CN117855016A - 离子注入检测设备、方法、装置及计算机设备 - Google Patents

离子注入检测设备、方法、装置及计算机设备 Download PDF

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王亚
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Abstract

本发明实施例提供了一种离子注入检测设备、方法、装置及计算机设备，其中，离子注入检测设备包括：检测模组，所述检测模组包括至少一个检测单元，所述检测单元用于检测射入所述检测单元的离子流量；位于所述检测模组上的阻挡模组，所述阻挡模组包括至少一个阻挡部和至少一个转动部，其中，所述阻挡部用于至少覆盖一检测单元，所述转动部连接所述阻挡部，用于改变所述阻挡部覆盖所述检测单元的角度；与所述阻挡模组耦接的控制模组，所述控制模组用于控制所述转动部，以改变所述阻挡部覆盖所述检测单元的角度，使得所述检测单元基于所述阻挡部的覆盖角度，至少部分暴露于离子注入环境中。本发明实施例可以实现对离子束入射角度的检测。

Description

离子注入检测设备、方法、装置及计算机设备
技术领域
本发明实施例涉及半导体设备技术领域，尤其涉及一种离子注入检测设备、方法、装置及计算机设备。
背景技术
离子注入是一种材料表面改性技术，用于对半导体表面进行离子掺杂。在进行离子注入时，可以利用电弧腔电离气体源分子以产生离子束，并通过对离子束进行目标离子筛选和离子束形状调整后，将离子束射入晶片表面。
离子束的离子流量和离子束的入射角度，均是衡量离子束质量的重要标准。然而，现有的检测设备并不能实现对离子束入射角度的检测。
发明内容
本发明解决的问题是提供一种离子注入检测设备、方法、装置及计算机设备，以实现对离子束入射角度的检测。
为实现上述目的，本发明实施例提供如下技术方案。
本发明实施例提供了一种离子注入检测设备，包括：
磁透镜，用于调整离子束的形状；
检测模组，所述检测模组包括至少一个检测单元，所述检测单元用于检测射入所述检测单元的离子流量；
位于所述检测模组上的阻挡模组，所述阻挡模组包括至少一个阻挡部和至少一个转动部，其中，所述阻挡部用于至少覆盖一检测单元，所述转动部连接所述阻挡部，用于改变所述阻挡部覆盖所述检测单元的角度；
与所述阻挡模组耦接的控制模组，所述控制模组用于控制所述转动部的转动角度，使得所述检测单元基于所述阻挡部的覆盖角度，至少部分暴露于离子注入环境中；
支撑装置，用于驱动所述检测模组进行一维或二维移动；
信号采集装置，用于采集各检测单元中的检测信号。
可选的，所述检测模组包括多个检测单元，所述检测单元呈二维阵列排布；所述阻挡模组中，所述阻挡部的数量基于所述检测单元的数量和排布规律设置；其中，所述检测模组的检测面积大于或等于所述离子束的横截面积。
可选的，一所述阻挡部至少覆盖一行/列中的多个检测单元。
可选的，所述检测模组还包括隔离部，所述隔离部设置于相邻检测单元之间，用于隔离相邻检测单元之间的电信号串扰。
可选的，所述支撑装置包括第一支撑部，用于将所述检测单元按照阵列排布固定设置。
可选的，所述支撑装置还包括导轨，所述第一支撑部设置有与所述导轨匹配的卡槽。
可选的，所述阻挡部通过所述转动部连接所述检测单元；或，所述阻挡模组还包括第二支撑部，所述阻挡部通过所述转动部连接至所述第二支撑部，其中，所述阻挡部与所述检测单元对应设置。
可选的，所述阻挡部上施加有抑制电压。
可选的，一所述检测单元的离子接收面的面积不大于离子束横截面积的1/4。
可选的，所述控制模组控制所述转动部转动的精度不大于0.1°。
可选的，所述检测单元为法拉第杯，所述阻挡部为法拉第光栅，所述转动部包括合页和马达，所述合页基于所述马达使所述阻挡部转动。
可选的，所述阻挡部的材料为铝、铅、碳基材料中的任意一种或多种。
本发明实施例还提供了一种离子注入检测方法，应用于本发明实施例提供的离子注入检测设备，包括：
将检测模组置于离子注入环境中，且使阻挡模组位于所述检测模组和离子束之间；
控制所述转动部，以改变所述阻挡模组中的阻挡部覆盖所述检测模组中的检测单元的角度，确定所述检测单元检测到的离子流量到达最大时，所述阻挡部覆盖所述检测单元的角度；
基于所述检测模组的位置、所述检测单元检测到的离子流量到达最大时所述阻挡部的角度，计算得到离子束的入射角度。
本发明实施例还提供了一种离子注入检测装置，包括：
移动模块，用于将检测模组置于离子注入环境中，且使阻挡模组位于所述检测模组和离子束之间；
角度控制模块，用于控制所述转动部，以改变所述阻挡模组中的阻挡部覆盖所述检测模组中的检测单元的角度，确定所述检测单元检测到的离子流量到达最大时，所述阻挡部覆盖所述检测单元的角度；
计算模块，用于基于所述检测模组的位置、所述检测单元检测到的离子流量到达最大时所述阻挡部的角度，计算得到离子束的入射角度。
本发明实施例还提供了一种计算机设备，包括：至少一个存储器和至少一个处理器；所述存储器存储一条或多条计算机可执行指令，所述处理器调用所述一条或多条计算机可执行指令，以执行本发明实施例提供的离子注入检测方法。
与现有技术相比，本发明实施例的技术方案具有以下优点：
基于此，本发明实施例提供了一种离子注入检测设备、方法、装置及计算机设备，其中，所述离子注入检测设备包括：磁透镜，用于调整离子束的形状；检测模组，所述检测模组包括至少一个检测单元，所述检测单元用于检测射入所述检测单元的离子流量；位于所述检测模组上的阻挡模组，所述阻挡模组包括至少一个阻挡部和至少一个转动部，其中，所述阻挡部用于至少覆盖一检测单元，所述转动部连接所述阻挡部，用于改变所述阻挡部覆盖所述检测单元的角度；与所述阻挡模组耦接的控制模组，所述控制模组用于控制所述转动部的转动角度，使得所述检测单元基于所述阻挡部的覆盖角度，至少部分暴露于离子注入环境中；支撑装置，用于驱动所述检测模组进行一维或二维移动；信号采集装置，用于接收检测单元的信号。
进而，在进行离子注入检测时，可以将检测模组置于离子注入环境中，且使阻挡模组位于所述检测模组和离子束之间，之后，控制所述阻挡部覆盖所述检测单元的角度，确定所述检测单元检测到的离子流量到达最大时，所述阻挡部覆盖所述检测单元的角度，进而，基于所述检测模组的位置、所述检测单元检测到的离子流量到达最大时所述阻挡部的角度，计算得到离子束的入射角度。
可以看出，本发明实施例中的阻挡部基于可变的角度覆盖在检测单元上，从而可以在离子注入环境中，基于阻挡部覆盖检测单元的角度的变化，检测射入检测单元的离子流量的变化，从而确定所述检测单元检测到的离子流量到达最大时，所述阻挡部覆盖所述检测单元的角度，进而计算离子束的入射角度，实现对离子束入射角度的检测。
附图说明
图1为本发明实施例提供的离子注入检测设备的结构示意图；
图2为本发明实施例提供的检测模块的俯视结构示意图；
图3为本发明实施例提供的检测模块沿图2中AA’方向的剖结构示意图；
图4为本发明实施例提供的阻挡模组结构示意图；
图5为本发明实施例提供的阻挡部与检测单元的位置对照图；
图6为本发明实施例提供的一离子束的束流密度示例图；
图7为本发明实施例提供的离子注入检测方法的一可选流程图；
图8为本发明实施例提供的离子注入检测装置的一可选框图。
具体实施方式
下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。
如背景技术所述，现有的检测设备并不能实现对离子束入射角度的检测。
发明人认为，现有的针对离子注入流程的检测设备，只能实现对离子流量的检测。例如，利用法拉第杯将射入法拉第杯的离子转化为电流，进而基于电流的大小，计算离子流量。显然，该种检测设备并不能满足对离子束入射角度的检测需求。
基于此，本发明实施例提供了一种离子注入检测设备、方法、装置及计算机设备，其中，所述离子注入检测设备包括：磁透镜，用于调整离子束的形状，检测模组，所述检测模组包括至少一个检测单元，所述检测单元用于检测射入所述检测单元的离子流量；位于所述检测模组上的阻挡模组，所述阻挡模组包括至少一个阻挡部和至少一个转动部，其中，所述阻挡部用于至少覆盖一检测单元，所述转动部连接所述阻挡部，用于改变所述阻挡部覆盖所述检测单元的角度；与所述阻挡模组耦接的控制模组，所述控制模组用于控制所述转动部的转动角度，使得所述检测单元基于所述阻挡部的覆盖角度，至少部分暴露于离子注入环境中；支撑装置，用于驱动所述检测模组进行一维或二维移动；信号采集装置，用于接收检测单元的信号。
进而，在进行离子注入检测时，可以将检测模组置于离子注入环境中，且使阻挡模组位于所述检测模组和离子束之间，之后，控制所述阻挡部覆盖所述检测单元的角度，确定所述检测单元检测到的离子流量到达最大时，所述阻挡部覆盖所述检测单元的角度，进而，基于所述检测模组的位置、所述检测单元检测到的离子流量到达最大时所述阻挡部的角度，计算得到离子束的入射角度。
可以看出，本发明实施例中的阻挡部基于可变的角度覆盖在检测单元上，从而可以在离子注入环境中，基于阻挡部覆盖检测单元的角度的变化，检测射入检测单元的离子流量的变化，从而确定所述检测单元检测到的离子流量到达最大时，所述阻挡部覆盖所述检测单元的角度，进而计算离子束的入射角度，实现对离子束入射角度的检测。
在一些优选示例中，本发明实施例中进一步设置所述检测模组包括多个检测单元，所述检测单元呈二维阵列排布；所述阻挡模组中，所述阻挡部的数量基于所述检测单元的数量和排布规律设置；其中，所述检测模组的检测面积大于或等于所述离子束的垂直入射面积，从而可以基于检测单元的检测结果，进一步确定离子束的束斑形状和束流密度。
为使本发明的上述目的、特征和优点能够更为明显易懂，下面结合附图对本发明的具体实施例做详细的说明。
参考图1示出的离子注入检测设备的结构示意图，所述离子注入检测设备包括：磁透镜100，用于调整离子束的形状；检测模组110，所述检测模组包括至少一个检测单元，所述检测单元用于检测射入所述检测单元的离子流量；位于所述检测模组110上的阻挡模组120，所述阻挡模组120包括至少一个阻挡部和至少一个转动部，其中，所述阻挡部用于至少覆盖一检测单元，所述转动部连接所述阻挡部，用于改变所述阻挡部覆盖所述检测单元的角度；与所述阻挡模组120耦接的控制模组130，所述控制模组130用于控制所述转动部的转动角度，使得所述检测单元基于所述阻挡部的覆盖角度，至少部分暴露于离子注入环境中；支撑装置140，用于驱动所述检测模组进行一维或二维移动；信号采集装置150，用于接收检测单元的信号。
所述磁透镜，用于调整离子束的形状，其中，在离子注入机中，气体源分子经电弧腔产生离子束，通过分析磁场对离子束进行目标离子筛选，并将离子束送入到包含多个磁透镜(例如静电四极透镜)的区域，磁透镜(例如静电四极透镜)中有使离子束能从中穿过的开孔，通过施加不同的电位组合，可以调整离子束为最优形状注入到晶片表面。
其中，所述检测模组110为离子注入检测设备中，检测单元的集合，用于为离子注入检测设备提供离子束检测功能。所述检测单元，可以理解为独立的检测部件，例如，所述检测单元可以为法拉第杯，用于检测射入所述检测单元的离子流量。其中，所述检测单元检测离子流量的方式可以为电学方式、磁学方式等，例如，所述检测单元以电学方式进行检测(如法拉第杯)，可以将离子束转化为电流，进而基于电流的大小计算离子流量。
所述检测模组110中，所述检测单元可以为一个或多个，在一个可选的示例中，参考图2示出的检测模块的俯视结构示意图，所述检测模组110可以包括有多个检测单元112，所述检测单元112可以呈二维阵列排布，从而可以基于多个检测单元112进行离子束的检测，进而提供多个检测数据，避免单一数据可能出现的误差和错误，提高检测设备的可靠性。在一个示例中，所述检测单元112可以等距排布。
在所述检测模组110包括多个检测单元112时，继续参考图2，所述检测模组110还可以进一步包括用于隔离所述检测单元的隔离部114，以避免相邻检测单元112之间的电信号串扰。所述隔离部设置于相邻检测单元之间，或者，所述隔离部还可以完全包裹一检测单元除离子接收面以外的部分，所述离子接收面为检测单元用于接收离子的一面。其中，所述隔离部114可以为绝缘材料。
进一步的，本发明实施例中的所述检测模组110的检测面积大于或等于所述离子束的横截面积(即离子束的垂直入射面积)。其中，所述检测模组110的检测面积可以理解为，多个检测单元阵列排布后，检测单元朝向离子束一侧(即离子接收面一侧)形成的阵列面积，该阵列面积例如可以基于最外侧的检测单元的行列尺寸计算得到。以图2为例，所述阵列面积可以为a*b，所述离子束的横截面积如虚线示出的圆形面积s，其中，a*b大于s。所述离子束的横截面积可以理解为，所述离子束在横截平面的投影面积，该横截平面为垂直于离子束入射方向的平面。以离子束垂直于纸面方向传播为例，离子束的横截积则可以为图2中所示的虚线圆。检测模组110的检测面积大于或等于所述离子束的横截面积，可以基于检测单元的检测结果，进一步确定离子束的束斑形状和束流密度。
在一个可选的示例中，参考图3示出的检测模块沿图2中AA’方向的剖结构示意图，支撑装置，用于驱动所述检测模组进行一维或二维移动，所述支撑装置可以包括第一支撑部116，用于将所述检测单元按照阵列排布固定设置。通过将所述检测单元112固定设置在所述第一支撑部116上，以提高设备的稳定性。
在进一步的可选示例中，继续参考图3，所述支撑装置中还可以进一步设置有导轨118，且所述第一支撑部116上还可以设置与所述导轨118匹配的卡槽117，从而可以实现检测模组的稳定移动。其中，所述导轨118可以使检测模组一维运动，也可以使检测模组二维运动或三维运动，本发明在此不做具体的限定。
所述阻挡模组120，为离子注入检测设备中，阻挡部的集合，用于为离子注入检测设备中的检测单元提供阻挡。所述阻挡部，可以理解为独立的阻挡部件，例如，所述阻挡部可以为法拉第光栅，用于阻断离子束的传播，也就是说，在阻挡部覆盖检测单元时，所述离子束即被阻挡在所述检测单元之外。其中，所述阻挡部的材料例如可以为铝、铅、碳基材料等，优选可以为铝或碳基材料，从而降低材料成本。
所述阻挡模组120中，所述阻挡部的数量可以基于所述检测单元的数量和排布规律设置，并以所述阻挡部能够完全覆盖所有检测单元为准。例如，所述阻挡部可以设置为用于覆盖一检测单元时，所述阻挡部的数量与所述检测单元的数量相同，且所述阻挡部与所述检测单元一一对应；或者，参考图4示出的阻挡模组结构示意图，以及，图5示出的阻挡部与检测单元的位置对照图，所述阻挡部122设置为覆盖一行/列上的多个检测单元时(参考图5中示出的阻挡部122，其中，为便于标识，图5中的阻挡部122仅示出了一个，在具体的示例中，所述阻挡部122的个数和排布应当如图4中所示)，所述阻挡部的数量可以小于所述检测单元的数量，且基于所述检测单元的排布规律设置，以使得所述阻挡部覆盖所有检测单元。
需要说明的是，所述阻挡部还可以同时覆盖多行/列上的多个检测单元，与覆盖一检测单元或一行/列上的多个检测单元相比，覆盖多行/列上的多个检测单元时，所述离子注入检测设备的检测精度会略有降低，因此，本发明实施例的优选方案中，所述阻挡部覆盖一检测单元或一行/列上的多个检测单元。
可以理解的是，在离子束中，通常伴随有调整离子束形状时产生的杂质电子，在本发明的一个可选示例中，所述阻挡部上还可以施加有抑制电压，以避免离子束中的杂质电子进入检测单元。在一个具体的示例中，所述抑制电压可以为负电位，电压可以为1V～100V。
在本发明实施例中，所述阻挡部和所述检测单元可以连接设置，也可以非连接设置，只要所述阻挡部和所述检测单元在空间上对应设置即可。
继续参考图4示出的阻挡模组的结构示意图，所述转动部124，与所述阻挡部122连接，用于改变所述阻挡部覆盖所述检测单元的角度。在一个可选的示例中，所述转动部可以包括合页，进而使得阻挡部沿该合页转动。进一步的，所述转动部还可以进一步包括动力模块(图中未示出)，例如马达，进而基于马达旋转所述合页，进而使所述阻挡部沿所述合页转动。其中，所述转动部耦接于控制模组，从而可以基于控制模组中发出的控制信号转动所述阻挡部，进而实现对阻挡部的控制。
所述转动部的数量可以基于阻挡部的数量设置，例如，可以设置1个转动部连接一阻挡部，也可以设置多个转动部连接一阻挡部，本发明在此不做具体的限定。
可以理解的是，若所述阻挡部与所述检测单元连接设置，所述阻挡部可以通过所述转动部连接所述检测单元；若所述阻挡部与所述检测单元非连接设置时，继续参考图4，所述阻挡模组中还可以进一步设置第二支撑部126，所述阻挡部122可以通过所述转动部124连接至所述第二支撑部126，其中，所述阻挡部与所述检测单元对应设置。
所述控制模组130，为离子注入检测设备中的控制中枢，用于实现对阻挡模组的控制。其中，所述控制模组可以控制所述阻挡模组中的转动部，从而改变所述阻挡部覆盖所述检测单元的角度，使得所述检测单元基于所述阻挡部的覆盖角度，至少部分暴露于离子注入环境中。在具体的实现中，所述控制模组可以向阻挡模组发送控制信号，从而控制阻挡模组中的转动部。在一个可选的示例中，控制模组基于所述控制信号控制转动部转动的精度不大于0.1°。
在一个可选的示例中，所述控制模组可以进一步用于确定所述检测单元检测到的离子流量到达最大时，所述阻挡部覆盖所述检测单元的角度，并基于所述检测模组的位置、所述检测单元检测到的离子流量到达最大时所述阻挡部的角度，计算得到离子束的入射角度。
在本发明实施例中，所述阻挡部覆盖所述检测单元的角度，可以理解为，所述阻挡部所在的平面，与所述检查单元的离子接收面之间的角度。在进行所述转动部的控制时，可以基于从小到大的顺序调整阻挡部覆盖所述检测单元的角度，相应的，此过程中，检测单元检测到的离子流量逐渐变大，在判断所述检测单元检测到的离子流量是否到达最大时，可以基于检测单元检测到的离子流量不再继续变大时，认为所述检测单元检测到的离子流量到达最大。
需要说明的是，在只有一个/行检测单元时，阻挡部角度的逐渐变大，并不影响与该阻挡部相邻的检测单元接收离子，因此，在检测单元检测到的离子流量不再继续变大时，检测单元检测到的离子流量可能会一直保持最大值，此时，应当以所述检测单元检测到的离子流量到达最大时刻的角度作为所述检测单元检测到的离子流量到达最大时，所述阻挡部覆盖所述检测单元的角度。
相应的，在多行/列检测单元时，阻挡部角度的逐渐变大，则会影响与该阻挡部相邻的检测单元接收离子，因此，在检测单元检测到的离子流量会相应变小，此时，应当以所述检测单元检测到的离子流量到达最大值时对应的角度作为所述检测单元检测到的离子流量到达最大时，所述阻挡部覆盖所述检测单元的角度。
需要说明的是，所述转动部转动的角度可以基于控制信号中携带的角度信息确定，也可以基于转动部发出的角度信息确定。
其中，信号采集装置，用于采集各检测单元中的检测信号，确定所述检测单元检测到的离子流量是否到达最大，进而基于检测单元检测到的离子流量到达最大时所述阻挡部的角度，计算离子束的入射角度。其中，所述检测信号为用于表征离子流量的信号。
需要说明的是，所述控制模组还可以基于所述检测信号，以及所述检测单元的位置信息，确定所述离子束的束斑形状和束流密度，从而进一步增加所述离子注入检测设备的检测功能。其中，所述束流密度为离子束中，不同区域的离子密度，从而确定离子束的离子发散程度。参考图6示出的一离子束的束流密度示例图，其中，横坐标为X，纵坐标为Y，用于分别指代检测单元不同的排布方向，其内的多层图形可以理解为离子束，其中，不同层对应不同的束流密度。
可以理解的是，所述检测单元的排列密度越大，所述离子束的束斑形状和束流密度的精确度越高。在一个可选的示例中，所述检测单元的离子接收面的面积不大于离子束横截面积的1/4。
在一种可选的实现中，本发明实施例还提供了一种离子注入检测方法，该方法应用于本发明实施例提供的离子注入检测设备，参考图7示出的本发明实施例提供的离子注入检测方法的一可选流程图，所述方法可以包括：
步骤S100：将检测模组置于离子注入环境中，且使阻挡模组位于所述检测模组和离子束之间；
步骤S110：控制所述转动部，以改变所述阻挡模组中的阻挡部覆盖所述检测模组中的检测单元的角度，确定所述检测单元检测到的离子流量到达最大时，所述阻挡部覆盖所述检测单元的角度；
步骤S120：基于所述检测模组的位置、所述检测单元检测到的离子流量到达最大时所述阻挡部的角度，计算得到离子束的入射角度。
需要说明的是，所述离子注入检测方法可以理解为前述实施例所述的离子注入检测设备的控制流程，而对本实施例所述离子注入检测设备的控制流程的具体描述，可参考前述实施例中的相应描述，在此不再赘述。
在一种可选的实现中，本发明实施例还提供了一种离子注入检测装置，该装置可以理解为应用本发明实施例提供的离子注入检测方法对应的虚拟装置，参考图8示出的本发明实施例提供的离子注入检测装置的一可选框图，所述装置可以包括：
移动模块200，用于将检测模组置于离子注入环境中，且使阻挡模组位于所述检测模组和离子束之间；
角度控制模块210，用于控制所述转动部，以改变所述阻挡模组中的阻挡部覆盖所述检测模组中的检测单元的角度，确定所述检测单元检测到的离子流量到达最大时，所述阻挡部覆盖所述检测单元的角度；
计算模块220，用于基于所述检测模组的位置、所述检测单元检测到的离子流量到达最大时所述阻挡部的角度，计算得到离子束的入射角度。
本发明实施例还提供一种计算机设备，该计算机设备可以包括：至少一个存储器和至少一个处理器；所述存储器存储一条或多条计算机可执行指令，所述处理器调用所述一条或多条计算机可执行指令，以执行本发明实施例提供的应用于发送端的离子注入检测方法。
需要说明的是，本说明书中的各个实施例均采用递进的方式描述，每个实施例重点说明的都是与其他实施例的不同之处，各个实施例之间相同相似的部分互相参见即可。
虽然本发明披露如上，但本发明并非限定于此。任何本领域技术人员，在不脱离本发明的精神和范围内，均可作各种更动与修改，因此本发明的保护范围应当以权利要求所限定的范围为准。

Claims (15)

1.一种离子注入检测设备，其特征在于，包括：
磁透镜，用于调整离子束的形状；
检测模组，所述检测模组包括至少一个检测单元，所述检测单元用于检测射入所述检测单元的离子流量；
位于所述检测模组上的阻挡模组，所述阻挡模组包括至少一个阻挡部和至少一个转动部，其中，所述阻挡部用于至少覆盖一检测单元，所述转动部连接所述阻挡部，用于改变所述阻挡部覆盖所述检测单元的角度；
与所述阻挡模组耦接的控制模组，所述控制模组用于控制所述转动部的转动角度，使得所述检测单元基于所述阻挡部的覆盖角度，至少部分暴露于离子注入环境中；
支撑装置，用于驱动所述检测模组进行一维或二维移动；
信号采集装置，用于采集各检测单元中的检测信号。
2.如权利要求1所述的离子注入检测设备，其特征在于，所述检测模组包括多个检测单元，所述检测单元呈二维阵列排布；所述阻挡模组中，所述阻挡部的数量基于所述检测单元的数量和排布规律设置；其中，所述检测模组的检测面积大于或等于所述离子束的横截面积。
3.如权利要求2所述的离子注入检测设备，其特征在于，一所述阻挡部至少覆盖一行/列中的多个检测单元。
4.如权利要求2所述的离子注入检测设备，其特征在于，所述检测模组还包括隔离部，所述隔离部设置于相邻检测单元之间，用于隔离相邻检测单元之间的电信号串扰。
5.如权利要求2所述的离子注入检测设备，其特征在于，所述支撑装置包括第一支撑部，用于将所述检测单元按照阵列排布固定设置。
6.如权利要求5所述的离子注入检测设备，其特征在于，所述支撑装置还包括导轨，所述第一支撑部设置有与所述导轨匹配的卡槽。
7.如权利要求1所述的离子注入检测设备，其特征在于，所述阻挡部通过所述转动部连接所述检测单元；或，所述阻挡模组还包括第二支撑部，所述阻挡部通过所述转动部连接至所述第二支撑部，其中，所述阻挡部与所述检测单元对应设置。
8.如权利要求1所述的离子注入检测设备，其特征在于，所述阻挡部上施加有抑制电压。
9.如权利要求2所述的离子注入检测设备，其特征在于，一所述检测单元的离子接收面的面积不大于离子束横截面积的1/4。
10.如权利要求1所述的离子注入检测设备，其特征在于，所述控制模组控制所述转动部转动的精度不大于0.1°。
11.如权利要求1所述的离子注入检测设备，其特征在于，所述检测单元为法拉第杯，所述阻挡部为法拉第光栅，所述转动部包括合页和马达，所述合页基于所述马达使所述阻挡部转动。
12.如权利要求1所述的离子注入检测设备，其特征在于，所述阻挡部的材料为铝、铅、碳基材料中的任意一种或多种。
13.一种离子注入检测方法，其特征在于，应用于权利要求1中所述的离子注入检测设备，包括：
将检测模组置于离子注入环境中，且使阻挡模组位于所述检测模组和离子束之间；
控制所述转动部，以改变所述阻挡模组中的阻挡部覆盖所述检测模组中的检测单元的角度，确定所述检测单元检测到的离子流量到达最大时，所述阻挡部覆盖所述检测单元的角度；
基于所述检测模组的位置、所述检测单元检测到的离子流量到达最大时所述阻挡部的角度，计算得到离子束的入射角度。
14.一种离子注入检测装置，其特征在于，包括：
移动模块，用于将检测模组置于离子注入环境中，且使阻挡模组位于所述检测模组和离子束之间；
角度控制模块，用于控制所述转动部，以改变所述阻挡模组中的阻挡部覆盖所述检测模组中的检测单元的角度，确定所述检测单元检测到的离子流量到达最大时，所述阻挡部覆盖所述检测单元的角度；
计算模块，用于基于所述检测模组的位置、所述检测单元检测到的离子流量到达最大时所述阻挡部的角度，计算得到离子束的入射角度。
15.一种计算机设备，其特征在于，包括：至少一个存储器和至少一个处理器；所述存储器存储一条或多条计算机可执行指令，所述处理器调用所述一条或多条计算机可执行指令，以执行如权利要求13所述的离子注入检测方法。
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