CN117896994A - 显示装置 - Google Patents

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CN117896994A
CN117896994A CN202310863585.9A CN202310863585A CN117896994A CN 117896994 A CN117896994 A CN 117896994A CN 202310863585 A CN202310863585 A CN 202310863585A CN 117896994 A CN117896994 A CN 117896994A
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CN
China
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curved portion
layer
hole injection
flat portion
injection layer
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Application number
CN202310863585.9A
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English (en)
Inventor
尹准浩
白钦日
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LG Display Co Ltd
Original Assignee
LG Display Co Ltd
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Publication date
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Pending legal-status Critical Current

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    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10KORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K50/00Organic light-emitting devices
    • H10K50/10OLEDs or polymer light-emitting diodes [PLED]
    • H10K50/14Carrier transporting layers
    • H10K50/15Hole transporting layers
    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10KORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K2102/00Constructional details relating to the organic devices covered by this subclass
    • H10K2102/301Details of OLEDs
    • H10K2102/351Thickness

Abstract

显示装置包括基板、设置在基板上的第一电极、设置在第一电极上的下部有机层、设置在下部有机层上的发光层、以及设置在发光层上的第二电极。下部有机层具有包括多个弯曲表面的横截面轮廓。

Description

显示装置
相关申请的交叉引用
本申请要求享有于2022年10月13日在韩国提交的韩国专利申请第10-2022-0131820号的权益和优先权,该韩国专利申请被通过引用的方式并入本申请中以用于所有目的,如同在本申请中完整阐述一样。
技术领域
本公开涉及一种显示装置,更具体地涉及一种具有改善亮度视角同时具有优异效率的显示装置。
背景技术
近来,随着我们的社会向信息导向型社会发展,用于视觉地显示电信息信号的显示装置的领域得以迅速发展。相应地正在开发在薄型、轻量和低功耗方面具有优异性能的各种显示装置。这种显示装置的示例可以包括液晶显示装置(LCD)、有机发光显示装置(OLED)等。
与具有单独的光源的液晶显示装置不同,有机发光显示装置是自发光显示装置,并且由于其不需要单独的光源而可以被制造成轻薄的。此外,有机发光显示装置由于低电压驱动而在功耗方面具有优势,并且在色彩实现、响应速度、视角和对比度(CR)方面是优异的。
发明内容
显示装置的发光层可以通过沉积工艺或溶液工艺形成。当发光层被通过沉积工艺形成时,发光层的表面被形成为平坦的。包括通过沉积工艺形成的发光层的显示装置具有相对高的效率,但具有较窄的亮度视角。与此不同的是,通过溶液工艺形成的发光层不具有平坦的表面,而是具有根据用于形成发光层的墨水的特性而变化的轮廓形状。包括由溶液工艺形成的发光层的显示装置具有相对低的发射效率和宽的亮度视角。
本公开的一个或多个方面是提供一种具有宽亮度视角同时保持高效率和寿命特征的显示装置。
根据本公开的一个示例性实施例的显示装置可以包括基板、设置在基板上的第一电极、设置在第一电极上的下部有机层、设置在下部有机层上的发光层以及设置在发光层上的第二电极。下部有机层具有横截面轮廓,该横截面轮廓在面朝发光层的一侧上包括多个弯曲表面。下部有机层的最小厚度与最大厚度的差值可以为15纳米或更多。
根据本公开的一个或多个实施例,发光层下面的有机层具有包括多个弯曲表面的横截面轮廓,具有非平坦轮廓的发光层可以通过沉积工艺形成在有机层的上部部分上。这样形成的发光层具有包括多个弯曲表面的轮廓,但具有恒定的厚度。
因此,在根据本公开的一个或多个实施例的显示装置中,子像素中的发光层的厚度是恒定的,因此可以保持高发射效率。同时,由于阳极和阴极之间的层在厚度上有变化,因此提供了多腔效应,因而提供了增大亮度视角的效果。
其它系统、方法、特征和优点对于本领域技术人员在查阅以下附图和详细描述后将是或将变得显而易见。旨在将所有这些附加的系统、方法、特征和优点包括在本说明书内,在本公开的范围内,并且由所附权利要求保护。本节中的任何内容均不应被视为对那些权利要求的限制。下面将结合本公开内容的各方面讨论进一步的方面和优点。
应当理解,本公开的前述描述和以下详细描述都是示例性和解释性的,并且旨在提供对所要求保护的本公开的进一步解释。
附图说明
附图被包括以提供对本公开的进一步理解,附图被并入本公开中且构成本公开的一部分,附图示出了本公开的各方面和实施例,并且与本说明书一起用于解释本公开的原理。
图1示出了根据本公开的一个示例性实施例的显示装置的横截面图。
图2是用于解释根据本公开的一个示例性实施例的空穴传输层的横截面轮廓的视图。
图3示出了根据本公开的另一示例性实施例的显示装置的横截面图。
图4是用于解释根据本公开的另一示例性实施例的空穴传输层的横截面轮廓的视图。
图5示出了根据本公开的又一示例性实施例的显示装置的横截面图。
图6是用于解释根据本公开的又一示例性实施例的空穴传输层的横截面轮廓的视图。
图7是示出具有∩形的空穴注入层的厚度曲线的图表。
图8是示出视角根据具有∩形的空穴注入层的最小厚度与最大厚度的差值(Δ)的变化的图表。
图9是示出效率根据具有∩形的空穴注入层的最小厚度与最大厚度的差值(Δ)的变化的图表。
图10是示出根据实验例2B的空穴传输层的厚度曲线的图表。
图11是示出具有U形的空穴注入层的亮度视角的变化的图表。
图12是示出具有U形的空穴注入层的颜色视角的变化的图表。
图13是示出具有W形的空穴注入层的厚度曲线的图表。
图14是示出视角根据具有W形的空穴注入层的最小厚度与最大厚度的差值(Δ)的变化的图表。
图15是示出效率根据具有W形的空穴注入层的最小厚度与最大厚度的差值(Δ)的变化的图表。
在所有附图和详细描述中,除非另有说明,否则相同的附图标记应理解为指代相同的元件、特征和结构。为了清楚、示意和方便,层、区域和元件的尺寸、长度和厚度以及对其的描述可能被夸大。
具体实施方式
现在将详细参考本公开的实施例,其示例可以在附图中示出。在以下描述中,当对公知功能和构型的详细描述可能不必要地使本公开的各方面反而不清楚时,为了简洁,将省略对公知功能和构型的详细描述。所描述的工艺步骤和/或操作的程序都是示例;然而,步骤和/或操作的顺序并不限于本文所阐述的,而是可以改变,但必须以任何特定顺序发生的步骤和/或操作除外。
通过参考附图描述的示例性实施例阐明本公开的优点和特征以及其实现方法。然而,本公开可以以不同的形式实施,不应解释为限于在此列出的实施例。而是,这些示例性实施例是示例,并且提供这些示例性实施例是为了使本公开全面和完整,以帮助本领域技术人员完整地理解本公开,而不是限制本公开的受保护范围。
在附图中为了描述本公开的各种示例性实施例而公开的形状、尺寸、区域、比率、角度、数量等仅是示例,因此本公开不限于图示的细节。相似的附图标记始终指代相似的元件。
在使用术语“包括”、“具有”、“包含”、“含有”、“构成”、“由…组成”、“由…形成”等的情况下,除非使用诸如“仅”之类的术语,否则可以添加一个或更多个其它元件。在本公开中使用的术语只是用于描述示例性实施例,而不是旨在限制本公开的范围。在此使用的术语只是用于描述示例性实施例,并不旨在限制本公开的范围。除非上下文另有明确指示,否则单数形式的术语可以包括复数形式。术语“示例性”是指用作示例或示意。实施例是指示例性的实施方案。各方面是示例性的方面。在此被描述为“示例”的任何实现方式不一定被理解为比其它实现方式更优选或更有利。
在一个或多个方面中,元件、特征或对应的信息(例如水平、范围、尺寸、大小等)被解释为包括误差或公差范围,即使没有提供这种误差或公差范围的明确描述。误差或公差范围可以由各种因素(例如工艺因素、内部或外部影响、噪音等)引起。此外,术语“可以”包含了术语“能够”的所有含义。
在描述位置关系时,例如,在使用“上”、“上面”、“下面”、“上方”、“下方”、“之下”、“靠近”、“接近”、“邻近”、“旁边”、“挨着”等来描述两个部件之间的位置关系的情况下,一个或更多个其它部件可以位于这两个部件之间,除非使用了诸如“紧接(地)”、“直接(地)”或“紧密(地)”之类的更具限制性的术语。例如,在一结构被面试为被定位在另一结构“上”、“上面”、“下面”、“上方”、“下方”、“之下”、或“靠近”、“接近”、“邻近”或“挨着”另一结构、或在另一结构“旁边”时,该描述应被解释为包括这两个结构彼此接触的情况以及一个或多个其它结构被设置在这两个结构之间的情况。此外,术语“前”、“后”、“背”、“左”、“右”、“顶”、“底”、“向下”、“向上”、“上”、“下”、“往上”、“往下”、“列”、“行”、“竖向”、“水平”等是指任意参考系。
在描述时间关系时,当时间次序被描述为例如“在…之后”、“随后”、“下一个”、“之前”、“以前”、“先于”等时,除非使用诸如“刚好”、“紧接(地)”或“直接(地)”之类的更具限制性的术语,否则可以包括不连续或不按顺序的情况。
应当理解,尽管在本文中可以使用术语“第一”、“第二”等来描述各种元件,但这些元件不应受这些术语的限制。这些术语仅用于将一元件与其它元件区分开。例如,第一元件可以是第二元件,类似地,第二元件可以是第一元件,而不脱离本公开的范围。此外,第一元件、第二元件等可根据本领域技术人员的方便任意命名,而不脱离本公开的范围。术语“第一”、“第二”等可用于将部件彼此区分开,但部件的功能或结构不受部件前面的序号或部件名称的限制。
在描述本公开的元件时,可以使用术语“第一”、“第二”、“A”、“B”、“(a)”、“(b)”等。这些术语旨在从其它(一个或多个)元件中识别出相应的(一个或多个)元件,并且这些术语并不是用来限定元件的本质、基础、顺序或数量。
对于一个元件或层与另一个元件或层“连接”、“联接”、“附接”或“粘附”的表述,除非另有规定,否则该元件或层不仅可以与另一个元件或层直接连接、联接、附附接或粘附,并且可以与另一个元件或层间接连接、联接、附接或粘附,一个或多个中间元件或层被设置或介于这些元件或层之间。对于一个元件或层与另一个元件或层“接触”、“重叠”等的表述,除非另有规定,否则该元件或层不仅可以与另一个元件或层直接接触、重叠等,并且可以与另一个元件或层间接接触、重叠等,一个或多个中间元件或层被设置或介于这些元件或层之间。
术语“至少一个”应理解为包括相关列出项中的一个或多个的任何和所有组合。例如,“第一项、第二项和第三项中的至少一个”的含义是指从第一项、第二项和第三项中的两项或更多项提出的所有项的组合以及第一项、第二项或第三项中的仅一项。
第一元件、第二元件“和/或”第三元件的表述应理解为第一元件、第二元件和第三元件中的一个,或者第一元件、第二元件和第三元件中的任何或所有组合。举例来说,A、B和/或C可以指:仅A;仅B;仅C;A、B和C的任何或某些组合;或全部的A、B和C。此外,“元件A/元件B”的表述可以被理解为元件A和/或元件B。
在一个或多个方面中,除非另有说明,否则仅为了方便,术语“之间”和“其间”可以互换使用。例如,“多个元件之间”的表述可以被理解为在多个元件之间。在另一示例中,“在多个元件之间”的表述可以理解为多个元件之间。在一个或多个示例中,元件的数量可以是两个。在一个或多个示例中,元件的数量可以多于两个。
在一个或多个方面中,除非另有说明,否则仅为了方便,短语“相互”和“彼此”可以互换使用。例如,“相互不同”的表述可以被理解为彼此不同。在另一个示例中,“彼此不同”的表述可以被理解为相互不同。在一个或多个示例中,前述表达中涉及的元件数量可以是两个。在一个或多个示例中,前述表达中涉及的元件数量可以是多于两个。在一个或多个方面,除非另有说明,否则仅为了方便,短语“其中一个或多个”和“…中的一个或多个”可以互换使用。
本公开的各种实施例的特征可以部分或全部彼此联结或组合,并且可以不同程度地相互操作、联系或一起驱动。本公开的实施例可以彼此独立进行,或者可以以共同依赖或相关的关系一起进行。在一个或多个方面中,根据本公开的各种实施例的每个装置的部件被操作性地联接和配置。
在下面的描述中,将参考附图详细描述本公开的各种示例性实施例。关于附图中的每幅中的元件的附图标记,相同的元件可以在其它附图中示意,并且除非另有说明,否则类似的附图标记可以指代类似的元件。此外,为了描述方便,附图中示出的每个元件的比例、尺寸、大小和厚度可能与实际的比例、尺寸、大小和厚度不同,因此,本公开的实施例不限于附图中示出的比例、尺寸、大小和厚度。
图1和图2是用于解释根据本公开的示例性实施例的显示装置的视图。图1是根据本公开的一个示例性实施例的显示装置的横截面图。图2是用于解释根据本公开的一个示例性实施例的空穴传输层的横截面轮廓的视图。图1和图2示出了显示装置100被以顶部发射方法驱动,但是本公开的实施例不限于此。在图2中,为了便于解释,仅示出了堤部和空穴传输层,并且可以省略对其它部件的图示。
根据本公开的一个示例性实施例的显示装置100包括基板110、薄膜晶体管TFT、平坦化层124、发光器件130、盖层CPL和保护层140。发光器件130包括第一电极131、空穴注入层132、发光层133、电子传输层134、电子注入层135和第二电极136。
根据本公开的一个示例性实施例的显示装置100包括显示区域和非显示区域。显示区域可以是其中设置有多个像素以基本显示图像的区域。包括被配置成用于显示图像的发射区和被配置成用于驱动像素的驱动电路的像素可以被设置在显示区域中。非显示区域围绕显示区域。非显示区域是基本上不在其中显示图像的区域,并且用于驱动像素和被设置在显示区域中的驱动电路的各种线路、印刷电路板等被设置在非显示区域中。例如,诸如栅极驱动电路和数据驱动电路之类的各种驱动电路和信号线可以被设置在非显示区域中。
多个像素可以被设置成矩阵形状,并且多个像素中的每个包括多个子像素。子像素是用于显示一种颜色的元件,并且包括发射光的发射区和不发射光的非发射区。多个子像素中的每个可以是红色子像素、绿色子像素、蓝色子像素和白色子像素中的任何一个。在图1中,为了便于解释,仅示出了一个子像素。
基板110是支撑用于驱动显示装置100的各种元件的基板。基板110可以由具有优异的绝缘性能和抗湿气渗透性的材料形成。例如,基板110可以是玻璃基板或塑料基板,但是本公开的实施例不限于此。例如,塑料基板可以由聚邻苯二甲酸乙烯酯(polyethylenephthalate)、聚酰亚胺、聚酰胺和聚碳酸酯中的一种或多种材料形成,但是本公开的实施例不限于此。
缓冲层121被设置在基板110上。缓冲层121提高了有源层ACT或设置在基板110上的各种导电材料层与基板110之间的粘附。此外,缓冲层121可以阻挡基板110上的外来物质或从外部引入的氧气和湿气。缓冲层121可以由单层形成,或者可以由多层形成。例如,缓冲层121可以由诸如氧化硅、氮化硅或氧氮化硅之类的无机材料形成,但是本公开的实施例不限于此。
薄膜晶体管TFT被设置在缓冲层121上。在附图中,为了方便起见,仅示出了可以被包括在显示装置100中的各种薄膜晶体管中的驱动薄膜晶体管,但是显示装置100也可以包括开关薄膜晶体管和电容器。
薄膜晶体管TFT是用于驱动发光器件130的元件。薄膜晶体管TFT包括栅极电极G、有源层ACT、源极电极S和漏极电极D。
有源层ACT被设置在缓冲层121上。有源层ACT可以由金属氧化物半导体形成。栅极绝缘层122可以被设置在有源层ACT上。例如,栅极绝缘层122可以由诸如氧化硅、氮化硅或氧氮化硅之类的无机材料形成,但是本公开的实施例不限于此。此外,栅极绝缘层122可以由单层或多层形成。
栅极电极G被设置在栅极绝缘层122上。层间绝缘层123被设置在栅极电极G上以覆盖栅极电极G。例如,层间绝缘层123可以由诸如氧化硅、氮化硅或氧氮化硅之类的无机材料形成,但是本公开的实施例不限于此。此外,层间绝缘层123可以由单层或多层形成。
源极电极S和漏极电极D中的每个被设置在层间绝缘层123上,并且通过穿透栅极绝缘层122和层间绝缘层123的接触孔电连接到有源层ACT。薄膜晶体管TFT的结构不限于此,并且可以根据需要进行各种改变。
平坦化层124被设置成覆盖薄膜晶体管TFT。平坦化层124使薄膜晶体管TFT的上表面平面化。平坦化层124可以由有机材料形成,以方便提供平面化的表面。例如,平坦化层124可以由聚酰亚胺、苯并环丁烯基树脂和丙烯酸酯基树脂中的一种形成,但是本公开的实施例不限于此。平坦化层124可以包括接触孔,使得薄膜晶体管TFT的源极电极S或漏极电极D可以电连接到第一电极131。
发光器件130被设置在平坦化层124上。发光器件130可以被设置成对应于多个子像素中的每个。发光器件130可以包括第一电极131、空穴注入层132、发光层133、电子传输层134和第二电极136,但是本公开的实施例不限于此。例如,发光器件130可以是有机发光器件,但是本公开的实施例不限于此。
第一电极131被设置在平坦化层124上。第一电极131被形成为对于多个子像素中的每个子像素是单独的。第一电极131通过接触孔与薄膜晶体管TFT的源极电极S或漏极电极D电连接。第一电极131可以是用作有机发光器件130的阳极的电极。第一电极131是用于向发光层133提供空穴的部件,并且由具有高功函数的导电材料形成。例如,第一电极131可以由诸如氧化铟锡(ITO)、氧化铟锌(IZO)、氧化铟锡锌(ITZO)、氧化锡(SnO2)、氧化锌(ZnO)、氧化铟铜(ICO)和铝掺杂的氧化锌(Al-dopedZnO,AZO)之类的透明导电氧化物中的一种或多种形成,但是本公开的实施例不限于此。当显示装置100被以顶部发射方法驱动时,第一电极131可以具有这样的结构,其中由透明导电氧化物形成的层和由金属材料形成的反射层堆叠。反射层由具有高反射率的金属形成,使得从发光层133发出的光可以被向上反射。
堤部BNK可以被设置在平坦化层124和第一电极131上。堤部BNK是指/限定发光层133的发射区。例如,堤部BNK可以被设置在平坦化层124上,以暴露第一电极131的至少一部分。堤部BNK可以被设置在平坦化层124上,以覆盖第一电极131的端部部分。例如,堤部BNK可以由疏水性有机材料形成。将在下文描述的空穴注入层132是通过溶液工艺形成的。当堤部BNK由疏水性有机材料形成时,可以容易地便利空穴注入层132的溶液工艺。
下部有机层被设置在第一电极131上。下部有机层可以是被设置在第一电极131和发光层133之间的有机层。例如,下部有机层可以是空穴注入层和空穴传输层中的至少一者。此后,下部有机层被举例为空穴注入层132,但是本公开的实施例不限于此。
空穴注入层132被设置在第一电极131上。空穴注入层132改善了第一电极131与发光层133之间的界面特性,使得从第一电极131提供的空穴容易注入到发光层133中。空穴注入层132可以被形成为对于多个子像素中的每个子像素是单独的,以对应于第一电极131。
空穴注入层132具有横截面轮廓,该横截面轮廓在面朝发光层133的一侧上包括多个弯曲表面。例如,空穴注入层132可以具有U形的横截面轮廓。当发光材料被沉积在具有这种横截面轮廓的空穴注入层132上时,发光材料沿着空穴注入层132的表面顺应地(保形地)沉积。例如,通过沉积工艺形成在空穴注入层132上的发光层133被形成为在发射区域内沿着空穴注入层132的横截面轮廓具有恒定的厚度。相应地,发光层133的厚度是恒定的,但是堆叠在第一电极131和第二电极136之间的层的总厚度不是恒定的。由于堆叠在第一电极131和第二电极136之间的层的厚度的变化,可以获得多腔效应(multi-cavity effect),使得显示装置的亮度视角能够增大。例如,堆叠在第一电极131和第二电极136之间的层在对应的位置处具有不同的厚度,并且根据厚度的变化具有精细的空腔变化(fine cavitychange)。相应地,对应厚度的光谱通过构造现象(constructive phenomenon)组合起来,导致改善亮度视角的效果。
例如,空穴注入层132包括第一平坦部分FA1、第一弯曲部分CA1以及第二弯曲部分CA2。空穴注入层132的横截面轮廓的多个弯曲表面由第一弯曲部分CA1和第二弯曲部分CA2提供。
第一平坦部分FA1被设置在第一弯曲部分CA1与第二弯曲部分CA2之间。在第一平坦部分FA1中,第一平坦部分FA1的中央部分的高度可以与第一平坦部分FA1的邻近第一弯曲部分CA1和第二弯曲部分CA2的外部部分的高度不同。例如,第一平坦部分FA1的厚度变化可以是2纳米或更小,或者可以是1纳米或更小。
例如,第一平坦部分FA1的宽度X1与第一弯曲部分CA1的宽度Y1和第二弯曲部分CA2的宽度Y2之和的比率可以是3∶7至7∶3或4∶6至6∶4。在这种情况下,在保持显示装置的高效率的同时,能够极大地改善亮度视角。
第一弯曲部分CA1和第二弯曲部分CA2中的每个是这样的部段,在该部段中,厚度从空穴注入层132的邻近堤部BNK的外部部分朝着空穴注入层132的邻近第一平坦部分FA1的内部部分减小。换言之,第一弯曲部分CA1和第二弯曲部分CA2各自具有邻近第一平坦部分FA1的近端和远离第一平坦部分FA1的远端,并且对于第一弯曲部分CA1和第二弯曲部分CA2中的每个,厚度从远端朝着近端减小。例如,第一弯曲部分CA1和第二弯曲部分CA2中的每个的最小厚度与最大厚度之间的差值ΔZ可以是15纳米至150纳米、20纳米至150纳米、30纳米至100纳米、或者50纳米至100纳米。当最小厚度与最大厚度之间的差值ΔZ小于15纳米时,增大亮度视角的效果可能不明显。相反,当最小厚度与最大厚度之间的差值超过150纳米时,发射效率可能会下降。在图2中,示出了第一弯曲部分CA1的最小厚度与最大厚度之间的差值以及第二弯曲部分CA2的最小厚度与最大厚度之间的差值彼此相同,但是本公开的实施例不限于此。
空穴注入层132可以通过溶液工艺形成。当空穴注入层132通过沉积工艺形成时,空穴注入层132沿其下部形状被形成为平坦形状。相应地,空穴注入层132可以通过溶液工艺形成,使得空穴注入层132具有U形的横截面轮廓。例如,空穴注入层132可以通过诸如喷墨或喷嘴印刷之类的溶液工艺形成,但是本公开的实施例不限于此。
例如,空穴注入层132可以由具有11,000克/摩尔或更高、11,000克/摩尔至200,000克/摩尔、或15,000克/摩尔至170,000克/摩尔的重量平均分子量的聚合物形成。在这种情况下,可以形成具有U形横截面轮廓的空穴注入层132。此外,由于空穴注入层132的最小厚度与最大厚度之间的差值为15纳米或更大,因此具有改善亮度视角的效果。
例如,空穴注入层132可以包括含有氟的有机材料。例如,空穴注入层132可以包括这样的有机材料,在该有机材料中,聚合物的一些原子或官能团被氟或含有氟的官能团所取代。例如,空穴注入层132可以包括这样的材料,在该材料中诸如聚酰亚胺、苯乙烯和甲基丙烯酸甲酯之类的聚合物的一些原子或官能团被氟或含有氟的官能团取代。作为另一示例,空穴注入层132可以是诸如聚四氟乙烯之类的氟基聚合物。
可以进一步包括空穴传输层作为下部有机层。空穴传输层可以被设置在空穴注入层132上。例如,空穴传输层可以通过沉积工艺形成在空穴注入层132上。在这种情况下,空穴传输层沿着空穴注入层132的表面保形沉积。因此,空穴传输层可以根据空穴注入层132的横截面轮廓以恒定的厚度形成。然而,形成空穴传输层的方法不限于沉积工艺,并且空穴传输层可以通过诸如溶液工艺之类的其它方法形成。
发光层133被设置在空穴注入层132上。发光层133通过在其中包括发光材料来发射光。发光层133可以被形成为发射与子像素相对应的颜色的光。此外,发光层133可以由单层或多层形成。与第一电极131不同,发光层133可以被形成为单层,而不在多个子像素中是单独的。发光层133被设置成覆盖空穴注入层132和堤部BNK。发光层133的结构不限于此。作为本公开的另一个实施例,类似于第一电极131,发光层133可以针对多个子像素中的每个子像素单独形成。例如,发光层133可以被设置成与第一电极131重叠,并且被暴露而不被堤部BNK覆盖。
如上所述,发光层133可以通过沉积工艺形成。当发光材料被沉积在具有U形的横截面轮廓的空穴注入层132上时,发光材料沿着空穴注入层132的表面保形沉积。例如,发光层133被形成为具有恒定的厚度以对应于空穴注入层132的横截面轮廓。例如,由于工艺原因,发光层133的厚度变化可以是2纳米或更小,或者可以是1纳米或更小。
例如,发光层133的厚度是恒定的,但是由于空穴注入层132的横截面轮廓,堆叠在第一电极131与第二电极136之间的层的总厚度不是恒定的。由于堆叠在第一电极131和第二电极136之间的层的厚度的变化,可以获得多腔效应,使得显示装置的亮度视角可以增大。
上部有机层被设置在发光层133上。例如,上部有机层可以包括电子传输层134。
电子传输层134被设置在发光层133上。电子传输层134可以通过沉积工艺沿着发光层133的表面顺应地形成。因此,电子传输层134可以被形成为对应于空穴注入层132的横截面轮廓。
电子传输层134是将电子加速并将电子传输到发光层133的层。电子传输层134允许从第二电极136供应的电子很容易传输到发光层133。
例如,电子传输层134可以包括咪唑、噁二唑、三唑、菲罗啉、苯并噁唑、苯并噻唑、苯并咪唑、三嗪及其衍生物,但是本公开的实施例不限于此。例如,电子传输层134可以包括Liq(8-羟基喹啉锂)、PBD(2-(4-联苯)-5-(4-叔丁基苯基)-1,3,4-噁二唑)、TAZ(3-(4-联苯)4-苯基-5-叔丁基苯基-1,2,4-三唑)、spiro-BD、BCP(2,9-二甲基-4,7-二苯基-1,10-菲罗啉)和BAlq(双(2-甲基-8-喹啉酸)-4-(苯基苯酚)铝),但是本公开的实施例不限于此。
电子注入层135被设置在电子传输层134上。电子注入层135可以通过沉积工艺沿着电子传输层134的表面顺应地形成。因此,电子注入层135可以被形成为对应于空穴注入层132的横截面轮廓。
电子注入层135允许从第二电极136供应的电子顺利地注入到电子传输层134中。电子注入层135可以由无机材料和/或有机材料形成。例如,电子注入层135可以被形成为包括BaF2、LiF、CsF、NaF、BaF2、Li2O、BaO、喹酸锂(Liq)和苯甲酸锂中的一种或多种,但是本公开的实施例不限于此。
第二电极136被设置在电子注入层135上。第二电极136可以通过沉积工艺沿着电子注入层135的表面顺应地形成。因此,第二电极136可以被形成为对应于空穴注入层132的横截面轮廓。
第二电极136可以由具有低功函数的金属材料形成,以便顺利地向发光层133供应电子。例如,第二电极136可以由Ca、Ba、Al、Ag以及包括Ca、Ba、Al、Ag中的一种或多种的合金中的一种或多种金属材料形成,但是本公开的实施例不限于此。
第二电极136没有针对每个子像素进行图案化,而是被形成为单个层。当显示装置100被以顶部发射方法驱动时,第二电极136可以被形成为非常薄且基本透明的。
保护层140被设置在第二电极136上,以保护发光器件130。保护层140抑制或防止外部湿气或氧气渗入发光器件130中并使发光器件130损坏。例如,保护层140可以由单层或多层形成。例如,保护层140可以具有堆叠结构,在该堆叠结构中由无机绝缘材料形成的无机层和由有机材料形成的有机层被堆叠,但是本公开的实施例不限于此。
作为本公开的另一实施例,可以进一步将盖层CPL包括在第二电极136与保护层140之间。类似于第二电极136,盖层CPL没有针对每个子像素进行图案化,而是被作为单个层设置在第二电极136上。盖层CPL可以通过改善有机发光器件130的光学特性来提高光效率和视角。此外,盖层CPL保护第二电极136免于损坏。
盖层CPL和保护层140也可以被形成为具有恒定的厚度,以对应于空穴注入层132的横截面轮廓。
在根据本公开的一个示例性实施例的显示装置100中,空穴注入层132具有U形的横截面轮廓,并且包括通过沉积工艺形成在空穴注入层132上的发光层133。因此,发光层133被形成为沿着空穴注入层132的横截面轮廓具有恒定的厚度,但是被堆叠在第一电极131与第二电极136之间的层的总厚度不是恒定的。如上所述,由于发光层133的厚度是恒定的,但是第一电极131与第二电极136之间的层的厚度不是恒定的,可以获得多腔效应,使得有改善显示装置的亮度视角的效果,同时保持显示装置的高效率。
图3和图4是用于解释根据本公开的另一示例性实施例的显示装置的视图。图3是根据本公开的另一示例性实施例的显示装置的横截面图。图4是用于解释根据本公开的另一示例性实施例的空穴传输层的横截面轮廓的视图。除了空穴注入层和堆叠在空穴注入层的上部部分上的发光层、电子传输层和电子注入层的形状不同之外,图3和图4所示的显示装置200与图1和图2所示的显示装置100基本相同。在图4中,为了便于解释,仅示出了堤部和空穴传输层,并且可以省略对其它部件的图示。
参考图3和图4,空穴注入层232可以具有∩形的横截面轮廓。例如,空穴注入层232包括第一平坦部分FA1、第一弯曲部分CA1和第二弯曲部分CA2。空穴注入层232的横截面轮廓的多个弯曲表面由第一弯曲部分CA1和第二弯曲部分CA2提供。
第一平坦部分FA1被设置在第一弯曲部分CA1与第二弯曲部分CA2之间。在第一平坦部分FA1中,第一平坦部分FA1的中央部分的高度可以与第一平坦部分FA1的邻近第一弯曲部分CA1和第二弯曲部分CA2的外部部分的高度不相同。例如,第一平坦部分FA1的厚度变化可以是2纳米或更小,或者可以是1纳米或更小。
例如,第一平坦部分FA1的宽度X1与第一弯曲部分CA1的宽度Y1和第二弯曲部分CA2的宽度Y2之和的比率可以是3∶7至7∶3或4∶6至6∶4。在这种情况下,在保持显示装置的高效率的同时,可以极大地改善亮度视角。
第一弯曲部分CA1和第二弯曲部分CA2中的每个是这样的部段,在该部段中厚度从空穴注入层232的邻近堤部BNK的外部部分朝着空穴注入层232的邻近第一平坦部分FA1的内部部分增大。换言之,第一弯曲部分CA1和第二弯曲部分CA2各自具有邻近第一平坦部分FA1的近端和远离所述第一平坦部分FA1的远端,并且对于第一弯曲部分CA1和第二弯曲部分CA2中的每个,厚度从远端朝着近端增大。例如,第一弯曲部分CA1和第二弯曲部分CA2中的每个的最小厚度与最大厚度之间的差值ΔZ可以是15纳米至80纳米、20纳米至80纳米、30纳米至80纳米、或20纳米至60纳米。当最小厚度与最大厚度之间的差值ΔZ小于15纳米时,增大亮度视角的效果可能不明显。相反,当最小厚度与最大厚度之间的差值超过80纳米时,发光效率(或发射效率)可能会下降。当横截面轮廓为∩形时,与U形的情况相比,在邻近堤部的部分处堆积现象(pile-up phenomenon)较弱,因此与U形的情况相比,具有较小的厚度差。在图4中,示出了第一弯曲部分CA1的最小厚度与最大厚度的差值以及第二弯曲部分CA2的最小厚度与最大厚度的差值基本彼此相同,但是本公开的实施例不限于此。
空穴注入层232可以通过溶液工艺形成。当空穴注入层232通过沉积工艺形成时,空穴注入层232沿其下部形状被形成为平坦形状。因此,空穴注入层232可以通过溶液工艺形成为具有∩形的横截面轮廓。
例如,空穴注入层232可以由具有2000克/摩尔或更低、或1200克/摩尔至1600克/摩尔的重量平均分子量的低聚物形成。例如,可以形成具有∩形横截面轮廓的空穴注入层232。此外,由于空穴注入层232的最小厚度与最大厚度之间的差值为15纳米或更大,因此,具有改善亮度视角的效果。
例如,空穴注入层232可以包括这样的有机材料,在该有机材料中,聚合物的一些原子或官能团被氟或含有氟的官能团所取代。例如,空穴注入层232可以包括这样的材料,在该材料中,诸如聚酰亚胺、苯乙烯和甲基丙烯酸甲酯之类的聚合物或诸如聚四氟乙烯之类的氟基聚合物的一些原子或官能团被氟或含有氟的官能团取代。
作为本公开的另一实施例,可以进一步包括空穴传输层作为下部有机层。例如,空穴传输层可以通过沉积工艺设置在空穴注入层232上,但是本公开的实施例不限于此。
发光层233被堆叠在空穴注入层232上。发光层233通过沉积工艺形成在具有∩形横截面轮廓的空穴注入层232上。发光层233沿着空穴注入层232的表面顺应地沉积,以具有恒定的厚度。
因此,发光层233的厚度是恒定的,但是由于空穴注入层232的横截面轮廓,堆叠在第一电极131与第二电极236之间的层的总厚度不是恒定的。由于堆叠在第一电极131与第二电极236之间的层的厚度的变化,可以获得多腔效应,使得显示装置的亮度视角能够增大。
电子传输层234、电子注入层235和第二电极236依序堆叠在发光层233上,以形成发光器件230。电子传输层234、电子注入层235和第二电极236中的每个可以沿其下层的表面顺应地形成。电子传输层234、电子注入层235和第二电极236中的每个可以在堤部BNK之间被形成为对应于空穴注入层232的∩形横截面轮廓。
盖层CPL和保护层240依序堆叠在发光器件230上。除了盖层CPL和保护层240的形状对应于空穴注入层232的∩形横截面轮廓之外,盖层CPL和保护层240与图1和图2所示的显示装置100的盖层CPL和保护层140相同。因此,可以省略多余的描述。
在根据本公开的一个示例性实施例的显示装置200中,空穴注入层232具有∩形的横截面轮廓,并且显示装置200包括通过沉积工艺形成在空穴注入层232上的发光层233。因此,发光层233以恒定的厚度沿着空穴注入层232的∩形横截面轮廓形成,但是堆叠在第一电极131和第二电极236之间的层的总厚度不是恒定的。通过这种方式,由于发光层233的厚度是恒定的,但是第一电极131和第二电极236之间的层的厚度不是恒定的,可以获得多腔效应,因此具有改善显示装置的亮度视角的效果,同时保持显示装置的高效率。
图5和图6是用于解释根据本公开的又一示例性实施例的显示装置的视图。图5是根据本公开的又一示例性实施例的显示装置的横截面图。图6是用于解释根据本公开的又一示例性实施例的空穴传输层的横截面轮廓的视图。除了空穴注入层以及堆叠在空穴注入层的上部部分上的发光层、电子传输层和电子注入层的形状不同之外,图5和图6中示出的显示装置300与图1和2中示出的显示装置100基本相同。在图6中,为了便于解释,仅显示了堤部和空穴传输层,而可以省略对其它部件的图示。
参考图5和图6,空穴注入层332可以具有W形的横截面轮廓。例如,空穴注入层232包括第一平坦部分FA1、第一弯曲部分CA1、第二弯曲部分CA2、第二平坦部分FA2、第三弯曲部分CA3、第三平坦部分FA3和第四弯曲部分CA4。空穴注入层332的横截面轮廓的多个弯曲表面由第一弯曲部分CA1、第二弯曲部分CA2、第三弯曲部分CA3和第四弯曲部分CA4提供。
第一平坦部分FA1被设置在堤部BNK之间的中央部分处。第一平坦部分FA1被设置在第一弯曲部分CA1与第二弯曲部分CA2之间。在第一平坦部分FA1中,第一平坦部分FA1的中央部分的高度可以与邻近第一弯曲部分CA1和第二弯曲部分CA2的外部部分的高度不相同。例如,第一平坦部分FA1的厚度变化可以是2纳米或更小,或者可以是1纳米或更小。
第一弯曲部分CA1邻近第一平坦部分FA1的一部分,并且第二弯曲部分CA2邻近第一平坦部分FA1的另一部分。第一弯曲部分CA1和第二弯曲部分CA2可以被设置成对称的结构,使得第一平坦部分FA1介于第一弯曲部分CA1和第二弯曲部分CA2之间。第一弯曲部分CA1和第二弯曲部分CA2中的每个都是这样的部分,在该部分中厚度从空穴注入层332的邻近堤部BNK的外部部分朝着空穴注入层332的邻近第一平坦部分FA1的内部部分增加。换言之,第一弯曲部分CA1和第二弯曲部分CA2各自具有邻近第一平坦部分FA1的近端和远离第一平坦部分FA1的远端,并且对于第一弯曲部分CA1和第二弯曲部分CA2中的每个,厚度从远端朝着近端增大。例如,第一弯曲部分CA1和第二弯曲部分CA2中的每个的最小厚度与最大厚度之间的差值ΔZ可以是15纳米至80纳米、20纳米至80纳米、30纳米至80纳米,或20纳米至60纳米。当最小厚度与最大厚度之间的差值ΔZ小于15纳米时,增大亮度视角的效果可能不明显。相反,当最小厚度与最大厚度之间的差值超过80纳米时,发光效率可能会下降。在图6中,示出了第一弯曲部分CA1的最小厚度与最大厚度之间的差值以及第二弯曲部分CA2的最小厚度与最大厚度之间的差值基本彼此相同,但是本公开的实施例不限于此。
第一弯曲部分CA1被设置在第二平坦部分FA2与第一平坦部分FA1之间。第二平坦部分FA2位于第一弯曲部分CA1与第三弯曲部分CA3之间。因此,第二平坦部分FA2的一部分邻近第一弯曲部分CA1,并且第二平坦部分FA2的另一部分邻近第三弯曲部分CA3。由于第二平坦部分FA2具有厚度变化,因此第二平坦部分FA2的中央部分的高度可以与第二平坦部分FA2的外部部分的高度不同。例如,第二平坦部分FA2的厚度变化可以是2纳米或更小,或者可以是1纳米或更小。
第二弯曲部分CA2被设置在第三平坦部分FA3与第一平坦部分FA1之间。第三平坦部分FA3位于第二弯曲部分CA2与第四弯曲部分CA4之间。因此,第三平坦部分FA3的一部分邻近第二弯曲部分CA2,并且第三平坦部分FA3的另一部分邻近第四弯曲部分CA4。第三平坦部分FA3和第二平坦部分FA2可以被设置成对称的结构,使得第一弯曲部分CA1、第一平坦部分FA1和第二弯曲部分CA2介于第三平坦部分FA3和第二平坦部分FA2之间。由于第三平坦部分FA3具有厚度变化,因此第三平坦部分FA3的中央部分的高度可以与第三平坦部分FA3的外部部分的高度不同。例如,第三平坦部分FA3的厚度变化可以是2纳米或更小,或者可以是1纳米或更小。
第三弯曲部分CA3的一部分被邻近第二平坦部分FA2设置,并且第三弯曲部分CA3的另一部分被邻近堤部BNK设置。第三弯曲部分CA3是这样的部分,在该部分中厚度从空穴注入层332的邻近堤部BNK的外部部分朝着空穴注入层332的邻近第二平坦部分FA2的内部部分减小。换言之,第三弯曲部分CA3具有邻近第二平坦部分FA2的近端和远离第二平坦部分FA2的远端,并且对于第三弯曲部分CA3,厚度从第三弯曲部分CA3的远端朝着近端减小。例如,第三弯曲部分CA3的最小厚度与最大厚度之间的差值ΔZ'可以是10纳米至50纳米或者15纳米至40纳米。当第三弯曲部分CA3的最小厚度与最大厚度之间的差值ΔZ'小于10纳米时,增大亮度视角的效果可能不明显。相反,当最小厚度与最大厚度之间的差值超过50纳米时,发光效率可能会下降。
第四弯曲部分CA4的一部分被邻近第三平坦部分FA3设置,并且第四弯曲部分CA4的另一部分被邻近堤部BNK设置。第四弯曲部分CA4是这样的部分,在该部分中厚度从空穴注入层332的邻近堤部BNK的外部部分朝着空穴注入层332的邻近第三平坦部分FA3的内部部分减小。换言之,第四弯曲部分CA4具有邻近第三平坦部分FA3的近端和远离第三平坦部分FA3的远端,并且对于第四弯曲部分CA4,厚度从第四弯曲部分CA4的远端朝着近端减小。例如,第四弯曲部分CA4的最小厚度与最大厚度之间的差值ΔZ'可以是10纳米至50纳米或者15纳米至40纳米。当第四弯曲部分CA4的最小厚度与最大厚度之间的差值ΔZ'小于10纳米时,增大亮度视角的效果可能不明显。相反,当最小厚度与最大厚度之间的差值超过50纳米时,发光效率可能下降。第四弯曲部分CA4和第三弯曲部分CA3可以被设置成对称的结构,使得第二平坦部分FA2、第二弯曲部分CA2、第一平坦部分FA1、第三弯曲部分CA3和第三平坦部分FA3介于第四弯曲部分CA4和第三弯曲部分CA3之间。
在图6中,示出了第三弯曲部分CA3的最小厚度与最大厚度之间的差值以及第四弯曲部分CA4的最小厚度与最大厚度之间的差值彼此基本相同,但是本公开的实施例不限于此。
为了最大化显示装置300的效率和亮度视角,可以调节第一平坦部分FA1的宽度X1、第一弯曲部分CA1的宽度Y1、第二弯曲部分CA2的宽度Y2、第二平坦部分FA2的宽度X2、第三平坦部分FA3的宽度X3、第三弯曲部分CA3的宽度Y3和第四弯曲部分CA4的宽度Y4。例如,(Y3+Y4)∶(X2+X3)∶(Y1+Y2)∶X1可以是(0.5至1.0)∶(1.0至2.0)∶(4.5至7.0)∶(1.5至3.0)。作为本公开的另一个实施例,(Y3+Y4)∶(X2+X3)∶(Y1+Y2)∶X1可以是(0.5至1.0)∶(1.0至1.5)∶(4.8至5.8)∶(2.0至3.0)。作为本公开的另一个实施例,(Y3+Y4)∶(X2+X3)∶(Y1+Y2)∶X1可以是(0.5至1.0)∶(1.0至1.5)∶(6.0至7.0)∶(1.5至2.0)。在上述范围内,在保持显示装置300的高发光效率的同时,能够极大地改善亮度视角。
空穴注入层332可以通过溶液工艺形成。在这种情况下,空穴注入层332可以被容易地形成为具有W形的横截面轮廓。当空穴注入层332通过溶液工艺形成时,空穴注入层332沿其下部形状被形成为平坦形状。换言之,空穴注入层332的横截面轮廓在面朝第一电极131的一侧上具有平坦形状。
例如,空穴注入层332可以由具有2,000克/摩尔或更小或者1,200克/摩尔至1,600克/摩尔的重量平均分子量的低聚物形成。在这种情况下,可以很容易地形成具有W形横截面轮廓的空穴注入层332。
例如,空穴注入层332可以包括这样的有机材料,在该有机材料中,聚合物的一些原子或官能团被氟或含有氟的官能团所取代。例如,空穴注入层332可以包括这样的材料,在该材料中,诸如聚酰亚胺、苯乙烯和甲基丙烯酸甲酯之类的聚合物或者诸如聚四氟乙烯之类的氟基聚合物的一些原子或官能团被氟或含有氟的官能团所取代。
作为本公开的另一实施例,可以进一步包括通过沉积工艺形成在空穴注入层332上的空穴传输层。
发光层333被堆叠在空穴注入层332上。发光层333通过沉积工艺形成在具有W形横截面轮廓的空穴注入层332上。发光层333沿着空穴注入层332的表面顺应地沉积,以具有恒定的厚度。
电子传输层334、电子注入层335和第二电极336被依序堆叠在发光层333上,以形成发光器件330。电子传输层334、电子注入层335和第二电极336中的每个可以沿其下层的表面顺应地形成。电子传输层334、电子注入层335和第二电极336中的每个可以在堤部BNK之间被形成为对应于空穴注入层332的W形横截面轮廓。
盖层CPL和保护层340被依序堆叠在发光器件330上。除了盖层CPL和保护层340的形状对应于空穴注入层332的W形横截面轮廓之外,盖层CPL和保护层340与图1和图2所示的显示装置100的盖层CPL和保护层140相同。因此,可以省略多余的描述。
在根据本公开的一个示例性实施例的显示装置300中,空穴注入层332具有W形的横截面轮廓,并且显示装置300包括通过沉积工艺形成在空穴注入层332上的发光层333。因此,发光层333被形成为沿着空穴注入层332的W形横截面轮廓具有恒定的厚度,但是堆叠在第一电极131和第二电极336之间的层的总厚度不是恒定的。由于堆叠在第一电极131和第二电极336之间的层的厚度的变化,可以获得多腔效应,使得在保持显示装置的高效率的同时,具有极大改善显示装置的亮度视角的效果。
类似于空穴注入层332具有W形的横截面轮廓的实施例,在根据本公开的另一个示例性实施例的显示装置中,空穴注入层可以具有M形的横截面轮廓。除了空穴注入层以及堆叠在空穴注入层的上部部分上的发光层、电子传输层和电子注入层的形状不同之外,这种显示装置与图5和6中示出的显示装置300基本相同。因此在本文中不再赘述这种显示装置的构型。
应理解到,空穴注入层可以具有U形、∩形、W形和M形中的单独一种或任何组合的横截面轮廓。
下面,将通过本公开的实施例和对比例来更详细地描述本公开的效果。但是,本公开的以下实施例是为了说明本公开的内容,并且本公开的实施例不受以下实施例的限制。
[实验例1]
通过对试样进行模拟分析了厚度曲线、效率和视角,在该试样中,具有如图4所示的∩形的空穴注入层被形成在基板上的堤部中。此时,分别对这样的试样进行了模拟:第一平坦部分的宽度X1与第一弯曲部分CA1的宽度Y1和第二弯曲部分CA2的宽度Y2之和的比率,即X1∶(Y1+Y2)为3∶7的试样(以下简称实验例1A);X1∶(Y1+Y2)为5∶5的试样(以下简称实验例1B);以及X1∶(Y1+Y2)为7∶3的试样(以下简称实验例1C)。在图7、图8和图9中示出了相应的结果。图7是示出具有∩形的空穴注入层的厚度曲线的图表。图8是示出视角根据具有∩形的空穴注入层的最小厚度与最大厚度之间的差值(Δ)的变化的图表。图9是示出效率根据具有∩形的空穴注入层的最小厚度与最大厚度之间的差值(Δ)的变化的图表。作为参考,图8和图9中的ΔZ为0意味着空穴注入层被形成为平坦的。
参考图7,可以看出,具有∩形的空穴注入层在空穴注入层的邻近堤部的外部部分上表现出堆积现象。参考图8,可以看出,随着具有∩形的空穴注入层的最小厚度与最大厚度之间的差值ΔZ增大,视角增大。可以看出,当ΔZ为15纳米或更大以及20纳米或更大时,增大视角的效果显著增加。此外,可以看出,当弯曲部分CA1和CA2的宽度相对宽时,增大视角的效果最大,其中,X1∶(Y1+Y2)是3∶7,而不是7∶3。参考图9,即使ΔZ增大,发光效率(或发射效率)也保持相对较高,并且可以看出,当ΔZ为40纳米或更小时,效率更为出色。
[实验例2]
通过对试样进行模拟分析了厚度曲线、颜色视角和亮度视角,在该试样中,具有如图2所示的U形的空穴注入层被形成在基板上的堤部中。此时,分别对实验例2A和实验例2B进行了模拟,在实验例2A中第一弯曲部分CA1和第二弯曲部分CA2中的每个的最大厚度与最小厚度之间的差值ΔZ为46纳米,在实验例2B中最大厚度与最小厚度之间的差值ΔZ为68纳米。在图10、图11和图12中示出了相应的结果。图10是示出根据实验例2B的空穴传输层的厚度曲线的图表。图11是示出具有U形的空穴注入层的亮度视角的变化的图表。图12是示出具有U形的空穴注入层的颜色视角的变化的图表。作为参考,在图11和图12中,面积比是第一平坦部分的宽度X1与第一弯曲部分CA1的宽度Y1和第二弯曲部分CA2的宽度Y2之和的比率。面积比为100意味着空穴注入层被形成为是平坦的,而没有弯曲部分。
参考图10,可以确认,空穴注入层具有U形轮廓。参考图11,可以看出,当空穴注入层具有U形时,与空穴注入层是平坦的情况相比,亮度视角得到了极大的改善。此外,可以确认,具有U形的空穴注入层的最小厚度与最大厚度之间的差值ΔZ相对较大的实验例2B在亮度视角方面具有更大提升效果。参考图12,当空穴注入层具有U形时,可以看出,与空穴注入层是平坦的情况相比,彩色视角得到了极大的改善,并且可以看出,具有相对大的ΔZ的实验例2B在彩色视角方面的提升效果比实验例2A更大。
[实验例3]
通过对试样进行模拟分析了厚度曲线、亮度视角和效率,在该试样中,具有如图6所示的W形的空穴注入层被形成在基板上的堤部中。
此时,在图6中,分别对这样的试样进行了模拟:(Y3+Y4)∶(X2+X3)∶(Y1+Y2)∶X1为0.8∶1.2∶5.6∶2.4的试样(以下简称实验例3A);以及(Y3+Y4)∶(X2+X3)∶(Y1+Y2)∶X1为0.8∶1.2∶6.4∶1.6的试样(以下简称实验例3B)。在图13、图14和图15示出了相应的结果。图13是示出具有W形的空穴注入层的厚度曲线的图表。图14是示出视角根据具有W形的空穴注入层的最小厚度与最大厚度之间的差值(Δ)的变化的图表。图15是示出效率根据具有W形的空穴注入层的最小厚度与最大厚度之间的差值(Δ)的变化的图表。作为参考,图14和图15中的ΔZ为0意味着空穴注入层被形成为平坦的。
参考图13,可以看出,空穴注入层具有W形轮廓。参考图14,可以看出,随着具有W形的空穴注入层的最小厚度与最大厚度之间的差值ΔZ的增大,视角增大。可以看出,当ΔZ为15纳米或更大时,增大视角的效果明显增加。此外,可以看出,实验例3A和实验例3B之间的(Y3+Y4)∶(X2+X3)∶(Y1+Y2)∶X1的比率相差不明显,因此实验例3A和实验例3B之间增大视角的效果相差也是相似的。参考图15,可以看出,即使在增加ΔZ时,发光效率也保持相对较高。
下面介绍根据本公开的一个或多个实施例的显示装置。
根据本公开的一个或多个实施例的显示装置可以包括基板、设置在基板上的第一电极、设置在第一电极上的下部有机层、设置在下部有机层上的发光层、以及设置在发光层上的第二电极,其中,下部有机层具有横截面轮廓,该横截面轮廓在面朝该发光层的一侧上包括多个弯曲表面。
根据本公开的一个或多个实施例,下部有机层可以包括空穴注入层或空穴传输层的至少一个。
根据本公开的一个或多个实施例,下部有机层可以具有U形、∩形、W形和M形的中的一种或多种的横截面轮廓。
根据本公开的一个或多个实施例,下部有机层可以具有U形的横截面轮廓。下部有机层可以具有第一弯曲部分、第二弯曲部分、以及在第一弯曲部分与第二弯曲部分之间的第一平坦部分。第一弯曲部分和第二弯曲部分可以各自具有邻近所述第一平坦部分的近端和远离所述第一平坦部分的远端。第一弯曲部分和第二弯曲部分可以各自具有这样的形状,其中厚度从远端朝着近端减小。第一平坦部分的厚度变化可以为2纳米或更小。
根据本公开的一个或多个实施例,第一弯曲部分和第二弯曲部分中的每个的最小厚度与最大厚度之间的差值可以在15纳米至150纳米的范围内。
根据本公开的一个或多个实施例,第一平坦部分的宽度与第一弯曲部分的宽度和第二弯曲部分的宽度之和的比率可以在3∶7至7∶3的范围内。
根据本公开的一个或多个实施例,下部有机层的横截面轮廓可以具有∩形。下部有机层可以具有第一弯曲部分、第二弯曲部分、以及在第一弯曲部分与第二弯曲部分之间的第一平坦部分。第一弯曲部分和第二弯曲部分可以各自具有邻近第一平坦部分的近端和远离第一平坦部分的远端。第一弯曲部分和第二弯曲部分可以各自具有这样的形状,其中厚度从远端朝着近端增大。第一平坦部分的厚度变化可以是2纳米或更小。
根据本公开的一个或多个实施例,第一弯曲部分和第二弯曲部分中的每个的最小厚度与最大厚度之间的差值在15纳米至80纳米的范围内。
根据本公开的一个或多个实施例,第一平坦部分的宽度与第一弯曲部分的宽度和第二弯曲部分的宽度之和的比率在3∶7至7∶3的范围内。
根据本公开的一个或多个实施例,下部有机层可以具有W形的横截面轮廓。下部有机层可以包括第一平坦部分、在第一平坦部分的第一部分处的第一弯曲部分、在第一平坦部分的第二部分处的第二弯曲部分、在第一弯曲部分的第一部分处的第二平坦部分、在第二弯曲部分的第二部分处的第三平坦部分、在第二平坦部分的第一部分处的第三弯曲部分以及在第三平坦部分的第二部分处的第四弯曲部分。第一弯曲部分和第二弯曲部分可以彼此对称,第二平坦部分和第三平坦部分可以彼此对称,并且第三弯曲部分和第四弯曲部分可以彼此对称。第一平坦部分、第二平坦部分和第三平坦部分中的每个的厚度变化可以为2纳米或更小。
根据本公开的一个或多个实施例,第一弯曲部分和第二弯曲部分可以各自具有邻近第一平坦部分的近端和远离第一平坦部分的远端,并且第一弯曲部分和第二弯曲部分可以各自具有这样的形状,其中厚度从远端朝着近端增大。第三弯曲部分可以具有邻近第二平坦部分的近端和远离第二平坦部分的远端,并且第三弯曲部分可以具有这样形状,其中厚度从第三弯曲部分的远端朝着近端减小。第四弯曲部分可以具有邻近第三平坦部分的近端和远离第三平坦部分的远端,并且可以第四弯曲部分可以具有这样形状,其中厚度从第四弯曲部分的的远端朝着近端减小。
根据本公开的一个或多个实施例,第三弯曲部分的宽度和第四弯曲部分的宽度之和为a,第二平坦部分的宽度和第三平坦部分的宽度之和为b,第一弯曲部分的宽度和第二弯曲部分的宽度之和为c,并且第一平坦部分的宽度为d,a∶b∶c∶d可以是(0.5至1.0)∶(1.0至2.0)∶(4.5至7.0)∶(1.5至3.0)。
根据本公开的一个或多个实施例,第一弯曲部分和第二弯曲部分中的每个的最小厚度与最大厚度之间的差值可以在15纳米至80纳米的范围内。第三弯曲部分和第四弯曲部分中的每个的最小厚度与最大厚度之间的差值可以在10纳米至50纳米的范围内。
根据本公开的一个或多个实施例,下部有机层可以被通过溶液工艺形成,并且发光层可以被通过沉积工艺形成。发光层的厚度变化可以为2纳米或更小。
根据本公开的一个或多个实施例,下部有机层可以具有∩形或W形的横截面轮廓情况,并且下部有机层可以由具有2000克/摩尔或更小的重量平均分子量的低聚物形成。
根据本公开的一个或多个实施例,下部有机层可以具有U形的横截面轮廓情况,并且下部有机层可以由重量平均分子量为11000克/摩尔或更高的聚合物形成。
根据本公开的一个或多个实施例,下部有机层可以包括含有氟的有机材料。
根据本公开的一个或多个实施例,含有氟的有机材料可以是原子或官能团被氟或含有氟的官能团所取代的聚合物。
根据本公开的一个或多个实施例,下部有机层的最小厚度和最大厚度之间的差值可以为15纳米或更大。
根据本公开的一个或多个实施例,下部有机层的横截面轮廓可以在面朝第一电极的一侧上具有平坦形状。
对于本领域的技术人员来说,显然可以在不偏离本公开的范围的情况下对本公开的内容进行各种修改和变化。因此,本公开的目的是涵盖本公开的修改和变化,只要它们属于所附权利要求书及其等同物的范围。

Claims (10)

1.一种显示装置,包括:
基板;
设置在所述基板上的第一电极;
设置在所述第一电极上的下部有机层;
设置在所述下部有机层上的发光层;以及
设置在所述发光层上的第二电极,
其中,所述下部有机层具有横截面轮廓,所述横截面轮廓在面朝所述发光层的一侧上包括多个弯曲表面。
2.根据权利要求1所述的显示装置,其特征在于,所述下部有机层包括空穴注入层或空穴传输层中的至少一个。
3.根据权利要求1所述的显示装置,其特征在于,所述下部有机层具有为U形、∩形、W形和M形中的一种或多种的横截面轮廓。
4.根据权利要求3所述的显示装置,其特征在于,所述下部有机层具有U形的横截面轮廓,
所述下部有机层具有第一弯曲部分、第二弯曲部分以及在所述第一弯曲部分与所述第二弯曲部分之间的第一平坦部分,所述第一弯曲部分和所述第二弯曲部分各自具有邻近所述第一平坦部分的近端和远离所述第一平坦部分的远端,
所述第一弯曲部分和所述第二弯曲部分各自具有这样的形状,其中厚度从所述远端朝着所述近端减小,以及
所述第一平坦部分的厚度变化为2纳米或更小。
5.根据权利要求4所述的显示装置,其特征在于,所述第一弯曲部分和所述第二弯曲部分中的每个的最小厚度与最大厚度之间的差值在15纳米至150纳米的范围内。
6.根据权利要求4所述的显示装置,其特征在于,所述第一平坦部分的宽度与所述第一弯曲部分的宽度和所述第二弯曲部分的宽度之和的比率为3∶7至7∶3。
7.根据权利要求3所述的显示装置,其特征在于,所述下部有机层具有∩形的横截面轮廓,
所述下部有机层具有第一弯曲部分、第二弯曲部分以及在所述第一弯曲部分和所述第二弯曲部分之间的第一平坦部分,
所述第一弯曲部分和所述第二弯曲部分各自具有邻近所述第一平坦部分的近端和远离所述第一平坦部分的远端,
所述第一弯曲部分和所述第二弯曲部分各自具有这样的形状,其中厚度从所述远端朝着所述近端增大,以及
所述第一平坦部分的厚度变化为2纳米或更小。
8.根据权利要求7所述的显示装置,其特征在于,所述第一弯曲部分和所述第二弯曲部分中的每个的最小厚度与最大厚度之间的差值在15纳米至80纳米的范围内。
9.根据权利要求7所述的显示装置,其特征在于,所述第一平坦部分的宽度与所述第一弯曲部分的宽度和所述第二弯曲部分的宽度之和的比率在3∶7至7∶3的范围内。
10.根据权利要求3所述的显示装置,其特征在于,所述下部有机层具有W形的横截面轮廓,
所述下部有机层包括第一平坦部分、在所述第一平坦部分的第一部分处的第一弯曲部分、在所述第一平坦部分的第二部分处的第二弯曲部分、在所述第一弯曲部分的第一部分处的第二平坦部分、在所述第二弯曲部分的第二部分处的第三平坦部分、在所述第二平坦部分的第一部分处的第三弯曲部分以及在所述第三平坦部分的第二部分处的第四弯曲部分,
所述第一弯曲部分和所述第二弯曲部分彼此对称,所述第二平坦部分和所述第三平坦部分彼此对称,并且所述第三弯曲部分和所述第四弯曲部分彼此对称,以及
所述第一平坦部分、所述第二平坦部分和所述第三平坦部分中的每个的厚度变化为2纳米或更小。
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