CN117742531B - 高精度多点触控电容触摸屏及其蚀刻工艺 - Google Patents

Abstract

本发明提供了一种高精度多点触控电容触摸屏及其蚀刻工艺，通过用户对采集多点触控电容触摸屏的触摸操作，得到用户的触摸操作数据，采用高精度传感器进行数据的采集，提高采集性能，然后，基于对触摸操作数据确定触摸操作数据对应的多个目标触摸点，实现对触摸点真实性的确定，之后基于触摸坐标触发规则和多个目标触摸点之间的相对位置关系，对多个目标触摸点进行调整修正得到多个目标触摸点的目标触摸坐标，通过对多个目标触摸点进行调整修正，提高多点触控电容触摸屏的触摸精度和抗干扰能力。

Description

高精度多点触控电容触摸屏及其蚀刻工艺

技术领域

本发明涉及电容触摸屏制造技术领域，特别涉及一种高精度多点触控电容触摸屏及其蚀刻工艺。

背景技术

触摸屏作为一种人机交互的输入设备，在逐步替代键盘、鼠标成为电子产品的一个重要组成部分。电容式触摸屏通过在透明玻璃上溅度氧化铟锡（ITO），然后进行线路的蚀刻，软性线路板的热压，与钢化玻璃用光学胶水贴合而成。电容式触摸屏具备透过率高、可支持多点触摸、寿命长等优点，电容式触控技术是近年来发展较快的一种触控技术。

多点触控是采用人机交互技术和硬件设备共同实现的技术，能在没有传统输入设备键盘、鼠标等的情况下实现人机交互操作。多点触控电容触摸屏成为比较常用的一种触摸控制方式，但是点触控电容触摸屏目前还存在一个比较大的问题进行抗干扰能力差，触摸性能低，导致触摸屏显示不精准的问题。

发明内容

本发明提供一种高精度多点触控电容触摸屏及其蚀刻工艺，用以解决背景技术中提出的问题。

一种高精度多点触控电容触摸屏，包括：

触摸屏模块，用于实现用户与设备之间的交互操作；

数据采集模块，用于用户对采集多点触控电容触摸屏的触摸操作，得到用户的触摸操作数据；

数据处理模块，用于基于对触摸操作数据确定触摸操作数据对应的多个目标触摸点；

坐标确定模块，用于基于触摸坐标触发规则和多个目标触摸点之间的相对位置关系，对多个目标触摸点进行调整修正得到多个目标触摸点的目标触摸坐标；

控制显示模块，用于基于多个目标触摸坐标在多点触控电容触摸屏上进行相应显示。

优选的，所述触摸屏模块由液晶显示层，玻璃基板，透明电极层，粘合层，防护罩和防反射保护涂层从下到上排列组成。

优选的，所述数据采集模块，包括：

x轴感应采集单元，用于按照预设采集x轴每个感应格的电容变化，得到x轴电容变化数据；

y轴感应采集单元，用于采集y轴每个感应格的电容变化，得到y轴电容变化数据；

数据筛选单元，用于从x轴电容变化数据和y轴电容变化数据中获取大于预设电容值的目标电容变化数据。

优选的，所述数据采集模块，还包括：

x轴时序采集单元，用于采集x轴每个感应格有触摸存在是的时间序列，得到x轴时序数据；

y轴时序采集单元，用于采集y轴每个感应格有触摸存在是的时间序列，得到y轴时序数据；

数据整合单元，用于将目标电容变化数据，x轴时序数据和y轴时序数据进行整合，得到用户的触摸操作数据。

优选的，所述数据处理模块，包括：

数据判断单元，用于判断触摸操作数据中的x轴电容变化数据和y轴电容变化数据是否均为1；

若是，确定用户在多点触控电容触摸屏的操作为单点操作；

否则，确定用户在多点触控电容触摸屏的操作需要进行进一步判断；

时间序列确定单元，用于当用户在多点触控电容触摸屏的操作需要进行进一步判断时，从触摸操作数据中获取x轴电容极大值和y轴电容极大值，并确定x轴电容极大值对应的第一时间序列和y轴电容极大值对应的第二时间序列；

数量判断单元，用于将第一时间序列和第二时间序列进行匹配，根据匹配结果，将x轴电容极大值和y轴电容极大值进行组合，得到极大值组合，判断极大值组合中的极大值数量是否为2；

若是，确定极大值组合为一个触摸点；

否则，对极大值组合进行进一步判断；

初始确定单元，用于对极大值组合进行进一步判断，具体为当极大值组合中的极大值数量为4时，基于x轴电容极大值和y轴电容极大值所在触控电容触摸屏的位置关系，得到4个可疑触摸点；

当极大值组合中极大值数量为3时，基于x轴电容极大值和y轴电容极大值所在触控电容触摸屏的位置关系，得到2个目标触摸点；

验证确定单元，用于基于可疑触摸点在多点触控电容触摸屏中的区域，对可疑触摸点进行验证，根据验证结果得到目标触摸点。

优选的，所述验证确定单元，包括：

区域划分单元，用于将多点触控电容触摸屏按照位置坐标划分为多个相同的子区域，并将可疑触摸点的区域作为目标子区域；

区域确定单元，用于基于触摸操作数据确定可疑触摸点距离多点触控电容触摸屏四个角的相对距离，并基于相对距离，确定可疑触摸点在多点触控电容触摸屏中的可存在区域；

目标触摸点确定单元，用于确定可存在区域与目标子区域的重叠部分对应的可疑触摸点作为目标触摸点，其他触摸点作为误差触摸点。

优选的，所述坐标确定模块，包括：

第一修正单元，用于获取多个目标触摸点在连续时间段的历史触摸点，并获取历史触摸点之间的历史相对位置关系，基于历史相对位置关系和相对位置关系之间的差异，确定对多个目标触摸点的第一修正权重；

第二修正单元，用于基于触摸坐标触发规则，结合历史触摸点，判断多个目标触摸点是否发生滑动；

若是，确定基于滑动特征，确定对多个目标触摸点的第二修正权重；

否则，确定对多个目标触摸点的第二修正权重为1；

坐标确定单元，用于基于多个目标触摸点的电容变化量以及所在的x轴数和y轴数，结合第一修正权重和第二修正权重，计算得到多个目标触摸点的目标触摸坐标。

优选的，所述坐标确定单元，包括：

第一计算单元，用于基于目标触摸点的电容变化量以及所在的x轴数和y轴数，计算得到目标触摸点的初始触摸坐标；

第二计算单元，用于基于第一修正权重和第二修正权重，结合多点触控电容触摸屏的分辨率，对初始触摸坐标进行修正计算，得到目标触摸坐标。

优选的，所述控制显示模块，包括：

指令确定单元，用于确定多个目标触摸坐标在多点触控电容触摸屏上对应的操作指令；

显示单元，用于基于操作指令进行控制执行，将执行结果在多点触控电容触摸屏上进行相应显示。

优选的，蚀刻工艺包括：

获取基板，利用正光阻在基板表面进行涂覆；

利用光照对基板上的图形经过光学系统后投影到负光阻上进行曝光，得到曝光区域；

利用负光阻对曝光区域进行显影，并利用ITO对基板整体进行镀层；

对基板整体进行镀层后，再次依次进行正光阻涂覆，曝光和显影，得到初始工艺结构；

利用激光干蚀刻对初始基板层进行蚀刻，然后进行去光阻，得到目标工艺结构。

与现有技术相比，本发明取得了以下有益效果：

通过用户对采集多点触控电容触摸屏的触摸操作，得到用户的触摸操作数据，采用高精度传感器进行数据的采集，提高采集性能，然后，基于对触摸操作数据确定触摸操作数据对应的多个目标触摸点，实现对触摸点真实性的确定，之后基于触摸坐标触发规则和多个目标触摸点之间的相对位置关系，对多个目标触摸点进行调整修正得到多个目标触摸点的目标触摸坐标，通过对多个目标触摸点进行调整修正，提高多点触控电容触摸屏的触摸精度和抗干扰能力。

本发明的其它特征和优点将在随后的说明书中阐述，并且，部分地从说明书中变得显而易见，或者通过实施本发明而了解。本发明的目的和其他优点可通过在本申请文件中所特别指出的结构来实现和获得。

下面通过附图和实施例，对本发明的技术方案做进一步的详细描述。

通过用户对采集多点触控电容触摸屏的触摸操作，得到用户的触摸操作数据，采用高精度传感器进行数据的采集，提高采集性能，然后，基于对触摸操作数据确定触摸操作数据对应的多个目标触摸点，实现对触摸点真实性的确定，之后基于触摸坐标触发规则和多个目标触摸点之间的相对位置关系，对多个目标触摸点进行调整修正得到多个目标触摸点的目标触摸坐标，通过对多个目标触摸点进行调整修正，提高多点触控电容触摸屏的触摸精度和抗干扰能力。

附图说明

附图用来提供对本发明的进一步理解，并且构成说明书的一部分，与本发明的实施例一起用于解释本发明，并不构成对本发明的限制。在附图中：

图1为本发明实施例中一种高精度多点触控电容触摸屏的结构图；

图2为本发明实施例中所述数据采集模块的结构图；

图3为本发明实施例中所述坐标确定模块的结构图。

具体实施方式

以下结合附图对本发明的优选实施例进行说明，应当理解，此处所描述的优选实施例仅用于说明和解释本发明，并不用于限定本发明。

实施例1：

本发明实施例提供一种高精度多点触控电容触摸屏，如图1所示，包括：

触摸屏模块，用于实现用户与设备之间的交互操作；

数据采集模块，用于用户对采集多点触控电容触摸屏的触摸操作，得到用户的触摸操作数据；

数据处理模块，用于基于对触摸操作数据确定触摸操作数据对应的多个目标触摸点；

坐标确定模块，用于基于触摸坐标触发规则和多个目标触摸点之间的相对位置关系，对多个目标触摸点进行调整修正得到多个目标触摸点的目标触摸坐标；

控制显示模块，用于基于多个目标触摸坐标在多点触控电容触摸屏上进行相应显示。

在该实施例中，所述触摸屏模块由液晶显示层，玻璃基板，透明电极层，粘合层，防护罩和防反射保护涂层从下到上排列组成。

在该实施例中，用户的触摸操作数据包括电容变化数据和时序数据。

在该实施例中，触摸坐标触发规则用于判断触摸点是否发生滑动。

在该实施例中，数据采集模块采用高精度传感器进行数据的采集。

上述设计方案的有益效果是：通过用户对采集多点触控电容触摸屏的触摸操作，得到用户的触摸操作数据，采用高精度传感器进行数据的采集，提高采集性能，然后，基于对触摸操作数据确定触摸操作数据对应的多个目标触摸点，实现对触摸点真实性的确定，之后基于触摸坐标触发规则和多个目标触摸点之间的相对位置关系，对多个目标触摸点进行调整修正得到多个目标触摸点的目标触摸坐标，通过对多个目标触摸点进行调整修正，提高多点触控电容触摸屏的触摸精度和抗干扰能力。

实施例2：

基于实施例1的基础上，本发明实施例提供一种高精度多点触控电容触摸屏，所述触摸屏模块由液晶显示层，玻璃基板，透明电极层，粘合层，防护罩和防反射保护涂层从下到上排列组成。

上述设计方案的有益效果是：通过由液晶显示层，玻璃基板，透明电极层，粘合层，防护罩和防反射保护涂层从下到上排列组成触摸屏模块，保证触摸屏的显示和触摸性能。

实施例3：

基于实施例1的基础上，本发明实施例提供一种高精度多点触控电容触摸屏，如图2所示，所述数据采集模块，包括：

x轴感应采集单元，用于按照预设采集x轴每个感应格的电容变化，得到x轴电容变化数据；

y轴感应采集单元，用于采集y轴每个感应格的电容变化，得到y轴电容变化数据；

数据筛选单元，用于从x轴电容变化数据和y轴电容变化数据中获取大于预设电容值的目标电容变化数据。

在该实施例中，轴坐标式感应单元分立的行和列以两个交叉的滑条实现， X轴滑条和Y轴滑条相互独立，即行和列在不同的轴。

上述设计方案的有益效果是：通过采用高精度传感器进行电容数据的采集，为多点触控电容触摸屏的高精度触控提供数据基础。

实施例4：

基于实施例3的基础上，本发明实施例提供一种高精度多点触控电容触摸屏，所述数据采集模块，还包括：

x轴时序采集单元，用于采集x轴每个感应格有触摸存在是的时间序列，得到x轴时序数据；

y轴时序采集单元，用于采集y轴每个感应格有触摸存在是的时间序列，得到y轴时序数据；

数据整合单元，用于将目标电容变化数据，x轴时序数据和y轴时序数据进行整合，得到用户的触摸操作数据。

上述设计方案的有益效果是：通过采用高精度传感器进行时序数据的采集，为多点触控电容触摸屏的高精度触控提供数据基础。

实施例5：

基于实施例1的基础上，本发明实施例提供一种高精度多点触控电容触摸屏，所述数据处理模块，包括：

数据判断单元，用于判断触摸操作数据中的x轴电容变化数据和y轴电容变化数据是否均为1；

若是，确定用户在多点触控电容触摸屏的操作为单点操作；

否则，确定用户在多点触控电容触摸屏的操作需要进行进一步判断；

时间序列确定单元，用于当用户在多点触控电容触摸屏的操作需要进行进一步判断时，从触摸操作数据中获取x轴电容极大值和y轴电容极大值，并确定x轴电容极大值对应的第一时间序列和y轴电容极大值对应的第二时间序列；

数量判断单元，用于将第一时间序列和第二时间序列进行匹配，根据匹配结果，将x轴电容极大值和y轴电容极大值进行组合，得到极大值组合，判断极大值组合中的极大值数量是否为2；

若是，确定极大值组合为一个触摸点；

否则，对极大值组合进行进一步判断；

初始确定单元，用于对极大值组合进行进一步判断，具体为当极大值组合中的极大值数量为4时，基于x轴电容极大值和y轴电容极大值所在触控电容触摸屏的位置关系，得到4个可疑触摸点；

当极大值组合中极大值数量为3时，基于x轴电容极大值和y轴电容极大值所在触控电容触摸屏的位置关系，得到2个目标触摸点；

验证确定单元，用于基于可疑触摸点在多点触控电容触摸屏中的区域，对可疑触摸点进行验证，根据验证结果得到目标触摸点。

在该实施例中，第一时间序列和第二时间序列进行匹配具体为将时间序列在预设时间差值范围内的x轴电容极大值和y轴电容极大值划分为一组。

在该实施例中，极大值组合中的极大值数量是否为2时，可唯一确定一个触摸点。

在该实施例中，当极大值组合中极大值数量为3时，可确定两个触摸点。

在该实施例中，当极大值组合中的极大值数量为4时，到4个可疑触摸点，其中可能存在鬼点，需要进行消除。

上述设计方案的有益效果是：通过基于x轴电容变化数据和y轴电容变化数据，以及时间序列来分情况确定触摸点，最终，基于可疑触摸点在多点触控电容触摸屏中的区域，对可疑触摸点进行验证，根据验证结果得到目标触摸点，实现对触摸点真实性的确定，保证得到的目标触摸点的真实性。

实施例6：

基于实施例5的基础上，本发明实施例提供一种高精度多点触控电容触摸屏，所述验证确定单元，包括：

区域划分单元，用于将多点触控电容触摸屏按照位置坐标划分为多个相同的子区域，并将可疑触摸点的区域作为目标子区域；

区域确定单元，用于基于触摸操作数据确定可疑触摸点距离多点触控电容触摸屏四个角的相对距离，并基于相对距离，确定可疑触摸点在多点触控电容触摸屏中的可存在区域；

目标触摸点确定单元，用于确定可存在区域与目标子区域的重叠部分对应的可疑触摸点作为目标触摸点，其他触摸点作为误差触摸点。

上述设计方案的有益效果是：通过区域划分，将可存在区域与目标子区域的重叠部分对应的可疑触摸点作为目标触摸点，实现位置和距离两方面考虑得到目标触摸点，保证得到的目标触摸点的真实性。

实施例7：

基于实施例1的基础上，本发明实施例提供一种高精度多点触控电容触摸屏，如图3所示，所述坐标确定模块，包括：

第一修正单元，用于获取多个目标触摸点在连续时间段的历史触摸点，并获取历史触摸点之间的历史相对位置关系，基于历史相对位置关系和相对位置关系之间的差异，确定对多个目标触摸点的第一修正权重；

第二修正单元，用于基于触摸坐标触发规则，结合历史触摸点，判断多个目标触摸点是否发生滑动；

若是，确定基于滑动特征，确定对多个目标触摸点的第二修正权重；

否则，确定对多个目标触摸点的第二修正权重为1；

坐标确定单元，用于基于多个目标触摸点的电容变化量以及所在的x轴数和y轴数，结合第一修正权重和第二修正权重，计算得到多个目标触摸点的目标触摸坐标。

上述设计方案的有益效果是：通过获取多个目标触摸点在连续时间段的历史触摸点，并获取历史触摸点之间的历史相对位置关系，基于历史相对位置关系和相对位置关系之间的差异，确定对多个目标触摸点的第一修正权重，实现在位置关系方面的修正权重确定，通过基于触摸坐标触发规则，结合历史触摸点，判断多个目标触摸点是否发生滑动来确定第二修正权重，实现在滑动方面的修正权重确定，最终，结合第一修正权重和第二修正权重，计算得到多个目标触摸点的目标触摸坐标，提高多点触控电容触摸屏的触摸精度和抗干扰能力。

实施例8：

基于实施例7的基础上，本发明实施例提供一种高精度多点触控电容触摸屏，所述坐标确定单元，包括：

第一计算单元，用于基于目标触摸点的电容变化量以及所在的x轴数和y轴数，计算得到目标触摸点的初始触摸坐标；

计算初始触摸坐标的计算公式如下：

其中，K表示映射系数，表示目标触摸点的初始触摸横坐标，/>表示在x轴第i-1行的电容变化量，/>表示在x轴第i行的电容变化量，且/>的电容变化量最大，/>表示在x轴第i+1行的电容变化量，/>表示x轴的第i-1行，i表示电容变化量最大所在的x轴的行数，/>表示x轴的第i+1行；

表示目标触摸点的初始触摸纵坐标，/>表示在y轴第j-1列的电容变化量，/>表示在y轴第j列的电容变化量，且/>的电容变化量最大，/>表示在y轴第j+1列的电容变化量，/>表示y轴的第j-1列，j表示电容变化量最大所在的y轴的列数，/>表示y轴的第j+1列；

第二计算单元，用于基于第一修正权重和第二修正权重，结合多点触控电容触摸屏的分辨率，对初始触摸坐标进行修正计算，得到目标触摸坐标；

计算目标触摸坐标的计算公式如下：

其中，表示目标触摸点的目标触摸横坐标，/>表示目标触摸点的目标触摸纵坐标，/>表示多点触控电容触摸屏在X方向的分辨率，/>表示多点触控电容触摸屏在Y方向的分辨率，/>表示第一修正权重，/>的取值范围为（0，0.5），/>表示第二修正权重，/>的取值范围均为（0，1]。

上述设计方案的有益效果是：通过基于目标触摸点的电容变化量以及所在的x轴数和y轴数，计算得到目标触摸点的初始触摸坐标，然后于基于第一修正权重和第二修正权重，结合多点触控电容触摸屏的分辨率，对初始触摸坐标进行修正计算，得到目标触摸坐标，保证得到的目标触摸坐标精确性，提高多点触控电容触摸屏的触摸精度和抗干扰能力。

实施例9：

基于实施例8的基础上，本发明实施例提供一种高精度多点触控电容触摸屏，所述控制显示模块，包括：

指令确定单元，用于确定多个目标触摸坐标在多点触控电容触摸屏上对应的操作指令；

显示单元，用于基于操作指令进行控制执行，将执行结果在多点触控电容触摸屏上进行相应显示。

上述设计方案的有益效果是：实现对高精度多点触控电容触摸屏的高精度控制显示。

实施例10：

基于实施例1-9任一所述的一种高精度多点触控电容触摸屏，提供一种多点触控电容触摸屏的蚀刻工艺，包括：

获取基板，利用正光阻在基板表面进行涂覆；

利用光照对基板上的图形经过光学系统后投影到负光阻上进行曝光，得到曝光区域；

利用负光阻对曝光区域进行显影，并利用ITO对基板整体进行镀层；

对基板整体进行镀层后，再次依次进行正光阻涂覆，曝光和显影，得到初始工艺结构；

利用激光干蚀刻对初始基板层进行蚀刻，然后进行去光阻，得到目标工艺结构。

上述设计方案的有益效果是：通过在基板上进行一系列的工艺操作，通过优越的蚀刻工艺增强触摸屏的显示和触摸性能，提高多点触控电容触摸屏的抗干扰性能。

显然，本领域的技术人员可以对本发明进行各种改动和变型而不脱离本发明的精神和范围。这样，倘若本发明的这些修改和变型属于本申请文件及其等同技术的范围之内，则本发明也意图包含这些改动和变型在内。

Claims (8)

1.一种高精度多点触控电容触摸屏，其特征在于，包括：

触摸屏模块，用于实现用户与设备之间的交互操作；

数据采集模块，用于用户对采集多点触控电容触摸屏的触摸操作，得到用户的触摸操作数据，其中，用户的触摸操作数据包括电容变化数据和时序数据；

数据处理模块，用于基于对触摸操作数据确定触摸操作数据对应的多个目标触摸点；

坐标确定模块，用于基于触摸坐标触发规则和多个目标触摸点之间的相对位置关系，对多个目标触摸点进行调整修正得到多个目标触摸点的目标触摸坐标，其中，触摸坐标触发规则用于判断触摸点是否发生滑动；

控制显示模块，用于基于多个目标触摸坐标在多点触控电容触摸屏上进行相应显示；

其中，所述坐标确定模块，包括：

第一修正单元，用于获取多个目标触摸点在连续时间段的历史触摸点，并获取历史触摸点之间的历史相对位置关系，基于历史相对位置关系和多个目标触摸点之间的相对位置关系之间的差异，确定对多个目标触摸点的第一修正权重；

第二修正单元，用于基于触摸坐标触发规则，结合历史触摸点，判断多个目标触摸点是否发生滑动；

若是，基于滑动特征，确定对多个目标触摸点的第二修正权重；

否则，确定对多个目标触摸点的第二修正权重为1；

坐标确定单元，用于基于多个目标触摸点的电容变化量以及所在的x轴数和y轴数，结合第一修正权重和第二修正权重，计算得到多个目标触摸点的目标触摸坐标；

所述坐标确定单元，包括：

第一计算单元，用于基于目标触摸点的电容变化量以及所在的x轴数和y轴数，计算得到目标触摸点的初始触摸坐标；

计算初始触摸坐标的计算公式如下：

其中，K表示映射系数，表示目标触摸点的初始触摸横坐标，/>表示在x轴第i-1行的电容变化量，/>表示在x轴第i行的电容变化量，且/>的电容变化量最大，/>表示在x轴第i+1行的电容变化量，/>表示x轴的第i-1行，i表示电容变化量最大所在的x轴的行数，表示x轴的第i+1行；

表示目标触摸点的初始触摸纵坐标，/>表示在y轴第j-1列的电容变化量，/>表示在y轴第j列的电容变化量，且/>的电容变化量最大，/>表示在y轴第j+1列的电容变化量，表示y轴的第j-1列，j表示电容变化量最大所在的y轴的列数，/>表示y轴的第j+1列；

第二计算单元，用于基于第一修正权重和第二修正权重，结合多点触控电容触摸屏的分辨率，对初始触摸坐标进行修正计算，得到目标触摸坐标；

计算目标触摸坐标的计算公式如下：

其中，表示目标触摸点的目标触摸横坐标，/>表示目标触摸点的目标触摸纵坐标，表示多点触控电容触摸屏在X方向的分辨率，/>表示多点触控电容触摸屏在Y方向的分辨率，/>表示第一修正权重，/>的取值范围为（0，0.5），/>表示第二修正权重，/>的取值范围均为（0，1]。

2.根据权利要求1所述的一种高精度多点触控电容触摸屏，其特征在于，所述触摸屏模块由液晶显示层，玻璃基板，透明电极层，粘合层，防护罩和防反射保护涂层从下到上排列组成。

3.根据权利要求1所述的一种高精度多点触控电容触摸屏，其特征在于，所述数据采集模块，包括：

x轴感应采集单元，用于按照预设采集x轴每个感应格的电容变化，得到x轴电容变化数据；

y轴感应采集单元，用于采集y轴每个感应格的电容变化，得到y轴电容变化数据；

数据筛选单元，用于从x轴电容变化数据和y轴电容变化数据中获取大于预设电容值的目标电容变化数据。

4.根据权利要求3所述的一种高精度多点触控电容触摸屏，其特征在于，所述数据采集模块，还包括：

x轴时序采集单元，用于采集x轴每个感应格有触摸存在时的时间序列，得到x轴时序数据；

y轴时序采集单元，用于采集y轴每个感应格有触摸存在时的时间序列，得到y轴时序数据；

数据整合单元，用于将目标电容变化数据，x轴时序数据和y轴时序数据进行整合，得到用户的触摸操作数据。

5.根据权利要求4所述的一种高精度多点触控电容触摸屏，其特征在于，所述数据处理模块，包括：

数据判断单元，用于判断触摸操作数据中的x轴电容变化数据和y轴电容变化数据是否均为1；

若是，确定用户在多点触控电容触摸屏的操作为单点操作；

否则，确定用户在多点触控电容触摸屏的操作需要进行进一步判断；

时间序列确定单元，用于当用户在多点触控电容触摸屏的操作需要进行进一步判断时，从触摸操作数据中获取x轴电容极大值和y轴电容极大值，并确定x轴电容极大值对应的第一时间序列和y轴电容极大值对应的第二时间序列；

数量判断单元，用于将第一时间序列和第二时间序列进行匹配，根据匹配结果，将x轴电容极大值和y轴电容极大值进行组合，得到极大值组合，判断极大值组合中的极大值数量是否为2；

若是，确定极大值组合为一个触摸点；

否则，对极大值组合进行进一步判断；

初始确定单元，用于对极大值组合进行进一步判断，具体为当极大值组合中的极大值数量为4时，基于x轴电容极大值和y轴电容极大值所在触控电容触摸屏的位置关系，得到4个可疑触摸点；

当极大值组合中极大值数量为3时，基于x轴电容极大值和y轴电容极大值所在触控电容触摸屏的位置关系，得到2个目标触摸点；

验证确定单元，用于基于可疑触摸点在多点触控电容触摸屏中的区域，对可疑触摸点进行验证，根据验证结果得到目标触摸点。

6.根据权利要求5所述的一种高精度多点触控电容触摸屏，其特征在于，所述验证确定单元，包括：

区域划分单元，用于将多点触控电容触摸屏按照位置坐标划分为多个相同的子区域，并将可疑触摸点的区域作为目标子区域；

区域确定单元，用于基于触摸操作数据确定可疑触摸点距离多点触控电容触摸屏四个角的相对距离，并基于相对距离，确定可疑触摸点在多点触控电容触摸屏中的可存在区域；

目标触摸点确定单元，用于确定可存在区域与目标子区域的重叠部分对应的可疑触摸点作为目标触摸点，其他触摸点作为误差触摸点。

7.根据权利要求1所述的一种高精度多点触控电容触摸屏，其特征在于，所述控制显示模块，包括：

指令确定单元，用于确定多个目标触摸坐标在多点触控电容触摸屏上对应的操作指令；

显示单元，用于基于操作指令进行控制执行，将执行结果在多点触控电容触摸屏上进行相应显示。

8.一种多点触控电容触摸屏的蚀刻工艺，应用于权利要求1-7任一所述的高精度多点触控电容触摸屏中，其特征在于，包括：

获取基板，利用正光阻在基板表面进行涂覆；

利用光照对基板上的图形经过光学系统后投影到负光阻上进行曝光，得到曝光区域；

利用负光阻对曝光区域进行显影，并利用ITO对基板整体进行镀层；

对基板整体进行镀层后，再次依次进行正光阻涂覆，曝光和显影，得到初始工艺结构；

利用激光干蚀刻对初始基板层进行蚀刻，然后进行去光阻，得到目标工艺结构。