CN117598043A - 待蒸镀基板、显示基板及其制备方法 - Google Patents
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Abstract
本公开提供了一种待蒸镀基板、显示基板及其制备方法。该待蒸镀基板包括：基板，包括待蒸镀区和非蒸镀区，所述非蒸镀区围绕所述待蒸镀区；支撑图案，设于所述基板上，且位于所述非蒸镀区，所述支撑图案包括用于支撑掩膜板的多个支撑结构，所述支撑图案包括第一对称图形，所述第一对称图形由多个所述支撑结构组成，且组成所述第一对称图形的多个所述支撑结构沿着所述待蒸镀区的外周分布。本公开能够提高蒸镀效果。
Description
本公开涉及显示技术领域，尤其涉及一种待蒸镀基板、显示基板及其制备方法。
目前，有机发光二极管(Organic Light-emitting Diode，OLED)显示面板生产主要采用的是蒸发镀膜的方式。蒸镀过程中，采用高精度金属掩膜板(Fine Metal Mask，FMM)来形成子像素例如R/G/B等的发光功能层，以使材料蒸镀在设定位置。然而，现有的蒸镀效果较差。
发明内容
本公开的目的在于提供一种待蒸镀基板、显示基板及其制备方法，能够提高蒸镀效果。
根据本公开的一个方面，提供一种待蒸镀基板，包括：
基板，包括待蒸镀区和非蒸镀区，所述非蒸镀区围绕所述待蒸镀区；
支撑图案，设于所述基板上，且位于所述非蒸镀区，所述支撑图案包括第一对称图形，所述第一对称图形由多个支撑结构组成，且组成所述第一对称图形的多个所述支撑结构沿着所述待蒸镀区的外周分布。
进一步地，所述待蒸镀区为第二对称图形，所述第一对称图形的对称轴与所述第二对称图形的对称轴重合。
进一步地，所述第一对称图形包括相互垂直的两个对称轴；所述待蒸 镀区为第二对称图形，所述第二对称图形包括相互垂直的两个对称轴；所述第一对称图形的两个对称轴一一对应地与所述第二对称图形的两个对称轴重合。
进一步地，所述支撑结构包括间隔分布的多个支撑柱。
进一步地，所述待蒸镀区的数量为多个，至少一个所述待蒸镀区包括间隔分布的多个待蒸镀子区。
进一步地，至少一个所述待蒸镀区包括间隔分布的两个待蒸镀子区，两个所述待蒸镀子区对称分布，且两个所述待蒸镀子区的对称轴与所述第一对称图形的对称轴重合。
进一步地，至少一个所述待蒸镀区包括间隔分布的两个待蒸镀子区，所述待蒸镀子区为对称图形，一个所述待蒸镀区中的两个所述待蒸镀子区的对称轴重合，且所述待蒸镀子区的对称轴与所述第一对称图形的对称轴重合。
进一步地，一个所述待蒸镀区中的多个所述待蒸镀子区用于蒸镀相同的蒸镀材料。
进一步地，所述待蒸镀区的数量和所述第一对称图形的数量为多个，多个所述第一对称图形与多个所述待蒸镀区一一对应，多个所述第一对称图形中存在两个所述第一对称图形共用部分所述支撑结构。
进一步地，与共用部分所述支撑结构的两个所述第一对称图形对应的两个所述待蒸镀区用于蒸镀相同或不同的蒸镀材料。
进一步地，所述支撑结构包括支撑层和多个凸起，所述支撑层设于所述基板上，多个所述凸起设于所述支撑层背向所述基板的一侧，且多个所述凸起间隔设置。
进一步地，所述基板包括：
衬底；
像素界定层，设于所述衬底的一侧，所述像素界定层包括像素开口；
其中，所述待蒸镀区包括一个或多个待蒸镀子区，所述像素开口构成所述待蒸镀子区。
根据本公开的一个方面，提供一种显示基板，包括：
所述的待蒸镀基板；
发光单元，设于所述待蒸镀区。
根据本公开的一个方面，提供一种显示基板的制备方法，包括：
提供掩膜板和所述的待蒸镀基板；
通过掩模板在所述待蒸镀区进行蒸镀，以形成发光单元。
本公开的待蒸镀基板、显示基板及其制备方法，在通过蒸镀工艺形成膜层的过程中，使支撑图案支撑掩膜板，支撑图案中存在多个支撑结构沿着待蒸镀区的外周分布，且沿着待蒸镀区的外周分布的多个支撑结构组成第一对称图形，从而提高了支撑的均匀性，有利于提高蒸镀所形成的膜层的厚度均一性，提高了蒸镀效果。
图1-图6是公开实施方式的待蒸镀基板的示意图。
图7是图5所示结构的的局部示意图。
图8是图6所示结构的的局部示意图。
图9-图12是公开实施方式的待蒸镀基板的其它示意图。
图13和图14是公开实施方式的待蒸镀基板的截面示意图。
附图标记说明：1、待蒸镀区；1A、第一类型待蒸镀区；1B、第二类型待蒸镀区；1C、第三类型待蒸镀区；101、待蒸镀子区；2、非蒸镀区；3、支撑结构；301、支撑柱；302、支撑层；303、凸起；4、衬底；5、驱动电路层； 6、平坦化层；7、像素界定层；701、像素开口；100、第一对称图形。
这里将详细地对示例性实施方式进行说明，其示例表示在附图中。下面的描述涉及附图时，除非另有表示，不同附图中的相同数字表示相同或相似的要素。以下示例性实施方式中所描述的实施方式并不代表与本公开相一致的所有实施方式。相反，它们仅是与如所附权利要求书中所详述的、本公开的一些方面相一致的装置的例子。
在本公开使用的术语是仅仅出于描述特定实施方式的目的，而非旨在限制本公开。除非另作定义，本公开使用的技术术语或者科学术语应当为本公开所属领域内具有一般技能的人士所理解的通常意义。本公开说明书以及权利要求书中使用的“第一”“第二”以及类似的词语并不表示任何顺序、数量或者重要性，而只是用来区分不同的组成部分。同样，“一个”或者“一”等类似词语也不表示数量限制，而是表示存在至少一个。“多个”或者“若干”表示两个及两个以上。除非另行指出，“前部”、“后部”、“下部”和/或“上部”等类似词语只是为了便于说明，而并非限于一个位置或者一种空间定向。“包括”或者“包含”等类似词语意指出现在“包括”或者“包含”前面的元件或者物件涵盖出现在“包括”或者“包含”后面列举的元件或者物件及其等同，并不排除其他元件或者物件。“连接”或者“相连”等类似的词语并非限定于物理的或者机械的连接，而且可以包括电性的连接，不管是直接的还是间接的。在本公开说明书和所附权利要求书中所使用的单数形式的“一种”、“所述”和“该”也旨在包括多数形式，除非上下文清楚地表示其他含义。还应当理解，本文中使用的术语“和/或”是指并包含一个或多个相关联的列出项目的任何或所有可能组合。
本公开提供一种待蒸镀基板。该待蒸镀基板用于制备显示基板等。如图1和图13所示，该待蒸镀基板可以包括基板和支撑图案，其中：
如图1所示，该基板包括待蒸镀区1和非蒸镀区2。该非蒸镀区2围绕待蒸镀区1。该支撑图案设于基板上，且位于非蒸镀区2。该支撑图案包括用于支撑掩膜板的多个支撑结构3。该支撑图案包括第一对称图形100，第一对称图形100由多个支撑结构3组成，且组成第一对称图形100的多个支撑结构3沿着待蒸镀区1的外周分布。
本公开的待蒸镀基板，在通过蒸镀工艺形成膜层的过程中，使支撑图案支撑掩膜板，支撑图案中存在多个支撑结构3沿着待蒸镀区1的外周分布，且沿着待蒸镀区1的外周分布的多个支撑结构3组成第一对称图形100，从而提高了支撑的均匀性，有利于提高蒸镀所形成的膜层的厚度均一性，提高了蒸镀效果。
下面对本公开实施方式的待蒸镀基板的各部分进行详细说明：
以待蒸镀基板用于制备显示基板为例，如图13所示，该基板可以包括衬底4和像素界定层7。该衬底4可以为刚性衬底。其中，该刚性衬底可以为玻璃衬底或PMMA(Polymethyl methacrylate，聚甲基丙烯酸甲酯)衬底等。当然，该衬底4还可以为柔性衬底。其中，该柔性衬底可以为PET(Polyethylene terephthalate，聚对苯二甲酸乙二醇酯)衬底、PEN(Polyethylene naphthalate two formic acid glycol ester，聚萘二甲酸乙二醇酯)衬底或PI(Polyimide，聚酰亚胺)衬底。
该像素界定层7可以设于衬底4上。进一步地，该基板还可以包括驱动电路层5和平坦化层6。该驱动电路层5可以设于衬底4上。该驱动电路层5可以包括多个驱动晶体管。该驱动晶体管可以为薄膜晶体管，但本公开实施方式不限于此。该薄膜晶体管可以为顶栅型薄膜晶体管，当然，该薄膜晶体管还可以为底栅型薄膜晶体管。以薄膜晶体管为顶栅型薄膜晶体管为例，该驱动电路层5可以包括有源层、栅绝缘层、栅电极、层间绝缘层、源极以及漏极。该有源层可以设于衬底4上。该栅绝缘层可以设于衬底4上，并覆盖有源层。该栅电极可以设于栅绝缘层远离衬底4的一侧。该层间绝缘层可以 设在栅绝缘层上，并覆盖栅电极。该源极和漏极可以设在层间绝缘层上，并经由穿过层间绝缘层和栅绝缘层的过孔连接至有源层。该平坦化层6可以设于驱动电路层5背向衬底4的表面，且覆盖上述驱动晶体管的源极和漏极。该像素界定层7可以设于上述的平坦化层6上。该像素界定层7可以设有像素开口701。该像素开口701的数量为多个，且多个像素开口701阵列分布。该像素开口701可以为四边形、五边形、六边形等，但本公开实施方式不限于此。此外，该像素开口701用于蒸镀发光材料。该多个像素开口701可以包括第一类型像素开口、第二类型像素开口以及第三类型像素开口。
如图1所示，该基板可以包括待蒸镀区1和非蒸镀区2。该待蒸镀区1的数量可以为一个。当然，该待蒸镀区1的数量也可以为多个，且多个待蒸镀区1间隔分布。该非蒸镀区2围绕待蒸镀区1。此外，在本公开一实施方式中，如图1所示，一个待蒸镀区1可以仅包括一个待蒸镀子区101。在本公开另一实施方式中，如图2所示，一个待蒸镀区1可以包括间隔分布的多个待蒸镀子区101，具体而言，一个待蒸镀区1可以包括间隔分布的两个待蒸镀子区101。在本公开其它实施方式中，如图3所示，基板包括多个待蒸镀区1，多个待蒸镀区1中部分待蒸镀区1仅包括一个待蒸镀子区101，部分待蒸镀区1可以包括间隔分布的两个待蒸镀子区101。其中，上述的像素界定层7位于一个像素开口701的区域可以构成一个待蒸镀子区101。该待蒸镀子区101用于蒸镀所需要的蒸镀材料，该蒸镀材料可以为发光材料，例如红色发光材料、绿色发光材料或蓝色发光材料。一个待蒸镀区1中的多个待蒸镀子区101可以用于蒸镀相同的蒸镀材料，当然，也可以用于蒸镀不相同的蒸镀材料。
举例而言，如图3、图5、图6以及图9-图12所示，多个待蒸镀区1包括第一类型待蒸镀区1A、第二类型待蒸镀区1B以及第三类型待蒸镀区1C，第一类型待蒸镀区1A、第二类型待蒸镀区1B以及第三类型待蒸镀区1C的数量均为多个；多个第一类型待蒸镀区1A阵列分布，多个第二类型待蒸镀区1B阵列分布，多个第三类型待蒸镀区1C阵列分布；该第一类型待蒸镀区1A 用于蒸镀红色发光材料，该第二类型待蒸镀区1B用于蒸镀蓝色发光材料，该第三类型待蒸镀区1C用于蒸镀绿色发光材料。在图3中，第三类型待蒸镀区1C包括两个待蒸镀子区101。在图5以及图6中，第二类型待蒸镀区1B包括两个待蒸镀子区101。
该待蒸镀区1可以为第二对称图形。该第二对称图形的对称轴可以与待蒸镀基板平行。如图1所示，以一个待蒸镀区1仅包括一个待蒸镀子区101且像素开口701构成待蒸镀子区101为例，本公开可以设置一个待蒸镀子区101为第二对称图形(对称轴为图1中的L1或L2)，即设置一个像素开口701为第二对称图形，以使包括一个待蒸镀子区101的待蒸镀区1为第二对称图形。如图2、图7以及图8所示，以一个待蒸镀区1包括两个待蒸镀子区101且像素开口701构成待蒸镀子区101为例，本公开可以设置两个待蒸镀子区101对称分布(对称轴为图2中的L2)，即设置对应于两个待蒸镀子区101的两个像素开口701对称分布，以使包括两个待蒸镀子区101的待蒸镀区1为第二对称图形。在本公开其它实施方式中，如图2、图7以及图8所示，本公开还可以设置两个待蒸镀子区101均为轴对称图形，且两个待蒸镀子区101的对称轴重合(对称轴为图2中的L1)，即两个像素开口701均为轴对称图像且两个像素开口701的对称轴重合，以使包括两个待蒸镀子区101的待蒸镀区1为第二对称图形。
如图1、图2、图7以及图8所示，该第二对称图形可以包括两个对称轴，且第二对称图形的两个对称轴相互垂直(两个对称轴分别为L1和L2)。以一个待蒸镀区1包括两个待蒸镀子区101为例，两个待蒸镀子区101均为轴对称图形，且两个待蒸镀子区101的对称轴重合，同时两个待蒸镀子区101也对称分布，从而使第二对称图形包括相互垂直的两个对称轴。
该支撑图案设于基板上，且位于非蒸镀区2。具体地，该支撑图案可以设于上述的像素界定层7位于像素开口701以外的区域。该支撑图案可以包括多个支撑结构3。该支撑结构3用于支撑蒸镀过程中所用的掩膜板。如图1 和图2所示，该支撑图案包括第一对称图形100，该第一对称图形100的对称轴可以与待蒸镀基板平行。该第一对称图形100由多个支撑结构3组成，且组成第一对称图形100的多个支撑结构3沿着待蒸镀区1的外周分布，从而可以提高支撑的均匀性。此外，该第一对称图形100可以包括两个对称轴，且第一对称图形100的两个对称轴可以垂直设置，且均与待蒸镀基板平行。
如图1和图2所示，该第一对称图形100的对称轴可以与第二对称图形的对称轴重合。进一步地，以第一对称图形100和第二对称图形均包括两个对称轴为例，该第一对称图形100的两个对称轴一一对应地与第二对称图形的两个对称轴重合(第一对称图形100的两个对称轴也分别为L1和L2)。其中，本公开所述的“两个对称轴重合”指的是两个对称轴位于同一直线上。
如图3-图6所示，以待蒸镀区1的数量和第一对称图形100的数量均为多个为例，多个第一对称图形100可以与多个待蒸镀区1一一对应，且多个第一对称图形100中存在两个第一对称图形100共用部分支撑结构3，从而可以减少支撑结构3的数量，降低成本。在图3-图6中，沿着X方向分布的多个待蒸镀区1对称轴位于同一直线上。在图3和图4中，沿着X方向分布的相邻的两个第一对称图形100共用部分支撑结构3；在图3中，与共用部分支撑结构3的两个第一对称图形100对应的两个待蒸镀区1用于蒸镀不同的蒸镀材料；在图4中，与共用部分支撑结构3的两个第一对称图形100对应的两个待蒸镀区1用于蒸镀相同的蒸镀材料。
此外，在图3中，直线L3与X方向垂直，沿着直线L3的延伸方向分布的多个支撑柱301的中心均位于直线L3上，沿着直线L3的延伸方向分布的多个待蒸镀区1的中心位于直线L3上。在图5中，直线L4与X方向垂直，沿着直线L4的延伸方向分布的多个支撑柱301的中心均位于直线L4上。在图9中，沿着直线L5的延伸方向分布的多个待蒸镀区1的中心位于直线L5上，沿着直线L6的延伸方向分布的多个待蒸镀区1的中心位于直线L6上，直线L5与直线L6垂直；同时，位于直线L5两侧的支撑柱301以直线L5为 对称轴对称分布，位于直线L5两侧的待蒸镀区1以直线L5为对称轴对称分布；位于直线L6两侧的支撑柱301以直线L6为对称轴对称分布，位于直线L6两侧的待蒸镀区1以直线L6为对称轴对称分布。与图9相比，图10中的支撑柱301围绕支撑柱301的中心顺时针旋转了90o；与图10相比，图11中的支撑柱301围绕支撑柱301的中心顺时针旋转了45o；与图11相比，图12中的支撑柱301围绕支撑柱301的中心顺时针旋转了90o。
此外，本公开的一个支撑结构3可以仅包括一个支撑柱301，本公开可以称该支撑柱301为原始支撑柱。其中，如图13所示，本公开可以将该原始支撑柱替换成间隔设置的多个横截面较小的支撑柱301，相比于原始支撑柱，该横截面较小的支撑柱301与原始支撑柱相比，能够降低支撑柱301与掩膜板之间的摩擦力，减少由于掩膜板与支撑柱301刮擦所产生的异物，提高良率和产品寿命。在本公开其它实施方式中，如图14所示，该支撑结构3可以包括支撑层302和多个凸起303。该支撑层302可以设于像素界定层7位于像素开口701以外的区域。多个凸起303设于支撑层302背向衬底的一侧，且多个凸起303间隔设置。该凸起303的横截面小于上述原始支撑柱的横截面，其同样可以减少由于掩膜板与支撑柱301刮擦所产生的异物。
本公开实施方式还提供一种显示基板。该显示基板可以包括发光单元和上述任一实施方式所述的待蒸镀基板。该发光单元可以设于待蒸镀区1。具体地，该发光单元可以设于上述的待蒸镀子区101。
本公开实施方式还一种显示基板的制备方法。该显示基板的制备方法可以包括：提供掩膜板和上述任一实施方式所述的待蒸镀基板；通过掩模板在待蒸镀区1进行蒸镀，以形成发光单元。
本公开提供的半待蒸镀基板、显示基板以及显示基板的制备方法属于同一发明构思，相关细节及有益效果的描述可互相参见，不再进行赘述。
以上所述仅是本公开的较佳实施方式而已，并非对本公开做任何形式 上的限制，虽然本公开已以较佳实施方式揭露如上，然而并非用以限定本公开，任何熟悉本专业的技术人员，在不脱离本公开技术方案的范围内，当可利用上述揭示的技术内容做出些许更动或修饰为等同变化的等效实施方式，但凡是未脱离本公开技术方案的内容，依据本公开的技术实质对以上实施方式所作的任何简单修改、等同变化与修饰，均仍属于本公开技术方案的范围内。
Claims (14)
- 一种待蒸镀基板，其特征在于，包括：基板，包括待蒸镀区和非蒸镀区，所述非蒸镀区围绕所述待蒸镀区；支撑图案，设于所述基板上，且位于所述非蒸镀区，所述支撑图案包括第一对称图形，所述第一对称图形由多个支撑结构组成，且组成所述第一对称图形的多个所述支撑结构沿着所述待蒸镀区的外周分布。
- 根据权利要求1所述的待蒸镀基板，其特征在于，所述待蒸镀区为第二对称图形，所述第一对称图形的对称轴与所述第二对称图形的对称轴重合。
- 根据权利要求1所述的待蒸镀基板，其特征在于，所述第一对称图形包括相互垂直的两个对称轴；所述待蒸镀区为第二对称图形，所述第二对称图形包括相互垂直的两个对称轴；所述第一对称图形的两个对称轴一一对应地与所述第二对称图形的两个对称轴重合。
- 根据权利要求1所述的待蒸镀基板，其特征在于，所述支撑结构包括间隔分布的多个支撑柱。
- 根据权利要求1所述的待蒸镀基板，其特征在于，所述待蒸镀区的数量为多个，至少一个所述待蒸镀区包括间隔分布的多个待蒸镀子区。
- 根据权利要求5所述的待蒸镀基板，其特征在于，至少一个所述待蒸镀区包括间隔分布的两个待蒸镀子区，两个所述待蒸镀子区对称分布，且两个所述待蒸镀子区的对称轴与所述第一对称图形的对称轴重合。
- 根据权利要求5所述的待蒸镀基板，其特征在于，至少一个所述待蒸镀区包括间隔分布的两个待蒸镀子区，所述待蒸镀子区为对称图形，一个所述待蒸镀区中的两个所述待蒸镀子区的对称轴重合，且所述待蒸镀子区的对称轴与所述第一对称图形的对称轴重合。
- 根据权利要求5所述的待蒸镀基板，其特征在于，一个所述待蒸镀区中的多个所述待蒸镀子区用于蒸镀相同的蒸镀材料。
- 根据权利要求1所述的待蒸镀基板，其特征在于，所述待蒸镀区的数 量和所述第一对称图形的数量为多个，多个所述第一对称图形与多个所述待蒸镀区一一对应，多个所述第一对称图形中存在两个所述第一对称图形共用部分所述支撑结构。
- 根据权利要求9所述的待蒸镀基板，其特征在于，与共用部分所述支撑结构的两个所述第一对称图形对应的两个所述待蒸镀区用于蒸镀相同或不同的蒸镀材料。
- 根据权利要求1所述的待蒸镀基板，其特征在于，所述支撑结构包括支撑层和多个凸起，所述支撑层设于所述基板上，多个所述凸起设于所述支撑层背向所述基板的一侧，且多个所述凸起间隔设置。
- 根据权利要求1所述的待蒸镀基板，其特征在于，所述基板包括：衬底；像素界定层，设于所述衬底的一侧，所述像素界定层包括像素开口；其中，所述待蒸镀区包括一个或多个待蒸镀子区，所述像素开口构成所述待蒸镀子区。
- 一种显示基板，其特征在于，包括：权利要求1-12任一项所述的待蒸镀基板；发光单元，设于所述待蒸镀区。
- 一种显示基板的制备方法，其特征在于，包括：提供掩膜板和权利要求1-12任一项所述的待蒸镀基板；通过掩模板在所述待蒸镀区进行蒸镀，以形成发光单元。
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