CN117654869A - 一种交错互击式自清理筛分装置 - Google Patents
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Abstract
本发明公开了一种交错互击式自清理筛分装置,包括斜下输送布置的多组交错互击的旋转筛分机构、窜动发生机构、脉冲预警自动清洗机构,错互击旋转筛分机构相邻设置或隔轴设置,自清理筛片器等距设置耦合安装旋转轴的外表面,旋转轴设置为中空结构和喷射孔,旋转轴的自清理筛片器在同轴向等距相互交错;脉冲预警自动清洗机构,包括超载检测器、控制器;超载检测器安装旋转轴的一端,窜动发生机构设置安装在旋转轴总成的两端的平面凸轮器。交错互击式自清理筛分装置,采用交错互击式清理齿,旋转筛分的过程中进行自清理,通过脉冲预警自动清洗机构,对物料筛分旋转轴的承载负荷进行实时监控、预警和清洗,窜动发生机构进一步促进物料震动筛分。
Description
技术领域
本发明属于物料筛分领域,尤其涉及一种交错互击式自清理筛分装置。
背景技术
目前,在焦化厂、电厂、煤矿等行业,一些物料需要筛分,但这些物料湿、粘,传统振动筛分效果差,通常采用的是一种交叉筛分设备,这种交叉筛分设备通常有14-27根轴组成,每根轴上装有若干个相同间距的筛片,相邻轴筛片间掺合交叉,交叉之间的缝隙即为筛孔,各轴之间有一定间距,各轴中心面与地面有一定的角度,进而形成一个倾斜筛面。
在上述交叉筛筛分设备运行中,因物料湿、粘,小颗粒物料就会粘附到筛片上,随着物料在筛片两侧面的粘附,粘附到一定厚度后就会摩擦相交叉的筛片,形成碟刹效应,导致设备负载增大,电机电流过载停机。常规解决此问题的方法为,如图1所示,在每个筛轴下方设置一齿形刮板700,刮板伸入到筛片之间,与筛片有一定的间隙,达到既不摩擦又能刮下粘附物料的效果。该方法问题在于,齿形刮板刮下的物料并不能完全掉落,会在轴下、筛片、齿形刮板三者形成的夹角范围内不断累积,导致筛片摩擦力显著增大,通常解决方法为定期清理筛面下方的粘附物料或配备较大富余量的电机功率,前方法工作环境差人工劳动强度较大,后方法会造成电力浪费。
CN204953339 U公布了一种自清理式筛板及筛料机构,包括筛料机构和敲撞机构;所述筛料机构包括筛片,在筛片上设置有若干个过滤孔,使得物料通过所述过滤孔分成筛上物料和筛下物料,即实现物料筛分分级;所述敲撞机构固定于所述框架上,使得所述敲撞机构在随着所述筛料机构振动下料过程中敲撞所述筛片,使物料顺利通过筛片的过滤孔。解决的技术问题是现有技术中采用棒条式筛板时,棒条极易磨损和断裂,且由于相邻的棒之间所预留的下料缝隙宽度过宽,或者长度过长,使得在长期使用过程中容易造成漏大料的技术缺陷。
CN208466411U公布了一种物料筛分布料装置,包括壳体和叶轮筛分机构;所述叶轮筛分机构由多组横向布置的叶轮筛分辊依次排布而形成,各叶轮筛分辊均包括叶一根叶轮轴)、若干叶轮和若干叶轮隔套,各叶轮筛分辊的叶轮轴)均相互平行,叶轮与叶轮隔套依次间隔套设在所述的叶轮轴上,其中,相邻叶轮筛分辊上的叶轮在轴向方向上的投影存在相互重叠的部分;在叶轮上均分布有至少一个自清理板,自清理板的根部固定在叶轮的边缘,端部延伸至与之相邻的叶轮筛分辊的叶轮隔套附近。解决的技术问题是物料进入筛分布料装置粘附在叶轮隔套上,旋转的叶轮及自清理板插入到隔壁两相邻的叶轮之间,能够将叶轮隔套上的物料刮扫下来,可有效避免物料粘附所造成的筛孔堵塞、筛分效率降低、部件磨损增大、使用寿命降低的问题;同时由于相邻叶轮筛分辊存在旋转速度差,因此叶轮每转一周,带动自清理板所清理的点位都会不同,这样,在多次旋转作用下,叶轮隔套的各个角度都会被自清理板扫过,从而可实现无死角清扫粘附物料。
综上所述,上述技术方案没有解决筛分设备运行中,物料粘附到筛片上形成“碟刹效应”的问题,同时对产生“碟刹效应”的预先趋势没有预警监控。
发明内容
本发明目的在于提供一种交错互击式自清理筛分装置,以解决物料粘附到筛片上产生“碟刹效应”的技术问题。
为实现上述目的,本发明的一种交错互击式自清理筛分装置的具体技术方案如下:一种交错互击式自清理筛分装置包括斜下输送布置多组交错互击的旋转筛分机构、窜动发生机构、脉冲预警自动清洗机构,其特征在于:所述的交错互击旋转筛分机构相邻设置或隔轴设置,交错互击旋转筛分机构包括一组、两组或多组相邻的旋转轴总成,相邻旋转轴总成交错布置;所述的旋转轴总成包括旋转轴及等距耦合安装于旋转轴外表面的自清理筛片器;所述旋转轴设置为中空结构,所述旋转轴的轴向排布有径向的喷射孔,喷射孔贴近在自清理筛片器的两侧;所述自清理筛片器包括旋转轴筛片和清理齿组;所述旋转轴筛片设置为圆形盘状,等距安装于旋转轴上;所述清理齿组对称分布在旋转轴筛片两侧;所述同轴的清理齿组同相布置。
进一步,所述旋转轴相邻的中心距离L符合以下条件:
R+d1<L<2R-θ
R:筛片半径
d1:旋转轴外径
θ: 安全裕度,一般取值2-15mm,转速高时取大值。
进一步,所述旋转轴总成设置同步同向旋转;相邻旋转轴清理齿相位差0~360/(2*n),其中n为每圈清理齿均布数量。
进一步,所述旋转轴的自清理筛片器在同轴向等距;同轴相邻自清理筛片器的清理齿组相互交错。
进一步,所述清理齿组可单圈、双圈或多圈均布设置在旋转轴筛片两侧。
进一步,所述清理齿清理齿为棒体、棱体或锥台体。
进一步,所述脉冲预警自动清洗机构,包括超载检测器、控制器包括超载检测器、控制器、脉冲高压气/液冲击部分。
进一步,所述超载检测器隔轴安装在旋转轴一端。
进一步,所述的窜动发生机构设置安装在旋转轴总成的两端,旋转轴的轴向位移距离H<2△,△为筛片单侧最小平均间隙;所述窜动发生机构隔轴安装。
进一步,所述的窜动发生机构为同轴对置的平面凸轮器。
本发明的一种交错互击式自清理筛分装置具有以下优点:1.交错互击式自清理筛分装置提升物料筛分效果,采用交错互击式清理齿替代齿形刮板结构,旋转筛分的过程中进行自清理,设备结构更简单,清理更便捷;2.交错互击式自清理筛分装置采用脉冲预警自动清洗机构,通过设置超载检测器,对物料筛分旋转轴的承载负荷进行实时监控和预警,对超出规定值及时传递脉冲信号通过控制器进行控制,在中空的旋转轴中通入高压水或高压气,对筛分装置及时清理,及时降低电机的超载运转,解决了物料的筛分过程中“碟刹效应”问题,可显著降低配置电机功率,节约电力;3. 交错互击式自清理筛分装置隔轴设置的窜动发生机构,利用平面凸轮产生轴向窜动的效用,对筛分中的物料进行震动,进一步促进物料的筛分效用,减缓筛分过程中“碟刹效应”问题的发生几率;4.交错互击式自清理筛分装置实现免人工清理,易维修,易维护,可靠性高。
附图说明
图1是交叉筛分设备的原结构示意图。
图2是交错互击式自清理筛分装置主视图Ⅰ。
图3是交错互击式自清理筛分装置俯视图(旋转)Ⅰ。
图4是交错互击式自清理筛分装置轴向局部放大视图。
图5是交错互击式自清理筛分装置平面凸轮机构示意图。
图6是交错互击式自清理筛分装置局部视图。
图7是交错互击式自清理筛分装置清理轨迹形成图。
图8是交错互击式自清理筛分装置完整轨迹图。
图9是是交错互击式自清理筛分装置主视图Ⅱ。
图10是交错互击式自清理筛分装置俯视图(旋转)Ⅱ。
图中编号:100-旋转轴Ⅰ总成,101-旋转轴Ⅰ,102-旋转轴Ⅰ筛片、103-清理齿组Ⅰ,104-超载检测器Ⅰ,105-控制器Ⅰ,106-喷射孔Ⅰ,200-旋转轴Ⅱ总成,201-旋转轴Ⅱ,202-旋转轴Ⅱ筛片,203-清理齿组Ⅱ,204-定平面凸轮Ⅰ,205-动平面凸轮Ⅰ,206-喷射孔Ⅱ,300-旋转轴Ⅲ总成,301-旋转轴Ⅲ,302-旋转轴Ⅲ筛片,303-清理齿组Ⅲ,304-超载检测器Ⅱ,305-控制器Ⅱ,400-旋转轴Ⅳ总成,401-旋转轴Ⅳ,402-旋转轴Ⅳ筛片,403-旋转轴Ⅳ清理齿a,404-旋转轴Ⅳ清理齿b,405-旋转轴Ⅳ清理齿c,406-旋转轴Ⅳ清理齿d,407-旋转轴Ⅳ清理齿e,408-旋转轴Ⅳ清理齿f,409-定平面凸轮Ⅱ,410-动平面凸轮Ⅱ,500-清理齿轨迹,600-清理齿轨迹线,700-刮板。
具体实施方式
为了更好地了解本发明的目的、结构及功能,下面结合附图,对本发明一种交错互击式自清理筛分装置做进一步详细的描述,显然,所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本实验发明中实施例,本领域普通技术人员所获得的所有其他实施例,都属于本发明保护的范围。
实施例一
如图2、3、4、5所示,本发明的一种交错互击式自清理筛分装置,包括斜下输送布置交错互击旋转筛分机构Ⅰ、交错互击旋转筛分机构Ⅱ、窜动发生器机构Ⅰ、脉冲预警自动清洗机构Ⅰ,窜动发生器机构Ⅱ、脉冲预警自动清洗机构Ⅱ,所述交错互击的旋转机构Ⅰ包括旋转轴Ⅰ总成100、旋转轴Ⅱ总成200;所述交错互击的旋转筛分机构Ⅱ包括旋转轴Ⅲ总成300、旋转轴Ⅳ总成400。
进一步,旋转轴Ⅰ总成100包括旋转轴Ⅰ101,自清理筛片器Ⅰ,所述旋转轴Ⅰ101设置为中空结构,在旋转轴Ⅰ101的径向设置喷射孔Ⅰ106;在旋转轴Ⅰ101的外表面等距设置耦合安装自清理筛片器Ⅰ;自清理筛片器Ⅰ数量大于2。
进一步,所述喷射孔Ⅰ106设置在自清理筛片器Ⅰ的对称俩侧,并贴近自清理筛片器Ⅰ的两侧;在中空的旋转轴Ⅰ101中空通入高压水或高压气体,通过喷射孔Ⅰ106喷出,清洗粘附在自清理筛片器Ⅰ或旋转轴Ⅰ101上的物料。
进一步,所述自清理筛片器Ⅰ包括旋转轴Ⅰ筛片102和清理齿组Ⅰ103;所述旋转轴Ⅰ筛片102设置为圆形盘状,交错耦合设置安装在旋转轴Ⅰ101的外表面上;所述清理齿组Ⅰ103单排均布耦合对称设置在旋转轴Ⅰ筛片102同直径两侧端面,清理齿组Ⅰ103结构相同且在筛片两侧凸起高度相同;清理齿组Ⅰ103的数量大于1,遇到滞黏性大、不易剥离、粘附强时,采用较少齿数,增加清理齿径向尺寸,提高清理齿的强度,提高自清理筛片器可靠性;自清理筛片器Ⅰ与旋转轴Ⅰ101相对角度一致。
进一步旋转轴Ⅱ总成200包括旋转轴Ⅱ201,自清理筛片器Ⅱ,所述旋转轴Ⅱ201设置为中空结构,在旋转轴Ⅱ201的径向设置喷射孔Ⅱ206;在旋转轴Ⅱ201的外表面等距设置耦合安装自清理筛片器Ⅱ;自清理筛片器Ⅱ数量大于2。
进一步,所述喷射孔Ⅱ206设置在自清理筛片器Ⅱ的对称俩侧,并贴近自清理筛片器Ⅱ的两侧;在中空的旋转轴Ⅱ201中空通入高压水或高压气体,通过喷射孔Ⅱ206喷出,清洗粘附在自清理筛片器Ⅱ或旋转轴Ⅱ201上的物料。
进一步,所述自清理筛片器Ⅱ包括旋转轴Ⅱ筛片202和清理齿组Ⅱ203;所述旋转轴Ⅱ筛片202设置为圆形盘状,耦合设置安装在旋转轴Ⅱ201的外表面上;所述清理齿组Ⅱ203双排耦合对称设置在旋转轴Ⅱ筛片202同直径两侧端面,清理齿组Ⅱ203结构相同且在筛片两侧凸起高度相同清理齿的数量大于1;自清理筛片器Ⅱ与旋转轴Ⅱ201相对角度一致。
进一步,相邻的旋转轴Ⅰ101和旋转轴Ⅱ201的中心距离L符合以下条件:
R+d1<L<2R-θ
R:筛片半径
d1:旋转轴外径
θ: 安全裕度,一般取值2-15mm,转速高时取大值。
进一步,所述旋转轴Ⅰ总成100和旋转轴Ⅱ总成200同步同向旋转;旋转轴Ⅰ总成100和旋转轴Ⅱ总成200起始角度可以相同或不同,清理齿相位差0~360/(2*n),其中n为每圈清理齿均布数量,以避免运转时干涉;清理齿也可在径向不同位置分布,确保旋转时各清理齿不干涉。
进一步,所述旋转轴Ⅰ101上的自清理筛片器Ⅰ和旋转轴Ⅱ201上的自清理筛片器Ⅱ在同轴向等距交叉;所述清理齿组Ⅰ103单排清理齿位于清理齿组Ⅱ203双排清理齿圆周之间,产生相互交错;旋转轴Ⅰ101和旋转轴Ⅱ201在旋转的过程中,带动自清理筛片器Ⅰ和自清理筛片器Ⅱ旋转,通过清理齿组Ⅰ103的单排清理齿和清理齿组Ⅱ203双排的清理齿在旋转过程中形成交错互击式的相互清理作用,在筛片交叉范围可完成自清理过程。
进一步,清理齿组Ⅰ103、清理齿组Ⅱ203可以单圈、双圈或多圈设置在筛片旋转轴Ⅰ筛片102和旋转轴Ⅱ筛片202两侧圆周均匀布置,进一步提升清理能力。
进一步,所述清理齿为棒体、棱体或锥台体。
同理,旋转轴Ⅲ总成300和旋转轴Ⅳ总成400结构类似,不在描述。
所述脉冲预警自动清洗机构Ⅰ,包括超载检测器Ⅰ104、控制器Ⅰ105,所述超载检测器Ⅰ104安装旋转轴Ⅰ101的下端,通过超载检测器104实时监控旋转轴Ⅰ101的负载变化,超载检测有效范围设置为额定负载的0~2.5倍数,当旋转承载负荷力矩超过规定的电机的1.2-1.5倍数数值后,异常脉冲信号传递到控制器Ⅰ105,控制器Ⅰ105打开高压气或/液冲击部分,外接的高压气体或高压水进入中空的旋转轴中,通过旋转轴Ⅰ101径向的喷射孔Ⅰ106高压喷出,脉冲性的对粘附在旋转轴Ⅰ101、旋转轴Ⅰ筛片102的物料进行冲击清理。
进一步,所述超载检测器104设置为隔轴安装,实现对每组交错互击旋转机构进行实时旋转扭矩负荷监测和预警。
所述的窜动发生机构Ⅰ设置安装在旋转轴Ⅱ总成200的两端,旋转轴Ⅱ201的轴向位移距离H<2△,△为筛片单侧最小平均间隙;旋转轴Ⅱ201通过窜动发生机构进行轴向窜动,带动旋转轴Ⅱ201外径耦合安装旋转轴Ⅱ筛片202上清理齿组Ⅱ203在旋转轴Ⅰ总成100相邻的两组筛片之间移动,对下落的物料起到震动的作用,同时,交错互击的清理齿组进行相互之间的物料清理。
进一步,所述窜动发生机构Ⅰ设置为隔轴安装,实现对物料筛分过程规律性的震动、松动,物料下落更加顺利流畅。
进一步,所述的窜动发生机构Ⅰ设置为同轴对置的平面凸轮器,包括定平面凸轮Ⅰ204和动平面凸轮Ⅰ205,通过动平面凸轮Ⅰ205与定平面凸轮Ⅰ204的相对位移带动旋转轴Ⅱ201进行轴向窜动,随着物料在筛分机构中的挤压推动动平面凸轮Ⅰ205与定平面凸轮Ⅰ204在轴向平面始终贴合,实现旋转轴Ⅱ201的动态窜动。
同理,窜动发生器机构Ⅱ、脉冲预警自动清洗机构Ⅱ结构类似,不在描述。
结合附图6、7、8,对本发明的一种交错互击式自清理筛分装置的自清理原理进行详细的说明。
如图6所示,在旋转轴Ⅲ筛片302、旋转轴Ⅳ筛片402交叉范围内,旋转轴Ⅲ筛片302逆时针向上旋转,旋转轴Ⅳ筛片402顺时针向下旋转,两组筛片形成相反的运动。
进一步,如图7、8所示,从旋转轴Ⅲ清理齿a403与旋转轴Ⅲ筛片302交叉接触开始,旋转轴Ⅲ清理齿a403开始对旋转轴Ⅲ筛片302的一个侧面粘附物料进行清理;进一步,旋转轴Ⅲ清理齿a403绕圆心不断向下运动,已经清理过的位置点随着旋转轴Ⅲ筛片302向上运动,旋转轴Ⅲ清理齿a403与清理过的位置点两个相对运动最终形成一个圆弧状的清理轨迹500;该清理过程是个相互清理的过程,每个清理齿都可以在相交叉的清理齿两侧的筛片侧面上形成圆弧状轨迹500,有多少个清理齿,就可以形成多少个清理轨迹线600,从而实现动态的、不需要其他机构的自清理效果。
进一步,所述两组相邻交错互击的旋转机构Ⅰ和旋转机构Ⅱ,旋转轴Ⅰ总成100、旋转轴Ⅱ总成200、旋转轴Ⅲ总成300、旋转轴Ⅳ总成400,各相邻旋转轴总成相互清理,清理齿两侧可同时清理相邻相交叉的两个筛片;该清理轨迹覆盖范围广,从筛片边缘开始,延伸至旋转轴径附近,继续延伸至筛片边缘,从而实现从边缘到轴径附近的全清理;该筛片自清理是个动态清理过程,在相邻的旋转轴总成运动过程中不断清理,粘附物料无法累积。
本发明的使用过程或工作状态:
外置电机通过减速装置驱动旋转机构逆时针旋转,物料沿斜下方向进行筛分流动,物料筛流移动翻转的过程中,物料进入相邻旋旋转轴Ⅰ总成100、旋转轴Ⅱ总成200、旋转轴Ⅲ总成300、旋转轴Ⅳ总成400的相邻交错两组筛片之间,经过筛片两侧耦合固定的清理齿组的交错互击式自清理,多次震动,合格的物料从筛分装置中落下,无法进行筛分的物料沿筛分装置斜向滑落,达到物料的筛分效果。
进一步,所述的窜动发生机构设置安装在旋转轴总成Ⅱ和旋转轴总成Ⅳ400的下端,旋转轴Ⅱ201和Ⅳ401上的动平面凸轮Ⅰ205和动平面凸轮Ⅱ410,通过旋转时相对定平面凸轮Ⅰ204和定平面凸轮Ⅱ409在轴向形成窜动作用,进一步,带动旋转轴Ⅱ201和旋转轴Ⅳ401外径耦合安装筛片的清理齿在旋转轴总成Ⅰ200和旋转轴总成Ⅲ400的相邻的两组筛片清理齿之间移动,进一步对下落的物料起到震动的作用,同时,交错互击的清理齿组进行近距离相互之间的物料清理,避免物料筛分过程中碟刹效应的产生。
如果物料进行筛分的过程中,物料粘附在筛片和清理齿上形成碟刹效应,旋转轴超载,此时设置隔轴安装在旋转轴一侧的超载检测器Ⅰ104和超载检测器Ⅲ304实时监控和预警,在超过额定负载的1.2-1.5倍数数值后,产生脉冲信号并传递到控制器Ⅰ,控制器Ⅰ105和控制器Ⅱ305打开高压水或高压气的控制开关,外接的高压气体或高压水进入中空的旋转轴Ⅰ101、旋转轴Ⅱ201、旋转轴Ⅲ301、旋转轴Ⅳ401中,通过旋转轴Ⅰ101、旋转轴Ⅱ201、旋转轴Ⅲ301和旋转轴Ⅳ401径向的喷射孔高压喷出,对粘附在旋转轴和筛片上的物料进行清理,在清理齿组的交错互击式自清理、旋转轴的轴窜震动作用和脉冲式自动清洗共同作用下,消除物料筛分的碟刹效应。
在同一设备中,旋转轴总成的结构、尺寸、旋转方向类似相同,在本实施例仅选择其中两组相邻的交错互击的旋转机构进行说明,在每根旋转轴总成上的自清理筛片器都设置清理齿,但不局限于两组交错互击的旋转机构,可以是多组相邻交错的交错互击旋转机构。
实施例二
如图9、10所示,一种交错互击式自清理筛分装置,包括普通的筛分旋转结构和交错互击的旋转机构,在交错互击的旋转机构的两根旋转轴两侧各设两根不带清理齿的普通旋转轴,正常筛分旋转机构的旋转轴总成筛片没有交错互击清理齿,没有自清理的作用。
所述交错互击的旋转机构Ⅰ和交错互击的旋转筛分机构Ⅱ两组旋转机构隔轴设置,同理,旋转交错互击的旋转机构Ⅰ包括旋转轴Ⅰ总成100、旋转轴Ⅱ总成200,交错互击的旋转筛分机构Ⅱ包括旋转轴Ⅲ总成300、旋转轴Ⅳ总成400。
进一步,旋转轴Ⅰ筛片102转动带动清理齿组Ⅰ103转动对右侧相邻旋转轴Ⅱ筛片202互击自清理,同时,旋转轴Ⅰ筛片102的清理齿组Ⅰ103对左侧相邻普通筛片进行清理;同理,旋转轴Ⅱ筛片202的清理齿Ⅱ203对右侧相邻的普通筛片进行清理;同理,旋转轴Ⅲ筛片302的清理齿组和旋转轴Ⅳ筛片402的清理齿组在互击自清理的同时,也对两侧相邻的普通筛片进行清理。
上述实施例为本发明较佳的实现方案,此外,本发明还可以通过其他方式实现,在不脱离上述申请专利范围与精神下可进行各种变化与修改,凡依据本发明的技术实质对以上实施例所作的任何简单修改、等同变化与修改,均属于本发明技术方案的范围。
为了让本领域普通技术人员更方便的理解本发明相对于现有技术的改进之处,本发明的一些附图和描述已经被简化,并且为了清楚起见,本申请文件省略了一些其他元素,本领域普通技术人员应该意识到这些省略的元素也构成本发明的内容。
Claims (10)
1.一种交错互击式自清理筛分装置,包括斜下输送布置多组交错互击的旋转筛分机构、窜动发生机构、脉冲预警自动清洗机构,所述的交错互击旋转筛分机构相邻设置或隔轴设置,交错互击旋转筛分机构包括一组、两组或多组相邻的旋转轴总成,相邻旋转轴总成交错布置;其特征在于:所述的旋转轴总成包括旋转轴及等距耦合安装于旋转轴外表面的自清理筛片器;所述旋转轴设置为中空结构,所述旋转轴的轴向排布有径向的喷射孔,喷射孔贴近在自清理筛片器的两侧;所述自清理筛片器包括旋转轴筛片和清理齿组;所述旋转轴筛片设置为圆形盘状,等距安装于旋转轴上;所述清理齿组对称分布在旋转轴筛片两侧;所述同轴的清理齿组同相布置。
2.根据权利要求1所述的一种交错互击式自清理筛分装置,其特征在于:所述旋转轴相邻的中心距离L符合以下条件:
R+d1<L<2R-θ
R:筛片半径
d1:旋转轴外径
θ: 安全裕度。
3.根据权利要求1所述的一种交错互击式自清理筛分装置,其特征在于:所述旋转轴总成设置同步同向旋转;相邻旋转轴清理齿相位差0~360/(2*n),其中n为每圈清理齿均布数量。
4.根据权利要求1所述的一种交错互击式自清理筛分装置,其特征在于:所述旋转轴的自清理筛片器在同轴向等距;同轴相邻自清理筛片器的清理齿组相互交错。
5.根据权利要求1所述的一种交错互击式自清理筛分装置,其特征在于:所述清理齿组单圈或多圈均布设置在旋转轴筛片两侧。
6.根据权利要求3或5任一所述的一种交错互击式自清理筛分装置,其特征在于:所述清理齿为棒体、棱体或锥台体。
7.根据权利要求1所述的一种交错互击式自清理筛分装置,其特征在于:所述脉冲预警自动清洗机构,包括超载检测器、控制器、脉冲高压气/液冲击部分。
8.根据权利要求7所述的一种交错互击式自清理筛分装置,其特征在于:所述超载检测器隔轴安装在旋转轴一端。
9.根据权利要求1所述的一种交错互击式自清理筛分装置,其特征在于:所述的窜动发生机构设置安装在旋转轴总成的两端,旋转轴的轴向位移距离H<2△,△为筛片单侧最小平均间隙;所述窜动发生机构隔轴安装。
10.根据权利要求9所述的一种交错互击式自清理筛分装置,其特征在于:所述的窜动发生机构为同轴对置的平面凸轮器。
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