CN118127478A - 真空样品架、真空样品架驱动系统以及真空处理系统 - Google Patents

Abstract

本公开涉及真空设备技术领域，公开了一种真空样品架、真空样品架驱动系统以及真空处理系统。真空样品架包括载样架和摆动组件。载样架用于承载样品。摆动组件与载样架连接，用于驱动载样架摆动，摆动组件包括摆动架和摆动传动组件，摆动架与载样架连接，摆动传动组件用于驱动摆动架绕摆动轴线摆动。

Description

真空样品架、真空样品架驱动系统以及真空处理系统

技术领域

本公开涉及真空设备技术领域，特别涉及一种真空样品架、真空样品架驱动系统以及真空处理系统。

背景技术

真空样品架是真空处理中的常用设备，例如真空镀膜领域。真空镀膜广泛应用于各种生产、生活领域，例如高功率激光二极管的生产。高功率激光二极管工作原理是在半导体晶体的两个解理面之间形成激光谐振腔，进而发射激光。高质量的解理面的获得是必要和关键技术。解理面上的氧化物会引起灾难性光学镜面损伤(COMD)，导致光学器件性能的大幅度降低。

目前半导体激光器巴条的主流处理方式是在真空解理后新鲜的巴条解理面上，利用超高真空物理气相沉积方法，镀上一层钝化膜以起到保护作用，防止解理面接触到空气而氧化。在现有技术中，把长度20-32mm，宽度12-15mm，厚度100-150um左右的衬底片传送到超高真空环境，利用解理工具在长度方向上，解理成长度1-5mm左右(腔长)的巴条。多个解理后的巴条，例如数十根解理后的巴条在解理工具上堆叠起来，然后转移到镂空镀膜托盘上，利用弹簧压住。此时巴条的解理面位于镂空托盘的上下面，方便后续进行钝化镀膜处理。

现有技术的缺点在于，解理后的巴条停放在托盘时，无法保证每条巴条的解理面都处于同一水平高度，数十根巴条可能会有高低不同。这样在钝化镀膜腔室镀膜时，束流路径会被高度凸起的巴条挡住，导致无法到达凹陷处的巴条，引起发光面镀膜不均匀问题。这个问题在热炉源镀膜过程中最显著，原因在于热炉源一般设计在腔体下方法兰安装口，但与腔体轴向存在一个倾斜角度。如果炉源位于高度突出的巴条一侧，会加剧对凹陷巴条的束流的遮挡。

发明内容

本公开提供了一种真空样品架，包括：

载样架，用于承载样品；以及

摆动组件，与载样架连接，用于驱动载样架摆动，摆动组件包括：

摆动架，与载样架连接；

摆动传动组件，用于驱动摆动架绕摆动轴线摆动。

本公开提供了一种真空样品架驱动系统，包括：

驱动真空腔；

根据本公开任意一项实施例中的真空样品架；以及

摆动驱动装置，与驱动真空腔连接，并与真空样品架的摆动组件的摆动传动组件连接，用于驱动摆动传动组件，以带动摆动组件的摆动架绕摆动轴线摆动。

本公开提供了一种真空处理系统，包括：

处理真空腔；

根据本公开任意一项实施例中的真空样品架驱动系统，真空样品架驱动系统的真空样品架位于处理真空腔内，真空样品架驱动系统的驱动真空腔与处理真空腔真空密封连接；以及

束流发生装置，与处理真空腔真空密封连接，并且至少部分位于处理真空腔内，以向处理真空腔内发射束流。

附图说明

为了更清楚地说明本公开实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本公开的一种实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。

图1示出根据本公开一些实施例的真空样品架的部分结构示意图；

图2示出根据本公开一些实施例的真空样品架的摆动组件的结构示意图；

图3示出根据本公开一些实施例的真空样品架的旋转传动组件的结构示意图；

图4示出根据本公开一些实施例的摆动臂的内部结构示意图；

图5示出根据本公开一些实施例的加热组件的结构示意图；

图6示出根据本公开一些实施例的真空样品架的挡板的结构示意图；

图7示出根据本公开一些实施例的真空样品架驱动系统的结构示意图；

图8示出根据本公开一些实施例的线性驱动装置的结构示意图；

图9示出根据本公开一些实施例的真空处理系统的结构示意图；

图10示出根据本公开一些实施例的真空处理系统的部分立体结构剖面示意图。

在上述附图中，各附图标记分别表示：

10000-真空处理系统

1000-真空样品架驱动系统

100-真空样品架

110-载样架，111-载样架齿轮，112-近端架体，113-连接杆，114-远端架体

120-摆动组件，121-摆动架，12101-摆动臂，121011-凹槽，12102-基座，121021-背板，121022-前板，12103-摆动臂齿轮，12104-摆动臂轴承座，122-摆动传动组件，12201-摆动传动轴，12202-远端摆动传动齿轮

130-安装架

140-旋转传动组件，141-旋转传动轴，142-远端旋转传动齿轮，143-齿轮传动机构，14301-第一传动齿轮，14302-第一传动轴，14303-第二传动齿轮，14304-第三传动齿轮，14305-第二传动轴，14306-第四传动齿轮，14307-中间传动齿轮

150-加热组件，151-加热装置，152-加热装置固定件，153-套筒，15301-固定杆

160-挡板

170-挡板传动组件，171-挡板旋转传动轴

200-驱动真空腔，210-波纹管

300-摆动驱动装置，310-摆动驱动电机，320-摆动驱动线路

400-旋转驱动轴装置，410-旋转驱动电机，420-旋转驱动线路

500-挡板驱动装置，510-挡板驱动电机，520-挡板驱动线路

600-线性驱动装置，610-线性驱动轴，620-线性传动组件，621-固定板，622-滑块，623-丝杆，630-线性驱动组件，631-线性驱动电机

2000-处理真空腔

3000-束流发生装置

具体实施方式

下面将结合附图对本公开一些实施例进行描述。显然，所描述的实施例仅仅是本公开示例性实施例，而不是全部的实施例。

在本公开的描述中，需要说明的是，术语“中心”、“上”、“下”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“内”、“外”、“顶”、“底”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本公开和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本公开的限制。此外，术语“第一”、“第二”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性。在本公开的描述中，需要说明的是，除非另有明确的规定和限定，术语“安装”、“连接”、“相连”、“耦合”应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接；可以是机械连接，也可以是电连接；可以是直接连接，也可以通过中间媒介间接连接；可以是两个元件内部的连通。在本公开的描述中，远端或远侧是指深入真空环境(例如，真空腔)的一端或一侧，近端或近侧是与远端或远侧相对的一端或一侧(例如，远离真空腔的一端或一侧，或者真空腔内靠近真空腔壁的一端或一侧等等)。或者，靠近驱动装置的一端为近端，远离驱动装置的一端为远端。对于本领域的普通技术人员而言，可以根据具体情况理解上述术语在本公开中的具体含义。

图1示出根据本公开一些实施例的真空样品架100的部分结构示意图。图2示出根据本公开一些实施例的真空样品架100的摆动组件120的结构示意图。

如图1所示，在本公开的一些实施例中，真空样品架100可以包括载样架110和摆动组件120。载样架110用于承载样品。摆动组件120与载样架110连接，用于驱动载样架110摆动。如图2所示，摆动组件120可以包括摆动架121和摆动传动组件122。摆动架121与载样架110连接。摆动传动组件122用于驱动摆动架121绕摆动轴线摆动。通过摆动架121的旋转，可以使载样架110上承载的样品能够达到不同的倾斜角度，方便对样品进行更精准的处理。

如图2所示，在本公开的一些实施例中，摆动架121可以包括摆动臂12101和基座12102。摆动臂12101与摆动传动组件122连接。基座12102与摆动臂12101固定连接，摆动臂12101从摆动传动组件122接收驱动，以绕摆动轴线摆动并带动基座12102摆动。

如图2所示，在本公开的一些实施例中，摆动传动组件122可以包括摆动传动轴12201和远端摆动传动齿轮12202。摆动传动轴12201用于接收转动驱动(例如用于接收如图7所示的摆动驱动装置300的转动驱动)。远端摆动传动齿轮12202与摆动传动轴12201的远端固定连接。摆动架121可以包括摆动臂齿轮12103。摆动臂齿轮12103与摆动臂12101平行设置并与摆动臂12101固定连接，摆动臂齿轮12103与远端摆动传动齿轮12202啮合，以驱动摆动架121绕摆动轴线摆动。

本领域技术人员可以了理解，如图2所示的摆动臂齿轮12103与摆动传动组件122仅为示例性的，摆动传动组件122与摆动臂齿轮12103也可以采用其他传动方式，例如磁耦合传动等。

如图2所示，在本公开的一些实施例中，真空样品架100还可以包括安装架130，安装架130与摆动臂12101转动连接，用于支撑摆动架121。

如图2所示，在一些实施例中，摆动架121还可以包括摆动臂轴承座12104。摆动臂齿轮12103为环形齿轮，套设在摆动臂轴承座12104外并与摆动臂轴承座12104固定连接，以带动摆动臂轴承座12104转动，摆动臂轴承座12104的远端与摆动臂12101固定连接，从而带动摆动臂12101摆动。摆动臂轴承座12104可以呈筒状。在一些实施例中，摆动臂轴承座12104的近端内部可以通过例如轴承和中间件(例如，与安装架130固定连接的套筒)与安装架130转动连接，实现安装架130与摆动臂12101之间的转动连接，以使安装架130用于支撑摆动架121。在一些实施例中，摆动臂轴承座12104的近端外部可以直接通过例如轴承与安装架130转动连接，实现安装架130与摆动臂12101之间的转动连接，以使安装架130用于支撑摆动架121。

图3示出根据本公开一些实施例的真空样品架100的旋转传动组件140的结构示意图。

如图3所示，在本公开的一些实施例中，真空样品架100还可以包括旋转传动组件140。旋转传动组件140与载样架110连接，以驱动载样架110绕旋转轴线旋转。

如图3所示，在本公开的一些实施例中，旋转传动组件140可以包括旋转传动轴141、远端旋转传动齿轮142和齿轮传动机构143。旋转传动轴141用于接收转动驱动(例如用于接收如图7所示的旋转驱动轴装置400的转动驱动)。远端旋转传动齿轮142与旋转传动轴141的远端固定连接。齿轮传动机构143与远端旋转传动齿轮142连接，以接收驱动力。如图1、图2和图3所示，载样架110可以包括载样架齿轮111，载样架齿轮111与齿轮传动机构143连接，用于通过齿轮传动机构143接收远端旋转传动齿轮142的动力，以驱动载样架110旋转。

如图3所示，在本公开的一些实施例中，齿轮传动机构143可以包括第一传动齿轮14301、第一传动轴14302、第二传动齿轮14303、第三传动齿轮14304、第二传动轴14305和第四传动齿轮14306。第一传动齿轮14301与远端旋转传动齿轮142啮合。第一传动轴14302的近端与第一传动齿轮14301固定连接。第二传动齿轮14303与第一传动轴14302的远端固定连接。第三传动齿轮14304与第二传动齿轮14303连接，例如啮合或通过传动机构连接。第二传动轴14305的近端与第三传动齿轮14304固定连接。第四传动齿轮14306与第二传动轴14305的远端固定连接，并且与载样架齿轮111啮合，以驱动载样架110绕旋转轴线旋转。

如图3所示，在本公开的一些实施例中，齿轮传动机构143还可以包括至少一个中间传动齿轮14307。至少一个中间传动齿轮14307设置在第二传动齿轮14303和第三传动齿轮14304之间，用于连接第二传动齿轮14303和第三传动齿轮14304。本领域技术人员可以理解，虽然图3仅示出一个中间传动齿轮14307，但这仅是示例性的，齿轮传动机构143也可以包括两个及以上的中间传动齿轮14307。如图3所示的齿轮传动机构143仅是示例性的。齿轮传动机构143也可以包括其他数量的传动齿轮和/或传动轴，并可以通过传动齿轮和/或传动轴的不同组合来实现接收远端旋转传动齿轮142的动力后驱动载样架110旋转。

图4示出根据本公开一些实施例的摆动臂12101的内部结构示意图。

如图4所示，在本公开的一些实施例中，摆动臂12101可以包括凹槽121011，用于容纳第二传动齿轮14303和第三传动齿轮14304，或用于容纳第二传动齿轮14303、第三传动齿轮14304和至少一个中间传动齿轮14307。在一些实施例中，摆动臂12101可以根据所需容纳的齿轮的个数，设置为与所需容纳的齿轮形状匹配的凹槽121011，用于放置齿轮。这样，不仅可以节省空间，而且可以确保齿轮能够更加稳固地嵌入摆动臂12101中，使传动更加精准可靠，提高整个装置的运行效率。在一些实施例中，在相对于凹槽的另一侧，齿轮裸露的部分还可以设置盖板，以更好的保护齿轮，维护更为简便。

如图3所示，在本公开的一些实施例中，摆动臂齿轮12103为环形齿轮，套设在第一传动轴14302外并与第一传动轴14302转动连接。在一些实施例中，第一传动轴14302可以套设在如图2所示的摆动臂轴承座12104内并与摆动臂轴承座12104转动连接，摆动臂齿轮12103套设在摆动臂轴承座12104外，实现摆动臂齿轮12103与第一传动轴14302之间的转动连接。在一些实施例中，第一传动轴14302可以与摆动臂轴承座12104的内部与中间件(例如，与安装架130固定连接的套筒)转动连接，中间件可以套设在第一传动轴14302外，并与第一传动轴14302转动连接(例如，通过轴承)，从而实现摆动臂齿轮12103与第一传动轴14302之间的转动连接。

在一些实施例中，第一传动轴14302的远端依次延伸穿过安装架130和摆动臂轴承座12104后与第二传动齿轮14303固定连接。第一传动轴14302可以与安装板130通过例如轴承实现转动连接，或者可以与中间件或摆动臂轴承座12104转动连接。第一传动轴14302可以带动第二传动齿轮14303的旋转，同时和摆动臂12101的摆动运动又不会互相干涉。

如图3所示，在一些实施例中，摆动臂12101与第二传动轴14305转动连接，例如摆动臂12101可以通过轴承与第二传动轴14305转动连接。在一些实施例中第三传动齿轮14304为环形齿轮，套设在第二传动轴14305的近端(图3所示的右侧)外并与第二传动轴14305固定连接。

如图1所示，在本公开的一些实施例中，载样架110可以包括近端架体112、连接杆113和远端架体114。近端架体112与载样架齿轮111固定连接。连接杆113的近端与近端架体112固定连接。远端架体114与连接杆113的远端固定连接，用于承载样品。

如图3所示，在本公开的一些实施例中，真空样品架100还可以包括加热组件150。如图1和图2所示，加热组件150与基座12102连接并设置在近端架体112与远端架体114之间，用于对载样架110上承载的样品进行加热。在载样架110可以摆动的情况下，可以保证加热组件150到载样架110所承载的样品距离一致，从而提高工艺控制精度和加热的均匀性。且在进行工艺操作例如镀膜时，载样架110上承载的样品，通过旋转传动组件140的驱动，可以进行面内旋转，从而进一步减小加热器引起的热量分布差异。

图5示出根据本公开一些实施例的加热组件150的结构示意图。

如图2和图5所示，在本公开的一些实施例中，基座12102可以包括背板121021和与背板121021固定连接的前板121022。前板121022包括前板通孔(图中未示出)。如图5所示，加热组件150可以包括加热装置151和加热装置固定件152。加热装置151设置在远端架体114的近端侧。加热装置固定件152的近端与基座12102的背板121021固定连接，远端延伸穿过前板通孔并与加热装置151固定连接。载样架齿轮111可以包括中心通孔(图中未示出)，用于允许加热装置固定件152穿过且与加热装置固定件152转动连接。

如图5所示，在一些实施例中，前板121022中的前板通孔中心部分包括环形下沉区域，加热组件150还可以包括套筒153，套筒153包括套筒端盖(图中未示出)，套筒153的端盖可以包括凸缘，凸缘能够放置在前板通孔的环形下沉区域中。套筒153位于凸缘的远端面的部分则穿过前板通孔。凸缘与下沉区域的配合确保了套筒153不会从前板通孔中脱落。套筒端盖还可以包括端盖通孔，端盖通孔可以作为一些组件的穿过通道，例如，加热装置固定件152延伸穿过端盖通孔后，与加热装置151固定连接。又例如在一些实施例中，套筒153可以包括至少一根固定杆15301，至少一根固定杆15301的近端与套筒端盖固定连接，远端延伸穿过端盖通孔后与加热装置151固定连接，以进一步对加热装置151提供支撑和定位，保证了加热组件150整体的稳定性和功能性。如图5所示，在一些实施例中，加热装置固定件152包括两根固定轴，本领域技术人员可以理解，这仅是示例性的，加热装置固定件152也可以包括其他数量的固定轴。

如图5所示，在一些实施例中，加热组件150还可以包括套筒轴承(图中未示出)，套筒153的外圈与套筒轴承的内圈固定连接，套筒轴承的外圈与载样架齿轮111的中心通孔固定连接，从而实现载样架齿轮111与加热装置固定件152转动连接。

在本公开的一些实施例中，加热装置151和载样架110均可以同时随着摆动架121的摆动而摆动，从而实现样品和加热装置的同步摆动，避免了载样架110上的样品(例如衬底)与加热装置151距离不同而导致的温度差异。在一些实施例中，还可以结合如图3所示的旋转传动组件140，实现镀膜过程中的样品相对于加热装置151的连续旋转，从而可以减小加热不均匀性引起的膜厚不均匀性。

图6示出根据本公开一些实施例的真空样品架100的挡板的结构示意图。

如图6所示，在本公开的一些实施例中，真空样品架100还可以包括挡板160和挡板传动组件170。挡板160设置在载样架110的远端侧。挡板传动组件170与挡板160连接，用于驱动挡板160旋转，挡板传动组件170包括挡板旋转传动轴171，用于接收转动驱动，挡板旋转传动轴171的远端与挡板160固定连接，驱动挡板160旋转，以遮挡或露出样品。

图7示出根据本公开一些实施例的真空样品架驱动系统1000的结构示意图。

如图7所示，在本公开的一些实施例中，真空样品架驱动系统1000可以包括驱动真空腔200、根据本公开任意一项实施例中的真空样品架100和摆动驱动装置300。摆动驱动装置300与驱动真空腔200连接，并与真空样品架100的摆动组件120的摆动传动组件122连接，用于驱动摆动传动组件122，以带动摆动组件120的摆动架121绕摆动轴线摆动。

如图7所示，在本公开的一些实施例中，摆动驱动装置300可以包括摆动驱动电机310和摆动驱动线路320。摆动驱动线路320的近端与摆动驱动电机310的输出端连接，远端通过齿轮传动与摆动传动轴12201的近端连接。在一些实施例中，摆动驱动线路320的远端延伸穿过驱动真空腔200后与如图2所示的摆动传动轴12201的近端连接。摆动驱动线路320中的传动轴可以使用至少一个万向节分阶段连接，以确保动力在不同角度和方向上都能够有效地传递。

如图7所示，在本公开的一些实施例中，真空样品架驱动系统1000还可以包括用于驱动载样架110绕旋转轴线旋转的旋转驱动装置400。旋转驱动装置400可以包括旋转驱动电机410和旋转驱动线路420。旋转驱动线路420的近端与旋转驱动电机410的输出端连接，远端端通过齿轮传动与如图3所示的旋转传动轴141的近端连接。在一些实施例中，旋转驱动线路420的远端延伸穿过驱动真空腔200后与旋转传动轴141的近端连接。旋转驱动线路420中的传动轴可以使用至少一个万向节分阶段连接，以确保动力在不同角度和方向上都能够有效地传递。

如图7所示，在本公开的一些实施例中，真空样品架驱动系统1000还可以包括用于驱动真空样品架100的挡板160旋转的挡板驱动装置500。挡板驱动装置500可以包括挡板驱动电机510和挡板驱动线路520。挡板驱动线路520的近端与挡板驱动电机510的输出端连接，远端通过齿轮传动与如图6所示的挡板旋转传动轴171的近端连接。在一些实施例中，挡板驱动线路520的远端延伸穿过驱动真空腔200后与挡板旋转传动轴171的近端连接。挡板驱动线路520中的传动轴可以使用至少一个万向节分阶段连接，以确保动力在不同角度和方向上都能够有效地传递。

如图7所示，在本公开的一些实施例中，真空样品架驱动系统1000还可以包括线性驱动装置600。线性驱动装置600与真空样品架100的安装架130固定连接，用于驱动真空样品架100线性运动。

图8示出根据本公开一些实施例的线性驱动装置600的结构示意图。

如图7和图8所示，在本公开的一些实施例中，线性驱动装置600可以包括线性驱动轴610、线性传动组件620和线性驱动组件630。线性驱动轴610的近端设置在驱动真空腔200内，远端与安装架130固定连接。线性传动组件620与线性驱动轴610近端连接，且能够带动线性驱动轴610线性运动。线性驱动组件630设置在驱动真空腔200外，与线性传动组件620耦合，以驱动线性传动组件620带动线性驱动轴610线性运动从而带动真空样品架100线性运动。

如图8所示，在本公开的一些实施例中，驱动真空腔200可以包括波纹管210。线性驱动轴610的近端与驱动真空腔200的近端法兰或者与波纹管210的近端法兰固定连接。线性驱动组件630可以包括线性驱动电机631。线性传动组件620可以包括滑块622和丝杆623。丝杆623与线性驱动电机631的输出端耦合。线性传动组件620还可以包括固定板621，滑块622能够沿着固定板621线性移动。滑块622的近端(图8右侧)与丝杆623螺纹连接，远端(图8左侧)与波纹管210的近端法兰固定连接。线性驱动组件630驱动丝杆623带动滑块622线性运动，从而带动线性驱动轴610进一步带动真空样品架110的线性运动。在驱动真空腔200的线性运动过程中，波纹管210拉长或收缩，以提供线性运动距离，并且保持驱动真空腔200内的真空环境。

如图8所示，在一些实施例中，线性驱动组件630通过磁耦合的方式，将动力传递至线性传动组件620。线性传动组件620包括设置在驱动真空腔200内的传动磁组件(未示出)，线性驱动组件630包括与传动磁组件磁耦合的驱动磁组件(未示出)。

本领域技术人员可以理解，以上线性驱动装置600的实施例仅是示例性的，线性驱动组件630还可以通过齿轮啮合的方式，将动力传递至线性传动组件620，例如通过蜗轮蜗杆的传动方式将动力传递至线性传动组件620，并可以在蜗轮内圈连接丝杆螺母，以带动滑块622的线性运动。

如图7所示，在一些实施例中，安装架130可以包括纵向安装板和横向安装板，线性驱动轴610的远端延伸穿过驱动真空腔200后与安装架130的横向安装板固定连接。

图9示出根据本公开一些实施例的真空处理系统10000的结构示意图。图10示出根据本公开一些实施例的真空处理系统10000的部分立体结构剖面示意图。

如图9和图10所示，在本公开的一些实施例中，真空处理系统10000可以包括处理真空腔2000、根据本公开任意一项实施例中的真空样品架驱动系统1000和束流发生装置3000。真空样品架驱动系统1000的真空样品架100位于处理真空腔2000内，真空样品架驱动系统1000的驱动真空腔200与处理真空腔2000真空密封连接。束流发生装置3000与处理真空腔2000真空密封连接，并且至少部分位于处理真空腔2000内，以向处理真空腔2000内发射束流。

在本公开的一些实施例中，载样架110和加热装置151可以实现同步的摆动，避免样品与加热装置距离不同导致的温度差异。摆动架121为非固定式设计，当采用不同位置的热炉源时，通过摆动架121的摆动使束流和载样架110上的样品平面能够达到严格的90度夹角，镀膜过程中即使凹陷的巴条也可以通过摆动调节到合适的角度，避免束流被遮挡，提升镀膜均匀性。

需要指出的是，以上仅为本公开的示例性实施例而已，并不用以限制本公开，凡在本公开的精神和原则之内，所作的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本公开的保护范围之内。

Claims (16)

1.一种真空样品架，其特征在于，包括：

载样架，用于承载样品；以及

摆动组件，与所述载样架连接，用于驱动所述载样架摆动，所述摆动组件包括：

摆动架，与所述载样架连接；

摆动传动组件，用于驱动所述摆动架绕摆动轴线摆动。

2.根据权利要求1所述真空样品架，其特征在于，所述摆动架包括：

摆动臂，与所述摆动传动组件连接；以及

基座，与所述摆动臂固定连接，所述摆动臂从所述摆动传动组件接收驱动，以绕摆动轴线摆动并带动所述基座摆动。

3.根据权利要求2所述真空样品架，其特征在于，所述摆动传动组件包括：

摆动传动轴，用于接收转动驱动；

远端摆动传动齿轮，与所述摆动传动轴的远端固定连接；

所述摆动架包括摆动臂齿轮，与所述摆动臂平行设置并与所述摆动臂固定连接，所述摆动臂齿轮与所述远端摆动传动齿轮啮合，以驱动所述摆动架绕摆动轴线摆动。

4.根据权利要求2所述真空样品架，其特征在于，还包括安装架，所述安装架与所述摆动臂转动连接，用于支撑所述摆动架。

5.根据权利要求2所述真空样品架，其特征在于，还包括旋转传动组件，与所述载样架连接，以驱动所述载样架绕旋转轴线旋转。

6.根据权利要求5所述真空样品架，其特征在于，所述旋转传动组件包括:

旋转传动轴，用于接收转动驱动；

远端旋转传动齿轮，与所述旋转传动轴的远端固定连接；以及

齿轮传动机构，与所述远端旋转传动齿轮连接，以接收驱动力，

所述载样架包括载样架齿轮，所述载样架齿轮与齿轮传动机构连接，用于通过所述齿轮传动机构接收所述远端旋转传动齿轮的动力，以驱动所述载样架旋转。

7.根据权利要求6所述真空样品架，其特征在于，

所述齿轮传动机构包括：

第一传动齿轮，与所述远端旋转传动齿轮啮合；

第一传动轴，近端与所述第一传动齿轮固定连接；

第二传动齿轮，与所述第一传动轴的远端固定连接；

第三传动齿轮，与所述第二传动齿轮啮合；

第二传动轴，所述第二传动轴的近端与所述第三传动齿轮固定连接；

第四传动齿轮，与所述第二传动轴的远端固定连接，并且与所述载样架齿轮啮合，以驱动所述载样架绕旋转轴线旋转；或者

所述齿轮传动机构包括：

第一传动齿轮，与所述远端旋转传动齿轮啮合；

第一传动轴，近端与所述第一传动齿轮固定连接；

第二传动齿轮，与所述第一传动轴的远端固定连接；

第三传动齿轮，与所述第二传动齿轮连接；

至少一个中间传动齿轮，设置在所述第二传动齿轮和所述第三传动齿轮之间，用于连接所述第二传动齿轮和所述第三传动齿轮；

第二传动轴，所述第二传动轴的近端与所述第三传动齿轮固定连接；

第四传动齿轮，与所述第二传动轴的远端固定连接，并且与所述载样架齿轮啮合，以驱动所述载样架绕旋转轴线旋转。

8.根据权利要求7所述真空样品架，其特征在于，所述摆动臂包括凹槽，用于容纳所述第二传动齿轮和所述第三传动齿轮，或容纳所述第二传动齿轮、所述第三传动齿轮和所述至少一个中间传动齿轮，

所述第二传动轴与所述摆动臂转动连接；和/或

所述摆动臂齿轮为环形齿轮，套设在所述第一传动轴外并与所述第一传动轴转动连接，所述第二传动轴与所述摆动臂转动连接。

9.根据权利要求6所述真空样品架，其特征在于，所述载样架包括：

近端架体，与所述载样架齿轮固定连接；

连接杆，近端与所述近端架体固定连接；以及

远端架体，与所述连接杆的远端固定连接，用于承载样品。

10.根据权利要求9所述真空样品架，其特征在于，还包括加热组件，与所述基座连接并设置在所述近端架体与所述远端架体之间，用于对所述远端架体上承载的样品进行加热。

11.根据权利要求10所述真空样品架，其特征在于，所述基座包括背板和与所述背板固定连接的前板，所述前板包括前板通孔，

所述加热组件包括：

加热装置，设置在所述远端架体的近端侧；

加热装置固定件，近端与所述基座的背板固定连接，远端与所述加热装置固定连接；

所述载样架齿轮包括中心通孔，用于允许所述加热装置固定件穿过且与所述加热装置固定件转动连接。

12.根据权利要求1所述真空样品架，其特征在于，还包括：

挡板，设置在所述载样架的远端侧；以及

挡板传动组件，与所述挡板连接，用于驱动所述挡板旋转，所述挡板传动组件包括挡板旋转传动轴，用于接收转动驱动，所述挡板旋转传动轴的远端与所述挡板固定连接，驱动所述挡板旋转，以遮挡或露出样品。

13.一种真空样品架驱动系统，其特征在于，包括：

驱动真空腔；

根据权利要求1-12中任一项所述真空样品架；以及

摆动驱动装置，与所述驱动真空腔连接，并与所述真空样品架的摆动组件的摆动传动组件连接，用于驱动所述摆动传动组件，以带动所述摆动组件的摆动架绕摆动轴线摆动。

14.根据权利要求13所述真空样品架驱动系统，其特征在于，

所述摆动驱动装置包括：

摆动驱动电机；

摆动驱动线路，近端与所述摆动驱动电机的输出端连接，远端通过齿轮传动与所述摆动传动组件的摆动传动轴的近端连接；和/或

所述真空样品架驱动系统还包括用于驱动所述载样架绕旋转轴线旋转的旋转驱动装置，所述旋转驱动装置包括：

旋转驱动电机；

旋转驱动线路，近端与所述旋转驱动电机的输出端连接，远端通过齿轮传动与所述真空样品架的旋转传动组件的旋转传动轴的近端连接；和/或

所述真空样品架驱动系统还包括用于驱动所述真空样品架的挡板旋转的挡板驱动装置，所述挡板驱动装置包括：

挡板驱动电机；

挡板驱动线路，近端与所述挡板驱动电机的输出端连接，远端通过齿轮传动与所述真空样品架的挡板传动组件的挡板旋转传动轴的近端连接。

15.根据权利要求13所述真空样品架驱动系统，其特征在于，还包括：

线性驱动装置，与所述真空样品架的安装架固定连接，用于驱动所述真空样品架线性运动，所述线性驱动装置包括：

线性驱动轴，近端设置在所述驱动真空腔内，远端与所述安装架固定连接；

线性传动组件，与所述线性驱动轴近端连接，且能够带动所述线性驱动轴线性运动；以及

线性驱动组件，设置在所述驱动真空腔外，与所述线性传动组件耦合，以驱动所述线性传动组件带动所述线性驱动轴线性运动从而带动所述真空样品架线性运动，

其中，

所述驱动真空腔包括波纹管，所述线性驱动轴的近端与所述驱动真空腔的近端法兰或者与所述波纹管的近端法兰固定连接，所述线性驱动组件包括线性驱动电机，所述线性传动组件包括滑块和丝杆，所述丝杆与所述线性驱动电机的输出端耦合，所述滑块的近端与所述丝杆螺纹连接，远端与所述波纹管的近端法兰固定连接；或者

所述线性传动组件包括设置在所述驱动真空腔内的传动磁组件，所述线性驱动组件包括与所述传动磁组件磁耦合的驱动磁组件。

16.一种真空处理系统，其特征在于，包括：

处理真空腔；

根据权利要求13-15中任一项所述的真空样品架驱动系统，所述真空样品架驱动系统的真空样品架位于所述处理真空腔内，所述真空样品架驱动系统的驱动真空腔与所述处理真空腔真空密封连接；以及

束流发生装置，与所述处理真空腔真空密封连接，并且至少部分位于所述处理真空腔内，以向所述处理真空腔内发射束流。