CN1247238A - 形状记忆合金表面原位制备绝缘膜 - Google Patents

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Abstract

一种形状记忆合金表面原位制备绝缘膜,其制备方法和步骤如下:(1)将镍钛形状记忆合金试样材料用细砂纸去除表面氧化层并进行抛光处理;(2)将配置好的反应液和试件放到不锈钢反应釜中,并将反应釜的盖子拧紧;(3)将反应釜放入加热炉中,在160～240℃保温8～14小时;以此水热合成法达到原位制备该绝缘膜的目的;(4)将试件取出,测试性能。

Description

形状记忆合金表面原位制备绝缘膜
本发明为一种形状记忆合金表面原位制备绝缘膜，属于记忆合金表面制备绝缘膜技术。
形状记忆合金(SMA)作为一种新型功能材料，以其不同于一般材料的奇异性能和丰富的马氏体相变而倍受瞩目。近年来，对形状记忆合金智能化的研究已取得了很大进展，它可以实现自检测、自诊断、自修正、自适应等功能。
然而，在复合智能材料方面的研究尚未见报道，其主要原因之一是没有解决形状记忆合金与基体之间的绝缘问题。由于形状记忆合金一般通过通电方式加热，因此形状记忆合金与基体材料之间必须绝缘。
在对形状记忆合金表面进行绝缘时，将会遇到以下两个难点：
(1)在形状记忆合金与基体金属间添加绝缘层，若只是在表面涂绝缘漆，当温度较高时，漆会发生剥落；若在表面沉积绝缘涂层，则结合强度又较低。
(2)由于复合到基体金属中的镍钛(NiTi)形状记忆合金在通电加热时，体积和形状发生变化，其表面的绝缘膜也应随之改变。这也给绝缘带来了难度。
为了解决形状记忆合金复合到金属基体中的关键问题，本发明的目的是：提供一种形状记忆合金表面原位制备绝缘膜的工艺方法及其制品，即采用现有的水热合成法提供在镍钛形状记忆合金表面原位制备氧化钛绝缘膜的工艺技术。
本发明一种形状记忆合金表面原位制备绝缘膜，其采用的技术方案如下：
(1)采用的试样材料：为镍钛形状记忆合金
(2)试验装置：为不锈钢内衬聚四氟乙烯圆柱形反应釜
(3)反应液成分：为20～30％NaOH+5～10％NaNO2+75～60％蒸溜水(重量百分数)
(4)制备工艺：反应液的酸碱度(PH)值：为10～14
保温温度：   160℃-240℃
保温时间：   8-14小时
本发明的制备方法和步骤如下：
(1)将镍钛(NiTi)形状记忆合金试样材料用细砂纸去除表面氧化层并进行抛光处理；
(2)将配置好的反应液和试件放到不锈钢反应釜中，并将反应釜的盖子拧紧；
(3)将反应釜放入加热炉中，在160～240℃保温8～14小时；以此水热合成法达到原位制备该绝缘膜的目的；
(4)将试件取出，测试性能；
本发明的优点是：膜与基体结合牢固，绝缘膜电阻大，工艺性好。其性能可达到：绝缘膜的最大电阻8.1×105Ω～8.4×105Ω
        击穿电压： 20～24V。绝缘膜物相组成：主要以二氧化钛(TiO2)和氧化钛(TiO)为主。。
兹举实施例如下：
采用的试样材料为镍钛(NiTi)形状记忆合金，试验装置为不锈钢内衬聚四氟乙烯圆柱形反应釜，其反应液成分：25％NaOH+8％NaNO2+67％蒸溜水(重量百分数)，制备工艺：其反应液的酸碱度(PH)值为12、保温温度为200℃、保温时间为11小时；制备方法和步骤是：首先，将镍钛(NiTi)形状记忆合金试样材料用细砂纸去除表面氧化层并进行抛光处理；然后，将配置好的反应液和试件样材料放到不锈钢反应釜中，并将盖拧紧；再将反应釜放入加热炉中，在200℃保温11小时；以此水热合成法达到原位制备该绝缘膜的目的；将试样材料由反应釜中取出，进行性能测试，测试结果是：绝缘膜的最大电阻8.1×105Ω～8.4×105Ω、击穿电压：20～24V，膜与基体结合性能良好。其绝缘膜物相组成主要以二氧化钛(TiO2)和氧化钛(TiO)为主。

Claims (1)

  1. 一种形状记忆合金表面原位制备绝缘膜，其特征在于：其采用的技术方案如下：
    (1)采用的试样材料：为镍钛形状记忆合金
    (2)试验装置：为不锈钢内衬聚四氟乙烯圆柱形反应釜
    (3)反应液成分：为20～30％NaOH+5～10％NaNO2+75～60％蒸溜水(重量百分数)
    (4)制备工艺：反应液的酸碱度(PH)值：为10～14
    保温温度：   160℃-240℃
    保温时间：   8-14小时
    其制备方法和步骤如下：
    (1)将镍钛(NiTi)形状记忆合金试样材料用细砂纸去除表面氧化层并进行抛光处理；
    (2)将配置好的反应液和试件放到不锈钢反应釜中，并将反应釜的盖子拧紧；
    (3)将反应釜放入加热炉中，在160～240℃保温8～14小时；以此水热合成法达到原位制备该绝缘膜的目的；
    (4)将试件取出，测试性能；
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