CN117583183A - 涂布组件及包装周转复合膜制备装置、方法 - Google Patents

涂布组件及包装周转复合膜制备装置、方法 Download PDF

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Abstract

本发明涉及包装周转复合膜技术领域,具体地说,涉及一种涂布组件及包装周转复合膜制备装置、方法。该涂布组件包括组件主体,组件主体内形成主流道;主流道具有依次设置的进料段、缓冲段和出料段,出料段在横向上进行延伸以形成用于与待涂布体配合的狭缝状;缓冲段与出料段间设置均衡机构,均衡机构包括沿横向连续设置的多个均衡流道,均衡流道自缓冲段侧壁延伸至出料段侧壁;出料段对应相邻2个均衡流道间铰接设置均衡板,均衡板用于在对应均衡流道内的流体的作用下形成转动。该制备装置包括上述涂布组件,该制备方法采用上述涂布装置实现,本发明能够实现包装周转复合膜的高效涂胶和复合制备,提高了包装周转复合膜的生产效率。

Description

涂布组件及包装周转复合膜制备装置、方法
技术领域
本发明涉及包装周转复合膜技术领域,具体地说,涉及一种涂布组件及包装周转复合膜制备装置、方法。
背景技术
包装周转复合膜是一种用于包装周转中使用的复合膜,其由多层材料粘接复合而成。在进行复合前要在材料表面涂布液态胶,目前常用的液态胶涂布装置主要为狭缝涂布机,该装置在涂布中由于狭缝各处流量不均,易产生待涂布体表面液态胶涂布不均匀的现象。
发明内容
本发明提供了一种涂布组件及包装周转复合膜制备装置、方法,其能够克服现有技术的某种或某些缺陷。
根据本发明的涂布组件,其包括:组件主体,组件主体内形成主流道;主流道具有依次设置的进料段、缓冲段和出料段,出料段在横向上进行延伸以形成用于与待涂布体配合的狭缝状;缓冲段与出料段间设置均衡机构,均衡机构包括沿横向连续设置的多个均衡流道,均衡流道自缓冲段侧壁延伸至出料段侧壁;出料段对应相邻2个均衡流道间铰接设置均衡板,均衡板的铰接轴沿出料段的流向延伸;均衡板用于在对应均衡流道内的流体的作用下形成转动。
本发明中,液态胶通过主流道流至待涂布体处,故而较佳地实现了对待涂布体表面的涂胶;进料段用于将液态胶输送至缓冲段处,缓冲段用于堆积液态胶,以使液态胶较为均匀的进入出料段;出料段处的狭缝用于实现对待涂布体表面进行液态胶涂布,通过形成狭缝,能够较佳地释放液态胶;均衡流道用于感知其对应处的流体流量,故而能够较佳地反应狭缝处对应位置处的流量;转动的均衡板能够根据流体流速控制其方位,故而能够较佳地调节狭缝内对应位置的流体流量,从而较佳地调节狭缝处各个对应位置的流量,从而使得出料段能够实现均匀出料。
作为优选,组件主体包括相互配合的第一主体与第二主体,第一主体横向形成凹槽,第二主体处对应形成凸块;凹槽侧壁与凸块侧壁共同形成进料段,凸块底面与凹槽底面共同形成缓冲段。
本发明中,通过设置第一主体和第二主体,较佳地方便了组件主体的拆装和内部液态胶的清理,较佳地防止了液态胶凝结堵塞主流道。
作为优选,均衡流道包括平行于出料段形成于第一主体内的感应流道,以及平行于缓冲段与出料段连通的多个均衡腔,均衡腔间隔设于相邻2个感应流道之间。
本发明中,通过设置感应流道能够较佳地感知对应缓冲腔处的流量,从而客观的反应狭缝对应处的流量,通过设置均衡腔,较佳地实现了相邻2个感应流道之间的对比。
作为优选,均衡板侧壁形成第一弧面,均衡腔处对应形成第二弧面,第一弧面与第二弧面转动配合。
本发明中,通过设置第一弧面和第二弧面,较佳地实现了均衡板与均衡腔之间的紧密配合。
作为优选,感应流道侧壁处间隔形成2个感应孔,所述2个感应孔分别与对应相邻的均衡腔连通,均衡板处对应设有2个配合腔,所述2个配合腔与所述2个感应孔连通。
本发明中,通过设置感应孔,能够较佳地将感应通道内的液体流通至配合腔处,通过设置配合腔,能够较佳地反应流量变化从而使得均衡板转动。
作为优选,均衡腔沿出料段流向的两端形成安装槽,安装槽内设有安装块,安装块朝向均衡板一侧形成配合面,配合面处形成铰接孔,铰接孔与铰接轴转动配合。
本发明中,通过设置安装槽与安装块,较佳地实现了均衡板与均衡腔的配合,通过设置铰接孔,较佳地与铰接轴配合,故而较佳地实现了均衡板的转动。
作为优选,配合面处还形成有限位槽,均衡板处对应形成限位柱,限位槽与限位柱滑动配合。
本发明中,通过设置限位柱与限位槽,较佳地实现了限制均衡板转动的角度范围,从而较佳地防止均衡腔内的液态胶流入狭缝。
作为优选,组件主体长度方向两端设有2个封堵板,所述2个封堵板处均布设有多个锁紧件,所述多个锁紧件穿过对应封堵板与组件主体螺纹配合。
本发明中,通过设置封堵板,较佳地实现了对主流道两侧的封堵,通过设置锁紧件,较佳地实现了封堵板与组件主体的配合。
根据本发明的一种包装周转复合膜制备装置,其包括上述涂布组件。
根据本发明的一种包装周转复合膜制备方法,其采用上述包装周转复合膜制备装置实现。
附图说明
图1为实施例1中的涂布组件轴侧示意图;
图2为实施例1中的涂布组件主视示意图;
图3为图2中A-A剖视示意图;
图4为实施例1中的涂布组件爆炸示意图;
图5为实施例1中的第一主体主视半剖示意图;
图6为实施例1中的安装块轴侧示意图;
图7为实施例1中的均衡板轴侧示意图。
具体实施方式
为进一步了解本发明的内容,结合实施例对本发明作详细描述。应当理解的是,实施例仅仅是对本发明进行解释而并非限定。
实施例1
见于图1-7,本实施例提供一种涂布组件,其包括组件主体100,组件主体100内形成主流道110;主流道110具有依次设置的进料段311、缓冲段312和出料段313,出料段313在横向上进行延伸以形成用于与待涂布体配合的狭缝状;缓冲段312与出料段313间设置均衡机构320,均衡机构320包括沿横向连续设置的多个均衡流道421,均衡流道421自缓冲段312侧壁延伸至出料段313侧壁;出料段313对应相邻2个均衡流道421间铰接设置均衡板422,均衡板422的铰接轴7225沿出料段313的流向延伸;均衡板422用于在对应均衡流道421内的流体的作用下形成转动。
通过本实施例提供的方案,液态胶通过主流道110流至待涂布体处,故而较佳地实现了对待涂布体表面的涂胶,从而较佳地方便了包装周转复合膜的复合;进料段311用于将液态胶输送至缓冲段312处,缓冲段312用于堆积液态胶,以使液态胶较为均匀的进入出料段313;出料段313处的狭缝用于实现对待涂布体表面进行液态胶涂布,通过形成狭缝,能够较佳地释放液态胶;均衡流道421用于感知其对应处的流体流量,故而能够较佳地反应狭缝处对应位置处的流量;转动的均衡板422能够根据流体流速控制其方位,故而能够较佳地调节狭缝内对应位置的流体流量,从而较佳地调节狭缝处各个对应位置的流量,从而使得出料段313能够实现均匀出料。
即在使用本涂布组件时,液态胶首先自进料段311进入缓冲段312,在缓冲段312堆积且进入均衡流道421内,之后液态胶自缓冲段312进入出料段313,最后流出出料段313至待涂布体处。
见于图1-4,本实施例中,组件主体100包括相互配合的第一主体101与第二主体102,第一主体101横向形成凹槽4011,第二主体102处对应形成凸块4021;凹槽4011侧壁与凸块4021侧壁共同形成进料段311,凸块4021底面与凹槽4011底面共同形成缓冲段312。
其中,通过设置第一主体101和第二主体102,较佳地方便了组件主体100的拆装和内部液态胶的清理,较佳地防止了液态胶凝结堵塞主流道110。
本实施例中,均衡流道421包括平行于出料段313形成于第一主体101内的感应流道5211,以及平行于缓冲段312与出料段313连通的多个均衡腔5212,均衡腔5212间隔设于相邻2个感应流道5211之间。
其中,通过设置感应流道5211能够较佳地感知对应缓冲腔处的流量,从而客观的反应狭缝对应处的流量,通过设置均衡腔5212,较佳地实现了相邻2个感应流道5211之间的对比。
见于图4-7,本实施例中,均衡板422侧壁形成第一弧面7221,均衡腔5212处对应形成第二弧面5214,第一弧面7221与第二弧面5214转动配合。
其中,通过设置第一弧面7221和第二弧面5214,较佳地实现了均衡板422与均衡腔5212之间的紧密配合。
见于图4-7,本实施例中,感应流道5211侧壁处间隔形成2个感应孔5213,所述2个感应孔5213分别与对应相邻的均衡腔5212连通,均衡板422处对应设有2个配合腔7222,所述2个配合腔7222与所述2个感应孔5213连通。
其中,通过设置感应孔5213,能够较佳地将感应通道内的液体流通至配合腔7222处,通过设置配合腔7222,能够较佳地反应流量变化从而使得均衡板422转动。
可以理解的是,当相邻的感应通道A、B,A处的流量大于B处的流量,故而A处对应配合腔7222内的压力大于B处对应配合腔7222内的压力,故而均衡板422向B处偏转,从而A处狭缝对应截面积减小,B处狭缝对应截面积增大,故而达到减小A处流量、增加B处流量的效果。
通过上述,较佳地实现了均衡狭缝内各处流量。
见于图4-6,本实施例中,均衡腔5212沿出料段313流向的两端形成安装槽524,安装槽524内设有安装块423,安装块423朝向均衡板422一侧形成配合面7223,配合面7223处形成铰接孔6231,铰接孔6231与铰接轴7225转动配合。
其中,通过设置安装槽524与安装块423,较佳地实现了均衡板422与均衡腔5212的配合,通过设置铰接孔6231,较佳地与铰接轴7225配合,故而较佳地实现了均衡板422的转动。
见于图6-7,本实施例中,配合面7223处还形成有限位槽6232,均衡板422处对应形成限位柱7224,限位槽6232与限位柱7224滑动配合。
其中,通过设置限位柱7224与限位槽6232,较佳地实现了限制均衡板422转动的角度范围,从而较佳地防止均衡腔5212内的液态胶流入狭缝。
见于图1-2,本实施例中,组件主体100长度方向两端设有2个封堵板203,所述2个封堵板203处均布设有多个锁紧件204,所述多个锁紧件204穿过对应封堵板203与组件主体100螺纹配合。
其中,通过设置封堵板203,较佳地实现了对主流道110两侧的封堵,通过设置锁紧件204,较佳地实现了封堵板203与组件主体100的配合。
可以理解的是,锁紧件204为外六角螺钉。
在与本实施例不同的另一较佳实施例中,出料段313两侧的第一主体101处形成第一斜边3012,第二主体102处形成第二斜边3022,通过上述,能够使液态胶在流入出料段313处的速度降低,以使得缓冲段312内的液态胶处于较稳定的状态。
实施例2
本实施例提供一种包装周转复合膜制备装置,其包括实施例1中的涂布组件,通过涂布组件将液态胶涂布至待复合材料表面,较佳地提高了包装周转复合膜的复合效率。
实施例3
本实施例提供一种包装周转复合膜制备方法,其采用实施例2中的包装周转复合膜制备装置实现。
容易理解的是,本领域技术人员在本申请提供的一个或几个实施例的基础上,可以对本申请的实施例进行结合、拆分、重组等得到其他实施例,这些实施例均没有超出本申请的保护范围。
以上示意性的对本发明及其实施方式进行了描述,该描述没有限制性,实施例所示的也只是本发明的实施方式的部分,实际的结构并不局限于此。所以,如果本领域的普通技术人员受其启示,在不脱离本发明创造宗旨的情况下,不经创造性的设计出与该技术方案相似的结构方式及实施例,均应属于本发明的保护范围。

Claims (10)

1.涂布组件,其特征在于:包括组件主体(100),组件主体(100)内形成主流道(110);主流道(110)具有依次设置的进料段(311)、缓冲段(312)和出料段(313),出料段(313)在横向上进行延伸以形成用于与待涂布体配合的狭缝状;缓冲段(312)与出料段(313)间设置均衡机构(320),均衡机构(320)包括沿横向连续设置的多个均衡流道(421),均衡流道(421)自缓冲段(312)侧壁延伸至出料段(313)侧壁;出料段(313)对应相邻2个均衡流道(421)间铰接设置均衡板(422),均衡板(422)的铰接轴(7225)沿出料段(313)的流向延伸;均衡板(422)用于在对应均衡流道(421)内的流体的作用下形成转动。
2.根据权利要求1所述的涂布组件,其特征在于:组件主体(100)包括相互配合的第一主体(101)与第二主体(102),第一主体(101)横向形成凹槽(4011),第二主体(102)处对应形成凸块(4021);凹槽(4011)侧壁与凸块(4021)侧壁共同形成进料段(311),凸块(4021)底面与凹槽(4011)底面共同形成缓冲段(312)。
3.根据权利要求2所述的涂布组件,其特征在于:均衡流道(421)包括平行于出料段(313)形成于第一主体(101)内的感应流道(5211),以及平行于缓冲段(312)与出料段(313)连通的多个均衡腔(5212),均衡腔(5212)间隔设于相邻2个感应流道(5211)之间。
4.根据权利要求3所述的涂布组件,其特征在于:均衡板(422)侧壁形成第一弧面(7221),均衡腔(5212)处对应形成第二弧面(5214),第一弧面(7221)与第二弧面(5214)转动配合。
5.根据权利要求4所述的涂布组件,其特征在于:感应流道(5211)侧壁处间隔形成2个感应孔(5213),所述2个感应孔(5213)分别与对应相邻的均衡腔(5212)连通,均衡板(422)处对应设有2个配合腔(7222),所述2个配合腔(7222)与所述2个感应孔(5213)连通。
6.根据权利要求5所述的涂布组件,其特征在于:均衡腔(5212)沿出料段(313)流向的两端形成安装槽(524),安装槽(524)内设有安装块(423),安装块(423)朝向均衡板(422)一侧形成配合面(7223),配合面(7223)处形成铰接孔(6231),铰接孔(6231)与铰接轴(7225)转动配合。
7.根据权利要求6所述的涂布组件,其特征在于:配合面(7223)处还形成有限位槽(6232),均衡板(422)处对应形成限位柱(7224),限位槽(6232)与限位柱(7224)滑动配合。
8.根据权利要求1所述的涂布组件,其特征在于:组件主体(100)长度方向两端设有2个封堵板(203),所述2个封堵板(203)处均布设有多个锁紧件(204),所述多个锁紧件(204)穿过对应封堵板(203)与组件主体(100)螺纹配合。
9.包装周转复合膜制备装置,其特征在于:包括权利要求1-8中任一所述的涂布组件。
10.包装周转复合膜制备方法,其特征在于:采用权利要求9中的包装周转复合膜制备装置实现。
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