CN118546569A - 黑矩阵用颜料分散组合物、黑矩阵用抗蚀剂组合物以及黑矩阵 - Google Patents
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Abstract
本发明提供一种黑矩阵用颜料分散组合物,由其能够在形成黑矩阵时保持线宽于适当范围并且能够形成光密度、细线密合性以及表面电阻值也优异的黑矩阵。一种黑矩阵用颜料分散组合物,其包含黑色着色剂、颜料分散剂、颜料衍生物、卡多树脂以及含有包含下述(a)~(c)的材料的组合物。其中,(a)具有两个以上的马来酰亚胺基团的多官能马来酰亚胺化合物,(b)苯并噁嗪化合物,(c)环氧树脂。
Description
[相关申请的相互参照]
本申请主张2023年2月27日向日本特许厅提交的发明专利申请“日本特愿2023-028278”的优先权,并在此将该申请所揭示的所有内容整体并入本申请的说明书中。
技术领域
本发明涉及黑矩阵用颜料分散组合物、黑矩阵用抗蚀剂组合物以及黑矩阵。
背景技术
在利用液晶、等离子体等的图像显示装置中的画面显示区域内的着色图案的间隙和显示区域周围部分的边缘、另外在使用TFT的液晶表示器中的TFT的外光侧等处,设置有遮光膜(黑矩阵)。
而且,在液晶显示装置中黑矩阵(black matrix,另有称“黑色矩阵”或“黑色基质”等)主要防止来自背光的漏光映入画面,另外在等离子体显示装置中黑矩阵主要防止各颜色光的混浊导致的渗染映入画面,从而有助于提高显示特性(对比度以及色纯度)。
例如,对于用于将液晶显示装置的背光的白色光转换为着色光的彩色滤光片(color filter,也称“滤色器”等),通常通过在形成有黑矩阵的玻璃、塑料片等透明基板表面以条纹状或马赛克状等图案依次形成红色、绿色、蓝色的不同色相的像素的方法来制造。
另外,即使在将图像显示装置与位置输入装置合并的触摸面板中,同样地也利用形成有黑矩阵的彩色滤光片作为遮光膜;迄今为止,通常隔着盖板玻璃(玻璃保护片)形成在与传感器基板相反的一侧。
然而,随着对触摸面板的轻量化的要求高涨,为了实现更轻量化正在推进开发一种同时形成遮光膜与触控传感器于盖板玻璃的相同侧的技术。
作为这种黑矩阵的形成方法,例如利用了对包含颜料的黑矩阵用组合物加以使用的光刻法(颜料法)。
例如,在专利文献1中公开了将包含具有使异氰酸酯化合物与封端剂发生反应而得到的结构的封端异氰酸酯硅烷化合物(A)、聚合性化合物(B)以及聚合引发剂(C)的聚合性组合物用作黑矩阵用感光性组合物的内容。作为上述聚合性化合物(B)可以举出环氧树脂等交联性树脂。
现有技术文献
专利文献
专利文献1:日本特开2019-183020号公报
发明内容
发明想要解决的问题
在专利文献1中,通过在黑矩阵用感光性组合物中添加环氧树脂等交联性树脂,使其作为炭黑之间的间隔物来发挥作用以提高电绝缘性。
然而,当使用含有交联性树脂的黑矩阵用感光性组合物来制作抗蚀剂组合物时,因交联性树脂的存在而导致抗蚀剂组合物中的显影性树脂的配合比率相对降低,因此存在玻璃基板附近的固化不充分、显影性和密合性降低的问题。
另外,因交联性树脂会使涂膜表面的灵敏度与内部相比大幅上升,因此还存在形成的图案的线宽变粗的问题。
因此,本发明的目的在于提供一种黑矩阵用颜料分散组合物,由其能够在形成黑矩阵时保持线宽于适当范围并且能够形成光密度、细线密合性以及表面电阻值也优异的黑矩阵。
用于解决问题的手段
本发明人发现通过包含黑色着色剂、颜料分散剂、颜料衍生物、卡多树脂(也称“Cardo树脂”)以及含有包含下述(a)~(c)的材料的组合物能够完全解决上述问题,由此完成了本发明。
即,本发明涉及一种黑矩阵用颜料分散组合物,其包含:黑色着色剂、颜料分散剂、颜料衍生物、卡多树脂以及含有包含下述(a)~(c)的材料的组合物,
(a)具有两个以上的马来酰亚胺基团的多官能马来酰亚胺化合物,
(b)苯并噁嗪化合物,
(c)环氧树脂。
作为含有包含上述(a)~(c)的材料的组合物的含量,优选相对于黑矩阵用颜料分散组合物的整体质量为1.5质量%~2.5质量%。
作为含有包含上述(a)~(c)的材料的组合物,相对于所述(a)、(b)和(c)的总计100质量份,优选上述(a)的配合量为50质量份~89质量份。
另外,作为含有包含上述(a)~(c)的材料的组合物,相对于所述(a)、(b)和(c)的总计100质量份,优选上述(b)的配合量为10质量份~40质量份。
另外,作为含有包含上述(a)~(c)的材料的组合物,相对于所述(a)、(b)和(c)的总计100质量份,优选上述(c)的配合量为1质量份~30质量份。
对于上述黑色着色剂优选为pH2~10的炭黑。
另外,对于上述颜料分散剂优选为含碱性基团的氨基甲酸酯类颜料分散剂。
另外,对于上述颜料衍生物优选为铜酞菁的磺化物。
另外,本发明还涉及一种黑矩阵用抗蚀剂组合物,其包含黑矩阵用颜料分散组合物、光聚合性化合物和光聚合引发剂。
另外,本发明还涉及一种由上述黑矩阵用抗蚀剂组合物形成的黑矩阵。
发明效果
基于本发明,可提供一种黑矩阵用颜料分散组合物,由其能够在形成黑矩阵时保持线宽于适当范围并且能够形成光密度、细线密合性以及表面电阻值也优异的黑矩阵。
具体实施方式
<黑矩阵用颜料分散组合物>
本发明的黑矩阵用颜料分散组合物,其包含黑色着色剂、颜料分散剂、颜料衍生物、卡多树脂以及含有包含下述(a)~(c)的材料的组合物,
(a)具有两个以上的马来酰亚胺基团的多官能马来酰亚胺化合物,
(b)苯并噁嗪化合物,
(c)环氧树脂。
在本发明的黑矩阵用颜料分散组合物中,通过将环氧树脂等交联性树脂的一部分置换为多官能马来酰亚胺化合物和苯并噁嗪化合物,在保持与使用环氧树脂等的交联性的情况下相同水平的表面电阻值的同时,可以赋予细线密合性以及保持线宽于适当范围的性质。
在此,本发明也可以不局限于以上述机理进行解释。
[黑色着色剂]
本发明的黑矩阵用颜料分散组合物包含黑色着色剂。
作为上述黑色着色剂,平均一次粒径优选为20~50nm,平均一次粒径更优选为25~45nm。
通过使上述黑色着色剂的平均一次粒径处于上述范围,能够将形成的黑矩阵的线宽保持在适当的线宽,能够更适当地提高细线密合性以及表面电阻值。另外,也能够适当地赋予保存稳定性。
另外,上述平均一次粒径是基于电子显微镜观察的算数平均径的值。
作为上述黑色着色剂,优选为炭黑,更优选pH2~10的酸性炭黑或中性炭黑。
对所述酸性炭黑和中性炭黑进行说明。
炭黑可以根据表面结构大致分为酸性炭黑和中性炭黑。酸性炭黑是指原本已氧化的或者经人工氧化的碳质物质,在与蒸馏水混合煮沸时显示酸性。另一方面,已知中性炭黑在与蒸馏水混合煮沸时显示中性或更高的pH。
作为所述酸性炭黑,pH优选在2.0~4.0的范围,具体可以举出:哥伦比亚化学公司制造的Raven 1080(平均一次粒径为28nm,pH2.4)、Raven1100(平均一次粒径为32nm,pH2.9);三菱化学株式会社制造的MA-7(平均一次粒径为24nm,pH2.5)、MA-8(平均一次粒径为24nm,pH3.0)、MA-100(平均一次粒径为22nm,pH3.5);欧励隆工程炭公司(OrionEngineered Carbons)制造的SpecialBlack250(平均一次粒径56nm,pH3.0)、SpecialBlack350(平均一次粒径31nm,pH3.0)、SpecialBlack550(平均一次粒径25nm,pH4.0)、NEROX 305(平均一次粒径为28nm左右,pH约2.8)、NEROX 3500(平均一次粒径为31nm左右,pH约2.5)等。
作为所述中性炭黑,优选pH在8.0~10.0的范围,具体可以举出:欧励隆工程炭公司制的Printex 25(平均一次粒径为56nm,pH9.5)、Printex35(平均一次粒径为31nm,pH9.5)、Printex 65(平均一次粒径为21nm,pH9.5);三菱化学株式会社的MA#20(平均一次粒径为40nm,pH8.0)、MA#40(平均一次粒径为40nm,pH8.0)、MA#30(平均一次粒径为30nm,pH8.0)等。
另外,可以将1g的炭黑添加到20mL的除去了碳酸的蒸馏水(pH7.0)中用磁力搅拌器进行混合制备出水性悬浮液,使用玻璃电极在25℃下测量上述pH(德国工业品标准规格DIN ISO 787/9)。
作为所述黑色着色剂的含量,从形成黑矩阵时的遮光性、颜料分散性的观点出发,以相对于本发明的黑矩阵用颜料分散组合物的总固体含量(总固体成分)的质量分数计,优选为5质量%~85质量%,更优选为10质量%~80质量%。
[颜料分散剂]
本发明的黑矩阵用颜料分散组合物包含颜料分散剂。
另外,优选上述颜料分散剂的胺值为5~35mgKOH/g。
通过使上述颜料分散剂的胺值处于上述范围,可使黑矩阵用颜料分散组合物低粘度化,可使涂膜中的炭黑达到高浓度,因此能够得到光密度优异的黑矩阵。
上述颜料分散剂的胺值优选为5~30mgKOH/g,更优选为5~25mgKOH/g。
另外,胺值是表示游离碱和碱的总量的值,是指相对于中和1g试样所需的盐酸以当量的氢氧化钾的毫克(mg)数来表示的值。
作为上述颜料分散剂,其是含碱性基团的颜料分散剂,可以使用阴离子性表面活性剂、含碱性基团的聚酯类颜料分散剂、含碱性基团的丙烯酸类颜料分散剂、含碱性基团的氨基甲酸酯类颜料分散剂、含碱性基团的碳二亚胺类颜料分散剂的高分子颜料分散剂等。
这些含碱性基团的颜料分散剂可以单独使用也可以组合两种以上使用。其中,从能够得到良好的颜料分散性的观点出发,优选为含碱性基团的高分子颜料分散剂。
作为上述含碱性基团的高分子颜料分散剂的具体例,可以举出:
(1)多胺化合物(例如聚烯丙基胺、聚乙烯基胺、聚乙烯聚亚胺(polyethylenepolyimine)等聚(低级)亚烷基胺等)的氨基和/或亚氨基与从由具有游离的羧基的聚酯、聚酰胺以及聚酯酰胺构成的组中选择的至少一种的反应生成物(日本特开2001-59906号公报);
(2)聚(低级)亚烷基亚胺、甲基亚氨基双丙基胺等低分子氨基化合物、与具有游离的羧基的聚酯的反应产物(日本特开昭54-37082号公报、日本特开平01-311177号公报);
(3)使甲氧基聚乙二醇等醇类、己内酯聚酯等具有1个羟基的聚酯类、具有2~3个异氰酸酯基反应性官能团的化合物、具有异氰酸酯基反应性官能团及叔氨基的脂肪族或杂环烃化合物与多异氰酸酯化合物的异氰酸酯基依次反应形成的反应生成物(日本特开平02-612号公报);
(4)使具有醇性羟基的丙烯酸酯的聚合物与多异氰酸酯化合物和具有氨基的烃化合物反应而得到的化合物;
(5)使低分子氨基化合物与聚醚链加成而得到的反应产物;
(6)使具有异氰酸酯基的化合物与具有氨基的化合物反应而得到的反应产物(日本特开平04-210220号公报);
(7)使具有游离的羧基的线状聚合物以及具有一个仲胺基的有机胺化合物与聚环氧化合物反应得到的反应生成物(日本特开平09-87537号公报);
(8)使在一侧末端上具有能够与氨基反应的官能团的聚碳酸酯化合物与多胺化合物的反应产物(日本特开平09-194585号公报);
(9)选自甲基丙烯酸甲酯、甲基丙烯酸乙酯、甲基丙烯酸丙酯、甲基丙烯酸丁酯、甲基丙烯酸十八烷基酯、甲基丙烯酸苄基酯、丙烯酸甲酯、丙烯酸乙酯、丙烯酸丙酯、丙烯酸丁酯、丙烯酸十八烷基酯、丙烯酸苄基酯等甲基丙烯酸酯或丙烯酸酯中的至少一种与选自丙烯酰胺、甲基丙烯酰胺、N-羟甲基酰胺、乙烯基咪唑、乙烯基吡啶、具有氨基以及聚己内酯骨架的单体等含碱性基团的聚合性单体中的至少一种与选自苯乙烯、苯乙烯衍生物、其它聚合性单体中的至少一种的共聚物(日本特开平01-164429号公报);
(10)含碱性基团的碳二亚胺类颜料分散剂(国际公开WO04/000950号公报);
(11)由具有叔氨基、季铵碱等碱性基团的嵌段与不具有官能团的嵌段所构成的嵌段共聚物(参见日本特开2005-55814号的记载);
(12)使聚烯丙基胺与聚碳酸酯化合物进行迈克尔加成反应而得到的颜料分散剂(日本特开平09-194585号公报);
(13)分别具有至少一个聚丁二烯链和碱性含氮基团的碳二亚胺类化合物(日本特开2006-257243号公报);
(14)在分子内分别具有至少一个具有酰胺基的侧链及碱性含氮基团的碳二亚胺类化合物(日本特开2006-176657号公报);
(15)具备具有环氧乙烷链及环氧丙烷链的结构单元且具有利用季铵化剂进行季铵化了的氨基的聚氨酯类化合物(日本特开2009-175613号公报);
(16)使在分子内具有异氰尿酸酯环的异氰酸酯化合物的异氰酸酯基与在分子内具有活性氢基团且具有咔唑环和/或偶氮苯骨架的化合物的活性氢基反应得到的化合物,其中该化合物的分子内的、相对于来源于具有异氰尿酸酯环的异氰酸酯化合物的异氰酸酯基与通过异氰酸酯基和活性氢基的反应生成的氨基甲酸酯键及脲键的总计的咔唑环以及偶氮苯骨架的数量为15~85%的化合物(日本特开2010-107965号公报)。
(17)在具有氨基的丙烯酸酯聚合物中导入了聚醚或聚酯侧链的接枝共聚物。
在上述颜料分散剂中,从分散性(粘度稳定性)和显影性(显影密合性)的观点出发,优选含有碱性基团的氨基甲酸酯类颜料分散剂。特别是上述黑色着色剂为酸性炭黑时,碱性基团可以与酸性炭黑的磺酸基部分相互作用,可以适当赋予分散性(粘度稳定性)。
作为上述含碱性基团的氨基甲酸酯类颜料分散剂的市售品,例如可以举出Disperbyk 160~167、182系列(BYK Chemie公司制)。
其中,从适当满足上述胺值的观点出发,更优选Disperbyk 167。
作为上述颜料分散剂的含量,相对于上述黑色着色剂100质量份,优选为1~200质量份,更优选为5~100质量份。
[颜料衍生物]
本发明的黑矩阵用颜料分散组合物包含颜料衍生物。
作为上述颜料衍生物,可以举出选自由含酸基(酸根/酸性基团)的颜料衍生物、含酸基的色素衍生物构成的组中的至少一种。
作为上述含酸基的颜料衍生物、含酸基的色素衍生物,可以例示作为铜酞菁的磺化物的酞菁类颜料衍生物、具有酸基的蒽醌类颜料衍生物、具有酸基的萘类颜料衍生物、具有二酮吡咯并吡咯骨架的颜料衍生物等。
其中,铜酞菁的磺化物从与上述黑色着色剂的共轭双键的亲和性高并且能够适当地赋予分散性的观点出发是优选的。
作为上述铜酞菁的磺化物的具体例,可以举出路博润公司制的Solsperse 5000S、Solsperse 12000S、毕克化学公司制的BYK-SYNERGIST 2100等。
作为上述颜料衍生物的含量,相对于上述黑色着色剂100质量份优选为0~20质量份,更优选为0.5~10质量份。
[卡多树脂]
本发明的黑矩阵用颜料分散组合物包含卡多树脂。
另外,在本说明书中,上述卡多树脂(Cardo树脂)的意思指具有两个芳香环与环内碳原子结合得到的骨架结构的树脂。
作为上述卡多树脂,可以举出:作为芴环氧(甲基)丙烯酸衍生物与二羧酸酐和/或四羧酸二酐的加成产物的、具有芴骨架的环氧(甲基)丙烯酸酯酸加成物等。
作为上述卡多树脂的酸值,从颜料分散性以及碱显影性的观点出发,优选为10~200mgKOH/g,更优选为50~150mgKOH/g。
另外,卡多树脂的酸值是指根据JIS K5601-2-1:1999所测定的酸值。
上述卡多树脂的重均分子量(Mw)优选为1000~1000000,更优选为1500~100000,进一步优选为2000~10000。
上述卡多树脂的重均分子量(Mw)是通过将四氢呋喃等溶剂作为洗脱液的凝胶渗透色谱法(GPC)以聚苯乙烯换算值的方式求出的值。
作为上述卡多树脂的市售品,例如可以举出WR-301(ADEKA公司制)等。
作为上述卡多树脂的含量,相对于本发明的黑矩阵用颜料分散组合物的总固体含量的质量分数优选为3~50质量%。
[含有包含(a)~(c)的材料的组合物]
本发明的黑矩阵用颜料分散组合物包含:含有包含下述(a)~(c)的材料的组合物,
(a)具有两个以上的马来酰亚胺基团的多官能马来酰亚胺化合物,
(b)苯并噁嗪化合物,
(c)环氧树脂。
在本发明的黑矩阵用颜料分散组合物中,通过将环氧树脂置换为具有两个以上的马来酰亚胺基团的多官能马来酰亚胺化合物和苯并噁嗪化合物,在制作抗蚀剂组合物时可以充分确保显影性树脂的配合比率,因此可以适当调整涂膜表面和涂膜内部的灵敏度。这是因为在对抗蚀剂组合物进行后烘烤时能够促进热交联反应。
对于上述包含(a)~(c)的材料而言,从适当溶解并混合上述(a)~(c)的观点出发,优选为熔融混合上述(a)~(c)而得到的材料。
作为熔融混合上述(a)~(c)的方法,例如可以使用日本特开2019-113776号公报中记载的方法。
作为上述具有两个以上的马来酰亚胺基团的多官能马来酰亚胺化合物,例如可以举出:N,N-亚乙基双马来酰亚胺、N,N’-六亚甲基双马来酰亚胺、N,N’-(1,3-亚苯基)双马来酰亚胺、N,N’-[1,3-(2-甲基亚苯基)]双马来酰亚胺、N,N’-(1,4-亚苯基)双马来酰亚胺、双(4-马来酰亚胺苯基)甲烷、双(3-甲基-4-马来酰亚胺苯基)甲烷、双(4-马来酰亚胺苯基)醚、双(4-马来酰亚胺苯基砜、双(4-马来酰亚胺苯基)硫化物、双(4-马来酰亚胺苯基)酮、双(4-马来酰亚胺环己基)甲烷、1,4-双(4-马来酰亚胺苯基)环己烷、1,4-双(4-马来酰亚胺甲基)环己烷、1,4-双(马来酰亚胺甲基)苯、1,3-双(3-马来酰亚胺苯氧基)苯、双[4-(4-马来酰亚胺苯氧基)苯基]甲烷、1,1-双[4-(3-马来酰亚胺苯氧基)苯基]乙烷、1,1-双[4-(4-马来酰亚胺苯氧基)苯基]乙烷、1,2-双[4-(3-马来酰亚胺苯氧基)苯基]乙烷、1,2-双[4-(4-马来酰亚胺苯氧基)苯基]乙烷、2,2-双[4-(4-马来酰亚胺苯氧基)苯基]丙烷,2,2-双[4-(3-马来酰亚胺苯氧基)苯基]丁烷、2,2-双[4-(3-马来酰亚胺苯氧基)苯基]丁烷、2,2-双[4-(3-马来酰亚胺苯氧基)苯基]-1,1,1,3,3,3六氟丙烷、2,2-双[4-(4-马来酰亚胺苯氧基)苯基]-1,1,1,3,3,3六氟丙烷、4,4’-双(3-马来酰亚胺苯氧基)联苯、4,4’-双(4-马来酰亚胺苯氧基)联苯、双[4-(3-马来酰亚胺苯氧基)苯基]酮、双[4-(4-马来酰亚胺苯氧基)苯基]酮、双[4-(3-马来酰亚胺苯氧基)苯基]硫化物、双[4-(4-马来酰亚胺苯氧基)苯基]硫化物、双[4-(3-马来酰亚胺苯氧基)苯基]亚砜、双[4-(4-(马来酰亚胺苯氧基)苯基]亚砜、双[4-(3-马来酰亚胺苯氧基)苯基]砜、双[4-(4-马来酰亚胺苯氧基)苯基]砜,双[4-(3-马来酰亚胺苯氧基)苯基]醚、双[4-(4-马来酰亚胺苯氧基)苯基]醚、1,4-双[4-(4-马来酰亚胺苯氧基)-α,α-二甲苯]苯、1,3-双[4-(4-马来酰亚胺苯氧基)-α,α-二甲苯]苯、1,4-双[4-(3-马来酰亚胺苯氧基)-α,α-二甲苯]苯、1,3-双[4-(3-马来酰亚胺苯氧基)-α,α-二甲苯]苯、1,4-双[4-(4-马来酰亚胺苯氧基)-3,5-二甲基-α,α-二甲苯]苯、1,3-双[4-(4-马来酰亚胺苯氧基)-3,5-二甲基-α,α-二甲苯]苯、1,4-双[4-(3-马来酰亚胺苯氧基)-3,5-二甲基-α,α-二甲苯]苯、1,3-双[4-(3-马来酰亚胺苯氧基)-3,5-二甲基-α,α-二甲苯]苯等。
作为上述多官能马来酰亚胺化合物,可以是上述例示中示出的多官能马来酰亚胺化合物进行聚合而成的单聚体~十聚体。
上述苯并噁嗪化合物是分子内具有苯并噁嗪环的化合物。
作为上述苯并噁嗪化合物,没有特别限定,但从固化性等观点出发,优选一分子内具有两个以上的苯并噁嗪环的化合物。
作为苯并噁嗪化合物的具体例,例如,可以举出:如双酚A型苯并噁嗪化合物、双酚F型苯并噁嗪化合物等那样通过双酚化合物与胺化合物(例如苯胺等)及甲醛的反应所得到的Fa型苯并噁嗪化合物,如二氨基二苯基甲烷型苯并噁嗪化合物等那样通过苯基二胺化合物与酚化合物及甲醛的反应所得到的Pd型苯并噁嗪化合物。对它们可使用能够以市售品方式获得的那些化合物。它们是非聚合物。在Fa型苯并噁嗪化合物和Pd型苯并噁嗪化合物中,从耐热性更优异等观点出发,优选Pd型苯并噁嗪化合物。
作为上述环氧树脂,没有特别限定,例如可以举出双酚型环氧树脂、酚醛清漆型环氧树脂、脂环式环氧树脂、缩水甘油酯类、缩水甘油胺类、杂环式环氧树脂、溴化环氧树脂等。作为双酚型环氧树脂,可以举出双酚A型环氧树脂、双酚F型环氧树脂、双酚S型环氧树脂等。作为酚醛清漆型环氧树脂,可以举出苯酚酚醛清漆型环氧树脂、甲酚酚醛清漆型环氧树脂、双酚A酚醛清漆型环氧树脂、双环戊二烯酚醛清漆型环氧树脂等。作为脂环式环氧树脂,可以举出3,4-环氧-6-甲基环己基甲基-3,4-环氧-6-甲基环己烷羧酸酯、3,4-环氧环己基甲基-3,4-环氧环己烷羧酸酯、1-环氧乙基-3,4-环氧环己烷等。作为缩水甘油酯类,可以举出邻苯二甲酸二缩水甘油酯、四氢邻苯二甲酸二缩水甘油酯、二聚酸缩水甘油酯等。作为缩水甘油胺类,可以举出四缩水甘油基二氨基二苯基甲烷、三缩水甘油基对氨基苯酚、N,N-二缩水甘油基苯胺等。作为杂环式环氧树脂可以举出1,3-二缩水甘油基-5,5-二甲基乙内酰脲和三缩水甘油基异氰脲酸酯等。作为溴化环氧树脂,可以举出四溴双酚A型环氧树脂、四溴双酚F型环氧树脂、溴化甲酚酚醛清漆型环氧树脂、溴化苯酚酚醛清漆型环氧树脂等。
对于上述环氧树脂,从适当赋予表面电阻值的观点出发,优选包含三官能的环氧树脂。
上述环氧树脂可以仅由三官能的环氧树脂来构成,也可以由三官能的环氧树脂与双官能或单官能的环氧树脂的组合来构成。
在含有包含上述(a)~(c)的材料的组合物中,从适当赋予细线密合性和保持线宽于适当范围的性质的观点出发,优选上述(a)、(b)和(c)的配合量在下述范围。
对于含有包含上述(a)~(c)的材料的组合物而言,优选上述(a)的配合量相对于上述(a)、(b)及(c)的总计100质量份为50~89质量份,更优选为55~80质量份,进一步优选为55~75质量部。
对于含有包含上述(a)~(c)的材料的组合物而言,优选上述(b)的配合量相对于上述(a)、(b)及(c)的总计100质量份为10~40质量份,更优选为10~30质量份,进一步优选为10~25质量部。
对于含有包含上述(a)~(c)的材料的组合物而言,优选上述(c)的配合量相对于上述(a)、(b)及(c)的总计100质量份为1~30质量份,更优选为5~30质量份,进一步优选为10~30质量部。
作为含有包含上述(a)~(c)的材料的组合物的市售品,可以举出HR3070、HR3032、HR3053(均为普林特克(PRINTEC)公司制)等。
[有机溶剂]
本发明的黑矩阵用颜料分散组合物优选包含有机溶剂。
作为上述有机溶剂,可以适当地使用从以往在液晶黑矩阵用抗蚀剂的领域中使用的有机溶剂。
作为上述有机溶剂,具体而言,可以举出:乙二醇单甲醚、乙二醇单乙醚、乙二醇单异丙醚、乙二醇单丁醚、二乙二醇单甲醚、二乙二醇单乙醚、丙二醇单甲醚、丙二醇单乙醚、丙二醇单丁醚、二乙二醇二乙醚、二乙二醇二甲醚、二乙二醇甲基乙醚等醚类有机溶剂;乙二醇单甲醚乙酸酯、乙二醇单乙醚乙酸酯、乙二醇单丁醚乙酸酯、丙二醇单甲醚乙酸酯、丙二醇单乙醚乙酸酯等醚酯类有机溶剂;甲基异丁基酮、环己酮、2-庚酮、δ-丁内酯等酮类有机溶剂;2-羟基丙酸甲酯、2-羟基丙酸乙酯、2-羟基-2-甲基丙酸乙酯、3-甲基-3-甲氧基丁基丙酸酯、3-甲氧基丙酸甲酯、3-甲氧基丙酸乙酯、3-乙氧基丙酸甲酯、3-乙氧基丙酸乙酯、乙氧基乙酸乙酯、羟基乙酸乙酯、甲酸正戊酯等酯类有机溶剂;甲醇、乙醇、异丙醇、丁醇等醇类溶剂;N-甲基吡咯烷酮、N,N-二甲基甲酰胺、N,N-二甲基乙酰胺等含氮类有机溶剂等。对这些可以单独使用或者混合两种以上使用。
在上述有机溶剂中,从溶解性、分散性、涂布性等观点出发,优选为二乙二醇二甲醚、二乙二醇甲基乙基醚、乙二醇单甲醚醋酸酯、丙二醇单甲醚、丙二醇单甲醚醋酸酯、丙二醇单乙醚醋酸酯、环己酮、2-庚酮、2-羟基丙酸乙酯、3-甲基-3-甲氧基丁基丙酸酯、3-甲氧基丙酸乙酯、3-乙氧基丙酸甲酯、甲酸正戊酯等,更优选为丙二醇单甲醚、丙二醇单甲基醚醋酸酯。
[黑矩阵用颜料分散组合物的制造方法]
作为本发明的黑矩阵用颜料分散组合物的制造方法,没有特别限定,例如通过将黑色着色剂、颜料分散剂、颜料衍生物、卡多树脂及含有包含上述(a)~(c)的材料的组合物以及根据需要任选的有机溶剂进行混合和研磨(“研墨”处理)来制造。
上述黑色着色剂、颜料分散剂、颜料衍生物、卡多树脂、含有包含上述(a)~(c)的材料的组合物以及根据需要而使用的有机溶剂可以使用上述材料。
作为上述混合以及研磨(研墨处理)的方法,只要添加上述的各种成分进行混合以及研磨即可,作为进行上述研磨的方法,没有特别的限定,例如可以使用:珠磨机、雷迪磨机(Ready mill,有称预备磨机)、超声波均质机、高压均质机、涂料搅拌机(paint shaker)、球磨机、辊磨机、砂磨机(sand mill)、砂研磨机(sand grinder)、戴诺磨机(DYNO-MILL),高速分散机(DISPERMAT)、SC磨机、高压均质机(Nanomizer)等,通过众所周知的方法进行混合以及研磨。
<黑矩阵用抗蚀剂组合物>
本发明还涉及一种由本发明的黑矩阵用颜料分散组合物得到的黑矩阵用抗蚀剂组合物。
(黑矩阵用颜料分散组合物)
本发明的黑矩阵用抗蚀剂组合物包含上述的本发明的黑矩阵用颜料分散组合物。
作为上述黑矩阵用颜料分散组合物的含量,以本发明的黑矩阵用抗蚀剂组合物的总质量为基准,优选为30~80质量%,更优选为40~75质量%。
(光聚合引发剂)
本发明的黑矩阵用抗蚀剂组合物优选含有光聚合引发剂。
作为上述光聚合引发剂,只要是通过照射紫外线、电子线等活性能量线而能够产生自由基、阳离子的聚合引发剂则没有特别的限定,例如可以举出:1-[9-乙基-6-(2-甲基苯甲酰基)-9H-咔唑-3-基]-1-(O-乙酰基肟)乙酮、二苯甲酮、N,N’-四乙基-4,4’-二氨基二苯甲酮、4-甲氧基-4’-二甲基氨基二苯甲酮、2,2-二乙氧基苯乙酮、苯偶姻、苯偶姻甲基醚、苯偶姻异丁基醚、安息香双甲醚,α-羟基异丁基苯甲酮、噻吨酮、2-氯噻吨酮、1-羟基环己基苯甲酮、叔丁基蒽醌、1-氯蒽醌、2,3-二氯蒽醌、3-氯-2-甲基蒽醌、2-乙基蒽醌、1,4-萘醌,1,2-苯并蒽醌、1,4-二甲基蒽醌、2-苯基蒽醌、2-甲基-1[4-(甲硫基)苯基]-2-吗啉基丙烷-1-酮等二苯甲酮系、噻吨酮系、蒽醌系、三嗪系等光聚合引发剂等。
对所述光聚合引发剂可以单独使用或者组合两种以上来使用。
上述光聚合引发剂的含量,以相对于本发明的黑矩阵用抗蚀剂组合物的总固体含量的质量分数计,优选为1~20质量%。
(光聚合性化合物)
本发明的黑矩阵用抗蚀剂组合物优选包含光聚合性化合物。
作为上述光聚合性化合物,可以适当选择使用针对上述黑矩阵用颜料分散组合物已描述的那些化合物。
对于上述光聚合性化合物的含量,优选相对于本发明的黑矩阵用抗蚀剂组合物的全部固体成分的质量分率为0.1~50质量%。
(碱溶性树脂)
本发明的黑矩阵用抗蚀剂组合物优选包含碱溶性树脂。
作为上述碱溶性树脂,优选对上述黑色着色剂起到粘合剂的作用、并且在制造黑矩阵时对该显影处理工序中使用的显影液(特别是碱性显影液)具有可溶性的树脂。
作为上述碱溶性树脂,可以是嵌段共聚物。通过采用嵌段共聚物,与其它共聚物相比,可使颜料分散性提高,并且可以赋予对PGMEA或碱性显影液的溶解性。
在该嵌段共聚物中,优选为具备由具有一个以上的羧基的乙烯性不饱和单体构成的嵌段和由其它的可共聚合的乙烯性不饱和单体构成的嵌段的嵌段共聚物。
作为上述嵌段共聚物,没有特别的限定,可以使用以往所使用的物质。其中,具体而言,可以举出:丙烯酸、甲基丙烯酸等具有羧基的乙烯性不饱和单体与;选自与具有羧基的乙烯性不饱和单体可共聚合的苯乙烯、丙烯酸2-羟基乙酯、甲基丙烯酸2-羟基乙酯、丙烯酸烯丙酯、甲基丙烯酸烯丙酯、丙烯酸苄酯、甲基丙烯酸苄酯、丙烯酸环己酯、甲基丙烯酸环己酯、甘油单丙烯酸酯、甘油甲基丙烯酸酯、N-苯基马来酰亚胺、聚苯乙烯大分子单体、聚甲基丙烯酸甲酯大分子单体、碳环氧基二丙烯酸酯(カルボエポキシジアクリレート)等单体、低聚物类组中的至少一种乙烯性不饱和单体的共聚物。
然而,优选不使用N-乙烯基吡咯烷酮、包含硫元素的单体。
作为上述嵌段共聚物,可以采用利用活性自由基聚合、阴离子聚合而合成的嵌段树脂。
上述嵌段共聚物的一部分的嵌段部分也可以由无规共聚物构成。
作为上述碱溶性树脂,优选卡多树脂。
作为上述卡多树脂,可以适当使用上述黑矩阵用颜料分散组合物中记载的那些树脂。
作为上述碱溶性树脂的酸值,从显影性的观点出发,优选为5~300mgKOH/g,更优选为5~250mgKOH/g,进一步优选为10~200mgKOH/g,特别优选为60~150mgKOH/g。
另外,在本说明书中,上述酸值是理论酸值,是根据具有羧基的乙烯性不饱和单体及其含量以算术的方式求出的值。
从显影性、对有机溶剂的溶解性的观点出发,上述碱溶性树脂的重均分子量优选为1000~100000,更优选为1500~50000,进一步优选为2000~30000。
另外,在本发明中,上述重均分子量是基于GPC而得到的聚苯乙烯换算值的重均分子量。
在本说明书中,作为测量所述重均分子量的装置使用了Water2690(Waters公司制),作为柱使用了PLgel 5μm MIXED-D(Agilent Technologies公司制)。
相对于上述黑色着色剂100质量份,上述碱溶性树脂的含量优选为1~200质量份,进一步优选为10~150质量份。
此时,若上述碱溶性树脂的含量小于1质量份,则显影性可能会降低;若上述碱溶性树脂的含量超过200质量份,则上述黑色着色剂的浓度相对降低,因此作为薄膜有时难以达到目标色浓度。
作为上述碱溶性树脂,优选不含伯氨基、仲氨基和叔氨基中的任一者,更优选也不含季铵基。此外,更优选为不具有碱性基团。
另外,在不损害本发明的效果的范围内,也可以配合具有嵌段共聚物以外的结构的碱溶性树脂。
(有机溶剂)
作为上述有机溶剂,可以适当选择使用在上述的黑矩阵用颜料分散组合物中记载的有机溶剂。
作为上述有机溶剂的含量,将本发明的黑矩阵用抗蚀剂组合物的总质量作为基准,优选为1~40质量%,更优选为5~35质量%。
(其他添加剂)
本发明的黑矩阵用抗蚀剂组合物可以根据需要而适当使用阻热聚剂(热聚抑制剂)、紫外线吸收剂、抗氧化剂、均化剂(又称“匀染剂”)等各种添加剂。
(黑矩阵用抗蚀剂组合物的制造方法)
作为本发明的黑矩阵用抗蚀剂组合物的制造方法,例如,制备本发明的黑矩阵用颜料分散组合物,其后添加剩余的材料,使用搅拌装置等进行搅拌混合,由此能够制备本发明的黑矩阵用抗蚀剂组合物。
作为进行上述搅拌、混合的方法,没有特别的限定,可以使用超声波分散机、高压乳化机、珠磨机、三辊磨机、砂磨机、捏合机(Kneader)等众所周知的方法。
另外,在上述搅拌、混合后,可以用过滤器进行过滤。
另外,在制备本发明的黑矩阵用抗蚀剂组合物时,可以根据需要,添加在本发明的黑矩阵用颜料分散组合物中记载的上述黑色着色剂、上述环氧树脂、上述噁嗪化合物等。
<黑矩阵>
本发明的黑矩阵由本发明的黑矩阵用抗蚀剂组合物形成。
作为本发明的黑矩阵的形成方法,没有特别的限定,例如,将本发明的黑矩阵用抗蚀剂组合物涂布到透明基板上,在干燥并形成涂膜后,将光掩模放置到上述涂膜上,通过该光掩模进行图像曝光、显影,根据需要利用光固化等方法,由此能够形成黑矩阵。
对本发明的黑矩阵用抗蚀剂组合物进行涂布、干燥、曝光以及显影的方法等可以适当选择众所周知的方法。
另外,作为上述透明基板,可以适当选择使用玻璃基板、塑料基板等众所周知的透明基板。
作为上述涂膜的厚度,作为干燥后的膜厚,优选为0.2~10μm,更优选为0.5~6μm,进一步优选为1~4μm。
通过设为上述厚度的范围,能够适当地对规定的图案进行显影,能够适当地赋予规定的光密度。
本发明的黑矩阵的表面电阻值优异。
具体而言,若通过下述方法测量的表面电阻值为1.0E+08Ω/□以上,则可以评价为表面电阻值优异。
上述表面电阻值优选为5.0E+08Ω/□以上,更优选为1.0E+09Ω/□以上。
上述表面电阻值是通过以下的方法测量到的。
采用旋涂机将制备出的黑矩阵用抗蚀剂组合物涂布在玻璃基板(Corning 1737、康宁公司制)上并使膜厚成为1μm,在100℃下预烘2分钟。
接着,用高压水银灯进行曝光(UV累计光量80mJ/cm2),进而在230℃下继续30分钟并在250℃下进行150分钟的后烘,制作了仅由实心部形成的黑色抗蚀剂图案(黑矩阵)。
然后,对于所制作的黑矩阵的表面电阻值以主体为微小电流计5450、选件为电阻率测试盒12702A(均为ADC公司制)的方式进行测量。
本发明的黑矩阵的光密度(OD值)优异。
具体而言,优选上述OD值为3.95以上,更优选为4.00以上,进一步优选为4.05以上。
使用所制作的黑矩阵用抗蚀剂组合物,通过与上述表面电阻值的测量方法同样的方法来制作黑色抗蚀剂图案(黑矩阵)。
对于所制作的黑色抗蚀图案(膜厚1μm)的光密度采用透射型黑色浓度计(D200-II,GretagMacbeth公司制)进行测量。
本发明的黑矩阵的细线密合性优异。
具体而言,通过下述方法测量的细线密合性优选为6μm以下。
上述细线密合性是通过如下方法测量的。
将制作出的黑矩阵用抗蚀剂组合物,采用旋涂机以使膜厚达到1μm的方式涂布于玻璃基板(Corning 1737、康宁公司制)上,在100℃下预烘2分钟。
然后,使用具有1μm、3μm、5μm、7μm、10μm、20μm以及30μm的线图案的光掩模,使用高压水银灯以UV累计光量80mJ/cm2进行曝光。
在23℃下0.05%的氢氧化钾水溶液中,在1.0kgf/cm2的喷淋显影的情况下,从显影图案开始出现的时间(转效时间:break time)开始显影,并且在达到显影开始时间(转效时间)的2倍的时间点结束显影。
显影结束后,进行1.0kgf/cm2压力的喷射水洗。对残存于上述玻璃基板上的最小的线图案的宽度(μm)进行评价。
对于本发明的黑矩阵,在形成黑矩阵时能够将线宽保持在适当范围。
具体而言,若通过下述方法测量的线宽为8.0μm~11.0μm,则可判断为能够对涂膜表面赋予适当的灵敏度。
上述线宽是通过以下的方法测量到的。
将制作出的黑矩阵用抗蚀剂组合物,采用旋涂机以使膜厚达到1μm的方式涂布于玻璃基板(Corning 1737、康宁公司制)上,在100℃下预烘2分钟。
然后,使用具有1μm、3μm、5μm、7μm、10μm、20μm以及30μm的线图案的光掩模,使用高压水银灯以UV累计光量80mJ/cm2进行了曝光。接着,在23℃、0.05%氢氧化钾水溶液中,以1.0kgf/cm2的喷淋显影压力下进行显影,进行1.0kgf/cm2压力的喷射水洗,然后在230℃下进行后烘30分钟。
针对得到的基板上所形成的10μm的线图案的两端以及中央部的三个部位的线宽,使用数字显微镜(例如,产品名为VHX-500、株式会社基恩士制)进行测量,按照下述评价基准进行评价。
由于本发明的黑矩阵用颜料分散组合物、黑矩阵用抗蚀剂组合物和黑矩阵具有上述特性,因此可以优选用作图像显示装置或触摸面板等的黑矩阵。
实施例
下面,使用实施例来具体说明本发明,但本发明在不脱离其主旨和应用范围的情况下,不限于此。应予说明,在没有特别说明的情况下,本实施例中,“份”和“%”各自表示“质量份”和“质量%”。
在下面的实施例、比较例中使用的各种材料如下所述。
<黑色着色剂>
NEROX3500(平均一次粒径为31nm,pH2.5,欧励隆工程炭(Orion EngineeredCarbons)公司制)
Printex 35(平均一次粒径为31nm,pH9.0,欧励隆工程炭公司制)
<颜料分散剂>
DISPERBYK-167(固体成分的胺值为24mgKOH/g、固体成分为52质量%、含碱性基团的氨基甲酸酯类颜料分散剂、BYK Chemie公司制、表1中记载为“颜料分散剂1”)
在脱气后的玻璃制装置中投入17g的甲基丙烯酸甲酯(MMA)、24g的甲基丙烯酸丁酯(BMA)、1L的THF,并且投入4.5mmol的正丁基锂的己烷溶液(在此,合成了MMA与BMA的无规共聚物部分)。
然后冷却至-78℃并搅拌2小时。接着,加入33g的甲基丙烯酸五甲基哌啶酯(PMPMA),搅拌2小时,合成了跟MMA与BMA的无规共聚物部分结合而得到的PMPMA的嵌段部分。
进而投入17g的MMA、24g的BMA以合成ABA型的三嵌段共聚物,搅拌2小时后停止反应。
将合成结束后的溶液滴加到大量甲醇中以使沉淀发生。使用滤纸采集颜料分散剂,用甲醇洗涤数次,在60℃下减压干燥而得到颜料分散剂2(丙烯酸类颜料分散剂)。
<颜料衍生物>
BYK-SYNERGIST2100(铜酞菁的磺化物,BYK Chemie公司制,表1中记载为“颜料衍生物1”)
向100mL三角烧瓶中放入浓硫酸30mL,边用磁力搅拌器进行搅拌边放入10g的C.I.颜料红272,在室温下搅拌了30分钟。向1L烧杯中放入50g水与50g冰的混合物,将上述反应物注入该冰水中,用磁力搅拌器搅拌了30分钟。在减压下对反应物进行过滤·水洗,使得到的固体干燥,得到12g的颜料衍生物2(C.I.颜料红255的浓硫酸处理物)。
<卡多树脂>
WR-301(产品名称为“WR-301”,具有卡多结构(Cardo结构)的树脂,酸值为100mgKOH/g,固体含量为45%,由ADEKA公司制造)
<含有包含上述(a)~(c)的材料的组合物(在表1中仅记载为“组合物)”>
HR 3070(包含上述(a)~(c)的熔融混合物的未交联的粉体,普林特克(PRINTEC)公司制)
<环氧树脂>
VG3101L(三官能环氧树脂、普林特克(PRINTEC)公司制)
<有机溶剂>
PGMEA(丙二醇单甲基醚乙酸酯)
<光聚合引发剂>
OXE02(产品名“Irgacure OXE02”,1-[9-乙基-6-(2-甲基苯甲酰基)-9H-咔唑-3-基]-1-(O-乙酰基肟)乙酮,巴斯夫公司制)
<光聚合性化合物>
DPHA(二季戊四醇六丙烯酸酯)
<碱溶性树脂>
WR-301(产品名“WR-301”,Cardo树脂,酸值100mgKOH/g,固体成分45质量%,株式会社ADEKA制)
<均化剂>
Megafac F-554(DIC公司制)
<黑矩阵用颜料分散组合物>
将各材料混合形成表1所示的组合物,并且用珠磨机混炼一昼夜,以制备黑矩阵用颜料分散组合物。
[表1]
<黑矩阵用抗蚀剂组合物>
使用高速搅拌机,将上述黑矩阵用颜料分散组合物与其它的材料(光聚合引发剂、光聚合性化合物、碱溶性树脂以及有机溶剂)以成为表2的组成的方式均匀地进行了混合。
其后,用孔径3μm的过滤器进行过滤,制备了实施例以及比较例的黑矩阵用抗蚀剂组合物。
另外,在表2中,光聚合引发剂、光聚合性化合物、碱溶性树脂以及有机溶剂的各材料的右栏的数值表示配合量。
<评价试验>
(表面电阻)
将制作出的黑矩阵用抗蚀剂组合物,采用旋涂机以使膜厚达到1μm的方式涂布于玻璃基板(Corning 1737、康宁公司制)上,在100℃下预烘了2分钟。
接着,用高压水银灯进行曝光(UV累计光量80mJ/cm2),进而在230℃下继续30分钟并在250℃下进行150分钟的后烘,制作出仅由实心部形成的黑色抗蚀剂图案(黑矩阵)。
然后,对于所制作的黑矩阵的表面电阻值以主体为微小电流计5450、选件为电阻率测试盒12702A(均为ADC公司制)的方式进行了测量。
(OD值)
使用所制作的黑矩阵用抗蚀剂组合物,通过与上述表面电阻值的测量方法同样的方法来制作出黑色抗蚀剂图案(黑矩阵,膜厚1μm)。
对于所制作的黑色抗蚀图案的光密度采用透射型黑色浓度计(D200-II,GretagMacbeth公司制)进行了测量。
(细线密合性)
将制作出的黑矩阵用抗蚀剂组合物,采用旋涂机以使膜厚达到1μm的方式涂布于玻璃基板(Corning 1737、康宁公司制)上,在100℃下预烘了2分钟。
然后,使用具有1μm、3μm、5μm、7μm、10μm、20μm以及30μm的线图案的光掩模,使用高压水银灯以UV累计光量80mJ/cm2进行了曝光。
在23℃下0.05%的氢氧化钾水溶液中,在1.0kgf/cm2的喷淋显影的情况下,从显影图案开始出现的时间(转效时间:break time)开始显影,并且在达到显影开始时间(转效时间)的2倍的时间点结束了显影。
显影结束后,进行了1.0kgf/cm2压力的喷射水洗。对残存于上述玻璃基板上的最小的线图案的宽度(μm)进行了评价。
(线宽)
将制作出的黑矩阵用抗蚀剂组合物,采用旋涂机以使膜厚达到1μm的方式涂布于玻璃基板(Corning 1737、康宁公司制)上,在100℃下预烘了2分钟。
然后,使用具有1μm、3μm、5μm、7μm、10μm、20μm以及30μm的线图案的光掩模,使用高压水银灯以UV累计光量80mJ/cm2进行了曝光。接着,在23℃、0.05%的氢氧化钾水溶液中,以1.0kgf/cm2的喷淋显影压力下进行显影,进行1.0kgf/cm2压力的喷射水洗,然后在230℃下进行了后烘30分钟。
针对得到的基板上所形成的10μm的线图案的两端以及中央部这三个部位的线宽,使用数字显微镜(例如,产品名为VHX-500、株式会社基恩士制)进行测量,按照下述评价基准进行了评价。
[表2]
根据实施例确认到:基于包含黑色着色剂、颜料分散剂、颜料衍生物、卡多树脂以及含有包含上述(a)~(c)的材料的组合物的黑色矩阵用颜料分散组合物,能够在形成黑矩阵时保持线宽于适当范围并且能够形成光密度、细线密合性以及表面电阻值也优异的黑矩阵。
本说明书中公开了如下各项技术方案。
本公开(1)是一种黑矩阵用颜料分散组合物,其包含:黑色着色剂、颜料分散剂、颜料衍生物、卡多树脂以及含有包含下述(a)~(c)的材料的组合物,
(a)具有两个以上的马来酰亚胺基团的多官能马来酰亚胺化合物,
(b)苯并噁嗪化合物,
(c)环氧树脂。
本公开(2)是如本公开(1)所述的黑矩阵用颜料分散组合物,其中,作为含有包含上述(a)~(c)的材料的组合物的含量相对于黑矩阵用颜料分散组合物的整体质量为1.5质量%~2.5质量%。
本公开(3)是如本公开(1)或(2)所述的黑矩阵用颜料分散组合物,其中,对于含有包含上述(a)~(c)的材料的组合物而言,相对于上述(a)、(b)和(c)的总计100质量份,上述(a)的配合量为50质量份~89质量份。
本公开(4)是如本公开(1)至(3)中任一项所述的黑矩阵用颜料分散组合物,其中,对于含有包含上述(a)~(c)的材料的组合物而言,相对于上述(a)、(b)和(c)的总计100质量份,上述(b)的配合量为10质量份~40质量份。
本公开(5)是如本公开(1)至(4)中任一项所述的黑矩阵用颜料分散组合物,其中,对于含有包含上述(a)~(c)的材料的组合物而言,相对于上述(a)、(b)和(c)的总计100质量份,上述(c)的配合量为1质量份~30质量份。
本公开(6)是上述黑色着色剂是pH2~10的炭黑的本公开(1)至(5)中任一项所述的黑矩阵用颜料分散组合物。
本公开(7)是上述颜料分散剂是含碱性基团的氨基甲酸酯类颜料分散剂的本公开(1)至(6)中任一项所述的黑矩阵用颜料分散组合物。
本公开(8)是所述颜料衍生物是铜酞菁的磺化物的本公开(1)至(7)中任一项所述的黑矩阵用颜料分散组合物。
本公开(9)是一种黑矩阵用抗蚀剂组合物,其包含本公开(1)至(8)中任一项所述的黑矩阵用颜料分散组合物、光聚合性化合物和光聚合引发剂。
本公开(10)是一种黑矩阵,其由本公开(9)所述黑矩阵用抗蚀剂组合物来形成。
工业实用性
基于本发明,可提供一种黑矩阵用颜料分散组合物,由其能够在形成黑矩阵时保持线宽于适当范围并且能够形成光密度、细线密合性以及表面电阻值也优异的黑矩阵。
Claims (10)
1.一种黑矩阵用颜料分散组合物,其包含:
黑色着色剂、颜料分散剂、颜料衍生物、卡多树脂以及含有包含下述(a)~(c)的材料的组合物,
(a)具有两个以上的马来酰亚胺基团的多官能马来酰亚胺化合物,
(b)苯并噁嗪化合物,
(c)环氧树脂。
2.如权利要求1所述的黑矩阵用颜料分散组合物,其中,作为含有包含所述(a)~(c)的材料的组合物的含量相对于黑矩阵用颜料分散组合物的整体质量为1.5质量%~2.5质量%。
3.如权利要求1或2所述的黑矩阵用颜料分散组合物,其中,对于含有包含所述(a)~(c)的材料的组合物而言,相对于所述(a)、(b)和(c)的总计100质量份,所述(a)的配合量为50质量份~89质量份。
4.如权利要求1或2所述的黑矩阵用颜料分散组合物,其中,对于含有包含所述(a)~(c)的材料的组合物而言,相对于所述(a)、(b)和(c)的总计100质量份,所述(b)的配合量为10质量份~40质量份。
5.如权利要求1或2所述的黑矩阵用颜料分散组合物,其中,对于含有包含所述(a)~(c)的材料的组合物而言,相对于所述(a)、(b)和(c)的总计100质量份,所述(c)的配合量为1质量份~30质量份。
6.如权利要求1或2所述的黑矩阵用颜料分散组合物,其中,所述黑色着色剂是pH为2~10的炭黑。
7.如权利要求1或2所述的黑矩阵用颜料分散组合物,其中,所述颜料分散剂是含碱性基团的氨基甲酸酯类颜料分散剂。
8.如权利要求1或2所述的黑矩阵用颜料分散组合物,其中,所述颜料衍生物是铜酞菁的磺化物。
9.一种黑矩阵用抗蚀剂组合物,其包含权利要求1或2所述的黑矩阵用颜料分散组合物、光聚合性化合物和光聚合引发剂。
10.一种黑矩阵,其由权利要求9所述的黑矩阵用抗蚀剂组合物来形成。
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