CN117571688A - 一种烧蚀点可调的激光诱导击穿光谱检测装置及其控制方法 - Google Patents
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Abstract
本发明公开了一种烧蚀点可调的激光诱导击穿光谱检测装置及其控制方法,包括脉冲激光器、反射镜、聚焦透镜、移动平台以及光谱仪,所述脉冲激光器和反射镜之间设置有预调整光路,所述预调整光路包括相对设置的负透镜和正透镜,所述负透镜和正透镜的主光轴在同一直线上,并与反射镜的反射面形成45°夹角,所述脉冲激光器产生的激光光束依次经负透镜、正透镜和反射镜,再经聚焦透镜聚焦后与样品相互作用产生等离子体;所述负透镜和正透镜之间的距离可调,且所述负透镜或正透镜固定在振动器件上,所述振动器件的振动方向与负透镜和正透镜的主光轴的方向相一致。本发明能够提高等离子体光谱信号稳定性,提升检测结果的准确性。
Description
技术领域
本发明涉及一种激光诱导击穿光谱检测装置及其控制方法,尤其涉及一种烧蚀点可调的激光诱导击穿光谱检测装置及其控制方法。
背景技术
激光诱导击穿光谱检测技术是一种常用的激光烧蚀光谱分析技术,可对固体、液体、气体等材料进行多元素、远距离在线快速实时分析,且不需要复杂的样品制备,对样品表面损害小,可以一次性获得整个样品组成元素的定性与定量信息。
激光诱导击穿光谱技术的工作原理是:激光经过聚透镜会聚,高峰值功率密度使未知样品表面物质气化、电离,激发形成高温、高能等离子体(温度可达10000K),等离子体辐射出来的原子光谱和离子光谱被光学系统收集,通过输入光纤耦合到光谱仪的入射狭缝中,光谱数据通过数据采集控制器传输到计算机,研究该光谱就可以分析计算出被测物质的成分与浓度。
激光光束的聚焦状态对激光诱导击穿光谱的分析性能有很大的影响,中国专利文献CN 109884032 A公开的激光诱导击穿光谱检测系统及方法,通过成像装置对光斑进行成像,然后探测光斑的直径或者面积并对待测样品的位置进行调整,不但结构复杂,而且理论上将待测样品直接调整到光斑直径或者面积最小的位置其实并非是最佳选择。这是因为当焦点一开始正好位于样品表面时,随着样品烧蚀深度的增加,事实上聚焦焦点位于样品表面之上,激光功率密度也随之发生变化,故导致等离子体稳定较差。虽然功率密度足够大时,可以先击穿空气,通过空气等离子体烧蚀样品表面;由于部分能量被空气所吸收,故处于这种状态时所产生的特征谱线强度较弱,数据精密度相对较差。
此外,当采用激光诱导击穿待测样品时,如果待测样品表面高低不平就会使激光聚焦在待测样品表面光斑的大小不一,进而导致在待测样品聚焦样品能量密度不同,激光的聚焦位置不一致,从而严重影响等离子体光谱信号稳定性,导致检测结果不够准确。
为了提高激光诱导击穿光谱的分析性能,分析过程中,应使聚焦位于样品表面下方一定距离,这样可以提高分析信背比。
发明内容
本发明所要解决的技术问题是提供一种烧蚀点可调的激光诱导击穿光谱检测装置,能够将烧蚀点控制在一个范围精准可控的浮动区间内,从而提高等离子体光谱信号稳定性,提升检测结果的准确性。
本发明为解决上述技术问题而采用的技术方案是提供一种烧蚀点可调的激光诱导击穿光谱检测装置,包括脉冲激光器、反射镜、聚焦透镜、移动平台以及光谱仪,其特征在于,所述脉冲激光器和反射镜之间设置有预调整光路,所述预调整光路包括相对设置的负透镜和正透镜,所述负透镜和正透镜的主光轴在同一直线上,所述反射镜的反射面与负透镜和正透镜的主光轴之间的夹角为45°,所述聚焦透镜的主光轴与负透镜和正透镜的主光轴之间的夹角为90°,且与反射镜的反射面的夹角为45°,所述脉冲激光器产生的激光光束依次经负透镜、正透镜和反射镜,再经聚焦透镜聚焦后与样品相互作用产生等离子体;所述负透镜和正透镜之间的距离可调,且所述负透镜或正透镜固定在振动器件上,所述振动器件的振动方向与负透镜和正透镜的主光轴的方向相一致。
进一步地,所述负透镜或正透镜的安装座下方设置有振动电机,所述振动电机的电机轴线与负透镜和正透镜的主光轴方向平行。
进一步地,所述光谱仪包括采集透镜组、分光仪和探测器,所述采集透镜组包括光谱收集器以及平行设置的第一采集透镜和第二采集透镜,所述第一采集透镜和第二采集透镜的入射面设置有增透膜,所述第一采集透镜和第二采集透镜的出射面设置有呈环形分布的微透镜阵列。
进一步地,所述第一采集透镜和第二采集透镜的投影聚焦满足以下条件式:
(f1-bf1)/f1<0.8;
(f2-bf2)/f2<0.7;
其中,f1表示第一采集透镜的焦距,bf1是第一采集透镜与第二采集透镜的空气换算长度;f2表示第二采集透镜的焦距,bf2是第二采集透镜与光谱收集器的空气换算长度。
进一步地,所述增透膜为凝胶法制备SiO2增透膜,所述第一采集透镜上的增透膜和第二采集透镜上的增透膜选用不同平均粒径的SiO2颗粒制得。
本发明为解决上述技术问题还提供一种上述烧蚀点可调的激光诱导击穿光谱检测装置的控制方法,其中,包括如下步骤:S1)将待测样品置于移动平台上,并预设样品烧蚀厚度d;S2)调节负透镜和正透镜之间的距离,控制初始聚焦位于样品表面下方d/2处;S3)开始烧蚀后,控制振动器件的振幅对烧蚀点进行动态微调,使得烧蚀点在待测样品表面和预设烧蚀厚度之间进行微动调整。
进一步地,所述步骤S2通过十字架或成像装置控制初始聚焦位于样品表面下方d/2处。
进一步地,所述振动器件的振幅通过电机转速进行调整,样品烧蚀厚度预设值小于等于电机最大振幅;如果待测样品需要烧蚀厚度大于电机最大振幅,则分多次进行烧蚀,每次预设样品烧蚀厚度d小于等于电机最大振幅,重复步骤S2-S3,直至完成样品烧蚀。
进一步地,还包括采用调温器对脉冲激光器进行恒温控制,使得脉冲激光器的温度稳定在设定的工作温度值。
进一步地,所述调温器采用半导体制冷片,所述恒温控制包括同时控制工作温度和激光输出功率,所述脉冲激光器的温度偏差控制在0.05℃-0.2℃之间;所述脉冲激光器的输出功率偏差控制在2mW-5mW之间。
本发明对比现有技术有如下的有益效果:本发明提供的烧蚀点可调的激光诱导击穿光谱检测装置,通过预调整光路的动态微调,能够方便地将烧蚀点控制在一个范围精准可控的浮动区间内,从而提高等离子体光谱信号稳定性,提升检测结果的准确性。
附图说明
图1为本发明烧蚀点可调的激光诱导击穿光谱检测装置结构示意图;
图2为本发明使用的采集透镜的正面放大结构图。
图中标记为:
1、脉冲激光器;2、负透镜;3、正透镜;4、反射镜;5、聚焦透镜;6、移动平台;7、振动电机;8、分光仪;9、探测器;10、第一采集透镜;11、第二采集透镜;12、光谱收集器;13、位移驱动电机;14、微透镜阵列。
具体实施方式
下面结合附图和实施例对本发明作进一步的描述。
图1为本发明烧蚀点可调的激光诱导击穿光谱检测装置结构示意图。
请参见图1,本发明提供的烧蚀点可调的激光诱导击穿光谱检测装置,包括脉冲激光器1、反射镜4、聚焦透镜5、移动平台6以及光谱仪,其中,所述脉冲激光器和反射镜之间设置有预调整光路,所述预调整光路包括相对设置的负透镜2和正透镜3,所述负透镜2和正透镜3的主光轴在同一直线上,所述反射镜4的反射面与负透镜2和正透镜3的主光轴之间的夹角为45°,所述聚焦透镜5的主光轴与负透镜2和正透镜3的主光轴之间的夹角为90°,且与反射镜4的反射面的夹角为45°,所述脉冲激光器1产生的激光光束依次经负透镜2、正透镜3和反射镜4,再经聚焦透镜5聚焦后与样品相互作用产生等离子体;所述负透镜2和正透镜3之间的距离可调,且所述负透镜2或正透镜3固定在振动器件上,所述振动器件的振动方向与负透镜2和正透镜3的主光轴的方向相一致。
本发明提供的烧蚀点可调的激光诱导击穿光谱检测装置,通过预调整光路的动态微调,提高等离子体光谱信号稳定性。具体地,所述负透镜2或正透镜3的安装座下方设置有振动电机7,所述振动电机7的电机轴线与负透镜2和正透镜3的主光轴方向平行,使得预调整光路中带振动电机的透镜沿主光轴方向振动微调,从而能够将烧蚀点控制在一个范围精准可控的浮动区间内。
本发明提供的烧蚀点可调的激光诱导击穿光谱检测装置,所述光谱仪包括采集透镜组、分光仪8和探测器9。为了提升检测结果的准确性,还需确保充分采集光谱信号,避免光量损失。为此,本发明的采集透镜组包括光谱收集器12以及平行设置的第一采集透镜10和第二采集透镜11,采集透镜为一定厚度、尺寸的高能聚焦透镜。优选地,所述第一采集透镜10和第二采集透镜11的入射面设置有增透膜,所述第一采集透镜10和第二采集透镜11的出射面设置有呈环形分布的微透镜阵列14,如图2所示。采用上述微透镜阵列后,聚焦产生的非相干辐照度不到传统平凸透镜聚焦的万分之一,更好地收集动态调整的光谱信号,降低信号的传输能耗,提高检测的准确性与稳定性。
为了更好地收集动态调整的烧蚀点产生的等离子体信号,需要尽量避免光量损失,降低信号的传输能耗。为此,本发明的第一采集透镜10和第二采集透镜11的投影聚焦优选满足以下条件式:
(f1-bf1)/f1<0.8;
(f2-bf2)/f2<0.7;
其中,f1表示第一采集透镜10的焦距,bf1是第一采集透镜10与第二采集透镜11的空气换算长度;f2表示第二采集透镜11的焦距,bf2是第二采集透镜11与光谱收集器12的空气换算长度。通过满足上述的条件式,能够减少光线射向采集透镜的外侧,使得第一采集透镜10射出的大部分光入射到第二采集透镜11,第二采集透镜11射出的大部分光入射到光谱收集器12,从而尽量避免光量损失,降低信号的传输能耗,提高测量精度。
增透膜又称减反射膜,用于减少或消除采集透镜的反射光,从而增加采集透镜的透光量,减少或消除系统的杂散光。所述增透膜为凝胶法制备SiO2增透膜,优选地,第一采集透镜10上的增透膜和第二采集透镜11上的增透膜选用不同平均粒径的SiO2颗粒制得;较佳地,第一采集透镜10上的增透膜采用平均粒径为30-50nm的SiO2颗粒制得,第二采集透镜11上的增透膜采用平均粒径为10-20nm的SiO2颗粒制得。
本发明还提供一种上述烧蚀点可调的激光诱导击穿光谱检测装置的控制方法,其中,包括如下步骤:
S1)将待测样品置于移动平台上,并预设样品烧蚀厚度d;
S2)调节负透镜2和正透镜3之间的距离,控制初始聚焦位于样品表面下方d/2处;通过十字架或成像装置控制初始聚焦位于样品表面下方d/2处;
S3)开始烧蚀后,控制振动器件的振幅对烧蚀点进行动态微调,使得烧蚀点在待测样品表面和预设烧蚀厚度之间进行微动调整。
振动器件采用振动电机7,振动电机7的安装方式分为水平安装和垂直安装两种,在水平安装的情况下,振动电机7的振动方向分为两种:左右振动和前后振动。本发明可采用水平安装方式,使得振动电机7的电机轴线与负透镜2和正透镜3的主光轴方向平行。
调整振动电机的振动大小需要根据具体情况进行,可以通过调整电机转速、调整偏心块的偏心距离、调整振动电机的安装位置或更换偏心块等方法来实现。在调整振动大小的过程中,应该保证设备的正常运行,以避免产生不必要干扰影响。为此,本发明通过调整电机转速来精准调整振动大小,增加电机转速可以增大振动力,反之减小电机转速可以减小振动力。但是电机转速不能无限制地调整,振动电机的功率计算公式为P=2πFMV,其中P表示功率,F表示振动电机的频率,M表示质量,V表示振幅。为了避免相互影响,负透镜2和正透镜3的安装座,一个连接振动电机7,另一个连接位移驱动电机13;步骤S2通过位移驱动电机13调节负透镜2和正透镜3之间的距离,步骤S3开始烧蚀后,通过调整振动电机7的转速控制振幅,样品烧蚀厚度预设值小于等于电机最大振幅。由于通过电机转速调整的最大振幅有限,如果待测样品需要烧蚀厚度大于电机最大振幅,则需分多次进行烧蚀,每次烧蚀仍然预设样品烧蚀厚度d小于等于电机最大振幅,实现精准动态微调,重复步骤S2-S3,直至完成样品烧蚀。
此外,为了进一步提高等离子体光谱信号稳定性,提升检测结果的准确性,脉冲激光器1的稳定性也非常重要。为此,本发明还包括采用调温器对脉冲激光器1进行恒温控制,使得脉冲激光器1的温度稳定在设定的工作温度值。优选地,所述恒温控制包括同时控制工作温度和激光输出功率,所述脉冲激光器的温度偏差控制在0.05℃-0.2℃之间;所述脉冲激光器的输出功率偏差控制在2mW-5mW之间;相比单独将脉冲激光器1的温度控制在设定的工作温度值±0.05℃之内,或者单独将脉冲激光器1的输出功率控制在设定的激光输出功率值±2mW之内,不但大大降低控制难度,而且控制效果及稳定性更好。
虽然本发明已以较佳实施例揭示如上,然其并非用以限定本发明,任何本领域技术人员,在不脱离本发明的精神和范围内,当可作些许的修改和完善,因此本发明的保护范围当以权利要求书所界定的为准。
Claims (10)
1.一种烧蚀点可调的激光诱导击穿光谱检测装置,包括脉冲激光器、反射镜、聚焦透镜、移动平台以及光谱仪,其特征在于,所述脉冲激光器和反射镜之间设置有预调整光路,所述预调整光路包括相对设置的负透镜和正透镜,所述负透镜和正透镜的主光轴在同一直线上,所述反射镜的反射面与负透镜和正透镜的主光轴之间的夹角为45°,所述聚焦透镜的主光轴与负透镜和正透镜的主光轴之间的夹角为90°,且与反射镜的反射面的夹角为45°,所述脉冲激光器产生的激光光束依次经负透镜、正透镜和反射镜,再经聚焦透镜聚焦后与样品相互作用产生等离子体;所述负透镜和正透镜之间的距离可调,且所述负透镜或正透镜固定在振动器件上,所述振动器件的振动方向与负透镜和正透镜的主光轴的方向相一致。
2.如权利要求1所述的烧蚀点可调的激光诱导击穿光谱检测装置,其特征在于,所述负透镜或正透镜的安装座下方设置有振动电机,所述振动电机的电机轴线与负透镜和正透镜的主光轴方向平行。
3.如权利要求1所述的烧蚀点可调的激光诱导击穿光谱检测装置,其特征在于,所述光谱仪包括采集透镜组、分光仪和探测器,所述采集透镜组包括光谱收集器以及平行设置的第一采集透镜和第二采集透镜,所述第一采集透镜和第二采集透镜的入射面设置有增透膜,所述第一采集透镜和第二采集透镜的出射面设置有呈环形分布的微透镜阵列。
4.如权利要求3所述的烧蚀点可调的激光诱导击穿光谱检测装置,其特征在于,所述第一采集透镜和第二采集透镜的投影聚焦满足以下条件式:
(f1-bf1)/f1<0.8;
(f2-bf2)/f2<0.7;
其中,f1表示第一采集透镜的焦距,bf1是第一采集透镜与第二采集透镜的空气换算长度;f2表示第二采集透镜的焦距,bf2是第二采集透镜与光谱收集器的空气换算长度。
5.如权利要求3所述的烧蚀点可调的激光诱导击穿光谱检测装置,其特征在于,所述增透膜为凝胶法制备SiO2增透膜,所述第一采集透镜上的增透膜和第二采集透镜上的增透膜选用不同平均粒径的SiO2颗粒制得。
6.一种如权利要求1-5任一项所述的烧蚀点可调的激光诱导击穿光谱检测装置的控制方法,其特征在于,包括如下步骤:
S1)将待测样品置于移动平台上,并预设样品烧蚀厚度d;
S2)调节负透镜和正透镜之间的距离,控制初始聚焦位于样品表面下方d/2处;
S3)开始烧蚀后,控制振动器件的振幅对烧蚀点进行动态微调,使得烧蚀点在待测样品表面和预设烧蚀厚度之间进行微动调整。
7.如权利要求6所述的烧蚀点可调的激光诱导击穿光谱检测装置的控制方法,其特征在于,所述步骤S2通过十字架或成像装置控制初始聚焦位于样品表面下方d/2处。
8.如权利要求6所述的烧蚀点可调的激光诱导击穿光谱检测装置的控制方法,其特征在于,所述振动器件的振幅通过电机转速进行调整,样品烧蚀厚度预设值小于等于电机最大振幅;如果待测样品需要烧蚀厚度大于电机最大振幅,则分多次进行烧蚀,每次预设样品烧蚀厚度d小于等于电机最大振幅,重复步骤S2-S3,直至完成样品烧蚀。
9.如权利要求6所述的烧蚀点可调的激光诱导击穿光谱检测装置的控制方法,其特征在于,还包括采用调温器对脉冲激光器进行恒温控制,使得脉冲激光器的温度稳定在设定的工作温度值。
10.如权利要求9所述的烧蚀点可调的激光诱导击穿光谱检测装置的控制方法,其特征在于,所述调温器采用半导体制冷片,所述恒温控制包括同时控制工作温度和激光输出功率,所述脉冲激光器的温度偏差控制在0.05℃-0.2℃之间;所述脉冲激光器的输出功率偏差控制在2mW-5mW之间。
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