CN118063096A - 一种珍珠釉料、具有珍珠光泽的釉面砖及其制备方法 - Google Patents
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- 239000002932 luster Substances 0.000 title claims abstract description 39
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 title claims abstract description 33
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N silicon dioxide Inorganic materials O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 89
- XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N Zinc monoxide Chemical compound [Zn]=O XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 86
- 239000002002 slurry Substances 0.000 claims description 58
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims description 44
- 239000011449 brick Substances 0.000 claims description 43
- 239000011787 zinc oxide Substances 0.000 claims description 43
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 41
- KKCBUQHMOMHUOY-UHFFFAOYSA-N Na2O Inorganic materials [O-2].[Na+].[Na+] KKCBUQHMOMHUOY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 38
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims description 36
- AYJRCSIUFZENHW-UHFFFAOYSA-L barium carbonate Chemical compound [Ba+2].[O-]C([O-])=O AYJRCSIUFZENHW-UHFFFAOYSA-L 0.000 claims description 35
- 229910052681 coesite Inorganic materials 0.000 claims description 35
- 229910052593 corundum Inorganic materials 0.000 claims description 35
- 229910052906 cristobalite Inorganic materials 0.000 claims description 35
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 claims description 35
- 229910052682 stishovite Inorganic materials 0.000 claims description 35
- 229910052905 tridymite Inorganic materials 0.000 claims description 35
- 229910001845 yogo sapphire Inorganic materials 0.000 claims description 35
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 claims description 33
- 239000000395 magnesium oxide Substances 0.000 claims description 28
- OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N Phosphorus Chemical compound [P] OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 27
- ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N Boron Chemical compound [B] ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 25
- 229910052796 boron Inorganic materials 0.000 claims description 25
- 238000010304 firing Methods 0.000 claims description 22
- 239000011574 phosphorus Substances 0.000 claims description 21
- 229910052698 phosphorus Inorganic materials 0.000 claims description 21
- OYPRJOBELJOOCE-UHFFFAOYSA-N Calcium Chemical compound [Ca] OYPRJOBELJOOCE-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 19
- FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N Magnesium Chemical compound [Mg] FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 19
- 239000011575 calcium Substances 0.000 claims description 19
- 229910052791 calcium Inorganic materials 0.000 claims description 19
- 239000011777 magnesium Substances 0.000 claims description 19
- 229910052749 magnesium Inorganic materials 0.000 claims description 19
- 239000010453 quartz Substances 0.000 claims description 19
- 239000002994 raw material Substances 0.000 claims description 19
- 239000005995 Aluminium silicate Substances 0.000 claims description 17
- 235000012211 aluminium silicate Nutrition 0.000 claims description 17
- NLYAJNPCOHFWQQ-UHFFFAOYSA-N kaolin Chemical compound O.O.O=[Al]O[Si](=O)O[Si](=O)O[Al]=O NLYAJNPCOHFWQQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 17
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 16
- 230000005484 gravity Effects 0.000 claims description 14
- 239000011734 sodium Substances 0.000 claims description 13
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 claims description 13
- DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M Ilexoside XXIX Chemical compound C[C@@H]1CC[C@@]2(CC[C@@]3(C(=CC[C@H]4[C@]3(CC[C@@H]5[C@@]4(CC[C@@H](C5(C)C)OS(=O)(=O)[O-])C)C)[C@@H]2[C@]1(C)O)C)C(=O)O[C@H]6[C@@H]([C@H]([C@@H]([C@H](O6)CO)O)O)O.[Na+] DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M 0.000 claims description 12
- 238000007639 printing Methods 0.000 claims description 10
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 9
- 238000000498 ball milling Methods 0.000 claims description 8
- 229920000609 methyl cellulose Polymers 0.000 claims description 8
- 239000001923 methylcellulose Substances 0.000 claims description 8
- 235000010981 methylcellulose Nutrition 0.000 claims description 8
- 238000003825 pressing Methods 0.000 claims description 8
- 235000019832 sodium triphosphate Nutrition 0.000 claims description 8
- 229910052656 albite Inorganic materials 0.000 claims description 7
- DLHONNLASJQAHX-UHFFFAOYSA-N aluminum;potassium;oxygen(2-);silicon(4+) Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Si+4].[Si+4].[Si+4].[K+] DLHONNLASJQAHX-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 7
- 239000010427 ball clay Substances 0.000 claims description 5
- 238000001354 calcination Methods 0.000 claims description 5
- 229910052664 nepheline Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 239000010434 nepheline Substances 0.000 claims description 5
- 239000000843 powder Substances 0.000 claims description 5
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 4
- 238000000465 moulding Methods 0.000 claims description 2
- 230000007480 spreading Effects 0.000 claims description 2
- 238000003892 spreading Methods 0.000 claims description 2
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims 2
- 239000011049 pearl Substances 0.000 description 110
- CHWRSCGUEQEHOH-UHFFFAOYSA-N potassium oxide Chemical compound [O-2].[K+].[K+] CHWRSCGUEQEHOH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 32
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 29
- QVQLCTNNEUAWMS-UHFFFAOYSA-N barium oxide Chemical compound [Ba]=O QVQLCTNNEUAWMS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 27
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 27
- CPLXHLVBOLITMK-UHFFFAOYSA-N magnesium oxide Inorganic materials [Mg]=O CPLXHLVBOLITMK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 25
- 239000000292 calcium oxide Substances 0.000 description 24
- ODINCKMPIJJUCX-UHFFFAOYSA-N calcium oxide Inorganic materials [Ca]=O ODINCKMPIJJUCX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 24
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 21
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 16
- OBNDGIHQAIXEAO-UHFFFAOYSA-N [O].[Si] Chemical compound [O].[Si] OBNDGIHQAIXEAO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 230000035807 sensation Effects 0.000 description 6
- 238000005245 sintering Methods 0.000 description 6
- 235000013350 formula milk Nutrition 0.000 description 5
- 238000009472 formulation Methods 0.000 description 5
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 4
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 4
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 4
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 4
- 238000011049 filling Methods 0.000 description 4
- 230000006872 improvement Effects 0.000 description 4
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 4
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 4
- 238000005303 weighing Methods 0.000 description 4
- GDFCWFBWQUEQIJ-UHFFFAOYSA-N [B].[P] Chemical compound [B].[P] GDFCWFBWQUEQIJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052661 anorthite Inorganic materials 0.000 description 3
- 230000009286 beneficial effect Effects 0.000 description 3
- 238000002425 crystallisation Methods 0.000 description 3
- 230000008025 crystallization Effects 0.000 description 3
- GWWPLLOVYSCJIO-UHFFFAOYSA-N dialuminum;calcium;disilicate Chemical compound [Al+3].[Al+3].[Ca+2].[O-][Si]([O-])([O-])[O-].[O-][Si]([O-])([O-])[O-] GWWPLLOVYSCJIO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 3
- 239000011050 natural pearl Substances 0.000 description 3
- 229910001950 potassium oxide Inorganic materials 0.000 description 3
- 235000020610 powder formula Nutrition 0.000 description 3
- 230000008569 process Effects 0.000 description 3
- 229910001948 sodium oxide Inorganic materials 0.000 description 3
- VTYYLEPIZMXCLO-UHFFFAOYSA-L Calcium carbonate Chemical compound [Ca+2].[O-]C([O-])=O VTYYLEPIZMXCLO-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M Potassium hydroxide Chemical compound [OH-].[K+] KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 2
- 239000010977 jade Substances 0.000 description 2
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 2
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 2
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 2
- 239000011148 porous material Substances 0.000 description 2
- 229940072033 potash Drugs 0.000 description 2
- BWHMMNNQKKPAPP-UHFFFAOYSA-L potassium carbonate Substances [K+].[K+].[O-]C([O-])=O BWHMMNNQKKPAPP-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 235000015320 potassium carbonate Nutrition 0.000 description 2
- 230000036548 skin texture Effects 0.000 description 2
- 239000004575 stone Substances 0.000 description 2
- IATRAKWUXMZMIY-UHFFFAOYSA-N strontium oxide Chemical compound [O-2].[Sr+2] IATRAKWUXMZMIY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N Potassium Chemical compound [K] ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000002441 X-ray diffraction Methods 0.000 description 1
- ZQBZAOZWBKABNC-UHFFFAOYSA-N [P].[Ca] Chemical compound [P].[Ca] ZQBZAOZWBKABNC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005299 abrasion Methods 0.000 description 1
- 230000009471 action Effects 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 229910000019 calcium carbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- BRPQOXSCLDDYGP-UHFFFAOYSA-N calcium oxide Chemical compound [O-2].[Ca+2] BRPQOXSCLDDYGP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001597 celsian Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 1
- 239000003086 colorant Substances 0.000 description 1
- 239000000470 constituent Substances 0.000 description 1
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 1
- 230000004907 flux Effects 0.000 description 1
- AXZKOIWUVFPNLO-UHFFFAOYSA-N magnesium;oxygen(2-) Chemical compound [O-2].[Mg+2] AXZKOIWUVFPNLO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004579 marble Substances 0.000 description 1
- 238000001579 optical reflectometry Methods 0.000 description 1
- BITYAPCSNKJESK-UHFFFAOYSA-N potassiosodium Chemical compound [Na].[K] BITYAPCSNKJESK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011591 potassium Substances 0.000 description 1
- 229910052700 potassium Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000002028 premature Effects 0.000 description 1
- 238000002310 reflectometry Methods 0.000 description 1
- 238000007789 sealing Methods 0.000 description 1
- 238000006467 substitution reaction Methods 0.000 description 1
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-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C8/00—Enamels; Glazes; Fusion seal compositions being frit compositions having non-frit additions
- C03C8/14—Glass frit mixtures having non-frit additions, e.g. opacifiers, colorants, mill-additions
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C8/00—Enamels; Glazes; Fusion seal compositions being frit compositions having non-frit additions
- C03C8/02—Frit compositions, i.e. in a powdered or comminuted form
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C8/00—Enamels; Glazes; Fusion seal compositions being frit compositions having non-frit additions
- C03C8/02—Frit compositions, i.e. in a powdered or comminuted form
- C03C8/08—Frit compositions, i.e. in a powdered or comminuted form containing phosphorus
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
- C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
- C04B41/00—After-treatment of mortars, concrete, artificial stone or ceramics; Treatment of natural stone
- C04B41/45—Coating or impregnating, e.g. injection in masonry, partial coating of green or fired ceramics, organic coating compositions for adhering together two concrete elements
- C04B41/52—Multiple coating or impregnating multiple coating or impregnating with the same composition or with compositions only differing in the concentration of the constituents, is classified as single coating or impregnation
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
- C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
- C04B41/00—After-treatment of mortars, concrete, artificial stone or ceramics; Treatment of natural stone
- C04B41/80—After-treatment of mortars, concrete, artificial stone or ceramics; Treatment of natural stone of only ceramics
- C04B41/81—Coating or impregnation
- C04B41/89—Coating or impregnation for obtaining at least two superposed coatings having different compositions
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- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
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- Y02P40/00—Technologies relating to the processing of minerals
- Y02P40/60—Production of ceramic materials or ceramic elements, e.g. substitution of clay or shale by alternative raw materials, e.g. ashes
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- Chemical & Material Sciences (AREA)
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- Materials Engineering (AREA)
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- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
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- Structural Engineering (AREA)
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Abstract
本发明涉及亚光类釉面砖的技术领域,公开了一种珍珠釉料、具有珍珠光泽的釉面砖及其制备方法,珍珠釉料包括含钙熔块、含磷熔块、含硼熔块、含镁熔块、煅烧氧化锌、碳酸钡、煅烧高岭土和石英,其通过形成类似天然珍珠主要成分的晶体,再形成具有温润质感的硼磷玻璃相,并使硼磷玻璃相填充于各晶体之间,类似于天然珍珠中的有机物填充于钙晶体中间所形成的珍珠质感,使得釉面砖的釉面光感连续、细腻,没有亮哑斑驳噪点,而且具有更高的硬度、耐磨度,以及更强的填孔能力,耐脏污性能,能够大大提升肌肤质感类产品的使用性能。
Description
技术领域
本发明涉及亚光类釉面砖的技术领域,特别涉及一种珍珠釉料、具有珍珠光泽的釉面砖及其制备方法。
背景技术
目前细腻平顺的釉面主要分为肌肤釉类、臻石釉、细滑釉、玉质釉等。现有技术中细腻釉面主要通过改变釉料配方,增加施釉厚度,调整釉料中玻璃相的含量而达到细腻平顺的釉面效果。而通过调整釉料配方的方法中,其采用加入多价氧化物,调整合适的釉料熔融度和高温粘度,使釉面达到较好的细腻度,如类似肌肤质感的釉面产品,主要通过釉料配方中的多种氧化物进行析晶形成亚光及细腻釉面质感,在目前烧成速度较快的前提下,如需要形成细腻的质感,则需要增加玻璃相的量,目前常规釉料主要运用氧化钾、氧化钠、氧化锌、氧化锶、氧化钡,多元氧化物在烧成时形成多种晶体,填充于氧化钾、氧化钠和石英形成的玻璃相中,而由氧化钾、氧化钠和石英形成的玻璃相具有较高的反射率,表现为较高的亮度,其他类晶体对光线形成的漫反射具有亚光光泽,如此所形成的釉面亮哑两种晶体容易出现反差,从而形成釉面的斑驳质感,即光泽度不均匀、晶体呈片状影响釉面美感等问题,同时常规玻璃相容易造成釉面的耐磨度偏低,影响产品的使用性能。
可见,现有技术还有待改进和提高。
发明内容
鉴于上述现有技术的不足之处,本发明的目的在于提供一种珍珠釉料、具有珍珠光泽的釉面砖及其制备方法,旨在使釉面砖具有珍珠光泽和温润质感,同时提升釉面砖的耐磨度。
为了达到上述目的,本发明采取了以下技术方案:
一种珍珠釉料,按重量份计算包括如下组分:含钙熔块:14~20份、含磷熔块:9~16份、含硼熔块:10~17份、含镁熔块:2~5份、煅烧氧化锌:5~10份、碳酸钡:8~12份、煅烧高岭土:18~25份和石英:12~18份;
其中,按质量百分比计算,所述含钙熔块的化学构成如下:Al2O3:14.58~18.94%、SiO2:56.34~60.65%、K2O:3.65~4.56%、Na2O:2.35~3.58%、CaO:15.62~17.50%,余量为灼减;
按质量百分比计算,所述含磷熔块的化学构成如下:Al2O3:15.65~17.45%、SiO2:55.24~59.68%、K2O:2.45~5.04%、Na2O:2.34~4.01%、P2O5:14.28~17.54%,余量为灼减;
按质量百分比计算,所述含硼熔块的化学构成如下:Al2O3:13.65~16.25%、SiO2:54.38~59.65%、K2O:2.31~3.25%、Na2O:2.20~3.24%、B2O3:16.58~19.54%,余量为灼减;
按质量百分比计算,所述含镁熔块的化学构成如下:Al2O3:13.45~15.64%、SiO2:55.24~58.67%、K2O:2.14~3.15%、Na2O:1.85~2.35%、MgO:14.87~18.54%,余量为灼减。
所述的珍珠釉料,其中,按质量百分比计算,所述珍珠釉料的化学构成如下:Al2O3:15.62~19.56%、SiO2:50.14~55.14%、K2O:2.11~3.05%、Na2O:1.85~2.31%、CaO:3.15~4.68%、P2O5:2.13~3.25%、B2O3:2.54~3.65%、MgO:1.02~1.85%、ZnO:4.56~8.45%、BaO:4.89~8.24%,余量为灼减。
一种具有珍珠光泽的釉面砖的制备方法,包括如下步骤:
S1、压制砖坯,形成砖坯层;
S2、布施底釉:在砖坯层上布施底釉浆料,形成底釉层;
S3、图案打印:在底釉层上进行图案的打印,形成图案层;
S4、布施保护釉:在图案层上布施保护釉浆料,所述保护釉浆料为所述的珍珠釉料制成的浆料,形成保护釉层;
S5、布施珍珠釉料:在保护釉层上布施所述的珍珠釉料制成的珍珠釉浆料,形成珍珠釉层;
S6、烧制成型,制得具有珍珠光泽的釉面砖。
所述的具有珍珠光泽的釉面砖的制备方法,其中,按重量份计算,所述底釉包括如下组分:煅烧高岭土:18~25份、球粘土:5~8份、煅烧氧化铝:3~7份、石英:10~16份、钾长石:12.5~17.5份、钠长石:10~16份、碳酸钡:5~9份、氧化锌4~8份和霞石粉:10~16份。
所述的具有珍珠光泽的釉面砖的制备方法,其中,按质量百分比计算,所述底釉的化学构成如下:Al2O3:21.32~25.14%、SiO2:54.21~58.67%、K2O:3.21~4.56%、Na2O:2.14~3.58%、CaO:0.55~0.89%、MgO:1.02~1.57%、ZnO:3.64~7.54%、BaO:3.98~6.76%,余量为灼减。
所述的具有珍珠光泽的釉面砖的制备方法,其中,步骤S2中,将底釉的各原料按配比混合均匀后,向其加入占总重量38~42%的水、占总重量0.12~0.16%的甲基纤维素钠、占总重量0.2~0.35%的三聚磷酸钠,经过球磨后制得底釉浆料,底釉浆料的细度为325目筛网筛余量为0.8~1.0%;底釉浆料的流速为33~38s/100ml,比重为1.85~1.90g/ml,施釉量为430~450g/m3。
所述的具有珍珠光泽的釉面砖的制备方法,其中,步骤S5中,将珍珠釉料的各原料按配比混合均匀后,向其加入占总重量38~42%的水、占总重量0.12~0.16%的甲基纤维素钠、占总重量0.2~0.35%的三聚磷酸钠,经过球磨后制得珍珠釉浆料,珍珠釉浆料的细度为325目筛网筛余量为0.3~0.5%;珍珠釉浆料的流速为33~38s/100ml,比重为1.85~1.90g/ml,施釉量为430~450g/m3。
所述的具有珍珠光泽的釉面砖的制备方法,其中,步骤S4中,向配制好的珍珠釉浆料中加水调节比重至1.15~1.20g/ml,制得保护釉浆料;保护釉浆料的施釉量为90~120g/m3。
所述的具有珍珠光泽的釉面砖的制备方法,其中,所述步骤S6中烧制成型的温度为1180~1190℃,时间为50~60min。
一种具有珍珠光泽的釉面砖,由所述的具有珍珠光泽的釉面砖的制备方法制得,其包括从下至上依次设置的砖坯层、底釉层、图案层、保护釉层和珍珠釉层。
本发明的有益效果是:本发明提供了一种珍珠釉料、具有珍珠光泽的釉面砖及其制备方法,通过调整珍珠釉料的配方,引入氧化钙、氧化镁、氧化锌、氧化钡等氧化物形成微细晶体的同时,引入含磷熔块和含硼熔块,硼和磷在烧成时结合硅氧四面体,所形成的玻璃相相对于常规钾钠玻璃相,具有较低的光线反射率,同其它二价氧化物形成的晶体形成均匀一致的光泽度,釉面光感连续、细腻,没有斑驳点状的亮哑反差;同时所形成的玻璃相具有更加温润的质感,其填充于釉层的其它晶体之间,类似于天然珍珠中的有机物填充于钙晶体中间所形成的珍珠质感;此外,磷和硼所形成的玻璃相相对于钾钠玻璃相而言,具有更高的硬度,使产品更加耐磨;还具有更高的填孔能力,在底釉排气后所形成的缝隙及凹陷能被充分填平,能够大大提升肌肤质感类产品的使用性能。
附图说明
图1为实施例1中珍珠釉料的XRD分析图。
图2为实施例1制备的釉面砖的示意图。
图3为对比例1制备的釉面砖的示意图。
具体实施方式
本发明提供一种珍珠釉料、具有珍珠光泽的釉面砖及其制备方法,为使本发明的目的、技术方案及效果更加清楚、明确,以下参照附图并举实施例对本发明进一步详细说明。应当理解,此处所描述的具体实施例仅用以解释本发明,并不用于限定本发明的保护范围。
本发明提供一种珍珠釉料,按重量份计算包括如下组分:含钙熔块:14~20份、含磷熔块:9~16份、含硼熔块:10~17份、含镁熔块:2~5份、煅烧氧化锌:5~10份、碳酸钡:8~12份、煅烧高岭土:18~25份和石英:12~18份;
其中,按质量百分比计算,所述含钙熔块的化学构成如下:Al2O3:14.58~18.94%、SiO2:56.34~60.65%、K2O:3.65~4.56%、Na2O:2.35~3.58%、CaO:15.62~17.50%,余量为灼减;
按质量百分比计算,所述含磷熔块的化学构成如下:Al2O3:15.65~17.45%、SiO2:55.24~59.68%、K2O:2.45~5.04%、Na2O:2.34~4.01%、P2O5:14.28~17.54%,余量为灼减;
按质量百分比计算,所述含硼熔块的化学构成如下:Al2O3:13.65~16.25%、SiO2:54.38~59.65%、K2O:2.31~3.25%、Na2O:2.20~3.24%、B2O3:16.58~19.54%,余量为灼减;
按质量百分比计算,所述含镁熔块的化学构成如下:Al2O3:13.45~15.64%、SiO2:55.24~58.67%、K2O:2.14~3.15%、Na2O:1.85~2.35%、MgO:14.87~18.54%,余量为灼减。
具体的,将上述原料混合后,按质量百分比计算,所述珍珠釉料的化学构成如下:Al2O3:15.62~19.56%、SiO2:50.14~55.14%、K2O:2.11~3.05%、Na2O:1.85~2.31%、CaO:3.15~4.68%、P2O5:2.13~3.25%、B2O3:2.54~3.65%、MgO:1.02~1.85%、ZnO:4.56~8.45%、BaO:4.89~8.24%,余量为灼减。
天然珍珠中,其主要成分为碳酸钙、少量镁、磷等物质,另有部分有机物夹杂于无机物中间是珍珠具有温润质感的关键,本发明主要通过调整珍珠釉料的配方,形成类似珍珠主要成分的晶体,再形成具有类似有机物温润质感的温润玻璃相填充于晶体之间,从而形成的釉面具有珍珠般的质感效果。
上述含钙熔块的应用,主要用于形成钙长石晶体,而且钙长石晶体产生的漫反射形成的光泽在珍珠釉形成的主体光泽的低光范围内。含磷熔块和含硼熔块的应用,用于降低烧成后釉面的硬质感,形成的硼磷玻璃相具有细腻温润的质感,同时硼磷玻璃相还具有较强的填孔能力,能轻易地填充于钙长石晶体之间和底釉排气后形成的凹坑及缝隙之中,所形成的硼磷玻璃相相对于常规的钾钠玻璃相,具有较小的反光度,可使得釉层的光感更加连续,从而解决常规肌肤釉具有亮哑斑点,即釉面斑驳的问题。
此外,从图1可知,煅烧氧化锌具有较强的助熔作用,其能促使各类晶体的形成。碳酸钡形成的钡长石晶体具有层状结构,可使得釉层具有平顺的质感。石英和煅烧高岭土的添加,主要用于提供Al2O3和SiO2,二者是釉层的主要构成。含镁熔块的添加,主要用于提供MgO,其所形成的晶体具有平顺细腻的质感。珍珠釉料的成分决定了其在烧成后能够形成均匀细小的晶体,在晶体之间填充的玻璃相不仅只是石英形成的硅氧四面体,由于磷和硼的存在,使得玻璃相在具有温润质感的同时,没有增加晶体之间玻璃相的亮度,如此,珍珠釉的光感可更加连续、细腻,不会因为形成小亮点而影响产品的质感,使釉面质感更加接近珍珠光泽及温润质感。同时,由硼和磷结合硅氧四面体所形成的玻璃相相对于钾钠结合硅氧四面体所形成的玻璃相相比,硬度更高,从而可使珍珠釉层不仅具有细腻质感,均匀光泽,无亮哑噪点,同时还具有较优的耐磨性能。
本发明还提供了一种具有珍珠光泽的釉面砖的制备方法,包括如下步骤:
(1)压制砖坯:运行常规坯体粉料配方,压制所需规格尺寸的砖坯,形成砖坯层。
(2)砖坯经过干燥排水,使砖坯的含水率控制在0.3~0.5%之间,通过干燥以增加坯体的强度,并控制坯体的强度在1.8~2.5MPa的范围内,保证坯体有足够的强度进行后续的施釉。
(3)配制底釉:按以下重量份称取底釉的各原料:煅烧高岭土:18~25份、球粘土:5~8份、煅烧氧化铝:3~7份、石英:10~16份、钾长石:12.5~17.5份、钠长石:10~16份、碳酸钡:5~9份、氧化锌4~8份和霞石粉:10~16份。将上述各原料按上述配比混合均匀后,向其加入占总重量38~42%的水、占总重量0.12~0.16%的甲基纤维素钠、占总重量0.2~0.35%的三聚磷酸钠,经过球磨后制得底釉浆料,底釉浆料的细度为325目筛网筛余量为0.8~1.0%。具体的,按质量百分比计算,所述底釉的化学构成如下:Al2O3:21.32~25.14%、SiO2:54.21~58.67%、K2O:3.21~4.56%、Na2O:2.14~3.58%、CaO:0.55~0.89%、MgO:1.02~1.57%、ZnO:3.64~7.54%、BaO:3.98~6.76%,余量为灼减。
上述底釉相对于常规底釉增加了氧化锌和碳酸钡的应用,其可拓宽釉料的烧成范围。煅烧氧化铝和煅烧高岭土的应用,可提高釉料的始熔温度,避免釉料的过早熔融封闭,有利于烧成过程中的排气,底釉层中无气泡的存在有利于增加釉层的细腻度和致密度。同时底釉提供的氧化锌和氧化钡在高温烧成区具有明显降低釉料高温粘度的作用,在烧成时气体排出后,具有较低高温粘度、较大流动性的釉料能及时填充排气后所形成的缝隙,从而使底釉釉层在烧成冷却后更加平整细腻,有利于提升釉面的耐污性能。
(4)布施底釉:干燥好后的砖坯进入施釉设备,并控制底釉浆料的流速为33~38s/100ml,比重为1.85~1.90g/ml,施釉量为430~450g/m3,通过施釉设备在砖坯层上布施底釉浆料,形成底釉层。
(5)图案打印:施淋好底釉浆料的砖坯进入打印机进行图案打印,形成图案层。根据本工艺特点,选择素色细腻图案进行匹配,较为常用的图案为微石纹、大理石纹、玉石等。
(6)配制珍珠釉料:按上述重量份称取珍珠釉料的各原料,将各原料混合均匀后,向其加入占总重量38~42%的水、占总重量0.12~0.16%的甲基纤维素钠、占总重量0.2~0.35%的三聚磷酸钠,经过湿法球磨后制得珍珠釉浆料,珍珠釉浆料的细度为325目筛网筛余量为0.3~0.5%。珍珠釉浆料的流速为33~38s/100ml,比重为1.85~1.90g/ml。
(7)布施保护釉:打印图案后的砖坯进入喷保护釉设备中进行喷釉,形成保护釉层,该保护釉采用步骤(6)中的珍珠釉浆料加水调节比重至1.15~1.20g/ml,施釉量为90~120g/m3。采用与珍珠釉料的成分构成相同的釉浆作为保护釉,主要目的在于润湿砖坯的表面,避免在后续施淋珍珠釉浆料时釉面产生针孔、缩釉等缺陷。
(8)布施珍珠釉料:经喷施保护釉后的砖坯进入淋釉设备中进行施淋珍珠釉浆料,其施釉量为430~450g/m3,形成珍珠釉层。
(9)烧制成型:经过施淋珍珠釉浆料后的产品进入辊道窑中进行烧制,烧成条件的温度为1180~1190℃,时间为50~60min,烧成后制得具有珍珠光泽的釉面砖。
本发明还提供了一种具有珍珠光泽的釉面砖,其包括从下至上依次设置的砖坯层、底釉层、图案层、保护釉层和珍珠釉层。
为了进一步说明本发明提供的一种珍珠釉料、具有珍珠光泽的釉面砖及其制备方法,提供如下实施例。
实施例1:一种具有珍珠光泽的釉面砖的制备方法,包括如下步骤:
(1)压制砖坯:运行常规坯体粉料配方,压制所需规格尺寸的砖坯,形成砖坯层。
(2)砖坯经过干燥排水,使砖坯的含水率控制在0.4%,并控制坯体的强度在2.0MPa。
(3)配制底釉:按以下重量份称取底釉的各原料:煅烧高岭土:21.5份、球粘土:6.5份、煅烧氧化铝:5份、石英:13份、钾长石:15份、钠长石:13份、碳酸钡:7份、氧化锌6份和霞石粉:13份。将上述各原料按上述配比混合均匀后,向其加入占总重量40%的水、占总重量0.15%的甲基纤维素钠、占总重量0.35%的三聚磷酸钠,经过球磨后制得底釉浆料,底釉浆料的细度为325目筛网筛余量为0.8%。具体的,按质量百分比计算,所述底釉的化学构成如下:Al2O3:23.23%、SiO2:56.44%、K2O:3.88%、Na2O:2.86%、CaO:0.72%、MgO:1.29%、ZnO:5.59%、BaO:5.37%,余量为灼减。
(4)布施底釉:干燥好后的砖坯进入施釉设备,并控制底釉浆料的流速为35s/100ml,比重为1.88g/ml,施釉量为440g/m3,通过施釉设备在砖坯层上布施底釉浆料,形成底釉层。
(5)图案打印:施淋好底釉浆料的砖坯进入打印机进行图案打印,形成图案层。
(6)配制珍珠釉料:按重量份计算包括如下组分:含钙熔块:17份、含磷熔块:12.5份、含硼熔块:13.5份、含镁熔块:3.5份、煅烧氧化锌:7.5份、碳酸钡:10份、煅烧高岭土:21.5份和石英:15份;按上述重量份称取珍珠釉料的各原料,将各原料混合均匀后,向其加入占总重量40%的水、占总重量0.15%的甲基纤维素钠、占总重量0.30%的三聚磷酸钠,经过湿法球磨后制得珍珠釉浆料,珍珠釉浆料的细度为325目筛网筛余量为0.4%。按质量百分比计算,所述珍珠釉料的化学构成如下:Al2O3:17.59%、SiO2:52.64%、K2O:2.58%、Na2O:2.08%、CaO:3.91%、P2O5:2.69%、B2O3:3.09%、MgO:1.43%、ZnO:6.50%、BaO:6.56%,余量为灼减。珍珠釉浆料的流速为35s/100ml,比重为1.87g/ml。
(7)布施保护釉:打印图案后的砖坯进入喷保护釉设备中进行喷釉,形成保护釉层,该保护釉采用步骤(6)中的珍珠釉浆料加水调节比重至1.18g/ml,施釉量为105g/m3。
(8)布施珍珠釉料:经喷施保护釉后的砖坯进入淋釉设备中进行施淋珍珠釉浆料,其施釉量为440g/m3,形成珍珠釉层。
(9)烧制成型:经过施淋珍珠釉浆料后的产品进入辊道窑中进行烧制,烧成条件的温度为1185℃,时间为55min,烧成后制得具有珍珠光泽的釉面砖。
实施例2:一种具有珍珠光泽的釉面砖的制备方法,包括如下步骤:
(1)压制砖坯:运行常规坯体粉料配方,压制所需规格尺寸的砖坯,形成砖坯层。
(2)砖坯经过干燥排水,使砖坯的含水率控制在0.3%,并控制坯体的强度在2.5MPa。
(3)底釉配方和施釉过程同实施例1。
(4)图案打印:施淋好底釉浆料的砖坯进入打印机进行图案打印,形成图案层。
(6)配制珍珠釉料:与实施例1的组分构成基本相同,不同之处在于:含钙熔块:19份、含磷熔块:9份、含镁熔块:5份,其余组分的添加量不变;各原料经过湿法球磨后制得珍珠釉浆料,珍珠釉浆料的细度为325目筛网筛余量为0.3%。按质量百分比计算,所述珍珠釉料的化学构成如下:Al2O3:17.65%、SiO2:52.31%、K2O:2.44%、Na2O:2.01%、CaO:4.61%、P2O5:2.15%、B2O3:3.05%、MgO:1.80%、ZnO:5.85%、BaO:6.24%,余量为灼减。珍珠釉浆料的流速为35s/100ml,比重为1.87g/ml。
(7)布施保护釉:打印图案后的砖坯进入喷保护釉设备中进行喷釉,形成保护釉层,该保护釉采用步骤(6)中的珍珠釉浆料加水调节比重至1.20g/ml,施釉量为95g/m3。
(8)布施珍珠釉料:经喷施保护釉后的砖坯进入淋釉设备中进行施淋珍珠釉浆料,其施釉量为450g/m3,形成珍珠釉层。
(9)烧制成型:经过施淋珍珠釉浆料后的产品进入辊道窑中进行烧制,烧成条件的温度为1180℃,时间为60min,烧成后制得具有珍珠光泽的釉面砖。
实施例3:实施例3的制备方法与实施例1的制备方法相同,不同之处主要在于珍珠釉料不同,实施例3珍珠釉料的不同之处在于:含钙熔块:15份、含磷熔块:16份、含镁熔块:2份,其余组分的添加量不变。按质量百分比计算,所述珍珠釉料的化学构成如下:Al2O3:17.65%、SiO2:52.31%、K2O:2.44%、Na2O:2.01%、CaO:4.61%、P2O5:3.21%、B2O3:3.05%、MgO:1.05%、ZnO:5.85%、BaO:6.24%,余量为灼减。
实施例4:实施例4的制备方法与实施例1的制备方法相同,不同之处主要在于珍珠釉料不同,实施例4珍珠釉料的不同之处在于:含钙熔块:19份、含硼熔块:10份、含镁熔块:5份,其余组分的添加量不变。按质量百分比计算,所述珍珠釉料的化学构成如下:Al2O3:17.65%、SiO2:52.31%、K2O:2.44%、Na2O:2.01%、CaO:4.51%、P2O5:3.21%、B2O3:2.56%、MgO:1.75%、ZnO:5.85%、BaO:6.24%,余量为灼减。
实施例5:实施例5的制备方法与实施例1的制备方法相同,不同之处主要在于珍珠釉料不同,实施例5珍珠釉料的不同之处在于:含钙熔块:15份、含硼熔块:17份、含镁熔块:2份,其余组分的添加量不变。按质量百分比计算,所述珍珠釉料的化学构成如下:Al2O3:17.65%、SiO2:52.31%、K2O:2.44%、Na2O:2.01%、CaO:3.41%、P2O5:3.21%、B2O3:3.56%、MgO:1.15%、ZnO:5.85%、BaO:6.24%,余量为灼减。
实施例6:实施例6的制备方法与实施例1的制备方法相同,不同之处在于底釉配方的不同,实施例6底釉的不同之处在于:氧化锌的添加量减少至4份,钠长石的添加量增加至15份,其余组分的添加量不变。按质量百分比计算,所述底釉的化学构成如下:Al2O3:23.23%、SiO2:56.44%、K2O:3.88%、Na2O:3.46%、CaO:0.72%、MgO:1.29%、ZnO:3.65%、BaO:5.37%,余量为灼减。
实施例7:实施例7的制备方法与实施例1的制备方法相同,不同之处在于底釉配方的不同,实施例7底釉的不同之处在于:氧化锌的添加量增加至8份,钠长石的添加量减少至11份,其余组分的添加量不变。按质量百分比计算,所述底釉的化学构成如下:Al2O3:23.23%、SiO2:54.44%、K2O:3.88%、Na2O:2.85%、CaO:0.72%、MgO:1.29%、ZnO:7.50%、BaO:5.37%,余量为灼减。
实施例8:实施例8的制备方法与实施例1的制备方法相同,不同之处在于底釉配方的不同,实施例8底釉的不同之处在于:碳酸钡的添加量减少至5份,钾长石的添加量增加至17份,其余组分的添加量不变。按质量百分比计算,所述底釉的化学构成如下:Al2O3:23.23%、SiO2:55.44%、K2O:4.54%、Na2O:2.85%、CaO:0.72%、MgO:1.29%、ZnO:7.50%、BaO:3.99%,余量为灼减。
实施例9:实施例9的制备方法与实施例1的制备方法相同,不同之处在于底釉配方的不同,实施例9底釉的不同之处在于:碳酸钡的添加量增加至9份,钾长石的添加量减少至13份,其余组分的添加量不变。按质量百分比计算,所述底釉的化学构成如下:Al2O3:23.23%、SiO2:55.48%、K2O:3.28%、Na2O:2.85%、CaO:0.72%、MgO:1.29%、ZnO:7.50%、BaO:5.77%,余量为灼减。
对比例1:对比例1的制备方法与实施例1的制备方法相同,不同之处在于珍珠釉料不同,具体为:含钙熔块:20份、含硼熔块:13.5份、含镁熔块:3.5份、煅烧氧化锌:9.5份、碳酸钡:11份、煅烧高岭土:25份和石英:18份。按质量百分比计算,所述珍珠釉料的化学构成如下:Al2O3:18.59%、SiO2:53.64%、K2O:2.58%、Na2O:2.08%、CaO:3.91%、B2O3:3.09%、MgO:1.43%、ZnO:6.50%、BaO:6.56%,余量为灼减。
对比例2:对比例2的制备方法与实施例1的制备方法相同,不同之处在于珍珠釉料不同,具体为:含钙熔块:18份、含磷熔块:8份、含硼熔块:13.5份、含镁熔块:3.5份、煅烧氧化锌:8.5份、碳酸钡:10份、煅烧高岭土:21.5份和石英:15份。按质量百分比计算,所述珍珠釉料的化学构成如下:Al2O3:17.59%、SiO2:53.64%、K2O:2.58%、Na2O:2.08%、CaO:3.91%、P2O5:1.19%、B2O3:3.09%、MgO:1.43%、ZnO:6.50%、BaO:6.56%,余量为灼减。
对比例3:对比例3的制备方法与实施例1的制备方法相同,不同之处在于珍珠釉料不同,具体为:含钙熔块:14份、含磷熔块:18份、含硼熔块:13.5份、含镁熔块:3.5份、煅烧氧化锌:6.5份、碳酸钡:8份、煅烧高岭土:21.5份和石英:15份。按质量百分比计算,所述珍珠釉料的化学构成如下:Al2O3:17.59%、SiO2:50.64%、K2O:2.58%、Na2O:2.08%、CaO:3.91%、P2O5:4.35%、B2O3:3.09%、MgO:1.43%、ZnO:6.50%、BaO:6.56%,余量为灼减。
对比例4:对比例4的制备方法与实施例1的制备方法相同,不同之处在于珍珠釉料不同,具体为:含钙熔块:20份、含磷熔块:12.5份、含镁熔块:3.5份、煅烧氧化锌:9.5份、碳酸钡:12份、煅烧高岭土:25份和石英:18份。按质量百分比计算,所述珍珠釉料的化学构成如下:Al2O3:18.59%、SiO2:53.64%、K2O:2.58%、Na2O:2.08%、CaO:3.91%、P2O5:2.69%、MgO:1.43%、ZnO:6.50%、BaO:6.56%,余量为灼减。
对比例5:对比例5的制备方法与实施例1的制备方法相同,不同之处在于珍珠釉料不同,具体为:含钙熔块:20份、含磷熔块:12.5份、含硼熔块:8份、含镁熔块:3.5份、煅烧氧化锌:8份、碳酸钡:10份、煅烧高岭土:21.5份和石英:15份。按质量百分比计算,所述珍珠釉料的化学构成如下:Al2O3:19.59%、SiO2:53.64%、K2O:2.58%、Na2O:2.08%、CaO:3.91%、P2O5:2.69%、B2O3:1.89%、MgO:1.43%、ZnO:6.50%、BaO:6.56%,余量为灼减。
对比例6:对比例6的制备方法与实施例1的制备方法相同,不同之处在于珍珠釉料不同,具体为:含钙熔块:15份、含磷熔块:12.5份、含硼熔块:18份、含镁熔块:3.5份、煅烧氧化锌:8份、碳酸钡:8份、煅烧高岭土:21.5份和石英:15份。按质量百分比计算,所述珍珠釉料的化学构成如下:Al2O3:18.59%、SiO2:52.64%、K2O:2.58%、Na2O:2.08%、CaO:3.91%、P2O5:2.69%、B2O3:5.04%、MgO:1.43%、ZnO:6.50%、BaO:6.56%,余量为灼减。
对比例7:对比例7的制备方法与实施例1的制备方法相同,不同之处在于底釉不同,具体为:煅烧高岭土:23份、球粘土:8份、煅烧氧化铝:5份、石英:16份、钾长石:17.5份、钠长石:16份和霞石粉:14.5份。按质量百分比计算,所述底釉的化学构成如下:Al2O3:24.23%、SiO2:58.44%、K2O:3.88%、Na2O:2.86%、CaO:0.72%、MgO:1.29%、BaO:5.37%,余量为灼减。
对由上述各实施例和各对比例制得的釉面砖进行测试,考察釉面的光泽度、釉面细腻质感、釉面析晶状况(有无斑驳的亮哑反差点,有亮哑反差点说明产品的档次低)、釉面耐磨度。
光泽度:运用数显光度仪进行检测,数据越高说明釉面的光泽度越高。
釉面细腻质感:主要通过手摸触感进行判定,参考对象为天然珍珠的手感。
釉面析晶情况:主要通过肉眼,或放大镜观察,观察釉面是否有亮哑光感的差别,釉面细腻则要求釉面不能出现亮点。
釉面耐磨度检测标准:依据GB/T4100—2015标准进行检测。
各实施例及各对比例的检测结果如下表所示:
由上表、图2可知,采用本发明的制备方法制得的釉面砖,其釉面呈现低光,釉面光泽均匀,而且没有亮哑反差引起的斑驳质感,光感更加连续;此外从图2可以看出,釉面砖的釉面质感细腻、温润,呈现析晶亮点,具有珍珠质感。而且由于磷和硼协同硅氧四面体的结合,形成的玻璃相还具有较高的填孔能力以及硬度,从而可使釉面的耐脏污能力和耐磨度有所提升。
对比例1并未添加含磷熔块,仅通过含硼熔块与硅氧四面体形成的玻璃相,对于釉面硬质感的降低效果欠佳,从图3可以看出,对比例1釉面砖的釉面细腻度不足,而且其釉面形成的玻璃相与其它晶体之间形成较大的光线反差,致使釉面有明显的亮点,光感较为斑驳。
对比例2中含磷熔块用量较少,所形成的磷钙玻璃相偏少,釉面干涩光泽度偏哑,由于钠玻璃相偏多造成釉面有斑驳点,光感不够连续。
对比例3中含磷熔块用量偏大,余量形成熔剂过多,釉面配方温度偏低,造成过烧,使得釉面亮度高,质感差,釉面光泽度偏高,釉面由于过于熔融造成耐磨度偏低。
对比例4并未添加含硼熔块,仅通过含磷熔块与硅氧四面体形成的玻璃相,其对于釉面细腻度、亮哑反差的改善程度优于对比例1,但磷玻璃相的耐磨性能的改善程度差于对比例1。
对比例5由于硼熔块用量偏少,所形成的硼磷玻璃相偏少,钾钠玻璃相相对偏多,造成釉面粗糙,光感不连续,有亮哑反差点,同时釉面耐磨度偏低。
对比例6由于含硼熔块过多,形成过多的晶体,过多的晶体引起光线的漫反射产生的光泽度偏低,同时晶体以片状居多,造成光泽不够均匀。
对比例7并未添加高温助熔剂,不利于烧成过程中气体的排出,降低了釉层的平顺质感和致密度,使得釉面较为粗糙,同时对釉面的耐磨度影响较大。
可以理解的是,对本领域普通技术人员来说,可以根据本发明的技术方案及其发明构思加以等同替换或改变,而所有这些改变或替换都应属于本发明的保护范围。
Claims (10)
1.一种珍珠釉料,其特征在于,按重量份计算包括如下组分:含钙熔块:14~20份、含磷熔块:9~16份、含硼熔块:10~17份、含镁熔块:2~5份、煅烧氧化锌:5~10份、碳酸钡:8~12份、煅烧高岭土:18~25份和石英:12~18份;
其中,按质量百分比计算,所述含钙熔块的化学构成如下:Al2O3:14.58~18.94%、SiO2:56.34~60.65%、K2O:3.65~4.56%、Na2O:2.35~3.58%、CaO:15.62~17.50%,余量为灼减;
按质量百分比计算,所述含磷熔块的化学构成如下:Al2O3:15.65~17.45%、SiO2:55.24~59.68%、K2O:2.45~5.04%、Na2O:2.34~4.01%、P2O5:14.28~17.54%,余量为灼减;
按质量百分比计算,所述含硼熔块的化学构成如下:Al2O3:13.65~16.25%、SiO2:54.38~59.65%、K2O:2.31~3.25%、Na2O:2.20~3.24%、B2O3:16.58~19.54%,余量为灼减;
按质量百分比计算,所述含镁熔块的化学构成如下:Al2O3:13.45~15.64%、SiO2:55.24~58.67%、K2O:2.14~3.15%、Na2O:1.85~2.35%、MgO:14.87~18.54%,余量为灼减。
2.根据权利要求1所述的珍珠釉料,其特征在于,按质量百分比计算,所述珍珠釉料的化学构成如下:Al2O3:15.62~19.56%、SiO2:50.14~55.14%、K2O:2.11~3.05%、Na2O:1.85~2.31%、CaO:3.15~4.68%、P2O5:2.13~3.25%、B2O3:2.54~3.65%、MgO:1.02~1.85%、ZnO:4.56~8.45%、BaO:4.89~8.24%,余量为灼减。
3.一种具有珍珠光泽的釉面砖的制备方法,其特征在于,包括如下步骤:
S1、压制砖坯,形成砖坯层;
S2、布施底釉:在砖坯层上布施底釉浆料,形成底釉层;
S3、图案打印:在底釉层上进行图案的打印,形成图案层;
S4、布施保护釉:在图案层上布施保护釉浆料,所述保护釉浆料为如权利要求1-2任一项所述的珍珠釉料制成的浆料,形成保护釉层;
S5、布施珍珠釉料:在保护釉层上布施如权利要求1-2任一项所述的珍珠釉料制成的珍珠釉浆料,形成珍珠釉层;
S6、烧制成型,制得具有珍珠光泽的釉面砖。
4.根据权利要求3所述的具有珍珠光泽的釉面砖的制备方法,其特征在于,按重量份计算,所述底釉包括如下组分:煅烧高岭土:18~25份、球粘土:5~8份、煅烧氧化铝:3~7份、石英:10~16份、钾长石:12.5~17.5份、钠长石:10~16份、碳酸钡:5~9份、氧化锌4~8份和霞石粉:10~16份。
5.根据权利要求4所述的具有珍珠光泽的釉面砖的制备方法,其特征在于,按质量百分比计算,所述底釉的化学构成如下:Al2O3:21.32~25.14%、SiO2:54.21~58.67%、K2O:3.21~4.56%、Na2O:2.14~3.58%、CaO:0.55~0.89%、MgO:1.02~1.57%、ZnO:3.64~7.54%、BaO:3.98~6.76%,余量为灼减。
6.根据权利要求3所述的具有珍珠光泽的釉面砖的制备方法,其特征在于,步骤S2中,将底釉的各原料按配比混合均匀后,向其加入占总重量38~42%的水、占总重量0.12~0.16%的甲基纤维素钠、占总重量0.2~0.35%的三聚磷酸钠,经过球磨后制得底釉浆料,底釉浆料的细度为325目筛网筛余量为0.8~1.0%;底釉浆料的流速为33~38s/100ml,比重为1.85~1.90g/ml,施釉量为430~450g/m3。
7.根据权利要求3所述的具有珍珠光泽的釉面砖的制备方法,其特征在于,步骤S5中,将珍珠釉料的各原料按配比混合均匀后,向其加入占总重量38~42%的水、占总重量0.12~0.16%的甲基纤维素钠、占总重量0.2~0.35%的三聚磷酸钠,经过球磨后制得珍珠釉浆料,珍珠釉浆料的细度为325目筛网筛余量为0.3~0.5%;珍珠釉浆料的流速为33~38s/100ml,比重为1.85~1.90g/ml,施釉量为430~450g/m3。
8.根据权利要求7所述的具有珍珠光泽的釉面砖的制备方法,其特征在于,步骤S4中,向配制好的珍珠釉浆料中加水调节比重至1.15~1.20g/ml,制得保护釉浆料;保护釉浆料的施釉量为90~120g/m3。
9.根据权利要求3所述的具有珍珠光泽的釉面砖的制备方法,其特征在于,所述步骤S6中烧制成型的温度为1180~1190℃,时间为50~60min。
10.一种具有珍珠光泽的釉面砖,其特征在于,由权利要求3-9任一项所述的具有珍珠光泽的釉面砖的制备方法制得,其包括从下至上依次设置的砖坯层、底釉层、图案层、保护釉层和珍珠釉层。
Priority Applications (1)
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Publication Number | Publication Date |
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