CN117795120A - 用于有效的表面区域蒸发的蒸发器 - Google Patents

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Abstract

提供了一种用于进行热蒸发的方法和装置。热蒸发器包括扁平坩埚设计，相对于传统设计，它提供了用于蒸发要沉积的材料的增加的表面面积。增加用于蒸发的表面面积意味着，可以产生更多的蒸发材料的蒸气，这会增加蒸发器主体内部的压力，导致蒸发材料流出喷嘴的流量增加。扁平坩埚可以与热蒸发器的蒸发器主体附接。扁平坩埚可以整合在蒸发器主体内。蒸发器主体可以包括多个纵向凹槽，这些凹槽增加了蒸发器主体的表面面积。热蒸发器可以包括多个挡板，这些挡板将热蒸发器分成单独的隔室。

Description

用于有效的表面区域蒸发的蒸发器
技术领域
本公开内容大致与用于为反应性沉积工艺提供气体的蒸发系统相关。更详细而言，本公开内容大致与一种热蒸发器设计相关，它在相对较低的温度下提供均匀的蒸发速率。
背景技术
对柔性基板(诸如塑料膜或箔)的处理，在包装行业、半导体行业和其他行业都有很高的需求。处理可以包括用选定的材料(诸如金属)对柔性基板进行涂层。这些涂层的经济生产经常受到产品所需的厚度均匀性、涂层材料的反应性、涂层材料的成本以及涂层材料的沉积速率的限制。最苛刻的应用通常涉及在真空腔室中沉积，以精确控制涂层厚度和最佳光学性质。真空涂层设备的高资本成本使得大规模的商业应用必须要有高产量的涂层区域。每单位时间的涂层面积通常与涂层基板的宽度和涂层材料的真空沉积速率成正比。
能够利用大型真空腔室的工艺具有巨大的经济优势。真空涂层腔室、基板处理和搬运设备以及泵送能力，其成本随着腔室的尺寸而增加，但不是线性的。因此，对于固定的沉积速率和涂层设计来说，最经济的工艺将利用可用的最大的基板。在涂层制造完成后，较大的基板一般可以被制作成离散的部分。在由连续的卷材制造产品的情况下，卷材被分切或片状切割成最终产品尺寸或适合后续制造操作的较窄的卷材。
用于沉积的一种技术是热蒸发。当源材料在真空腔室内的开放式坩埚中被加热，达到一定的温度，使得源材料有足够的蒸汽通量在较冷的基板上凝结时，就会发生热蒸发。源材料可以通过加热坩埚来间接加热，也可以通过高电流电子束射入被坩埚约束的源材料中来直接加热。热蒸发通常在高温下进行，这可能导致被处理的基板上出现高热负荷。这些高热负荷可能会损坏基板。一种减少热负荷的方法包括通过辐射冷却来冷却坩埚。然而，辐射冷却通常是非常缓慢的，这可能会导致大量的腔室停机时间，并增加拥有成本。
因此，需要有方法和系统来减少热蒸发工艺期间的基板上的热负荷。
发明内容
本公开内容大致与用于为反应性沉积工艺提供气体的蒸发系统相关。更详细而言，本公开内容大致与一种热蒸发器设计相关，它在相对较低的温度下提供均匀的蒸发速率。
在一个态样中，提供了一种蒸发组件。该蒸发组件包括用于容纳要蒸发的材料的扁平坩埚。该扁平坩埚包括界定内部区域的矩形主体，该内部区域用于容纳要蒸发的该材料。该矩形主体具有开口，蒸发的该材料可以通过该开口逸出。该矩形主体具有界定蒸发表面面积的长度尺寸和宽度尺寸。该蒸发组件进一步包括与该矩形主体流体耦合的蒸发器主体。该蒸发器主体包括顶表面，该顶表面具有多个喷嘴线性数组，每个喷嘴具有由直径所界定的开口，其中这些开口的总面积界定喷嘴开口表面面积，并且该蒸发表面面积大于该喷嘴开口表面面积。
实施方式可以包括以下内容中的一者或多者。该蒸发表面面积与该喷嘴开口表面面积的面积比为从约100至约330。该蒸发表面面积与该喷嘴开口表面面积的面积比大于约50:1。该蒸发器主体的该顶表面是平坦表面。该蒸发器主体的该顶表面具有界定纵向凹槽的曲折图案。该蒸发器主体的相对侧壁具有界定纵向凹槽的曲折图案。该蒸发器主体包括具有多个挡板的挡板区域，每个挡板从该蒸发器主体的第一侧壁延伸到该蒸发器主体的第二侧壁，其中该第一侧壁与该第二侧壁相对。该蒸发器主体进一步包括定位在该挡板区域下方的加热器区域。该加热器区域包括多个管状加热器。该蒸发器主体具有界定开口的底表面，该开口与该矩形主体中的该开口对应。该蒸发组件进一步包括将该矩形主体分成单独的隔室的多个挡板。每个挡板从该矩形主体的底表面通过该开口延伸到相邻的管状加热器之间的该加热器区域中。这些单独隔室中的每个隔室与该多个喷嘴线性数组中的一个喷嘴线性数组对应。该蒸发组件进一步包括与该蒸发器主体热接触的热源。
在另一个态样中，提供了一种蒸发组件。该蒸发组件包括用于容纳要蒸发的材料的扁平坩埚。该蒸发组件包括具有长度尺寸和宽度尺寸的矩形主体。该矩形主体包括具有开口的顶表面，蒸发的材料可以通过该开口逸出。该矩形主体具有界定蒸发表面面积的长度尺寸和宽度尺寸。该矩形主体进一步包括与该顶表面相对的底表面，从该底表面向上延伸并且与该底表面垂直的第一对相对侧壁，以及从该底表面向上延伸并且与该底表面垂直的第二对相对侧壁。该底表面、该第一对相对侧壁和该第二对相对侧壁界定用于容纳要蒸发的该材料的内部区域。该蒸发组件进一步包括蒸发器主体，该蒸发器主体与该矩形主体流体耦合，并且具有长度尺寸和宽度尺寸。该蒸发器主体包括加热器区域，该加热器区域具有定位在其中的多个加热杆。该蒸发器主体进一步包括定位在该加热器区域上方的挡板区域。该挡板区域包括喷嘴线性数组，用于输送蒸发的该材料，每个喷嘴具有由直径所界定的开口，其中该等开口的总面积界定喷嘴开口表面面积，并且该蒸发表面面积大于该喷嘴开口表面面积。
实施方式可以包括以下内容中的一者或多者。该蒸发表面面积与该喷嘴开口表面面积的面积比为从约100至约330。该蒸发表面面积与该喷嘴开口表面面积的面积比大于约50:1。该蒸发器主体的该顶表面是平坦表面。该蒸发器主体的该顶表面具有界定纵向凹槽的曲折图案。该蒸发器主体的相对侧壁具有界定纵向凹槽的曲折图案。多个挡板沿着该矩形主体的该长度尺寸延伸并且将该矩形主体分成单独的隔室。每个挡板从该矩形主体的底表面通过该开口延伸到相邻的管状加热器之间的该加热器区域中。这些单独隔室中的每个隔室与该多个喷嘴线性数组中的一个喷嘴线性数组对应。该蒸发组件进一步包括与该蒸发器主体热接触的热源。每个挡板具有多个通孔。该蒸发组件进一步包括与该矩形主体热接触的热源。
在又另一个态样中，提供了一种热蒸发器。该热蒸发器包括具有长度尺寸和宽度尺寸的蒸发器主体。该蒸发器主体包括加热器区域，该加热器区域具有定位在其中的多个加热杆。该蒸发器主体进一步包括定位在该加热器区域上方的挡板区域。该挡板区域包括喷嘴线性数组，其用于输送蒸发的该材料，每个喷嘴具有由直径所界定的开口。该蒸发器主体进一步包括定位在该加热器区域下方的坩埚区域。该坩埚区域被设计为容纳要蒸发的该材料。该长度尺寸和该宽度尺寸界定蒸发表面面积，并且该等开口的总面积界定喷嘴开口表面面积，并且该蒸发表面面积大于该喷嘴开口表面面积。
实施方式可以包括以下内容中的一者或多者。该蒸发表面面积与该喷嘴开口表面面积的面积比为从约100至约330。该蒸发表面面积与该喷嘴开口表面面积的面积比大于约50:1。该蒸发器主体的该顶表面是平坦表面。该蒸发器主体的该顶表面具有界定纵向凹槽的曲折图案。该蒸发器主体的相对侧壁具有界定纵向凹槽的曲折图案。该热蒸发器进一步包括多个挡板，该多个挡板沿着该蒸发器主体的该长度尺寸延伸，并且将该蒸发器主体分成单独的隔室。每个挡板从该蒸发器主体的底表面通过该开口延伸到相邻的管状加热器之间的该加热器区域中。这些单独隔室中的每个隔室与该多个喷嘴线性数组中的一个喷嘴线性数组对应。该热蒸发器进一步包括与该蒸发器主体热接触的热源。每个挡板具有多个通孔。
在其他的态样中，一种非暂时性计算机可读取媒体具有储存在其上的指令，这些指令当由处理器执行时，使该处理执行上述装置和/或方法的操作。
附图说明
为了能够详细理解本公开内容的上述特征，可以通过参考实施方式获得上文简要概述的实施方式的更详细的描述，其中一些实施方式在附图中得到说明。然而，要注意，附图仅示出本公开内容的典型实施方式，因此不要将这些附图视为对本公开内容的范围的限制，因为本公开内容可以接受其他同等有效的实施方式。
图1说明了依据本公开内容的一个或多个实施方式，具有蒸发组件的蒸发系统的示意侧视图。
图2A说明了依据本公开内容的一个或多个实施方式，包括扁平坩埚的蒸发组件的透视图。
图2B说明了依据本公开内容的一个或多个实施方式，图2A的蒸发组件的侧视图。
图2C说明了依据本公开内容的一个或多个实施方式，图2A的蒸发组件的横截面图。
图2D说明了依据本公开内容的一个或多个实施方式，图2A的蒸发组件的一部分的透视图。
图3说明了依据本公开内容的一个或多个实施方式，包括整合扁平坩埚的蒸发组件的横截面图。
图4说明了依据本公开内容的一个或多个实施方式，包括整合扁平坩埚的蒸发组件的横截面图。
图5A说明了依据本公开内容的一个或多个实施方式，包括整合扁平坩埚的蒸发组件的透视图。
图5B依据本公开内容的一个或多个实施方式，图5A的蒸发组件的横截面图。
图6A说明了依据本公开内容的一个或多个实施方式，包括扁平坩埚的蒸发组件的透视图。
图6B说明了依据本公开内容的一个或多个实施方式，图6A的蒸发组件的侧视图。
图6C说明了依据本公开内容的一个或多个实施方式，图6A的蒸发组件的横截面图。
图7说明了依据本公开内容的一个或多个实施方式，另一个蒸发组件的示意横截面图。
图8说明了依据本公开内容的一个或多个实施方式，另一个蒸发组件的示意横截面图。
为了便于理解，在可能的情况下，使用了相同的附图标记来指明图式中共同的相同元素。可以预期，一个实施方式的元素和特征可以有益地并入其他实施方式，而无需进一步叙述。
具体实施方式
现在将详细参考本公开内容的各种实施方案，其中一个或多个例子在图式中得到说明。在下面的附图描述中，相同的附图标记指的是相同的部件。一般来说，只描述与个别实施方式有关的差异。每个例子都是以解释本公开内容的方式提供的，并不意味着是对本公开内容的限制。此外，作为一个实施方式的一部分所说明或描述的特征可以在其他实施方式上使用或与其他实施方式一起使用，以产生又进一步的实施方式。本描述旨在包括这种修改和变化。
图式所示的许多细节、尺寸、角度及其他特征仅说明特定的实施方式。因此，在不偏离本公开内容的精神或范围的情况下，其他的实施方式可以具有其他的细节、部件、尺寸、角度和特征。此外，可以在没有下文所述的几个细节的情况下实行本公开内容的另外的实施方式。
依据一些实施方式，提供了用于在基板(例如柔性基板)上进行层沉积的蒸发工艺和蒸发装置。因此，柔性基板可以被视为包括膜、箔、卷材、塑料材料条、金属或其他材料等。通常，术语“卷材”、“箔”、“条”、“基板”等是同义的。依据一些实施方式，可以为上述的柔性基板提供依据本文所述的实施方式的用于蒸发工艺的部件、用于蒸发工艺的装置和蒸发工艺。然而，它们也可以与非柔性基板一起提供，诸如玻璃基板等，这些基板经受来自蒸发源的反应性沉积工艺。
用于阳极预锂化和固态金属阳极保护的真空卷材涂层涉及在双侧涂层和压延的合金型石墨阳极和集电器(例如六微米或更厚的铜箔、镍箔或金属化的塑料卷材)上进行厚(三到二十微米)的金属(例如锂)沉积。用于沉积的一种技术是热蒸发。当源材料在真空腔室内的开放式坩埚中被加热，达到一定的温度，使得源材料有足够的蒸汽通量在较冷的基板上凝结时，就会容易发生热蒸发。源材料可以通过加热坩埚来间接加热，也可以通过高电流电子束射入被坩埚约束的源材料中来直接加热。
传统的蒸发器系统通常需要高温(例如，大约200至1500摄氏度)来进行蒸发，从而给被处理的卷材或基板带来高热负荷。使用冷却鼓的传统蒸发器系统也给卷材带来更高的张力(例如，200N至800N)，以增加冷却鼓上的接触压力。增加的热负荷和接触压力可能有几个缺点。例如，增加的热负荷和接触压力可能会导致处理后的卷材起皱，在处理期间撕裂卷材，并影响涂层后的最终产品。此外，传统的蒸发器系统通常使用具有圆柱形开口的圆柱形坩埚，以将蒸发的材料供应给热蒸发器的蒸发器主体。圆柱形的开口通常提供有限的表面面积用于蒸发。因此，在传统的蒸发器系统中，为了实现期望的蒸汽压力，需要使用更高的温度。这些较高的温度给卷材基板带来了额外的热负荷。因此，拥有用于热蒸发并且将卷材暴露于减少的热负荷的系统和方法会是有利的。
本文所述的热蒸发器包括扁平坩埚设计，相对于传统设计，它提供了增加的表面面积，用于蒸发要沉积的材料。增加用于蒸发的表面面积意味着，可以产生更多的蒸发材料的蒸气，这会增加蒸发器主体内部的压力，导致蒸发材料流出喷嘴的流量增加。扁平坩埚可以与热蒸发器的蒸发器主体附接。扁平坩埚可以整合在蒸发器主体内。蒸发器主体可以包括多个纵向凹槽，这些凹槽增加了蒸发器主体的表面面积。热蒸发器可以包括多个挡板，这些挡板将热蒸发器分成单独的隔室。每个隔室可以被配置为向对应的喷嘴线性数组供应蒸发的材料，这确保了每个喷嘴线性数组上的压力均匀。
在可以与其他实施方式相结合的一个实施方式中，提供了一种蒸发组件。该蒸发组件包括用于容纳要蒸发的材料的扁平坩埚。该扁平坩埚包括界定内部区域的矩形主体，该内部区域用于容纳要蒸发的该材料。该矩形主体包括开口，蒸发的该材料可以通过该开口逸出。该矩形主体具有界定蒸发表面面积的长度尺寸和宽度尺寸。蒸发器主体与该矩形主体流体耦合。
该蒸发器主体具有顶表面，该顶表面包括多个喷嘴线性数组。每个喷嘴具有由直径所界定的开口，并且喷嘴开口的总面积界定喷嘴开口表面面积，并且该蒸发表面面积大于该喷嘴开口表面面积。喷嘴开口表面面积可以使用公式n*πr2来计算，其中“n”代表喷嘴的总数，“r”代表喷嘴开口的半径。扁平坩埚的蒸发表面面积可以通过将扁平坩埚的长度尺寸“l”乘以扁平坩埚的宽度“w”来计算。“面积比”由“扁平坩埚的表面面积”/“喷嘴开口表面面积”所表示。
图1说明了依据本公开内容的一个或多个实施方式，蒸发系统100的示意侧视图，该蒸发系统包括一个或多个蒸发组件140a-140d(统称140)，例如热蒸发器。蒸发系统100可以是卷对卷系统，适合于在卷材材料上沉积涂层，例如，依据本文所述的实施方式，用于沉积含金属的膜叠层。在一个例子中，蒸发系统100可以用于沉积金属或金属合金。例如，蒸发系统100和蒸发组件140可以用于沉积金属或金属合金。金属和金属合金的例子包括但不限于碱金属(例如锂或钠)、硒、镁、锌、镉、铝、镓、铟、铊、锡、铅、锑、铋和碲、碱土金属、银，或其组合。这些金属或金属合金可以用于制造能量储存设备，特别是用于含锂阳极结构的膜叠层。蒸发系统100包括腔室主体102，该腔室主体界定共同处理环境104，在该共同处理环境中，可以执行用于在卷材材料上沉积涂层的处理动作中的一些或全部。在一个例子中，共同处理环境104可以作为真空环境来操作。在另一个例子中，共同处理环境104可以作为惰性气体环境来操作。在一些例子中，共同处理环境104可以维持在1x 10-3毫巴或更低的工艺压力下，例如1x 10-4毫巴或更低。
蒸发系统100被构成为卷对卷系统，它包括用于供应连续柔性基板108或卷材的退绕卷盘106，涂层鼓110，连续柔性基板108在该涂层鼓上面被处理，以及用于在处理之后收集连续柔性基板108的缠绕卷盘112。涂层鼓110包括沉积表面111，连续柔性基板108在该沉积表面上方行进，同时材料被沉积到连续柔性基板108上。蒸发系统100可以进一步包括定位在退绕卷盘106、涂层鼓110与缠绕卷盘112之间的一个或多个辅助传输卷盘114、116。依据一个态样，该一个或多个辅助传输卷盘114、116、退绕卷盘106、涂层鼓110和缠绕卷盘112中的至少一者可以由马达驱动和旋转。在一个例子中，马达是步进马达。虽然退绕卷盘106、涂层鼓110和缠绕卷盘112被示为定位在共同处理环境104中，但应理解，退绕卷盘106和缠绕卷盘112可以定位在单独的腔室或模块中，例如，退绕卷盘106中的至少一者可以定位在退绕模块中，涂层鼓110可以定位在处理模块中，并且缠绕卷盘112可以定位在退绕模块中。
退绕卷盘106、涂层鼓110和缠绕卷盘112可以单独进行温度控制。例如，退绕卷盘106、涂层鼓110和缠绕卷盘112可以使用定位在每个卷盘内的内部热源或外部热源来单独加热。
在可以与其他实施方式相结合的一个实施方式中，该一个或多个蒸发组件140(例如热蒸发器)可以可移除地与蒸发护罩(未示出)耦合。在可以与其他实施方式相结合的另一个实施方式中，该一个或多个蒸发组件140可以与涂层鼓110隔开。该一个或多个蒸发组件140被定位为在连续柔性基板108在涂层鼓110的沉积表面111上方行进时，将蒸发的材料输送到连续柔性基板108上。
沉积容积120被界定在该一个或多个热蒸发组件140与涂层鼓110的沉积表面111之间。在一些实施方式中，沉积容积120在腔室主体102的共同处理环境104内提供了隔离的处理。沉积容积120可以被最小化和界定，以符合卷材，例如连续柔性基板108，它在圆柱形的冷却鼓(例如涂层鼓110)、平面的冷却板上缠绕，或呈自由跨度定向。
该一个或多个蒸发组件140将参考图2A-8更详细地描述。该一个或多个蒸发组件140被定位为对连续柔性基板108或材料卷材执行一个或多个处理操作。在一个例子中，如图1中所描绘，该一个或多个热蒸发组件140是围绕涂层鼓110径向地设置的。此外，径向以外的布置也在考虑之列。在可以与其他实施方式相结合的一个实施方式中，该一个或多个热蒸发组件140包括锂(Li)源。进一步地，该一个或多个热蒸发组件140也可以包括两种或更多种金属的合金来源。要沉积的材料可以例如通过热蒸发技术来蒸发。
在操作中，该一个或多个热蒸发组件140发射蒸发材料卷流122，它被牵引到连续柔性基板108，在那里，沉积材料的膜形成在连续柔性基板108上。
此外，虽然图1示出四个热蒸发组件140a-140d，但应理解，可以使用任何数量的蒸发组件。此外，蒸发系统100可以进一步包括一个或多个额外的沉积源。例如，如本文所述的该一个或多个沉积源包括电子束源和其他来源，它们可以选自CVD源、PECVD源和各种PVD源的群组。示例性的PVD源包括溅射源、电子束蒸发源和热蒸发源。此外，这些额外的沉积源可以相对于涂层鼓110的沉积表面111径向地定位。
在本公开内容的可以与其他实施方式相结合的一个实施方式中，蒸发系统100被配置为处理连续柔性基板108的两侧。例如，与该一个或多个热蒸发组件140类似的额外蒸发组件可以被定位为处理连续柔性基板108的相对侧。虽然蒸发系统100被配置为处理水平定向的连续柔性基板108，但蒸发系统100也可以被配置为处理以不同定向定位的基板，例如连续柔性基板108可以是垂直定向的。在本公开内容的可以与其他实施方式相结合的一个实施方式中，连续柔性基板108是柔性导电基板。在本公开内容的可以与其他实施方式相结合的一个实施方式中，连续柔性基板108包括导电基板，该导电基板上形成有一个或多个层。在本公开内容的可以与其他实施方式相结合的一个实施方式中，导电基板是铜基板。
蒸发系统100进一步包括气体面板160。气体面板160使用一个或多个导管(未示出)来向蒸发系统100输送处理气体。气体面板160可以包括质量流量控制器和关断阀，以控制向蒸发系统100供应的每个单独的气体的气体压力和流速。可以由气体面板160输送的气体的例子包括但不限于用于压力控制的惰性气体(例如氩气)，包括但不限于用于蒸发系统100的原位清洁的二酮类化合物的蚀刻化学物质，以及包括但不限于用于原位数十纳米厚的反应性锂混合导体表面改性的1,1,1,2-四氟乙烷或其他氢氟碳化物和三甲基铝、四氯化钛或其他金属有机前驱物的沉积化学物质。
蒸发系统100进一步包括系统控制器170，它可用于控制蒸发系统100的各种方面。系统控制器170促进对蒸发系统100的控制和自动化，并且可以包括中央处理单元(CPU)、内存和支持电路(或I/O)。软件指令和数据可以被编码并储存在内存内，用于指示CPU。系统控制器170可以经由例如系统总线与蒸发系统100的一个或多个部件通讯。系统控制器170可读取的程序(或计算机指令)决定哪些任务在基板上可执行。在一些态样中，程序是系统控制器170可读取的软件，它可以包括用于监测腔室条件(包括对该一个或多个蒸发组件140的独立温度控制)的代码。虽然仅示出单个系统控制器(系统控制器170)，但应理解，也可以将多个系统控制器与本文所述的态样一起使用。
图2A说明了依据本公开内容的一个或多个实施方式，蒸发组件200(例如热蒸发器)的透视图，该蒸发组件包括与蒸发器主体230附接的扁平坩埚210。图2B说明了依据本公开内容的一个或多个实施方式，图2A的蒸发组件200的侧视图。图2C说明了依据本公开内容的一个或多个实施方式，图2A的蒸发组件200的横截面图。图2D说明了依据本公开内容的一个或多个实施方式，图2A的蒸发组件200的一部分的透视图。蒸发组件200可以用来代替图1中所描绘的热蒸发组件140。
扁平坩埚210被设计为容纳要蒸发的材料，例如金属或金属合金。扁平坩埚210包括坩埚主体212，它具有长度“L1”尺寸和宽度“W1”尺寸。虽然坩埚主体212被示为矩形主体，但其他合适于坩埚主体212的形状也在考虑之列。参考图2C，坩埚主体212包括具有开口216的顶表面214，蒸发的材料可以通过该开口逸出。坩埚主体212进一步包括与顶表面214相对的底表面218。坩埚主体212进一步包括第一对相对侧壁220a、220b(统称220)，它们从底表面218向上延伸并且与该底表面垂直。第一对相对侧壁220a、220b界定坩埚主体212的长度尺寸“L1”。坩埚主体212进一步包括第二对相对侧壁222a、222b(统称222)，它们从底表面218向上延伸并且与该底表面垂直。第二对相对侧壁222界定坩埚主体212的宽度尺寸“W1”。参考图2C，底表面218、第一对相对侧壁220和第二对相对侧壁222界定用于容纳要蒸发的材料的内部区域226。内部区域226可用于容纳呈熔融和/或液体形式的要蒸发/沉积的材料。要蒸发/沉积的材料可以从外部来源供应到扁平坩埚210的内部区域226。坩埚主体212可以与外部加热源热耦合。
如图2A-2D所示，蒸发器主体230与扁平坩埚210附接。可以使用任何合适的附接技术来将扁平坩埚210与蒸发器主体230附接。例如，扁平坩埚210可以被焊接到蒸发器主体230。扁平坩埚210可以用螺栓连接到蒸发器主体230。扁平坩埚210可以可移除地与蒸发器主体230附接。在可以与其他实施方式相结合的另一个实施方式中，蒸发器主体230和扁平坩埚210是由单块材料加工而成。
扁平坩埚210和/或蒸发器主体230可以由具有高导热率的材料所形成，诸如钼、石墨、不锈钢或氮化硼。在一个例子中，扁平坩埚210由热解氮化硼组成。例如，热解氮化硼通常是惰性的，可以承受高温，通常是干净的，不会给真空环境带来不良的杂质，对某些波长的红外辐射通常是透明的，并且可以被制造成复杂的形状。
蒸发器主体230也与扁平坩埚210流体耦合，使得来自扁平坩埚210的蒸发材料可以进入蒸发器主体230。参考图2A，蒸发器主体230具有长度尺寸“L2”和宽度尺寸“W2”。虽然蒸发器主体230被示为矩形主体，但其他合适于蒸发器主体230的形状也在考虑之列。参考图2C，蒸发器主体230包括具有开口236的底表面234，蒸发的材料可以从扁平坩埚210的开口216通过开口236进入蒸发器主体230。如图2C所示，扁平坩埚210的顶表面214中的开口216与蒸发器主体230的底表面234中的开口236对准。在可以与其他实施方式相结合的一个实施方式中，开口216和开口236的尺寸相同。在可以与其他实施方式相结合的一个实施方式中，开口216和开口236的尺寸不同。
蒸发器主体230进一步包括与底表面234相对的顶表面238。蒸发器主体230进一步包括第一对相对侧壁240a、240b(统称240)，它们从底表面234向上延伸并且与该底表面垂直。第一对相对侧壁240a、240b界定蒸发器主体230的长度尺寸“L2”。如图2A和图2B所示，蒸发器主体230进一步包括第二对相对侧壁242a、242b(统称242)，它们从底表面234向上延伸并且与该底表面垂直。第二对相对侧壁242界定蒸发器主体230的宽度尺寸“W2”。参考图2C，底表面234、第一对相对侧壁240和第二对相对侧壁242界定用于容纳蒸发的材料的内部区域247。
在可以与其他实施方式相结合的一个实施方式中，顶表面238是平坦表面。在可以与其他实施方式相结合的另一个实施方式中，顶表面238包括多个纵向凹槽244a-244d(统称244)，或界定该多个纵向凹槽244的“曲折”图案，如图2A-2C所示。顶表面238的凹槽设计增加了蒸发器主体230的表面面积，这减少了卷材基板所暴露到的辐射热量。虽然示出四个纵向凹槽244a-244d，但取决于蒸发器主体230的期望表面面积，纵向凹槽的数量也可以增加或减少。顶表面238的这种增加的表面面积有助于在更低的温度下实现更高的蒸气压力。参考图2A和图2C，顶表面238中的纵向凹槽244沿着由侧壁240所界定的长度从侧壁242a延伸到侧壁242b。参考图2C，纵向凹槽244分离出多个纵向尖峰246a-246e(统称246)。纵向尖峰246沿着由侧壁240所界定的长度尺寸“L2”从侧壁242a延伸到侧壁242b。在可以与其他实施方式相结合的一个实施方式中，纵向尖峰246a与纵向凹槽244a的底部之间的距离为从约80毫米至约120毫米，例如从约90毫米至约110毫米。
每个纵向尖峰246a-246e支撑喷嘴248a-248e(统称248)的线性数组，它们被配置为朝向卷材的表面输送蒸发的材料。喷嘴248的线性数组的每个喷嘴通过顶表面238延伸。喷嘴248的线性数组的每个喷嘴包括由直径所界定的开口。喷嘴的开口可以是足以以期望的蒸气压力输送蒸发的材料的任何直径。在可以与其他实施方式相结合的一个实施方式中，每个喷嘴248具有由从约1.2毫米至约5毫米(例如从约4毫米至约4.5毫米)的直径所界定的开口。
参考图2D，蒸发器主体230的上侧部分233界定挡板区域235，该挡板区域包括多个挡板260a-260d(统称260)。挡板260将挡板区域235分成单独的隔室。该多个挡板260a-260d中的每个挡板260从侧壁242a沿着蒸发器主体230的宽度“W2”延伸到侧壁242b。每个挡板260包括多个纵向凹槽，这些纵向凹槽是顶表面238的纵向凹槽244的镜像，因此保形地与顶表面238相配合。每个挡板260包括多个通孔，要蒸发的材料可以通过这些通孔。例如，挡板260a包括通孔262a-262e。挡板260将挡板区域235分成单独的隔室，这有助于实现蒸发的材料均匀地通过喷嘴流动。虽然图2D示出了四个挡板260，但任何数量的挡板260也可以用于均匀地通过喷嘴248输送要蒸发的材料。可以使用任何合适的附接技术来将挡板260与蒸发器主体230附接。例如，挡板260可以被焊接到蒸发器主体230。挡板260可以用螺栓连接到蒸发器主体230。挡板260可以可移除地与蒸发器主体230附接。
蒸发器主体230进一步包括加热器区域270，该加热器区域界定在蒸发器主体230的挡板区域235与扁平坩埚210之间。加热器区域270与挡板区域235接触。加热器区域270包括多个加热器272a-272e(统称272)。在可以与其他实施方式相结合的一个实施方式中，加热器272是管状加热器，例如加热杆。
在可以与其他实施方式相结合的一个实施方式中，热蒸发组件200进一步包括多个挡板280a-280d(统称280)。该多个挡板280各自从扁平坩埚210的底表面218通过开口216延伸到加热器区域270中。该多个挡板280中的每个挡板在侧壁之间(例如侧壁242a与侧壁242b之间)纵向延伸。在可以与其他实施方式相结合的一个实施方式中，该多个挡板280中的每个挡板延伸到相邻加热器272之间的内部区域247中。该多个挡板280中的每个挡板将内部区域226和内部区域247分成单独的隔室282a-282e(统称282)。在可以与其他实施方式相结合的一个实施方式中，该多个挡板280中的至少一者包括一个或多个通孔，这允许熔融或液体金属或金属合金在相邻的隔室之间流动。每个隔室282a-282e可以被配置为向对应的喷嘴248a-248e的线性数组供应蒸发的材料。例如，隔室282a向喷嘴248a的线性数组供应蒸发的材料。将内部区域226分成单独的隔室确保每个喷嘴248线性数组上的压力均匀。特别是在蒸发组件200倾斜的实施方式中，挡板设计容纳并平均分布液体金属或金属合金在所有喷嘴上，这提高了厚度均匀性。在没有挡板的蒸发组件的倾斜实施方式，熔融或液体金属或金属合金流动到最低点，导致不同的喷嘴248a-248e的线性数组之间的压力不均匀。
在一个例子中，坩埚的蒸发表面面积与喷嘴开口表面面积的面积比为从约40:1至约400:1；从约50:1至约350:1；以及从约100:1至约330:1。坩埚的蒸发表面面积与喷嘴开口表面面积的面积比大于约40:1；大于约50:1；大于约70；1；大于约100:1；大于约150:1；大于约170:1；大于约200:1；大于约250:1；大于约300:1；或大于约400:1。
图3说明了依据本公开内容的一个或多个实施方式，蒸发组件300(例如热蒸发器)的横截面图。蒸发组件300与蒸发组件200类似，但是蒸发组件300的坩埚区域310被整合在蒸发组件300的蒸发器主体230内。坩埚区域310定位在加热器区域270下方，并且被设计为容纳要蒸发的材料。图3中所描绘的蒸发器主体230的底表面334是实心件。蒸发组件300可以用来代替图1中所描绘的蒸发组件140。
图4说明了依据本公开内容的一个或多个实施方式，蒸发组件400(例如热蒸发器)的横截面图。蒸发组件400可以用来代替图1中所描绘的蒸发组件140。蒸发组件400与蒸发组件300类似，但是蒸发组件400包括多个挡板410a-410d(统称410)。该多个挡板410各自从蒸发器主体230的底表面334延伸到加热器区域270中。该多个挡板410中的每个挡板在侧壁之间(例如侧壁242a与侧壁242b之间)纵向延伸。在可以与其他实施方式相结合的一个实施方式中，该多个挡板410中的每个挡板延伸到相邻加热器272之间的内部区域247中。该多个挡板410中的每个挡板将内部区域226和内部区域247分成单独的隔室420a-420e(统称420)。每个隔室420a-420e可以被配置为向对应的喷嘴248a-248e的线性数组供应蒸发的材料。例如，隔室420a向喷嘴248a的线性数组供应蒸发的材料。将内部区域226分成单独的隔室确保每个喷嘴248线性数组上的压力均匀。
图5A说明了依据本公开内容的一个或多个实施方式，包括整合扁平坩埚区域的蒸发组件500(例如热蒸发器)的透视图。图5B依据本公开内容的一个或多个实施方式，图5A的蒸发组件500的横截面图。蒸发组件500可以用来代替图1中所描绘的蒸发组件140。蒸发组件500与蒸发组件300类似，但是蒸发组件500在侧壁240a、240b和底表面334两者中都包括多个纵向凹槽或曲折图案。如上所述，侧壁240a、240b和底表面334两者中的凹槽设计有助于增加蒸发器主体230的表面面积。这种增加的表面面积有助于在更低的温度下实现更高的蒸气压力，这减少了卷材基板所暴露的辐射热量，也使温度能够在短时间内上升和下降。侧壁240a包括纵向凹槽510a、510b，侧壁240b包括纵向凹槽510c、510d。虽然在每个相应的侧壁240a、240b中示出了两个纵向凹槽510a、510b和510c、510d，但取决于蒸发器主体230的期望表面面积，纵向凹槽的数量也可以增加或减少。纵向凹槽510a-510d沿着由侧壁240a、240b所界定的长度从侧壁242a延伸到侧壁242b。
与顶表面238类似，底表面334也包括多个纵向凹槽544a-544d。虽然示出四个纵向凹槽544a-544d，但取决于蒸发器主体230的期望表面面积，纵向凹槽的数量也可以增加或减少。底表面334的这种增加的表面面积在更高的蒸气压力下实现了更低的温度。参考图5A-5B，底表面334中的纵向凹槽544沿着由侧壁240a、240b所界定的长度从侧壁242a延伸到侧壁242b。参考图5B，纵向凹槽544分离出多个纵向尖峰546a-546e(统称546)。纵向尖峰546沿着由侧壁240a、240b所界定的长度从侧壁242a延伸到侧壁242b。在可以与其他实施方式相结合的一个实施方式中，纵向尖峰546a与纵向凹槽544a的底部之间的距离为从约80毫米至约120毫米，例如从约90毫米至约110毫米。
在可以与其他实施方式相结合的一个实施方式中，图5B中所描绘的蒸发组件500进一步包括多个挡板550a-550d(统称550)。该多个挡板550各自从蒸发器主体230的底表面334延伸到加热器区域270中。该多个挡板510中的每个挡板在侧壁之间(例如侧壁242a与侧壁242b之间)纵向延伸。在可以与其他实施方式相结合的一个实施方式中，该多个挡板510中的每个挡板延伸到相邻加热器272之间的内部区域247中。该多个挡板510中的每个挡板将内部区域226和内部区域247分成单独的隔室520a-520e(统称520)。每个隔室520a-520e可以被配置为向对应的喷嘴248a-248e的线性数组供应蒸发的材料。例如，隔室520a向喷嘴248a的线性数组供应蒸发的材料。将内部区域226分成单独的隔室确保每个喷嘴248线性数组上的压力均匀。
图6A说明了依据本公开内容的一个或多个实施方式，包括扩大的扁平坩埚610的蒸发组件600的透视图。图6B说明了依据本公开内容的一个或多个实施方式，图6A的蒸发组件600的侧视图。图6C说明了依据本公开内容的一个或多个实施方式，图6A的蒸发组件的横截面图。蒸发组件600可以用来代替图1中所描绘的蒸发组件140。蒸发组件600与蒸发组件200类似，但是蒸发组件600用扩大的扁平坩埚610取代了扁平坩埚210。
扩大的扁平坩埚610被设计为容纳要蒸发的材料，例如金属或金属合金。扩大的扁平坩埚610包括坩埚主体612，它具有长度尺寸“L3”和宽度尺寸“W3”。如图6A-6C中所描绘，与蒸发器主体230的长度尺寸“L2”和宽度尺寸“W2”相比，坩埚主体612具有更大的长度尺寸“L3”和更大的宽度尺寸“W3”。虽然坩埚主体612被示为矩形主体，但其他合适于坩埚主体612的形状也在考虑之列。参考图6C，坩埚主体612包括具有开口616的顶表面614，蒸发的材料可以通过该开口逸出。坩埚主体612进一步包括与顶表面614相对的底表面618。坩埚主体612进一步包括第一对相对侧壁620a、620b(统称620)，它们从底表面618向上延伸并且与该底表面垂直。第一对相对侧壁620a、620b界定坩埚主体612的长度。坩埚主体612进一步包括第二对相对侧壁622a、622b(统称622)，它们从底表面618向上延伸并且与该底表面垂直。第二对相对侧壁622界定坩埚主体612的宽度。参考图6C，底表面618、第一对相对侧壁620和第二对相对侧壁622界定用于容纳要蒸发的材料的内部区域626。内部区域626可用于容纳呈熔融和/或液体形式的要蒸发/沉积的材料。要蒸发/沉积的材料可以从外部来源供应到扩大的扁平坩埚610的内部区域626。坩埚主体612可以与外部加热源热耦合。
蒸发器主体230也与扩大的扁平坩埚610流体耦合，使得来自扩大的扁平坩埚610的蒸发材料可以进入蒸发器主体230。如图6C所示，扩大的扁平坩埚610的顶表面614中的开口616与蒸发器主体230的底表面234中的开口236对准。在可以与其他实施方式相结合的一个实施方式中，开口616和开口236的尺寸相同。在可以与其他实施方式相结合的一个实施方式中，开口616和开口236的尺寸不同。
在可以与其他实施方式相结合的一个实施方式中，热蒸发组件600进一步包括多个挡板680a-680d(统称680)。该多个挡板680各自从扩大的扁平坩埚610的底表面618通过开口616延伸到加热器区域270中。该多个挡板680中的每个挡板在侧壁之间(例如侧壁622a与侧壁622b之间)纵向延伸。在可以与其他实施方式相结合的一个实施方式中，该多个挡板680中的每个挡板延伸到相邻加热器272之间的内部区域247中。该多个挡板680中的每个挡板将内部区域226和内部区域247分成单独的隔室682a-682e(统称682)。每个隔室682a-682e可以被配置为向对应的喷嘴248a-248e的线性数组供应蒸发的材料。例如，隔室682a向喷嘴248a的线性数组供应蒸发的材料。将内部区域626分成单独的隔室确保每个喷嘴248线性数组上的压力均匀。
在一个例子中，蒸发器主体230具有24公分的宽度尺寸“W2”和30公分的长度尺寸“L2”，这相当于720平方公分的表面面积。扩大的扁平坩埚610具有30公分的宽度尺寸“W3”和36公分的长度尺寸“L3”，这相当于1,080平方公分的表面面积。扩大的扁平坩埚610的表面与蒸发器主体230的表面面积的比率为6:4或1.5。因此，50％或更大的表面面积暴露于喷嘴。
图7说明了依据本公开内容的一个或多个实施方式，另一个蒸发组件700的示意横截面图。蒸发组件700可以用来代替图1中所描绘的蒸发组件140。蒸发组件700包括与扩大的扁平坩埚610耦合的加热器主体710。加热器主体710包括加热器或加热器组件720，用于汽化扩大的扁平坩埚610中要蒸发的材料。加热器组件720可以是任何合适的加热器，以实现期望的温度。在一个例子中，加热器组件720是电阻式加热器。在可以与其他实施方式相结合的一个实施方式中，加热器主体710与扁平坩埚的底表面618耦合。可以使用任何合适的附接技术来将扩大的扁平坩埚610与加热器主体710附接。例如，扩大的扁平坩埚610可以被焊接到加热器主体710。扩大的扁平坩埚610可以用螺栓连接到加热器主体710。扩大的扁平坩埚610可以可移除地与加热器主体710附接。
图8说明了依据本公开内容的一个或多个实施方式，另一个蒸发组件800的示意横截面图。蒸发组件800可以用来代替图1中所描绘的热蒸发组件140。蒸发组件800包括定位在蒸发器主体812中的多个模块化蒸发器810a-810e(统称810)。蒸发器主体812可以是蒸发器主体230。蒸发组件800进一步包括加热器820。加热器820定位在蒸发器主体812中，以向模块化蒸发器810供应热量。可以使用向模块化蒸发器810供应足够热量以汽化要蒸发的材料的任何合适的加热器。蒸发组件800进一步包括挡板830。挡板830可以是挡板260。挡板830包括多个通孔862a-862e(统称862)。每个通孔862a-862e与对应的喷嘴848a-848e的线性数组相关联。例如，阀862a控制蒸发的材料流向喷嘴848a的线性数组。在可以与其他实施方式相结合的一个实施方式中，挡板830包括形成在每个喷嘴848a-848e的线性数组下方的多个通孔862a-862e。每个模块化蒸发器810a-810e与对应的喷嘴848a-848e的线性数组相关联。例如，模块化蒸发器810a向喷嘴848的线性数组供应蒸发的材料。
实施例：
以下非限制性实施例的提供是为了进一步说明本文所述的实施方式。然而，这些例子并不旨在包罗万象，也不旨在限制本文所述实施方式的范围。
比较例1：
本比较例计算当前圆形坩埚设计的面积比(AR)。
AR＝((πr2)/(n*πr2))
坩埚面积＝3.142x(21.5)∧2＝1452.38mm2
喷嘴面积(120个喷嘴)＝120x 3.142x(1.2)∧2＝456.21mm2
AR(圆形坩埚)＝1452.38/456.21＝3.18
比较例2：
AR＝((πr2)/(n*πr2))
坩埚面积＝3.142x(21.5)∧2＝1452.38mm2
喷嘴面积(50个喷嘴)＝50x 3.142x(2.5)∧2＝981.87mm2
AR(圆形坩埚)＝1452.38/981.87＝1.48
实施例1：
AR＝((w*l)/(n*πr2))
坩埚面积(w*l)＝420mm X 240mm＝100,800mm2
喷嘴面积(50个喷嘴)＝50x 3.142x(2.5)∧2＝981.87mm2
AR(扁平坩埚)＝100800/981.87＝102.66
实施例2：
AR＝((w*l)/(n*πr2))
坩埚面积(w*l)＝420mm X 240mm＝100,800mm2
喷嘴面积(120个喷嘴)＝120x 3.142x(1.2)∧2＝456.21mm2
AR(扁平坩埚)＝100800/456.21＝220.95
实施方式可以包括以下潜在优势中的一者或多者。带有扁平坩埚的热蒸发器设计增加了汽化碱金属和金属合金的表面面积，这使得在较低的蒸发温度下能够显著提高蒸气压力。这种较高的蒸气压力允许更高的沉积速率。本文所述的热蒸发器设计能够在相对较低的温度下以非常高的均匀蒸发速率使用碱金属和金属合金。本文所述的热蒸发器设计使卷对卷工艺能够以实质上较低的张力和较高的卷材速度用薄金属基板运行。这种较低的张力有助于减少薄金属基板的起皱，因为它有助于保持薄金属基板的抗张强度。由于蒸发的热预算较低，基板的冷却要求被降到最低。蒸发的热预算较低，也使蒸发器能够快速升温和降温，从而提高生产工具的产率。
本说明书中描述的实施方式和所有功能操作可以以数字电子电路系统实现，或以计算机软件、韧体或硬件(包括本说明书中所公开的结构手段和其结构等效物)实现，或以它们的组合实现。本文描述的实施方式可以作为一个或多个非暂时性计算机程序产品来实现，即，有形地实施在机器可读取储存设备中的一个或多个计算机程序，用于由数据处理装置(例如可程序化处理器、计算机或多个处理器或计算机)执行或控制其操作。
本说明书中描述的工艺和逻辑流可以由一个或多个可程序化处理器来执行，该一个或多个可程序化处理器执行一个或多个计算机程序，以通过对输入数据进行操作和产生输出来执行功能。这些工艺和逻辑流也可以通过特殊用途逻辑电路系统(例如FPGA(现场可程序化逻辑门阵列)或ASIC(特定应用集成电路))来执行，并且装置也可以作该特殊用途逻辑电路系统来实施。
术语“数据处理装置”包含了用于处理数据的所有装置、设备和机器，举例来说，包括可程序化处理器、计算机、多个处理器或计算机。除硬件外，该装置还可以包括为有关计算机程序创造执行环境的代码，例如构成处理器韧体、协议堆栈、数据库管理系统、操作系统或其中一个或多个的组合的代码。适合执行计算机程序的处理器，举例来说，包括通用和特殊用途的微处理器，以及任何种类的数字计算机的任何一个或多个处理器。
适合储存计算机程序指令和数据的计算机可读取媒体包括所有形式的非易失性内存、媒体和内存设备，举例来说，包括半导体内存设备，例如EPROM、EEPROM和闪存设备；磁盘，例如内部硬盘或可移动磁盘；磁光盘；以及CD ROM和DVD-ROM碟。可以由特殊用途逻辑电路系统协处理器和内存，或将处理器和内存并入该特殊用途逻辑电路系统中。
实施方式列表
本公开内容除其他外，还提供了以下实施方式，其中每个实施方式都可以被视为可选地包括任何替代实施例：
条款1.一种蒸发组件，包括：
扁平坩埚，用于容纳要蒸发的材料，该扁平坩埚包括界定内部区域的矩形主体，该内部区域用于容纳要蒸发的该材料，该矩形主体具有开口，蒸发的该材料可以通过该开口逸出，该矩形主体具有界定蒸发表面面积的长度尺寸和宽度尺寸；以及
蒸发器主体，与该矩形主体流体耦合，该蒸发器主体包括顶表面，该顶表面具有多个喷嘴线性数组，每个喷嘴具有由直径所界定的开口，其中该等开口的总面积界定喷嘴开口表面面积，并且该蒸发表面面积大于该喷嘴开口表面面积。
条款2.如条款1所述的蒸发组件，其中该蒸发表面面积与该喷嘴开口表面面积的面积比为从约100至约330。
条款3.如条款1或条款2所述的蒸发组件，其中该蒸发器主体的该顶表面是平坦表面。
条款4.如条款1-3中的任一者所述的蒸发组件，其中该蒸发器主体的该顶表面具有界定纵向凹槽的曲折图案。
条款5.如条款4所述的蒸发组件，其中该蒸发器主体的相对侧壁具有界定纵向凹槽的曲折图案。
条款6.如条款1-5中的任一者所述的蒸发组件，其中该蒸发器主体包括具有多个挡板的挡板区域，每个挡板从该蒸发器主体的第一侧壁延伸到该蒸发器主体的第二侧壁，其中该第一侧壁与该第二侧壁相对。
条款7.如条款6所述的蒸发组件，其中该蒸发器主体进一步包括定位在该挡板区域下方的加热器区域，该加热器区域包括多个管状加热器，该蒸发器主体具有界定开口的底表面，该开口与该矩形主体中的该开口对应。
条款8.如条款7所述的蒸发组件，进一步包括将该矩形主体分成单独的隔室的多个挡板。
条款9.如条款8所述的蒸发组件，其中每个挡板从该矩形主体的底表面通过该开口延伸到相邻的管状加热器之间的该加热器区域中。
条款10.如条款8或条款9所述的蒸发组件，其中该等单独隔室中的每个隔室与该多个喷嘴线性数组中的一个喷嘴线性数组对应。
条款11.如条款1-10中的任一者所述的蒸发组件，进一步包括与该蒸发器主体热接触的热源。
条款12.一种蒸发组件，包括：
扁平坩埚，用于容纳要蒸发的材料，该扁平坩埚包括：
矩形主体，具有长度尺寸和宽度尺寸，该矩形主体包括：
顶表面，具有开口，蒸发的材料可以通过该开口逸出，该矩形主体具有界定蒸发表面面积的长度尺寸和宽度尺寸；
底表面，与该顶表面相对；
第一对相对侧壁，从该底表面向上延伸并且与该底表面垂直；
第二对相对侧壁，从该底表面向上延伸并且与该底表面垂直，该底表面、该第一对相对侧壁和该第二对相对侧壁界定用于容纳要蒸发的该材料的内部区域；以及
蒸发器主体，与该矩形主体流体耦合，并且具有长度尺寸和宽度尺寸，该蒸发器主体包括：
加热器区域，具有定位在其中的多个加热杆；以及
挡板区域，定位在该加热器区域上方，该挡板区域包括：
多个喷嘴线性数组，用于输送蒸发的该材料，每个喷嘴具有由直径所界定的开口，其中这些开口的总面积界定喷嘴开口表面面积，并且该蒸发表面面积大于该喷嘴开口表面面积。
条款13.如条款12所述的蒸发组件，其中该蒸发表面面积与该喷嘴开口表面面积的面积比为从约100至约330。
条款14.如条款12或条款13所述的蒸发组件，其中该蒸发表面面积与该喷嘴开口表面面积的面积比大于约50:1。
条款15.如条款12-14中的任一者所述的蒸发组件，其中该蒸发器主体的该顶表面是平坦表面。
条款16.如条款12-15中的任一者所述的蒸发组件，其中该蒸发器主体的该顶表面具有界定纵向凹槽的曲折图案。
条款17.如条款16所述的蒸发组件，其中该蒸发器主体的相对侧壁具有界定纵向凹槽的曲折图案。
条款18.如条款12-17中的任一者所述的蒸发组件，进一步包括多个挡板，该多个挡板沿着该矩形主体的该长度尺寸延伸并且将该矩形主体分成单独的隔室。
条款19.如条款18所述的蒸发组件，其中每个挡板从该矩形主体的底表面通过该开口延伸到相邻的管状加热器之间的该加热器区域中。
条款20.如条款18或条款19所述的蒸发组件，其中这些单独隔室中的每个隔室与该多个喷嘴线性数组中的一个喷嘴线性数组对应。
条款21.如条款12-20中的任一者所述的蒸发组件，进一步包括与该蒸发器主体热接触的热源。
条款22.如条款12-21中的任一者所述的蒸发组件，其中每个挡板具有多个通孔。
条款23.如条款12-22中的任一者所述的蒸发组件，进一步包括与该矩形主体热接触的热源。
条款24.一种热蒸发器，包括：
蒸发器主体，具有长度尺寸和宽度尺寸，该蒸发器主体包括：
加热器区域，具有定位在其中的多个加热杆；
挡板区域，定位在该加热器区域上方，该挡板区域包括用于输送蒸发的材料的多个喷嘴线性数组，每个喷嘴具有由直径所界定的开口；以及
坩埚区域，定位在该加热器区域下方，该坩埚区域被设计为容纳要蒸发的该材料，其中该长度尺寸和该宽度尺寸界定蒸发表面面积，并且这些开口的总面积界定喷嘴开口表面面积，并且该蒸发表面面积大于该喷嘴开口表面面积。
条款25.如条款24所述的热蒸发器，其中该蒸发表面面积与该喷嘴开口表面面积的面积比为从约100至约330。
条款26.如条款24或条款25所述的热蒸发器，其中该蒸发表面面积与该喷嘴开口表面面积的面积比大于约50:1。
条款27.如条款24-26中的任一者所述的热蒸发器，其中该蒸发器主体的顶表面是平坦表面。
条款28.如条款24-27中的任一者所述的热蒸发器，其中该蒸发器主体的顶表面具有界定纵向凹槽的曲折图案。
条款29.如条款28所述的热蒸发器，其中该蒸发器主体的相对侧壁具有界定纵向凹槽的曲折图案。
条款30.如条款24-29中的任一者所述的热蒸发器，进一步包括多个挡板，该多个挡板沿着该蒸发器主体的该长度尺寸延伸并且将该蒸发器主体分成单独的隔室。
条款31.如条款30所述的热蒸发器，其中每个挡板从该蒸发器主体的底表面通过该开口延伸到相邻的管状加热器之间的该加热器区域中。
条款32.如条款30或条款31所述的热蒸发器，其中这些单独隔室中的每个隔室与该多个喷嘴线性数组中的一个喷嘴线性数组对应。
条款33.如条款24-32中的任一者所述的热蒸发器，进一步包括与该蒸发器主体热接触的热源。
条款34.如条款24-33中的任一者所述的热蒸发器，其中每个挡板具有多个通孔。
当介绍本公开内容的元素或其示例性态样或实施方式时，冠词“一(a)”、“一(an)”、“该”和“所述”旨在意味着，存在这些元素中的一者或多者。
术语“包括(comprising)”、“包括(including)”和“具有”旨在是包容性的，并且意味着可能存在所列出的元素以外的其他元素。
虽然上述内容是针对本公开内容的实施方式，但在不偏离其基本范围的情况下，可以设计出本公开内容的其他和进一步的实施方式，并且其范围是由后面的权利要求决定的。

Claims (20)

1.一种蒸发组件，包括：
扁平坩埚，用于容纳要蒸发的材料，该扁平坩埚包括界定内部区域的矩形主体，该内部区域用于容纳要蒸发的该材料，该矩形主体具有开口，蒸发的该材料可以通过该开口逸出，该矩形主体具有界定蒸发表面面积的长度尺寸和宽度尺寸；以及
蒸发器主体，与该矩形主体流体耦合，该蒸发器主体包括顶表面，该顶表面具有多个喷嘴线性数组，每个喷嘴具有由直径所界定的开口，其中这些开口的总面积界定喷嘴开口表面面积，并且该蒸发表面面积大于该喷嘴开口表面面积。
2.如权利要求1所述的蒸发组件，其中该蒸发表面面积与该喷嘴开口表面面积的面积比为从约100至约330。
3.如权利要求1所述的蒸发组件，其中该蒸发器主体的该顶表面是平坦表面。
4.如权利要求1所述的蒸发组件，其中该蒸发器主体的该顶表面具有界定纵向凹槽的曲折图案。
5.如权利要求4所述的蒸发组件，其中该蒸发器主体的相对侧壁具有界定纵向凹槽的曲折图案。
6.如权利要求1所述的蒸发组件，其中该蒸发器主体包括具有多个挡板的挡板区域，每个挡板从该蒸发器主体的第一侧壁延伸到该蒸发器主体的第二侧壁，其中该第一侧壁与该第二侧壁相对。
7.如权利要求6所述的蒸发组件，其中该蒸发器主体进一步包括定位在该挡板区域下方的加热器区域，该加热器区域包括多个管状加热器，该蒸发器主体具有界定开口的底表面，该开口与该矩形主体中的该开口对应。
8.如权利要求7所述的蒸发组件，进一步包括将该矩形主体分成单独的隔室的多个挡板。
9.如权利要求8所述的蒸发组件，其中每个挡板从该矩形主体的底表面通过该开口延伸到相邻的管状加热器之间的该加热器区域中。
10.如权利要求8所述的蒸发组件，其中这些单独隔室中的每个隔室与该多个喷嘴线性数组中的一喷嘴线性数组对应。
11.如权利要求1所述的蒸发组件，进一步包括与该蒸发器主体热接触的热源。
12.一种蒸发组件，包括：
扁平坩埚，用于容纳要蒸发的材料，该扁平坩埚包括：
矩形主体，具有长度尺寸和宽度尺寸，该矩形主体包括：
顶表面，具有开口，蒸发的材料可以通过该开口逸出，该矩形主体具有界定蒸发表面面积的长度尺寸和宽度尺寸；
底表面，与该顶表面相对；
第一对相对侧壁，从该底表面向上延伸并且与该底表面垂直；
第二对相对侧壁，从该底表面向上延伸并且与该底表面垂直，该底表面、该第一对相对侧壁和该第二对相对侧壁界定用于容纳要蒸发的该材料的内部区域；以及
蒸发器主体，与该矩形主体流体耦合，并且具有长度尺寸和宽度尺寸，该蒸发器主体包括：
加热器区域，具有定位在其中的多个加热杆；以及
挡板区域，定位在该加热器区域上方，该挡板区域包括：
多个喷嘴线性数组，用于输送经蒸发的该材料，每个喷嘴具有由直径所界定的开口，其中这些开口的总面积界定喷嘴开口表面面积，并且该蒸发表面面积大于该喷嘴开口表面面积。
13.如权利要求12所述的蒸发组件，其中该蒸发表面面积与该喷嘴开口表面面积的面积比为从约100至约330。
14.如权利要求12所述的蒸发组件，其中：
该蒸发器主体的该顶表面是平坦表面；
该蒸发器主体的该顶表面具有界定纵向凹槽的曲折图案；或者
上述特征的组合。
15.如权利要求12所述的蒸发组件，进一步包括多个挡板，该多个挡板沿着该矩形主体的该长度尺寸延伸并且将该矩形主体分成单独的隔室。
16.一种热蒸发器，包括：
蒸发器主体，具有长度尺寸和宽度尺寸，该蒸发器主体包括：
加热器区域，具有定位在其中的多个加热杆；
挡板区域，定位在该加热器区域上方，该挡板区域包括：
多个喷嘴线性数组，用于输送经蒸发的材料，每个喷嘴具有由直径所界定的开口；以及
坩埚区域，定位在该加热器区域下方，该坩埚区域被设计为容纳要蒸发的该材料，其中该长度尺寸和该宽度尺寸界定蒸发表面面积，并且这些开口的总面积界定喷嘴开口表面面积，并且该蒸发表面面积大于该喷嘴开口表面面积。
17.如权利要求16所述的热蒸发器，其中该蒸发表面面积与该喷嘴开口表面面积的面积比为从约100至约330。
18.如权利要求16所述的热蒸发器，其中该蒸发器主体的顶表面是平坦表面。
19.如权利要求16所述的热蒸发器，其中该蒸发器主体的顶表面具有界定纵向凹槽的曲折图案。
20.如权利要求19所述的热蒸发器，其中该蒸发器主体的相对侧壁具有界定纵向凹槽的曲折图案。
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