回溅的方法，其特征在于，其中该粗糙化单元为海绵或不锈钢网。

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