CN118085183B - 一种提高全息材料折射率差的方法、光致聚合物组合物以及光栅 - Google Patents

Abstract

本发明提供一种提高全息材料折射率差的方法、光致聚合物组合物以及光栅，涉及全息材料技术领域，所述全息材料采用光致聚合物组合物，所述方法为：在光致聚合物组合物中，添加有带有反应基团的基质聚合物单元，所述反应基团在光照和光引发剂条件下，在不丧失书写单体的反应活性的同时，反应基团可以与书写单体结合，阻止书写单体形成的低分子量单体聚合物反向迁移，基于该方法，还提供了对应的光致聚合物组合物以及光栅，使得制备得到的光栅折射率差提高，增大衍射效率。

Description

一种提高全息材料折射率差的方法、光致聚合物组合物以及 光栅

技术领域

本发明涉及全息材料技术领域，具体涉及到一种提高全息材料折射率差的方法、光致聚合物组合物以及光栅。

背景技术

全息光致聚合物包含基质聚合物、书写单体、光引发剂、催化剂、溶剂、助剂等成分。

其中，基质聚合物形成网状结构，起到骨架支撑，保护光栅的作用；书写单体通常为具有高折射率，在光的照射及光引发剂的作用下，聚合为高折射率的区域；光引发剂对光敏感，光照射下引发书写单体聚合；催化剂通常用于催化环氧或聚氨酯固化形成基质聚合物；溶剂起到降低全息光致聚合物体系粘度的作用，便于施工；助剂包括增塑剂、链转移剂、抗氧化剂以及消泡剂、流平剂等，可根据配方选择性添加。

全息光栅制作时，需要两束相干光干涉产生的明暗条纹照射到全息光致聚合物上，亮条纹处，在光引发剂引发下，书写单体发生聚合，形成聚合物，由于明暗区间存在浓度差，暗区的书写单体会不断向亮区迁移参与聚合，最终在亮区形成高折射率区域；暗条纹处，由于书写单体前往亮区参与聚合反应，剩余的基质聚合物折射率较低，这种折射率差异使得材料具备光栅的功能，且折射率差越大，光栅衍射效率越高。

在实际聚合过程中，由于书写单体聚合效率的差异，亮区的部分低分子量聚合物会向暗区反向迁移，这部分低分子量聚合物迁移至暗区后，使得暗区折射率上升，并导致亮区和暗区间的折射率差变小，光栅衍射效率下降。

针对实际聚合过程中的问题，现有技术中，常规的改进方式有：1、提高亮区的折射率；2、降低暗区的折射率。这两种改进方式，其工作原理均为从宏观角度上针对全息光致聚合物材料本身去提高或者降低折射率，从而增大亮区、暗区之间的折射度差值，所需的材料成本高。而且，实质上，低分子量聚合物迁移至暗区导致的折射率差变小的问题依旧存在。

因此，存在待改进之处，本发明提供一种提高全息材料折射率差的方法、光致聚合物组合物以及光栅。

发明内容

针对现有技术所存在的不足，本发明目的在于提出一种提高全息材料折射率差的方法、光致聚合物组合物以及光栅，具体方案如下：

一种提高全息材料折射率差的方法，所述全息材料采用光致聚合物组合物，所述方法为：在光致聚合物组合物中，添加有带有反应基团的基质聚合物单元，所述反应基团在光照和光引发剂条件下，在不丧失书写单体的反应活性的同时，反应基团可以与书写单体结合，阻止书写单体形成的低分子量单体聚合物反向迁移；

所述反应基团为Rx，Rx选自以下结构：

、、、；

其中，基质聚合物单元是合成基质聚合物的单元，所述基质聚合物为聚氨酯或者环氧树脂，基质聚合物单元中包括所述的反应基团Rx；

所述基质聚合物为聚氨酯时，所述基质聚合物单元包括异氰酸酯反应组分和异氰酸酯组分，异氰酸酯反应组分和/或异氰酸酯组分带有所述反应基团Rx；

所述带有反应基团Rx的组分符合结构式A：

结构式A

其中，i,ii,iii,iiii独立的选自-CH₃、结构式B、结构式C中的一种，且结构式B的数量大于等于1，结构式C的数量大于等于1；

结构式B

结构式C

其中，a,b,c,d,e≥0；

R₁选自-OH基团、- NH₂基团、-NCO基团、-SH基团中的一种；

R和R₃选自1-8个碳原子的脂肪链烃；

所述基质聚合物为环氧树脂时，所述基质聚合物单元包括符合结构式 D 的组分；

结构式D

其中，I,II,III,IIII独立的选自-CH₃、结构式E、结构式F中的一种，且结构式E的数量大于等于1，结构式F的数量大于等于1；

结构式E

结构式F

其中， f,g,h,l,i≥0；

R₄选自环氧基团或-OH基团、-NH₂基团、-COOH基团中的一种；

R’和R₂选自1-8个碳原子的脂肪链烃。

进一步的，所述带有反应基团Rx的组分符合结构式A时，所述带有反应基团Rx的组分选自如下M-1至M-8中的一种：

。

进一步的，所述带有反应基团Rx的组分除了符合结构式A时，所述带有反应基团Rx的组分还可以选自如下M-9至M-22中的一种：

。

进一步的，所述基质聚合物单元符合结构式D时，选自如下M-23至M-24中的一种：

。

进一步的，所述基质聚合物单元除了符合结构式D时，还可以采用：

。

一种光致聚合物组合物，所述光致聚合物组合物的组分包括基质聚合物单元、丙烯酸酯书写单体、光引发剂、溶剂、消泡剂、增塑剂、催化剂，各组分的用量如下：

丙烯酸酯书写单体：15-50份

基质聚合物单元：10-50份

光引发剂：0.1-3份

催化剂：0.01-1份

溶剂：3-20份

消泡剂：0.01-0.2份

增塑剂：5-10份

其中，基质聚合物单元采用包含所述方法中的基质聚合物单元。

进一步的，基质聚合物单元中还可以添加带有双键基团的二聚醇/二聚酸/二聚胺化合物。

一种全息光栅，所述全息光栅由所述的光致聚合物组合物曝光而成。

与现有技术相比，本发明的有益效果如下：

（1）本发明中，通过设置带有反应基团的基质聚合物单元，在亮区内，这些反应基团会与书写单体结合但并不使其丧失反应活性，不影响书写单体的聚合反应的前提下，书写单体会与反应基团产生连接，使得单体与作为网状结构的基质聚合物结合，从而实现固定作用，从而将书写单体固定在亮区，避免了亮区的低分子量聚合物向暗区迁移。

如此一来，暗区因为没有光照，并不会触发反应，且暗区内的书写单体可以自由迁移至亮区参与聚合，不会降低亮区折射率，同时也不会升高暗区折射率，从而提高明暗条区之间的折射率差，提高光栅衍射效率。

（2）本发明中各组分选自现有化合物，或者在现有化合物的基础上，多一步酯化、酰胺化或者取代反应，操作简单，成本较低。

具体实施方式

下面结合实施例对本发明作进一步的详细说明，但本发明的实施方式不仅限于此。

针对采用光致聚合物组合物的现有全息材料存在的缺陷，本发明提出一种提高全息材料折射率差的方法，具体为：在光致聚合物组合物中，添加有带有反应基团的基质聚合物单元，反应基团在光照和光引发剂条件下，在不丧失书写单体的反应活性的同时，反应基团可以与书写单体结合，阻止书写单体形成的低分子量单体聚合物反向迁移。

基于反向迁移的现象减弱，便可提高明暗条纹之间的折射差，从而提高光栅衍射效率。

基于此，本发明提出一种光致聚合物组合物，所述光致聚合物组合物的组分包括基质聚合物单元、丙烯酸酯书写单体、光引发剂、溶剂、消泡剂、增塑剂、催化剂。

其中，基质聚合物单元是合成基质聚合物的单元，所述基质聚合物为聚氨酯或者环氧树脂，基质聚合物单元中包括反应基团Rx。

需要说明的是，反应基团Rx选自以下结构：

、、、。

需要说明的是，基质聚合物为聚氨酯时，基质聚合物单元包括异氰酸酯反应组分和异氰酸酯组分。异氰酸酯反应组分和/或异氰酸酯组分带有所述反应基团Rx。

聚氨酯通常是指分子结构中含有-COONH结构的聚合物，需明确的是，更广泛的范围上，由异氰酸酯组分及可与异氰酸酯反应的组分聚合得到的聚合物，均可称为聚氨酯。本申请中，当与异氰酸酯反应的基团为-NH₂时，生成的聚合物中含结构-NHCONH，此类聚合物也被称作聚脲，本申请中统一用聚氨酯描述。

本申请中的基质聚合物需要含有反应基团Rx，具体不限于是异氰酸酯组分中含有该反应基团Rx，还是异氰酸酯反应组分中含有该反应基团Rx。在存在一定量该反应基团Rx的前提下，其他组分可采用不含该反应基团的常规组分。

例如，异氰酸酯组分的常规组分包括但不限于：异氰酸酯选自亚丁基二异氰酸酯、六亚甲基二异氰酸酯、1，8-八亚甲基二异氰酸酯、1，11-十一亚甲基二异氰酸酯、1，12-十二亚甲基二异氰酸酯、2，2，4-或2，4，4-三甲基-1，6-六亚甲基二异氰酸酯、1，3-和1，4-环己烷二异氰酸酯、1-异氰酸根-3-异氰酸根甲基-3，5，5-三甲基环己烷、1-异氰酸根-1-甲基-4（3）-异氰酸根合甲基环己烷、1，4-亚苯基二异氰酸酯、1，5-亚萘基二异氰酸酯、1-异氰酸根-2-异氰酸根合甲基环戊烷、（4，4’-和/或2，4’-）二异氰酸根合二环己基甲烷、双（4-异氰酸根-3-甲基环己基）甲烷及分子量在500-1500g/mol之间的基于聚醚、聚酯、聚碳酸酯链段的两端带有NCO基团的预聚物。优选为六亚甲基二异氰酸酯。异氰酸酯反应组分可选自醇类、胺类、硫醇类、羧酸类组分，优选为醇类反应组分，包括具有至少70％的聚丙二醇含量和1.9-2.5的官能度的聚乙二醇/聚丙二醇和/或以具有400-1400g/mol分子量的聚四氢呋喃和1500-4000g/mol分子量的以ε-己内酯为基础的聚酯-聚醚-聚酯嵌段多元醇和/或1000-4000g/mol分子量的聚氧乙烯丙烯醇，聚四氢呋喃乙烯醚醇，聚四氢呋喃醚己内酯醇等；胺类组分选自以乙二胺、二亚乙基三胺、三亚乙基四胺、丙二胺、二氨基环己烷、二氨基苯、二氨基联苯、双官能多胺中的一种或多种为单体的数均摩尔质量为200-2000g/mol的胺封端聚合物。优选为聚四氢呋喃乙烯醚醇。

其中，所述带有反应基团Rx的组分符合结构式A：

结构式A

其中，i,ii,iii,iiii独立的选自-CH₃、结构式B、结构式C中的一种，且结构式B的数量大于等于1，结构式C的数量大于等于1；

结构式B

结构式C

其中，a,b,c,d,e≥0；

R₁选自-OH基团、- NH₂基团、-NCO基团、-SH基团中的一种；

R和R₃选自1-8个碳原子的脂肪链烃。

具体的，所述带有反应基团Rx的组分符合结构式A时，所述带有反应基团Rx的组分选自如下M-1至M-8中的一种：

。

所述带有反应基团Rx的组分除了符合结构式A时，所述带有反应基团Rx的组分还可以选自如下M-9至M-22中的一种：

。

需要说明的是，所述基质聚合物为环氧树脂时，所述基质聚合物单元包括符合结构式 D 的组分；

结构式D

其中，I,II,III,IIII独立的选自-CH₃、结构式E、结构式F中的一种，且结构式E的数量大于等于1，结构式F的数量大于等于1；

结构式E

结构式F

其中， f,g,h,l,i≥0；

R₄选自环氧基团-OH基团、-NH₂基团、-COOH基团中的一种；

R’和R₂选自1-8个碳原子的脂肪链烃。

具体的，所述基质聚合物单元符合结构式D时，选自如下M-23至M-24中的一种：

。

所述基质聚合物单元除了符合结构式D时，还可以采用：

。

需要说明的是，环氧树脂体系由环氧化合物和固化剂组成，为了加快反应速度，也可以添加催化剂，固化剂及催化剂通常含有-COOH、-NH₂、-OH 等基团，本申请中，可以使环氧化合物含反应基团 Rx，参见上述的M-23至M-25。也可以使固化剂组分或催化剂组分含反应基团Rx，参见如下的M-26至M29，可以选自如下M-26至M29中的一种，当固化剂组分或催化剂组分含反应基团时，环氧化合物采用常规环氧化合物即可。

。

除此之外，基质聚合物中还可以添加带有双键基团的二聚醇/二聚酸/二聚胺化合物，由含烯烃的十八碳脂肪烃二聚所得，该结构中的二醇/二酸/二胺与基质聚合物单元反应，双键与丙烯酸酯类单体反应。

需要说明的是，书写单体为丙烯酸酯类单体，选自9，9-二(丙烯酸甲酯基)基芴、丙烯酸苯酯、甲基丙烯酸苯酯、丙烯酸对氯苯酯、甲基丙烯酸对氯苯酯、丙烯酸对溴苯酯、甲基丙烯酸对溴苯酯、丙烯酸2,4,6-三氯苯酯、甲基丙烯酸2,4,6-三氯苯酯、丙烯酸2,4,6-三溴苯酯、甲基丙烯酸2,4,6-三溴苯酯、丙烯酸五氯苯酯、甲基丙烯酸五氯苯酯、丙烯酸五溴苯酯、甲基丙烯酸五溴苯酯、丙烯酸五溴苄酯、甲基丙烯酸五溴苄酯、丙烯酸苯氧基乙酯、甲基丙烯酸苯氧基乙酯、丙烯酸苯氧基乙氧基乙酯、甲基丙烯酸苯氧基乙氧基乙酯、丙烯酸苯硫基乙酯、甲基丙烯酸苯硫基乙酯、丙烯酸2-萘基酯、甲基丙烯酸2-萘基酯、丙烯酸1,4-双(2-硫萘基)-2-丁基酯、甲基丙烯酸1,4-双(2-硫萘基)-2-丁基酯、丙烷-2,2-二基双[(2,6-二溴-4,1-亚苯基)氧基(2-{[3,3,3-三(4-氯苯基)丙酰基]氧基}丙烷-3,1-二基)氧乙烷-2,1-二基]二丙烯酸酯、双酚A二丙烯酸酯、双酚A二甲基丙烯酸酯、四溴双酚A二丙烯酸酯、丙烯酸N-咔唑酯中的一种或几种。在本发明中，优选为甲基丙烯酸五氯苯酯。

需要说明的是，光引发剂体系包括光敏型染料和共引发剂，二者重量比为（1:1）~（1:5）。光敏型染料选自Irgacure 784、新亚甲基蓝、硫堇、碱性红2、碱性黄、氯化频哪氰醇、罗丹明6G、倍花青、乙基紫、维多利亚蓝R、天青石蓝、喹哪啶红、亮绿、碱性橙G、达罗红、派洛宁Y、孟加拉玫瑰红、薯红Y、米氏酮、氨基香豆素、吡喃碘鎓、二碘荧光素、花青素、亚甲基蓝、2,5-双{[4-(二乙基氨基)-2-甲基苯基]亚甲基}环戊酮、天青A、结晶紫、孔雀绿；共引发剂选自乙二胺、三乙醇胺、N-甲基二乙醇胺、十二烷基硫醇、N-丁基二乙醇胺、N-苯基甘氨酸、2-(4-氯苯基)-4,5-二苯基咪唑、4-二甲基-氨基苯甲酸乙酯。光敏型染料优先为孟加拉玫瑰红，共引发剂优选为十二烷基硫醇。

需要说明的是，催化剂选自双二甲氨基乙基醚、五甲基二乙烯三胺、二甲基环己胺、二月桂酸二丁基锡、有机铋中的一种或几种，优选为五甲基二乙烯三胺。

需要说明的是，溶剂选自二氯甲烷、二氯乙烷、氯仿、丙酮、甲基异丁基酮、丁酮、乙醇、丁醇、乙酸乙酯、乙酸丁酯、DMAC、DMF，N-甲基吡咯烷酮，N-乙基吡咯烷酮，二甲亚砜中的一种或几种。溶剂优选为二氯乙烷。

需要说明的是，消泡剂选自甲酸钠、二乙基己醇、异辛醇、异戊醇、二异丁基甲醇、聚二甲基硅氧烷、壬基酚聚氧乙烯醚、辛基酚聚氧乙烯醚中的一种或几种。消泡剂优选为甲酸钠。

需要说明的是，增塑剂选自氨基甲酸酯、氟代氨基甲酸酯、邻苯二甲酸二丁酯、聚（氧化乙烯）甲基醚、N,N-二甲基甲酰胺中的一种或几种。增塑剂优选为邻苯二甲酸二丁酯。

光致聚合物组合物溶液配置方法如下：配置在暗室或对光敏型染料化合物惰性的保护灯环境中操作，环境温度在10℃以上，40℃以下，优选为25℃以下。将溶剂、基质聚合物单元、丙烯酸酯书写单体、催化剂、消泡剂、增塑剂混合均匀，然后加入光引发剂体系，快速混合均匀后得到光致聚合物备用。

光栅制作方法如下：在暗室或对光敏型染料化合物惰性的保护灯环境中操作，先将玻璃清洁干燥，使用本领域常规的涂布装置（如刮刀、刀辊、涂布棒等）在玻璃基材上进行涂布，而后静置或吹风使溶剂挥发，溶剂挥发完全后，在聚合物之上覆盖另一片玻璃或高透光保护膜，在两束相干光光路中进行曝光，形成全息光栅，最后经LED灯或日光灯或紫外灯照射至完全定影漂白。

基于如上公开的内容，为说明本发明的光致聚合物组合物制备光栅时，能够提高全息材料折射率差，提出如下实施例以及对比例，并针对实施例以及对比例进行性能测试，具体说明如下：

实施例一

光致聚合物组合物的各组分的用量如下表：

实施例二：与实施例一的区别在于，基质聚合物单元为M-5（异氰酸酯反应组分）15份、六亚甲基二异氰酸酯15份，书写单体采用15份丙烯酸2,4,6-三氯苯酯和15份甲基丙烯酸五溴苯酯。

实施例三：与实施例一的区别在于，基质聚合物单元的用量为M-5（异氰酸酯反应组分）25份、六亚甲基二异氰酸酯25份。

实施例四：与实施例一的区别在于，基质聚合物单元采用M-2（异氰酸酯反应组分）10份、六亚甲基二异氰酸酯10份。

实施例五：与实施例四的区别在于，基质聚合物为环氧树脂，基质聚合物单元采用M-23，40份。

实施例六：与实施例四的区别在于，基质聚合物单元为M-19 （异氰酸酯反应组分）20份、六亚甲基二异氰酸酯20份，书写单体采用甲基丙烯酸五溴苯酯30份。

实施例七：与实施例四的区别在于，基质聚合物单元采用M-3（异氰酸酯组分）10份、聚乙二醇10份。

实施例八：与实施例六的区别在于，基质聚合物单元采用M-22（异氰酸酯组分）20份、聚乙二醇20份。

对比例一：与实施例一的区别在于，基质聚合物单元采用六亚甲基二异氰酸酯10份+聚四氢呋喃乙烯醚醇10份。

对比例二：与对比例一的区别在于，基质聚合物单元采用六亚甲基二异氰酸酯15份+聚四氢呋喃乙烯醚醇15份。

对比例三：与对比例一的区别在于，基质聚合物单元采用六亚甲基二异氰酸酯25份+聚四氢呋喃乙烯醚醇25份。

对比例四：与实施例四的区别在于，基质聚合物为环氧树脂，基质聚合物单元为双酚A。

对比例五：与对比例四的区别在于，基质聚合物单元的用量为50份。

对比例六：与对比例四的区别在于，基质聚合物单元的用量为10份。

实施例一至八以及对比例一至六按下述步骤制备成光栅：

（1）光致聚合物组合物溶液配制：在暗室、20℃条件下，将溶剂、基质聚合物单元、丙烯酸酯书写单体、催化剂、消泡剂、增塑剂混合均匀，然后加入光引发剂体系，快速混合均匀后得到光致聚合物备用。

（2）光栅制作：在暗室中操作，先将玻璃清洁干燥，使用刮刀在玻璃基材上进行涂布，而后静置4h使溶剂挥发，溶剂挥发完全后，在聚合物之上覆盖高透光保护膜，得到光致聚合物干板。将干板在相干光干涉光路中用能量密度为15mJ/cm²的532nm激光干涉曝光，经365nmUV灯照射约2min定影漂白后形成全息光栅。对光栅的衍射效率测试如下：

从表一的数据中可以看出：实施例一至实施例三对比可以得出，含反应基团的组分相同的条件下，份数越多，即反应基团的含量越多，制得的光栅的衍射效率也越高；从实施例一和实施例四可以得出，同样份数下，包含反应基团Rx越多，光栅的衍射效率越高，这点在实施例三和实施例六的对比中也能得出；从实施例五和实施例六可以得出，包含反应基团Rx越多，光栅衍射效率越高，与基质聚合物体系关系不大，但反应基团Rx数量达到一定程度后，对衍射效率的提升作用降低；从实施七和八可以得出，实施例七和实施例四的光栅的衍射效率一致，实施例八和实施例六的光栅的衍射效率一致，均说明只要满足包含反应基团Rx的数量越多，光栅的衍射效率亦可越高。

从表二和表一的数据对比可知，光致聚合物未采用本发明的反应基团Rx的聚氨酯化合物（对比例一至三）制备得到的光栅的衍射效率整体较低。

具体为，从对比例一至三和实施例一对比可知，采用不含反应基团Rx的常规的异氰酸酯组分和异氰酸酯反应组分，导致制备得到的光栅的衍射效率均整体较低。而且，在对比例一至三中，即使增加基质聚合单元的用量，光栅衍射效率也没有明显的差异，说明，常规组分的基质聚合物并不能阻止书写单体的低分子量组合物反向迁移，导致折射率差未能增大太多。

同理，从对比例四至六和实施例五对比可知，采用常规环氧树脂组分得到的光栅的衍射效率均整体较低。而且，在对比例四至六中，基质聚合物单元的用量增多、减少也未对衍射效率产生明显的影响，说明，光致聚合物中不含有本发明的反应基团Rx所对应的环氧树脂化合物并不能阻止书写单体的低分子量组合物反向迁移，导致折射率差未能增大太多。

以上所述仅是本发明的优选实施方式，本发明的保护范围并不仅局限于上述实施例，凡属于本发明思路下的技术方案均属于本发明的保护范围。应当指出，对于本技术领域的普通技术人员来说，在不脱离本发明原理前提下的若干改进和润饰，这些改进和润饰也应视为本发明的保护范围。

Claims (6)

1.一种提高全息材料折射率差的方法，所述全息材料采用光致聚合物组合物，其特征在于，所述方法为：在光致聚合物组合物中，添加有带有反应基团的基质聚合物单元，所述反应基团在光照和光引发剂条件下，在不丧失书写单体的反应活性的同时，反应基团可以与书写单体结合，阻止书写单体形成的低分子量单体聚合物反向迁移；

其中，书写单体采用丙烯酸酯书写单体；

其中，所述反应基团为Rx，Rx选自以下结构：

、、、；

其中，基质聚合物单元是合成基质聚合物的单元，基质聚合物为聚氨酯或者环氧树脂；

所述基质聚合物采用聚氨酯时，所述基质聚合物单元包括异氰酸酯反应组分和异氰酸酯组分，异氰酸酯反应组分和/或异氰酸酯组分带有所述反应基团Rx；

所述带有反应基团Rx的组分选自如下M-1至M-8中的一种：

；

所述基质聚合物采用环氧树脂时，基质聚合物单元选自如下M-23至M-24中的一种：

。

2.根据权利要求1所述的提高全息材料折射率差的方法，其特征在于，当所述基质聚合物为聚氨酯时，所述带有反应基团Rx的组分还选自如下M-9至M-22中的一种：

。

3.根据权利要求1所述的提高全息材料折射率差的方法，其特征在于，所述基质聚合物采用环氧树脂时，所述基质聚合物单元还采用：

。

4.一种光致聚合物组合物，所述光致聚合物组合物的组分包括基质聚合物单元、丙烯酸酯书写单体、光引发剂、溶剂、消泡剂、增塑剂、催化剂，其特征在于，各组分的用量如下：

丙烯酸酯书写单体：15-50份

基质聚合物单元：10-50份

光引发剂：0.1-3份

催化剂：0.01-1份

溶剂：3-20份

消泡剂：0.01-0.2份

增塑剂：5-10份

其中，基质聚合物单元采用权利要求1-3任意一项所述方法中的所述基质聚合物单元。

5.根据权利要4所述的光致聚合物组合物，其特征在于，基质聚合物单元中还选自带有双键基团的二聚醇/二聚酸/二聚胺化合物。

6.一种全息光栅，其特征在于，所述全息光栅由权利要求4或者5中任意一项所述的光致聚合物组合物曝光而成。