CN117950195A - 波束整形装置、电子设备及波束整形装置的制备方法 - Google Patents
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Abstract
本申请涉及一种波束整形装置、电子设备及波束整形装置的制备方法。其中,波束整形装置包括:超表面透镜、镜面组与光源;所述超表面透镜位于所述镜面组与所述光源之间;所述超表面透镜包括第一电极、第二电极、液晶层与超表面结构;所述第一电极与所述第二电极为透明电极;所述液晶层位于所述第一电极与所述第二电极之间,所述超表面结构位于所述液晶层内;所述光源位于所述第一电极远离所述液晶层的一侧,所述镜面组位于所述第二电极远离所述液晶层的一侧。根据本申请实施例,可以降低波束整形装置的重量与尺寸,便于波束整形装置的集成化。
Description
技术领域
本申请涉及显示技术领域,尤其涉及一种波束整形装置、电子设备及波束整形装置的制备方法。
背景技术
在相关技术中,波束整形在各种光波段领域都具有重要的地位,尤其是在雷达领域,而雷达又广泛的应用于军事、通信、成像,以及民用的自动驾驶等领域。传统雷达是通过将信号发射后,利用飞行时间法,计算信号发出后,到碰到目标物体返回,再被接收的时间,以计算和目标物体之间的距离,为多方位对目标物体进行探测。
但是,现有的较为成熟的雷达多为机械式雷达,是通过其中的机械部件,实现对波束方向的控制。因此,具有体积大、重量大以及集成困难等弊端。
发明内容
本申请提供一种波束整形装置、电子设备及波束整形装置的制备方法,以解决相关技术中全部或部分不足。
根据本申请实施例的第一方面,提供一种波束整形装置,包括:超表面透镜、镜面组与光源;
所述超表面透镜位于所述镜面组与所述光源之间;
所述超表面透镜包括第一电极、第二电极、液晶层与超表面结构;
所述第一电极与所述第二电极为透明电极;所述液晶层位于所述第一电极与所述第二电极之间,所述超表面结构位于所述液晶层内;所述光源位于所述第一电极远离所述液晶层的一侧,所述镜面组位于所述第二电极远离所述液晶层的一侧。
在一些实施例中,所述超表面透镜包括阵列排布的多个透镜单元,每一所述透镜单元内设有一个所述超表面结构。
在一些实施例中,所述超表面结构与所述第一电极连接,或者,所述超表面结构与所述第二电极连接,或者,所述超表面结构同时与所述第一电极与所述第二电极连接;所述超表面结构位于所述透镜单元的中心。
在一些实施例中,所述超表面结构为圆柱体结构,所述超表面结构的直径为150纳米,高度为600纳米。
在一些实施例中,所述超表面结构的材料包括二氧化钛。
在一些实施例中,所述超表面透镜调制的光的相位满足如下公式:
其中,φm为所述光源发射的光的相位;r为所述超表面透镜的器件半径;f为所述超表面透镜的焦距;λi为所述光源发射的光的波长;roffset为所述光源与所述超表面透镜的焦点之间的直线距离。
在一些实施例中,所述液晶层内的液晶分子的折射率变化范围大于等于1.5,且小于等于1.7。
在一些实施例中,所述镜面组包括反射镜、透射镜、抛物面反射镜、漏波天线与超表面反射镜中的一种或者至少两种。
在一些实施例中,所述镜面组包括反射镜;所述反射镜位于所述超表面透镜远离所述光源的一侧;所述反射镜被配置为将入射的光可控地反射至远处。
在一些实施例中,所述镜面组包括透射镜;所述透射镜位于所述超表面透镜远离所述光源的一侧;所述透射镜被配置为将入射的光可控地聚焦至远处。
在一些实施例中,所述镜面组包括透射镜与抛物面反射镜;所述透射镜与所述抛物面反射镜位于所述超表面透镜远离所述光源的一侧,且所述透射镜位于所述超表面透镜与所述抛物面反射镜之间;所述透射镜被配置为将入射的光可控地聚焦至所述抛物面反射镜,所述抛物面反射镜被配置将所述透射镜聚焦的光可控地反射至远处。
在一些实施例中,所述镜面组包括漏波天线;所述漏波天线位于所述超表面透镜远离所述光源的一侧;所述漏波天线被配置为将入射的光可控地聚焦至远处。
在一些实施例中,所述镜面组包括超表面反射镜;所述超表面反射镜位于所述超表面透镜远离所述光源的一侧;所述超表面反射镜被配置为将入射的光可控地反射至远处。
根据本申请实施例的第二方面,提供一种电子设备,包括上述任一种波束整形装置。
根据本申请实施例的第三方面,提供一种波束整形装置的制备方法,被配置为制备上述任一项所述的波束整形装置,先在电极层上形成所述超表面结构,所述电极层为所述第一电极或者所述第二电极;形成所述超表面结构后,在所述电极层上形成封框胶,并在所述封框胶内填充液晶形成液晶层,以形成对盒中间结构;再将所述对盒中间结构通过对盒工艺形成所述波束整形装置。
根据本申请实施例可知,通过设置超表面透镜可以将光源发射的光线调制为平行光,并通过镜面组将超表面透镜调制后的光传播至远处进行成像及探测等功能。而通过超表面透镜对光源发出的光线进行调制可以避免采用机械结构,从而,可以避免由于采用机械结构对光源发出的光线进行调制,而机械结构的体积大且重量大的问题,进而,可以降低波束整形装置的重量与尺寸,便于波束整形装置的集成化。同时,由于液晶层内设有超表面结构,而由于超表面结构能够增强液晶层对入射光的相位的调节,从而,相对于仅设有液晶层的结构,设有超表面结构的液晶层能够在更少的液晶以及液晶层的厚度更薄的情况下获得相同甚至更好的效果,进而,可以进一步降低波束整形装置的重量与尺寸,便于波束整形装置的集成化。
应当理解的是,以上的一般描述和后文的细节描述仅是示例性和解释性的,并不能限制本申请。
附图说明
此处的附图被并入说明书中并构成本说明书的一部分,示出了符合本申请的实施例,并与说明书一起用于解释本申请的原理。
图1是根据本申请实施例示出的一种波束整形装置的结构示意图;
图2是根据本申请实施例示出的一种超表面透镜的俯视图;
图3是根据本申请实施例示出的一种超表面透镜的能量仿真图;
图4a是根据本申请实施例示出的圆柱体的直径与波长之间的关系;
图4b是根据本申请实施例示出的圆柱体的直径与相位之间的关系;
图4c是根据本申请实施例示出的圆柱体的直径与超表面透镜的透射比之间的关系;
图5是根据本申请实施例示出的另一种波束整形装置的结构示意图;
图6是根据本申请实施例示出的另一种波束整形装置的结构示意图;
图7是根据本申请实施例示出的另一种波束整形装置的结构示意图;
图8是根据本申请实施例示出的另一种波束整形装置的结构示意图;
图9是根据本申请实施例示出的一种波束整形装置的制备方法的流程图;
图10是根据本申请实施例示出的一种波束整形装置的中间结构的结构示意图;
图11是根据本申请实施例示出的另一种波束整形装置的中间结构的结构示意图;
图12是根据本申请实施例示出的另一种波束整形装置的中间结构的结构示意图。
具体实施方式
这里将详细地对示例性实施例进行说明,其示例表示在附图中。下面的描述涉及附图时,除非另有表示,不同附图中的相同数字表示相同或相似的要素。以下示例性实施例中所描述的实施方式并不代表与本申请相一致的所有实施方式。相反,它们仅是与如所附权利要求书中所详述的、本申请的一些方面相一致的装置和方法的例子。
本申请实施例提供一种波束整形装置10,图1示出的是该波束整形装置10的结构示意图。如图1所示,该波束整形装置10包括:超表面透镜11、镜面组12与光源13。
超表面透镜11位于镜面组12与光源13之间。超表面透镜11包括第一电极111、第二电极112、液晶层113与超表面结构114。
第一电极111与第二电极112为透明电极。液晶层113位于第一电极111与第二电极112之间,超表面结构114位于液晶层113内。光源13位于第一电极111远离液晶层113的一侧,镜面组12位于第二电极112远离液晶层113的一侧。通过对第一电极111与第二电极112施加电压,可以在第一电极111与第二电极112之间形成电场,从而,可以通过在第一电极111与第二电极112之间产生的电场对液晶分子的偏转进行控制,以改变液晶层113的折射率,并且,主要是改变了超表面结构114周围的液晶层113的折射率,进而,可以实现对超表面透镜11调制的光的相位的控制。
超表面结构114为采用超表面材料制备而成的结构。而超表面材料是指厚度小于波长的人工层状材料。超表面结构114可实现对电磁波偏振、振幅、相位、极化方式、传播模式等特性的灵活有效调控。
超表面透镜11被配置为将光源13发射的光线调制为平行光,并使该平行光入射至镜面组12。该光源13可以包括激光光源或者LED光源。具体的,LED光源可以为mini LED光源。而由于该光源13主要发射的主要是光信号,因此,该光源13发出的光线不仅需要经过超表面透镜11调制为平行光,还需要经过镜面组12后,才能将超表面透镜11调制后的光线传播至远处进行成像及探测等功能。
根据上述实施例可知,通过设置超表面透镜11可以将光源13发射的光线调制为平行光,并通过镜面组12将超表面透镜11调制后的光传播至远处进行成像及探测等功能。而通过超表面透镜11对光源13发出的光线进行调制可以避免采用机械结构,从而,可以避免由于采用机械结构对光源13发出的光线进行调制,而机械结构的体积大且重量大的问题,进而,可以降低波束整形装置的重量与尺寸,便于波束整形装置的集成化。同时,由于液晶层113内设有超表面结构114,而由于超表面结构114能够增强液晶层113对入射光的相位的调节,从而,相对于仅设有液晶层113的结构,设有超表面结构114的液晶层113能够在更少的液晶以及液晶层113的厚度更薄的情况下获得相同甚至更好的效果,进而,可以进一步降低波束整形装置的重量与尺寸,便于波束整形装置的集成化。
在一些实施例中,如图2所示,超表面透镜11包括阵列排布的多个透镜单元117,每一透镜单元117内设有一个超表面结构114。通过设置阵列排布的多个透镜单元117,而对每一个透镜单元117的液晶层113内的液晶分子进行单独控制,从而,可以对超表面透镜11所调制的光源13发出的光的相位进行更为精细的调整。
并且,由于多个透镜单元117采用二维阵列的方式阵列排布。因此,超表面透镜11也就能够对其所调整的光源13发出的光的相位进行二维调制,即超表面透镜11可以在第一方向X以及第二方向Y这两个方向上,对光源13发出的光的相位进行调制。
在一些实施例中,超表面透镜11还包括控制组件14、第一衬底115与第二衬底116。该控制组件14包括控制器141与控制走线142。控制走线142将控制器141电连接至第一电极111与第二电极112,从而,可以使控制器141控制传输至第一电极111与第二电极112的电流。
该第一衬底115位于第一电极111远离液晶层113的一侧,该第二衬底116位于第二电极112远离液晶层113的一侧。
控制组件14通过控制传输至第一电极111与第二电极112的电流可以分别控制每一个透镜单元117的液晶层113内的液晶分子的偏转状况,从而,可以对超表面透镜11的相位进行调整,进而,将光源13发出的光线调制为平行光。
图3示出的是超表面透镜11朝向光源13一侧的能量图。参考图3所示,由于超表面透镜11在将光源13发出的光调制为平行光。因此,在超表面透镜11朝向光源13的一侧存在一处高能区域Q1,该高能区域Q1正是由于光路是可逆的,而从超表面透镜11另一侧入射的平行光自然也会在超表面透镜11朝向光源13的一侧聚集,同时,超表面透镜11朝向光源13的一侧能量越高的区域则意味着在该区域汇聚的光越多。而根据图3所示,高能区域Q1的能量明显高于周围区域的能量。因此,可以确定该高能区域Q1即为光汇聚程度最高的区域,从而,可以确定光源13所应该处于的位置即为该高能区域Q1。
在一些实施例中,超表面结构114与第一电极111连接,或者,超表面结构114与第二电极112连接,或者,超表面结构114同时与第一电极111与第二电极112连接。超表面结构114位于透镜单元117的中心。通过在透镜单元117的中心位置设置超表面结构114,从而,可以最大限度地使进入透镜单元117的光入射至超表面结构114周围,进而,可以最大限度发挥超表面结构114的效果,协同液晶层113内的液晶分子对入射的光进行调制。
在一些实施例中,超表面结构114为圆柱体结构,在采用圆柱体结构时,超表面结构114对入射进超表面透镜11的光的相位的调制效果相对超表面结构114为其他形状时最佳。超表面结构114的直径为150纳米,高度为600纳米。具体的,图4a示出的是圆柱体的直径与波长之间的关系,图中的横坐标为圆柱体的直径,纵坐标为波长。图4b示出的是圆柱体的直径与相位之间的关系,图中的横坐标为圆柱体的直径,纵坐标为波长。图4c示出的是圆柱体的直径与超表面透镜11的透射比之间的关系,图中的横坐标为圆柱体的直径,纵坐标为超表面透镜11的透射比。如图4a、图4b与图4c所示,在未对超表面透镜11施加电压时,得到光的波长在450纳米-700纳米内以及圆柱直径在40纳米-200纳米之间变化的相位图和透射谱图。根据上述的数据,可以得出当超表面结构114的圆柱体结构的直径为150纳米,高度为600纳米时,可实现将波长为530纳米的光调制为0度至360度范围内的任一相位。因此,优选的,该超表面结构114的圆柱体结构的直径为150纳米,高度为600纳米。
在一些实施例中,该超表面透镜11的液晶层113的厚度为2.5微米-3.5微米。具体的,该超表面透镜11的液晶层113的厚度可以为2.5微米,或者,该超表面透镜11的液晶层113的厚度可以为2.7微米,或者,该超表面透镜11的液晶层113的厚度可以为3微米,或者,该超表面透镜11的液晶层113的厚度可以为3.5微米,但不限于此。优选的,该超表面透镜11的液晶层113的厚度为2.7微米。
需要说明的是,虽然本实施例并不要求在超表面透镜11的液晶层113的厚度为2.7微米的同时,表面结构114的圆柱体结构的直径为150纳米,高度为600纳米,但是,可以想到的是,在超表面透镜11的液晶层113的厚度为2.7微米的同时,表面结构114的圆柱体结构的直径为150纳米,高度为600纳米最有利于提升超表面透镜11对光源13入射的光线的调制能力。
在一些实施例中,超表面结构114的材料包括二氧化钛。由于二氧化钛在可见光波段基本不存在色差,因此,在超表面透镜11对入射的光进行调制时,采用二氧化钛能够最大限度地减小超表面结构114因色差问题对入射的光产生不良影响,从而,可以提升超表面透镜11调制的入射光的效果。需要说明的是,虽然在本实施例中超表面结构114的材料主要包括二氧化钛,但在其他实施例中不限于此,超表面结构114的材料也可以是其他在可见光波段基本不存在色差的材料。
在一些实施例中,在形成第一电极111与第二电极112时采用了图形化工艺。而在采用了图形化工艺后,则可以通过控制器141通过图形化的第一电极111与第二电极112精确控制传输至每一个透镜单元117的电流,即控制器141可以对传输至超表面透镜11的电流做到像素级控制,以进一步精确控制每一个透镜单元117。
在一些实施例中,该超表面透镜11调制的光的相位满足如下公式:
其中,φm为光源13发射的光的波长。r为超表面透镜11的器件半径,即为超表面透镜11朝向光源13的表面的半径。f为超表面透镜11的焦距,即为光源13到达超表面透镜11的最短距离。λi为光源13发射的光的波长。roffset为光源13与超表面透镜11的焦点之间的直线距离。
在一些实施例中,镜面组12包括反射镜121、透射镜122、抛物面反射镜123、漏波天线124与超表面反射镜125中的一种或者至少两种。
具体的,如图1所示,镜面组12可以为反射镜121。光源13发射的光在经过超表面透镜11的调制之后,进入反射镜121内,由该反射镜121对入射的光进行反射,随后,该反射镜121反射的光可控地传播至远处物体,进行成像及探测等功能。
如图5所示,镜面组12可以为透射镜122。光源13发射的光在经过超表面透镜11时,被超表面透镜11调制为特定孔径的平行光并准直,同时进行相位调节,以匹配透射镜122所需的相位和孔径大小。在经过超表面透镜11的调制后,这些光进入透射镜122,由该透射镜122将入射的光可控地聚焦至远处的待测物体上,进行成像及探测等功能。同时,对超表面透镜11施加的电压进行调节,可以使超表面透镜11调制后的光以不同角度入射至透射镜122,从而,可以调整透射镜122将入射的光聚焦至的点位。需要说明的是,此处的孔径所指的是平行光线的横截面的半径,下文中的孔径同理。
如图6所示,镜面组12可以包括透射镜122与抛物面反射镜123。光源13发射的光在经过超表面透镜11时,被超表面透镜11调制为特定孔径的平行光,同时进行相位调节,以匹配透射镜122所需的相位和孔径大小。在经过超表面透镜11的调制后,这些光进入透射镜122,由该透射镜122将入射的光可控地聚焦至抛物面反射镜123上,再由抛物面反射镜123将这些光可控地反射至远处的待测物体上,进行成像及探测等功能。而经过透射镜122与抛物面反射镜123所组成的镜面组12的光,是拥有较小孔径的平行光,区别与图1方案中较大孔径的平行光与图5方案中聚焦的光。同时,对超表面透镜11施加的电压进行调节,同样可以使超表面透镜11调制后的光以不同角度入射至透射镜122,从而,可以调整透射镜122将入射至抛物面反射镜123的角度与范围,进而,调整抛物面反射镜123反射出的平行光的方向。
如图7所示,镜面组12可以为漏波天线124。漏波天线124开有缝隙1241。光源13发出的光经过超表面透镜11,被超表面透镜11调制为特定孔径的平行光并准直,同时进行相位调节,以匹配漏波天线124所需的相位和孔径大小,然后经过漏波天线124将光发射至远方的目标物体,其中通过控制器141对超表面透镜11的电压进行控制,以调节漏波天线124发射的光的朝向。
漏波天线124利用缝隙波导的散射实现天线聚焦。聚焦原理是通过开缝隙1241改变结构的相位常数和衰减率,以控制漏泄能量的散射方向,从而,形成理想波束在指定位置的聚焦。
如图8所示,镜面组12可以为超表面反射镜125。镜面组12可以为超表面反射镜125。光源13发射的光在经过超表面透镜11的调制之后,进入超表面反射镜125内,由该超表面反射镜125对入射的光进行反射,随后,该超表面反射镜125反射的光可控的传播至远处物体,进行成像及探测等功能。
超表面反射镜125是用超表面材料制作的平面反射镜代替之前的曲面反射镜。具体的,通过在超表面反射镜衬底1250上采用朝表面材料形成第一贴片单元1251与第二贴片单元1252形成超表面反射镜125。需要说明的是,此处的超表面材料与前文中的超表面结构114采用的材料相同,均为超表面材料。入射至超表面反射镜125的光会经过超表面反射镜125上不同的尺寸的贴片单元的反射,实现相位补偿,最终在焦点处聚焦。相对于传统的抛物面反射镜123,超表面反射镜125重量轻、造价简单且可以达到更好的反射效果。
如图8中所示的超表面反射镜125,该超表面反射镜125上相邻贴片单元的结构尺寸不同。具体的,该超表面反射镜125包括第一贴片单元1251与第二贴片单元1252,且第一贴片单元1251与第二贴片单元1252的尺寸完全不同。超表面反射镜125具有互相垂直的第三方向Z与第四方向Q。在第三方向Z与第四方向Q上,第一贴片单元1251与第二贴片单元1252均交替排布。同时,需要说明的是,如图8中示出的仅是一种可行的超表面反射镜125,但在其他实施例中不限于此,超表面反射镜125可以包括更多尺寸与第一贴片单元1251以及第二贴片单元1252均不同的贴片单元,而具体贴片单元的尺寸则可以根据所需要的对波束进行调整的相位的数值所决定。
本申请还提供一种电子设备,包括上述任一种波束整形装置10。
本申请还提供一种用于制备上述任一种波束整形装置10的制备方法。如图9所示,该制备方法包括步骤:S801-S804。
在步骤S801中,提供衬底81,在衬底81上形成电极层82。
图10示出的是一种波束整形装置10的中间结构,步骤801中的中间结构可以参考图10所示的内容。
在步骤S802中,在电极层82上形成超表面结构114,电极层82为第一电极111或者第二电极112。
图11示出的是一种波束整形装置10的中间结构,步骤802中的中间结构可以参考图11所示的内容。具体的,当电极层82为第一电极111时,衬底81为第一衬底115。当电极层82为第二电极112时,衬底81为第二衬底116。
在步骤S803中,在电极层82上形成封框胶83,并在封框胶83内填充液晶形成液晶层113,以形成对盒中间结构80。
图12示出的是一种波束整形装置10的中间结构,步骤803中的中间结构可以参考图11所示的内容。
在步骤S804中,将对盒中间结构80通过对盒工艺形成波束整形装置10。
根据上述实施例可知,通过这样的制备方式,可以在液晶层113内形成超表面结构114,从而,可以通过较为简单的方式形成超表面透镜11。
本申请的上述实施例,在不产生冲突的情况下,可互为补充。
需要指出的是,在附图中,为了图示的清晰可能夸大了层和区域的尺寸。而且可以理解,当元件或层被称为在另一元件或层“上”时,它可以直接在其他元件上,或者可以存在中间的层。另外,可以理解,当元件或层被称为在另一元件或层“下”时,它可以直接在其他元件下,或者可以存在一个以上的中间的层或元件。另外,还可以理解,当层或元件被称为在两层或两个元件“之间”时,它可以为两层或两个元件之间唯一的层,或还可以存在一个以上的中间层或元件。通篇相似的参考标记指示相似的元件。
术语“多个”指两个或两个以上,除非另有明确的限定。
本领域技术人员在考虑说明书及实践这里公开的公开后,将容易想到本申请的其它实施方案。本申请旨在涵盖本申请的任何变型、用途或者适应性变化,这些变型、用途或者适应性变化遵循本申请的一般性原理并包括本申请未公开的本技术领域中的公知常识或惯用技术手段。说明书和实施例仅被视为示例性的,本申请的真正范围和精神由下面的权利要求指出。
应当理解的是,本申请并不局限于上面已经描述并在附图中示出的精确结构,并且可以在不脱离其范围进行各种修改和改变。本申请的范围仅由所附的权利要求来限制。
Claims (15)
1.一种波束整形装置,其特征在于,所述波束整形装置包括:超表面透镜、镜面组与光源;
所述超表面透镜位于所述镜面组与所述光源之间;
所述超表面透镜包括第一电极、第二电极、液晶层与超表面结构;
所述第一电极与所述第二电极为透明电极;所述液晶层位于所述第一电极与所述第二电极之间,所述超表面结构位于所述液晶层内;所述光源位于所述第一电极远离所述液晶层的一侧,所述镜面组位于所述第二电极远离所述液晶层的一侧。
2.根据权利要求1所述的波束整形装置,其特征在于,所述超表面透镜包括阵列排布的多个透镜单元,每一所述透镜单元内设有一个所述超表面结构。
3.根据权利要求2所述的波束整形装置,其特征在于,所述超表面结构与所述第一电极连接,或者,所述超表面结构与所述第二电极连接,或者,所述超表面结构同时与所述第一电极与所述第二电极连接;所述超表面结构位于所述透镜单元的中心。
4.根据权利要求2所述的波束整形装置,其特征在于,所述超表面结构为圆柱体结构,所述超表面结构的直径为150纳米,高度为600纳米。
5.根据权利要求2所述的波束整形装置,其特征在于,所述超表面结构的材料包括二氧化钛。
6.根据权利要求1所述的波束整形装置,其特征在于,所述超表面透镜调制的光的相位满足如下公式:
其中,φm为所述光源发射的光的相位;r为所述超表面透镜的器件半径;f为所述超表面透镜的焦距;λi为所述光源发射的光的波长;roffset为所述光源与所述超表面透镜的焦点之间的直线距离。
7.根据权利要求1所述的波束整形装置,其特征在于,所述液晶层内的液晶分子的折射率变化范围大于等于1.5,且小于等于1.7。
8.根据权利要求1所述的波束整形装置,其特征在于,所述镜面组包括反射镜、透射镜、抛物面反射镜、漏波天线与超表面反射镜中的一种或者至少两种。
9.根据权利要求8所述的波束整形装置,其特征在于,所述镜面组包括反射镜;所述反射镜位于所述超表面透镜远离所述光源的一侧;所述反射镜被配置为将入射的光可控地反射至远处。
10.根据权利要求8所述的波束整形装置,其特征在于,所述镜面组包括透射镜;所述透射镜位于所述超表面透镜远离所述光源的一侧;所述透射镜被配置为将入射的光可控地聚焦至远处。
11.根据权利要求8所述的波束整形装置,其特征在于,所述镜面组包括透射镜与抛物面反射镜;所述透射镜与所述抛物面反射镜位于所述超表面透镜远离所述光源的一侧,且所述透射镜位于所述超表面透镜与所述抛物面反射镜之间;所述透射镜被配置为将入射的光可控地聚焦至所述抛物面反射镜,所述抛物面反射镜被配置将所述透射镜聚焦的光可控地反射至远处。
12.根据权利要求8所述的波束整形装置,其特征在于,所述镜面组包括漏波天线;所述漏波天线位于所述超表面透镜远离所述光源的一侧;所述漏波天线被配置为将入射的光可控地聚焦至远处。
13.根据权利要求8所述的波束整形装置,其特征在于,所述镜面组包括超表面反射镜;所述超表面反射镜位于所述超表面透镜远离所述光源的一侧;所述超表面反射镜被配置为将入射的光可控地反射至远处。
14.一种电子设备,其特征在于,包括权利要求1至权利要求13任一项所述的波束整形装置。
15.一种波束整形装置的制备方法,被配置为制备权利要求1至权利要求13任一项所述的波束整形装置,其特征在于,先在电极层上形成所述超表面结构,所述电极层为所述第一电极或者所述第二电极;形成所述超表面结构后,在所述电极层上形成封框胶,并在所述封框胶内填充液晶形成液晶层,以形成对盒中间结构;再将所述对盒中间结构通过对盒工艺形成所述波束整形装置。
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