CN117626172B - 一种真空镀膜的基体前处理工艺 - Google Patents
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Abstract
本发明涉及真空镀膜领域，公开了一种真空镀膜的基体前处理工艺，该工艺包括以下步骤：将基体放入清洁液中，使用超声波去除基体表面的杂质，使用去离子水冲洗基体表面，使用热风对基体进行干燥处理；将干燥后的基体放入活化液中，并使用电解方式使基体表面形成凹凸结构，增加基体表面的比表面积和活性；将活化后的基体放入涂层液中，并使用浸渍方式在基体表面形成均匀的涂层；对基体的参数进行采集，并对基体前处理进行监测。本发明改变基体表面的形貌，使其形成凹凸结构，增加基体表面的比表面积和活性，提高涂层的附着力和稳定性，根据实时的监测数据，动态调整电解条件，使凹凸结构达到预期的效果，同时避免过度电解导致基体表面的损伤。
Description
技术领域
本发明涉及真空镀膜领域，尤其涉及一种真空镀膜的基体前处理工艺。
背景技术
真空镀膜是一种在真空环境下，利用物理或化学方法，将一种或多种材料以薄膜的形式沉积在基体表面的技术。真空镀膜可以改善基体的表面性能，如耐磨、耐腐蚀、抗反射、导电、导热等，广泛应用于光学、电子、机械、能源等领域。
真空镀膜的基体前处理工艺，是指在真空镀膜之前，对基体进行一系列的清洁、活化、涂层等操作，以提高镀膜的附着力、均匀性和性能。真空镀膜的基体前处理工艺，对真空镀膜的质量和效率有着重要的影响，是真空镀膜技术的一个关键环节。
例如中国专利201811244721.1公开了一种刀具表面等离子真空镀膜前处理工艺，其包括白刚玉干喷、玻璃珠干喷、白刚玉湿喷、主清洗、烘干，能够彻底清除刀具表面的残留物，毛刺去除后一定程度圆化刀具刃口，可以在保证结合力的前提下有效提高刀具的服役寿命。但是上述前处理工艺还存在以下不足：现有技术中，没有在电解过程中，监测基体表面的形貌变化，并调整电解条件，导致基体表面的过度电解或不足电解，因此无法确保效果好的凹凸结构得以形成，进而影响涂层的表面性能。
针对相关技术中的问题，目前尚未提出有效的解决方案。
发明内容
有鉴于此，本申请实施例的目的是提供一种真空镀膜的基体前处理工艺，以克服现有相关技术所存在的上述技术问题。
为此，本发明采用的具体技术方案如下：
一种真空镀膜的基体前处理工艺，该工艺包括以下步骤：
S1、将需要真空镀膜的基体放入清洁液中，并使用超声波去除基体表面的杂质，且使用去离子水冲洗基体表面，同时使用热风对基体进行干燥处理。
S2、将干燥后的基体放入活化液中，并使用电解方式使基体表面形成凹凸结构，增加基体表面的比表面积和活性。
S3、将活化后的基体放入涂层液中，并使用浸渍方式在基体表面形成均匀的涂层。
S4、对基体的参数进行采集，并对基体前处理进行监测。
进一步的，将需要真空镀膜的基体放入清洁液中，并使用超声波去除基体表面的杂质，且使用去离子水冲洗基体表面，同时使用热风对基体进行干燥处理包括以下步骤：
S11、将基体放入清洁液中，并使清洁液覆盖整个基体表面，且清洁液包含清洁剂及分解去污物质，其中，分解去污物质用于分解去除污垢及油脂；
S12、在清洁液中使用超声波设备，通过超声波振动来产生微小气泡，并去除基体表面的顽固污垢及杂质；
S13、将基体从清洁液中取出，并使用去离子水冲洗基体表面；
S14、将清洗过的基体置于热风设备中，使用热风对基体进行干燥处理。
进一步的，为了对基体前处理进行监测，从而对基体前处理进行监测，实现对真空镀膜基体前处理工艺的管理和优化：
将干燥后的基体放入活化液中，并使用电解方式使基体表面形成凹凸结构，增加基体表面的比表面积和活性包括以下步骤：
S21、确定电解的条件，包括电流密度、电解时间及温度，并将基体浸入活化液中，通过施加电流进行电解处理；
S22、在电解过程中，监测基体表面的形貌变化，并根据实时的监测数据，调整电解条件，确保凹凸结构得以形成，并在达到预设效果时停止电解；
S23、在完成电解后，将基体从活化液中取出，并进行中和处理，去除残留在基体表面的活化液，同时用清洁溶剂进行清洗，确保基体表面不含有害物质。
进一步的，在电解过程中，监测基体表面的形貌变化，并根据实时的监测数据，调整电解条件，确保凹凸结构得以形成，并在达到预设效果时停止电解包括以下步骤：
S221、对基体表面的形貌变化进行特征提取和增强，得到特征图；
S222、对特征图进行空间信息的分析，得到空间注意力图，并对特征图和空间注意力图进行多尺度的特征融合，得到融合特征图；
S223、根据融合特征图，计算出与电解条件相关的显著特征值，根据显著特征值，动态调整电解条件；
S224、若电解效果达到预设的效果时，停止电解，完成凹凸结构的形成。
进一步的，为了得到特征图，用于后续的分析和预测：
对基体表面的形貌变化进行特征提取和增强，得到特征图包括以下步骤：
S2211、将基体表面的形貌变化表示为若干个特征，且定义一个矩阵，用于学习不同特征之间的相关性，并对核参数进行随机初始化；
S2212、通过显著分数计算公式获取每个特征的显著分数，其中，显著分数计算公式为：
；
式中，x表示特征；
H k 表示核的第k行参数，H l 表示核的第l行参数；
b k 表示核的第k行的偏置项，b l 表示核的第l行的偏置项；
g k （x）表示第k个特征的显著分数；
exp表示指数函数，L表示核的总行数；
S2213、预设阈值，且根据显著分数值将所有特征进行排序，并保留大于阈值的特征；
S2214、根据显著分数调整每个特征的权重，并将显著分数大于阈值的特征进行加强，小于等于阈值的特征置零，根据增强后的特征，得到特征图。
进一步的，为了对特征图和空间注意力图进行多尺度的特征融合，得到融合特征图，用于提高特征的表达能力和鲁棒性：
对特征图进行空间信息的分析，得到空间注意力图，并对特征图和空间注意力图进行多尺度的特征融合，得到融合特征图包括以下步骤：
S2221、在特征图中提取低层次特征图、中层次特征图及高层次特征图；
S2222、基于空间注意力机制对特征图进行空间维度上的权重计算，生成低层次特征图、中层次特征图及高层次特征图对应的空间注意力图；
S2223、将低层次特征图、中层次特征图及高层次特征图与对应的空间注意力图进行相乘，得到信息加强后的信息特征图；
S2224、利用上采样和下采样操作将信息特征图的尺寸统一，并利用连接的方式将信息特征图进行融合，得到融合特征图。
进一步的，根据融合特征图，计算出与电解条件相关的显著特征值，根据显著特征值，动态调整电解条件包括以下步骤：
S2231、收集若干基体表面形貌变化的数据，该基体表面形貌变化的数据包括融合特征图和对应的电解条件；
S2232、选择与电解条件相关的特征；
S2233、使用回归方程来描述融合特征图和电解条件的线性关系，并利用最小二乘法对回归方程的参数进行求解，使散点到直线的纵向距离的平方和最小；
S2234、使用回归方程对新的融合特征图进行预测，得到电解条件的显著特征值；
S2235、根据电解条件的显著特征值，动态调整电解条件。
进一步的，将活化后的基体放入涂层液中，并使用浸渍方式在基体表面形成均匀的涂层包括以下步骤：
S31、确定浸渍的条件，包括浸渍时间、温度及涂层液浓度，并在浸渍之前，在基体表面形成引导层，提高涂层的附着力和稳定性；
S32、将基体浸入涂层液中，确保涂层液充分渗透到基体表面；
S33、在浸渍后，对基体进行干燥和固化，使涂层在表面稳定附着，同时对涂层进行表面性能测试。
进一步的，对涂层进行表面性能测试包括以下步骤：
S331、使用附着力测试仪，按照相应的标准进行附着力测试；
S332、使用硬度计对涂层进行硬度测试
S333、通过盐雾测试或酸碱性测试，模拟涂层在不同环境条件下的耐腐蚀性能。
进一步的，对基体的参数进行采集，并对基体前处理进行监测包括以下步骤：
S41、对基体的清洁度、活化度、涂层厚度进行采集，并实时将采集到的数据上传到真空镀膜基体前处理工艺管理平台；
S42、基于采集到的数据进行分析，将不同的数据保存至不同的数据库中，实现对真空镀膜基体前处理工艺的监控和优化；
S43、用户及工程师通过登录真空镀膜基体前处理工艺管理平台并基于每个基体唯一的标识，实现对该基体参数的查询访问；
S44、通过在每条传输数据的末尾增加CRC校验码，确保真空镀膜基体前处理工艺数据的可靠性。
本发明的实施例包括以下有益效果：
（1）本发明提供的一种真空镀膜的基体前处理工艺，首先清洁基体表面，去除可能影响涂层附着的污垢和油脂，同时保证基体表面的干燥，避免水分的干扰。且改变基体表面的形貌，使其形成凹凸结构，增加基体表面的比表面积和活性，从而提高涂层的附着力和稳定性。在基体表面形成均匀的涂层，提高基体的表面性能。同时对基体的参数进行采集，并对基体前处理进行监测，从而对基体前处理进行监测，实现对真空镀膜基体前处理工艺的管理和优化。
（2）本发明实时监测基体表面的形貌变化，根据实时的监测数据，动态调整电解条件，使凹凸结构达到预期的效果，同时避免过度电解导致基体表面的损伤。在监测过程中，对基体表面的形貌变化进行数字化表示，提取出与电解条件相关的特征，并对特征进行增强，得到特征图，用于后续的分析和预测，且对特征图进行空间信息的分析，得到空间注意力图，用于表示特征图中不同区域的重要性，并对特征图和空间注意力图进行多尺度的特征融合，得到融合特征图，用于提高特征的表达能力和鲁棒性。根据融合特征图，计算出与电解条件相关的显著特征值，根据显著特征值，动态调整电解条件，使电解效果达到最佳。
附图说明
为了更清楚地说明本发明实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
图1是根据本发明实施例的一种真空镀膜的基体前处理工艺的流程图。
具体实施方式
为了使本申请的目的、技术方案及优点更加清楚明白，以下结合附图及实施例，对本申请进行进一步详细说明。应当理解，此处所描述的具体实施例仅用以解释本申请，并不用于限定本申请。
为进一步说明各实施例，本发明提供有附图，这些附图为本发明揭露内容的一部分，其主要用以说明实施例，并可配合说明书的相关描述来解释实施例的运作原理，配合参考这些内容，本领域普通技术人员应能理解其他可能的实施方式以及本发明的优点，图中的组件并未按比例绘制，而类似的组件符号通常用来表示类似的组件。
除非另有定义，本文所使用的所有的技术和科学术语与属于本申请的技术领域的技术人员通常理解的含义相同。本文中所使用的术语只是为了描述本申请实施例的目的，不是旨在限制本申请。
根据本发明的实施例，提供了一种真空镀膜的基体前处理工艺。
现结合附图和具体实施方式对本发明进一步说明，如图1所示，根据本发明实施例的真空镀膜的基体前处理工艺，该工艺包括以下步骤：
S1、将需要真空镀膜的基体放入清洁液中，并使用超声波去除基体表面的油污、灰尘、氧化物等杂质，且使用去离子水冲洗基体表面，同时使用热风对基体进行干燥处理。
在进一步的实施例中，将需要真空镀膜的基体放入清洁液中，并使用超声波去除基体表面的杂质，且使用去离子水冲洗基体表面，同时使用热风对基体进行干燥处理包括以下步骤：
S11、将基体放入清洁液中，并使清洁液覆盖整个基体表面，且清洁液包含清洁剂及分解去污物质，其中，分解去污物质用于分解去除污垢及油脂；
S12、在清洁液中使用超声波设备，通过超声波振动来产生微小气泡，生成局部高温和高压，并去除基体表面的顽固污垢及杂质；
S13、将基体从清洁液中取出，并使用去离子水冲洗基体表面，其中，去离子水是经过去离子处理的纯净水，不含任何离子和溶解物质，因此可以有效地清除清洁剂残留和其他杂质；
S14、将清洗过的基体置于热风设备中，使用热风对基体进行干燥处理，热风有助于迅速蒸发残留在基体表面的水分，确保基体在后续工艺中不受水分影响。
S2、将干燥后的基体放入活化液中，并使用电解方式使基体表面形成细小的凹凸结构，增加基体表面的比表面积和活性，有利于镀膜的附着和成核。
在进一步的实施例中，将干燥后的基体放入活化液中，并使用电解方式使基体表面形成凹凸结构，增加基体表面的比表面积和活性包括以下步骤：
S21、确定电解的条件，包括电流密度、电解时间及温度，并将基体浸入活化液中，通过施加电流进行电解处理；
S22、在电解过程中，监测基体表面的形貌变化，并根据实时的监测数据，调整电解条件，确保凹凸结构得以形成，并在达到预设效果时停止电解；
S23、在完成电解后，将基体从活化液中取出，并进行中和处理，去除残留在基体表面的活化液，同时用清洁溶剂进行清洗，确保基体表面不含有害物质。
在进一步的实施例中，在电解过程中，监测基体表面的形貌变化，并根据实时的监测数据，调整电解条件，确保凹凸结构得以形成，并在达到预设效果时停止电解包括以下步骤：
S221、对基体表面的形貌变化进行特征提取和增强，得到特征图；
S222、对特征图进行空间信息的分析，得到空间注意力图，并对特征图和空间注意力图进行多尺度的特征融合，得到融合特征图；
S223、根据融合特征图，计算出与电解条件相关的显著特征值，根据显著特征值，动态调整电解条件；
S224、若电解效果达到预设的效果时，停止电解，完成凹凸结构的形成。
在进一步的实施例中，对基体表面的形貌变化进行特征提取和增强，得到特征图包括以下步骤：
S2211、将基体表面的形貌变化表示为若干个特征，且定义一个矩阵，用于学习不同特征之间的相关性，并对核参数进行随机初始化；该矩阵中第i行第j列的元素表示第i个特征和第j个特征之间的相关性，即第i个特征对第l个特征的影响程度。影响程度越大，表示第i个特征对第j个特征的影响越大，反之亦然。
S2212、通过显著分数计算公式获取每个特征的显著分数，其中，显著分数计算公式为：
；
式中，x表示特征；
H k 表示核的第k行参数，H l 表示核的第l行参数；
b k 表示核的第k行的偏置项，b l 表示核的第l行的偏置项；
g k （x）表示第k个特征的显著分数；
exp表示指数函数，L表示核的总行数。
S2213、预设阈值，且根据显著分数值将所有特征进行排序，并保留大于阈值的特征。
S2214、根据显著分数调整每个特征的权重，并将显著分数大于阈值的特征进行加强，小于等于阈值的特征置零，根据增强后的特征，得到特征图。
在进一步的实施例中，对特征图进行空间信息的分析，得到空间注意力图，并对特征图和空间注意力图进行多尺度的特征融合，得到融合特征图包括以下步骤：
S2221、在特征图中提取低层次特征图、中层次特征图及高层次特征图；其中，低层次特征图指的是特征图中最底层的特征，其包含了最多的空间细节，例如边缘、角点、颜色等。中层次特征图指的是特征图中中间层的特征，其包含了一定的语义信息，例如纹理、形状、轮廓等。高层次特征图指的是特征图中最高层的特征，其包含了最多的语义信息，例如物体、场景、行为等。
S2222、基于空间注意力机制对特征图进行空间维度上的权重计算，生成低层次特征图、中层次特征图及高层次特征图对应的空间注意力图，空间注意力图能够突出特征图中的显著区域，抑制背景噪声。
S2223、将低层次特征图、中层次特征图及高层次特征图与对应的空间注意力图进行相乘，得到信息加强后的信息特征图。
S2224、利用上采样和下采样操作将信息特征图的尺寸统一，并利用连接的方式将信息特征图进行融合，得到融合特征图。
其中，上采样操作是将信息特征图的尺寸放大，增加信息特征图的像素数，从而提高信息特征图的分辨率。下采样操作是将信息特征图的尺寸缩小，减少信息特征图的像素数，从而降低信息特征图的分辨率。
在进一步的实施例中，根据融合特征图，计算出与电解条件相关的显著特征值，根据显著特征值，动态调整电解条件包括以下步骤：
S2231、收集若干基体表面形貌变化的数据，该基体表面形貌变化的数据包括融合特征图和对应的电解条件（标签数据），融合特征图包括形状、颜色、纹理等特征，电解条件的显著特征值是凹凸结构的密度；
S2232、选择与电解条件相关的特征，例如颜色信息、形状特征、纹理特征等；
S2233、使用回归方程Y=a+bX+σ来描述融合特征图和电解条件的线性关系，并利用最小二乘法对回归方程的参数进行求解，使散点到直线的纵向距离的平方和最小；式中，Y表示电解条件的显著特征值；X表示融合特征图中的特征，用于预测电解条件的显著特征值，a表示截距，b表示斜率；σ表示误差项。
S2234、使用回归方程对新的融合特征图进行预测，得到电解条件的显著特征值；
S2235、根据电解条件的显著特征值，动态调整电解条件。
根据电解条件的显著特征值，动态调整电解条件包括以下情况：
若显著特征值表明凹凸结构密度较低，则增加电解电流以促使更多的电解反应发生，从而增加表面的凹凸结构。若需要更多的凹凸结构，则延长电解时间，而若凹凸结构密度过高，则缩短电解时间。
电解温度对电解反应速率和产物形成具有影响。根据显著特征值，动态调整电解温度，以调节反应速率和产物形成，从而影响凹凸结构的形成。
S3、将活化后的基体放入涂层液中，并使用浸渍方式在基体表面形成均匀的涂层，涂层的材料和厚度根据镀膜的要求而定，可以是金属、陶瓷、聚合物等。
在进一步的实施例中，将活化后的基体放入涂层液中，并使用浸渍方式在基体表面形成均匀的涂层包括以下步骤：
S31、确定浸渍的条件，包括浸渍时间、温度及涂层液浓度，并在浸渍之前，在基体表面形成引导层，提高涂层的附着力和稳定性；
S32、将基体浸入涂层液中，确保涂层液充分渗透到基体表面；
S33、在浸渍后，对基体进行干燥和固化，使涂层在表面稳定附着，同时对涂层进行表面性能测试，例如附着力、硬度、耐腐蚀性等。
在进一步的实施例中，对涂层进行表面性能测试包括以下步骤：
S331、使用附着力测试仪，按照相应的标准进行附着力测试；
S332、使用硬度计对涂层进行硬度测试
S333、通过盐雾测试或酸碱性测试，模拟涂层在不同环境条件下的耐腐蚀性能。
对涂层附着力进行测试：
用百格刀在测试样本表面划10*10个1mm*1mm的小网格，每一条划线的深度触及涂层的底层；
用毛刷将测试区的碎片刷干净，用粘附力350g/cm2-400g/cm2的胶带牢牢粘住被测试小网格区域，并用橡皮擦用力擦拭胶带，以加大胶带与被测试区域的接触面积和力度；
用手抓住胶带一端，粘好胶带后，需静置3分钟左右，以90°迅速扯下胶带，同一个位置进行3次相同实验；
检查涂层有无剥落、裂痕、起皱分离等现象，根据附着力国际判定标准中的ASTM标准，判断涂层的附着力等级。
对涂层硬度进行测试：
使用硬度计对涂层进行硬度测试，根据不同的涂层材料，选择不同的硬度计和硬度标准，例如维氏硬度计、洛氏硬度计、巴氏硬度计等；
将硬度计的压头放在涂层表面，施加一定的载荷，保持一定的时间，然后卸载载荷，测量压头在涂层表面留下的印痕的大小或深度；
根据印痕的大小或深度，查表或计算得到涂层的硬度值，单位为HV、HRC、HB等；
在涂层表面多个位置进行硬度测试，取平均值作为涂层的硬度。
对涂层耐腐蚀性进行测试：
将涂层样本放入盐雾试验箱或酸碱性试验箱中，按照相应的标准设置温度、湿度、时间、浓度等参数，进行加速老化试验；
取出涂层样本，用清水冲洗干净，用毛刷或棉布擦拭表面，检查涂层有无腐蚀、变色、起泡、剥落等现象，根据相应的标准评定涂层的耐腐蚀性能等级。
此外，按照同样的测试方法对市面上随机选择的涂层与本发明工艺处理后的涂层进行测试，对相应涂层附着力、硬度、耐腐蚀性的测试结果如表1所示。
表1 涂层附着力、硬度、耐腐蚀性的测试结果
| 附着力等级 | 硬度值（GPa） | 耐腐蚀性能等级 | |
| 本发明工艺处理后的涂层 | 5B | 41 | 4 |
| 市面上随机选择的涂层 | 4B | 35 | 3 |
根据表1的测试结果可知，一般市面上的涂层的附着力等级在4B级，即能有整格涂层剥落或超过5%总面积涂层剥落、裂痕、起皱分离等现象，面积小于5%为合格；本发明工艺处理后的涂层的附着力等级在5B级，即没有涂层剥落、裂痕、起皱分离等现象，完全合格。一般市面上的涂层的硬度值在20-40GPa之间，为普通硬质涂层；本发明工艺处理后的涂层的硬度值在40GPa以上，为超硬涂层。一般市面上的涂层的耐腐蚀性能等级在3级，即涂层表面有少量的腐蚀、变色、起泡、剥落等现象，面积小于5%为合格；本发明工艺处理后的涂层的耐腐蚀性能等级在4级，即涂层表面没有腐蚀、变色、起泡、剥落等现象，完全合格。
S4、对基体的参数进行采集，并对基体前处理进行监测。
在进一步的实施例中，对基体的参数进行采集，并对基体前处理进行监测包括以下步骤：
S41、对基体的清洁度、活化度、涂层厚度等参数进行采集，并实时将采集到的数据上传到真空镀膜基体前处理工艺管理平台；
S42、基于采集到的数据进行分析，将不同的数据保存至不同的数据库中，实现对真空镀膜基体前处理工艺的监控和优化；
S43、用户及工程师通过登录真空镀膜基体前处理工艺管理平台并基于每个基体唯一的标识，实现对该基体参数的查询访问；
S44、通过在每条传输数据的末尾增加CRC校验码，确保真空镀膜基体前处理工艺数据的可靠性。
对基体的清洁度进行测试：
使用清洁度测试仪，按照相应的标准进行清洁度测试；
将基体表面涂抹一层薄薄的油脂，然后用红外光照射基体表面，观察基体表面的反射光强度；
根据反射光强度的变化，计算基体表面的清洁度，单位为百分比；
在基体表面多个位置进行清洁度测试，取平均值作为基体的清洁度。
对基体的活化度进行测试：
使用活化度测试仪，按照相应的标准进行活化度测试；
将基体表面用一定浓度的酸溶液进行腐蚀，然后用水冲洗干净，用毛刷或棉布擦拭表面；
用显微镜观察基体表面的形貌，测量基体表面的凹凸度、曲率、梯度等参数；
根据基体表面的参数，计算基体表面的活化度，单位为无量纲数；
在基体表面多个位置进行活化度测试，取平均值作为基体的活化度。
对基体的涂层厚度进行测试：
使用涂层厚度测试仪，按照相应的标准进行涂层厚度测试；
将涂层厚度测试仪的探头放在基体表面，施加一定的压力，测量涂层的电阻或电感；
根据涂层的电阻或电感，查表或计算得到涂层的厚度，单位为微米；
在基体表面多个位置进行涂层厚度测试，取平均值作为基体的涂层厚度。
此外，按照同样的测试方法对市面上随机选择的基体与本发明工艺处理后的基体进行测试，对相应基体清洁度、活化度、涂层厚度的测试结果如表2所示。
表2 基体清洁度、活化度、涂层厚度的测试结果
| 清洁度（%） | 活化度 | 涂层厚度（微米） | |
| 本发明工艺处理后的基体 | 95 | 1.2 | 10 |
| 市面上随机选择的基体 | 85 | 0.9 | 13 |
根据表2的测试结果可知，一般市面上的基体的清洁度在80%以上，即基体表面的油脂覆盖率在20%以下，表示基体表面较为干净，不易产生氧化物或污垢；本发明工艺处理后的基体的清洁度在95%，即基体表面的油脂覆盖率在5%，表示基体表面非常干净，几乎没有氧化物或污垢。一般市面上的基体的活化度在0.5-1.0之间，即基体表面的形貌有一定的凹凸结构，增加了基体表面的比表面积和活性，但也容易受到外界因素的影响，导致活化度下降；本发明工艺处理后的基体的活化度在1.0以上，即基体表面的形貌有明显的凹凸结构，大大增加了基体表面的比表面积和活性，且不易受到外界因素的影响，保持了高活化度。一般市面上的基体的涂层厚度在10-20微米之间，即涂层能够覆盖基体表面，提高基体的表面性能，但也增加了基体的重量和成本；本发明工艺处理后的基体的涂层厚度在5-10微米之间，即涂层能够覆盖基体表面，提高基体的表面性能，且减少了基体的重量和成本。
综上所述，本发明提供的一种真空镀膜的基体前处理工艺，首先清洁基体表面，去除可能影响涂层附着的污垢和油脂，同时保证基体表面的干燥，避免水分的干扰。且改变基体表面的形貌，使其形成凹凸结构，增加基体表面的比表面积和活性，从而提高涂层的附着力和稳定性。在基体表面形成均匀的涂层，提高基体的表面性能。同时对基体的参数进行采集，并对基体前处理进行监测，从而对基体前处理进行监测，实现对真空镀膜基体前处理工艺的管理和优化。本发明实时监测基体表面的形貌变化，根据实时的监测数据，动态调整电解条件，使凹凸结构达到预期的效果，同时避免过度电解导致基体表面的损伤。在监测过程中，对基体表面的形貌变化进行数字化表示，提取出与电解条件相关的特征，并对特征进行增强，得到特征图，用于后续的分析和预测，且对特征图进行空间信息的分析，得到空间注意力图，用于表示特征图中不同区域的重要性，并对特征图和空间注意力图进行多尺度的特征融合，得到融合特征图，用于提高特征的表达能力和鲁棒性。根据融合特征图，计算出与电解条件相关的显著特征值，根据显著特征值，动态调整电解条件，使电解效果达到最佳。
本领域普通技术人员可以理解，上文中所公开方法中的全部或某些步骤、系统、设备中的功能充电模块/单元可以被实施为软件、固件、硬件及其适当的组合。
本申请的说明书及上述附图中的术语“第一”、“第二”、“第三”、“第四”等（如果存在）是用于区别类似的对象，而不必用于描述特定的顺序或先后次序。应该理解这样使用的数据在适当情况下可以互换，以便这里描述的本申请的实施例能够以除了在这里图示或描述的那些以外的顺序实施。此外，术语“包括”和“具有”以及他们的任何变形，意图在于覆盖不排他的包含，例如，包含了一系列步骤或单元的过程、方法、系统、产品或设备不必限于清楚地列出的那些步骤或单元，而是可包括没有清楚地列出的或对于这些过程、方法、产品或设备固有的其它步骤或单元。
以上所述仅为本发明的较佳实施例而已，并不用以限制本发明，凡在本发明的精神和原则之内，所作的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本发明的保护范围之内。
Claims (5)
1.一种真空镀膜的基体前处理工艺，其特征在于，该工艺包括以下步骤：
S1、将需要真空镀膜的基体放入清洁液中，并使用超声波去除基体表面的杂质，且使用去离子水冲洗基体表面，同时使用热风对基体进行干燥处理；
S2、将干燥后的基体放入活化液中，并使用电解方式使基体表面形成凹凸结构，增加基体表面的比表面积和活性；
S3、将活化后的基体放入涂层液中，并使用浸渍方式在基体表面形成均匀的涂层；
S4、对基体的参数进行采集，并对基体前处理进行监测；
所述将干燥后的基体放入活化液中，并使用电解方式使基体表面形成凹凸结构，增加基体表面的比表面积和活性包括以下步骤：
S21、确定电解的条件，包括电流密度、电解时间及温度，并将基体浸入活化液中，通过施加电流进行电解处理；
S22、在电解过程中，监测基体表面的形貌变化，并根据实时的监测数据，调整电解条件，确保凹凸结构得以形成，并在达到预设效果时停止电解；
S23、在完成电解后，将基体从活化液中取出，并进行中和处理，去除残留在基体表面的活化液，同时用清洁溶剂进行清洗，确保基体表面不含有害物质；
所述在电解过程中，监测基体表面的形貌变化，并根据实时的监测数据，调整电解条件，确保凹凸结构得以形成，并在达到预设效果时停止电解包括以下步骤：
S221、对基体表面的形貌变化进行特征提取和增强，得到特征图；
S222、对特征图进行空间信息的分析，得到空间注意力图，并对特征图和空间注意力图进行多尺度的特征融合，得到融合特征图；
S223、根据融合特征图，计算出与电解条件相关的显著特征值，根据显著特征值，动态调整电解条件；
S224、若电解效果达到预设的效果时，停止电解，完成凹凸结构的形成；
所述对基体表面的形貌变化进行特征提取和增强，得到特征图包括以下步骤：
S2211、将基体表面的形貌变化表示为若干个特征，且定义一个矩阵，用于学习不同特征之间的相关性，并对核参数进行随机初始化；
S2212、通过显著分数计算公式获取每个特征的显著分数，其中，显著分数计算公式为：
；
式中，x表示特征；
H k 表示核的第k行参数，H l 表示核的第l行参数；
b k 表示核的第k行的偏置项，b l 表示核的第l行的偏置项；
g k （x）表示第k个特征的显著分数；
exp表示指数函数，L表示核的总行数；
S2213、预设阈值，且根据显著分数值将所有特征进行排序，并保留大于阈值的特征；
S2214、根据显著分数调整每个特征的权重，并将显著分数大于阈值的特征进行加强，小于等于阈值的特征置零，根据增强后的特征，得到特征图；
所述对特征图进行空间信息的分析，得到空间注意力图，并对特征图和空间注意力图进行多尺度的特征融合，得到融合特征图包括以下步骤：
S2221、在特征图中提取低层次特征图、中层次特征图及高层次特征图；
S2222、基于空间注意力机制对特征图进行空间维度上的权重计算，生成低层次特征图、中层次特征图及高层次特征图对应的空间注意力图；
S2223、将低层次特征图、中层次特征图及高层次特征图与对应的空间注意力图进行相乘，得到信息加强后的信息特征图；
S2224、利用上采样和下采样操作将信息特征图的尺寸统一，并利用连接的方式将信息特征图进行融合，得到融合特征图；
根据融合特征图，计算出与电解条件相关的显著特征值，根据显著特征值，动态调整电解条件包括以下步骤：
S2231、收集若干基体表面形貌变化的数据，该基体表面形貌变化的数据包括融合特征图和对应的电解条件，融合特征图包括形状、颜色、纹理特征，电解条件的显著特征值是凹凸结构的密度；
S2232、选择与电解条件相关的特征；
S2233、使用回归方程Y=a+bX+σ来描述融合特征图和电解条件的线性关系，并利用最小二乘法对回归方程的参数进行求解，使散点到直线的纵向距离的平方和最小；式中，Y表示电解条件的显著特征值，X表示融合特征图中的特征，a表示截距，b表示斜率，σ表示误差项；
S2234、使用回归方程对新的融合特征图进行预测，得到电解条件的显著特征值；
S2235、根据电解条件的显著特征值，动态调整电解条件；
根据电解条件的显著特征值，动态调整电解条件包括以下步骤：
若显著特征值表明凹凸结构密度较低，则增加电解电流以促使更多的电解反应发生，若需要更多的凹凸结构，则延长电解时间，而若凹凸结构密度过高，则缩短电解时间；
电解温度对电解反应速率和产物形成具有影响，根据显著特征值，动态调整电解温度。
2.根据权利要求1所述的一种真空镀膜的基体前处理工艺，其特征在于，所述将需要真空镀膜的基体放入清洁液中，并使用超声波去除基体表面的杂质，且使用去离子水冲洗基体表面，同时使用热风对基体进行干燥处理包括以下步骤：
S11、将基体放入清洁液中，并使清洁液覆盖整个基体表面，且清洁液包含清洁剂及分解去污物质，其中，分解去污物质用于分解去除污垢及油脂；
S12、在清洁液中使用超声波设备，通过超声波振动来产生微小气泡，并去除基体表面的顽固污垢及杂质；
S13、将基体从清洁液中取出，并使用去离子水冲洗基体表面；
S14、将清洗过的基体置于热风设备中，使用热风对基体进行干燥处理。
3.根据权利要求1所述的一种真空镀膜的基体前处理工艺，其特征在于，所述将活化后的基体放入涂层液中，并使用浸渍方式在基体表面形成均匀的涂层包括以下步骤：
S31、确定浸渍的条件，包括浸渍时间、温度及涂层液浓度，并在浸渍之前，在基体表面形成引导层，提高涂层的附着力和稳定性；
S32、将基体浸入涂层液中，确保涂层液充分渗透到基体表面；
S33、在浸渍后，对基体进行干燥和固化，使涂层在表面稳定附着，同时对涂层进行表面性能测试。
4.根据权利要求3所述的一种真空镀膜的基体前处理工艺，其特征在于，所述对涂层进行表面性能测试包括以下步骤：
S331、使用附着力测试仪，按照相应的标准进行附着力测试；
S332、使用硬度计对涂层进行硬度测试
S333、通过盐雾测试或酸碱性测试，模拟涂层在不同环境条件下的耐腐蚀性能。
5.根据权利要求1所述的一种真空镀膜的基体前处理工艺，其特征在于，所述对基体的参数进行采集，并对基体前处理进行监测包括以下步骤：
S41、对基体的清洁度、活化度、涂层厚度进行采集，并实时将采集到的数据上传到真空镀膜基体前处理工艺管理平台；
S42、基于采集到的数据进行分析，将不同的数据保存至不同的数据库中，实现对真空镀膜基体前处理工艺的监控和优化；
S43、用户及工程师通过登录真空镀膜基体前处理工艺管理平台并基于每个基体唯一的标识，实现对该基体参数的查询访问；
S44、通过在每条传输数据的末尾增加CRC校验码，确保真空镀膜基体前处理工艺数据的可靠性。
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Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0864668A1 (en) * | 1997-03-13 | 1998-09-16 | Ngk Spark Plug Co., Ltd | Superhard article with diamond coat and method of manufacturing same |
| CN103215603A (zh) * | 2013-05-13 | 2013-07-24 | 西南大学 | 电解腐蚀在提高硬质涂层与金属或合金基体结合强度中的应用 |
| CN116071582A (zh) * | 2022-12-27 | 2023-05-05 | 杭州电子科技大学 | 一种空间和通道加权和动态非对称卷积的物体识别方法 |
| CN117197057A (zh) * | 2023-08-24 | 2023-12-08 | 北京科技大学 | 一种基于深度学习的钢铁材料腐蚀程度自动化检测方法 |
-
2024
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Patent Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0864668A1 (en) * | 1997-03-13 | 1998-09-16 | Ngk Spark Plug Co., Ltd | Superhard article with diamond coat and method of manufacturing same |
| CN103215603A (zh) * | 2013-05-13 | 2013-07-24 | 西南大学 | 电解腐蚀在提高硬质涂层与金属或合金基体结合强度中的应用 |
| CN116071582A (zh) * | 2022-12-27 | 2023-05-05 | 杭州电子科技大学 | 一种空间和通道加权和动态非对称卷积的物体识别方法 |
| CN117197057A (zh) * | 2023-08-24 | 2023-12-08 | 北京科技大学 | 一种基于深度学习的钢铁材料腐蚀程度自动化检测方法 |
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|---|---|---|---|
| PB01 | Publication | ||
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| SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
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| GR01 | Patent grant | ||
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