CN117408464A - 电弧数据管理方法、电弧数据管理装置及电源 - Google Patents

电弧数据管理方法、电弧数据管理装置及电源 Download PDF

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Abstract

本申请提供一种电弧数据管理方法、电弧数据管理装置及电源，所述电弧数据管理方法包括：响应一采集信号而控制采集电弧相关数据；基于所述电弧相关数据确定电弧产生原因；控制提示所述电弧产生原因，和/或基于所述电弧产生原因控制当前设备。从而有助于避免因电弧出现而导致设备被损坏，辅助用户快速明确产生电弧的原因而有助于用户快速采取相应的解决措施，进而进一步发挥了电弧相关数据的价值为生产管理赋能。

Description

电弧数据管理方法、电弧数据管理装置及电源
技术领域
本申请涉及电弧数据管理技术领域，尤其涉及一种电弧数据管理方法、电弧数据管理装置及电源。
背景技术
当两个导体之间的电压超过了气体的击穿电压，就会发生电弧放电现象，电弧的出现容易破坏设备，甚至产生火灾造成人身伤害以及财产损失，电弧数据本身携带的信息对于生产管理具有一定的价值，而目前的可能会产生电弧的设备对电弧数据仅限于采集存储，未充分发挥电弧数据存在的价值，因此，如何充分发挥电弧数据的价值，为生产管理赋能需要进一步解决。
发明内容
为此，本申请提供一种电弧数据管理方法、电弧数据管理装置及电源，以解决上述技术问题。
本申请第一方面提供一种电弧数据管理方法，所述电弧数据管理方法包括：响应一采集信号而控制采集电弧相关数据；基于所述电弧相关数据确定电弧产生原因；控制提示所述电弧产生原因，和/或基于所述电弧产生原因控制当前设备。
本申请第二方面提供一种电弧数据管理装置，所述电弧数据管理装置包括：控制采集模块、确定模块以及控制执行模块；所述控制采集模块用于响应一采集信号而控制采集电弧相关数据；所述确定模块基于所述电弧相关数据确定电弧产生原因；控制执行模块用于控制提示所述电弧产生原因，和/或基于所述电弧产生原因控制当前设备。
本申请第三方面提供一种电源，所述电源包括采集器、处理器，或者所述电源包括采集器、处理器与提示器；所述采集器用于响应一采集信号而采集电弧相关数据；所述处理器基于所述电弧相关数据确定电弧产生原因，并基于所述电弧产生原因控制当前设备；所述处理器还用于控制所述提示器提示所述电弧产生原因。
本申请第四方面提供一种计算机可读存储介质，所述计算机可读存储介质内存储有计算机程序，所述计算机程序供处理器调用后执行前述的电弧数据管理方法。
本申请中，基于所述电弧相关数据确定电弧产生原因后，控制提示所述电弧产生原因，和/或基于所述电弧产生原因控制当前设备，从而有助于避免因电弧出现而导致设备被损坏，辅助用户快速明确产生电弧的原因而有助于用户快速采取相应的解决措施，进而发挥了电弧相关数据的价值为生产管理赋能。
附图说明
为了更清楚地说明本申请的技术方案，下面将对实施方式中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图是本申请一些实施方式，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
图1为本申请一些实施例提供的电弧数据管理方法的流程图；
图2为本申请一些实施例提供的电弧数据管理装置的结构框图；
图3为本申请一些实施例提供的电源的结构框图；
图4为本申请另一些实施例提供的电源的结构框图。
具体实施方式
下面将结合本申请实施例中的附图，对本申请实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本申请一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本申请中的实施例，本领域普通技术人员在没有付出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本申请保护的范围。
本申请的描述中，除非另有明确的规定和限定，术语“连接”应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或一体地连接；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，也可以是两个元件内部的连通；可以是通讯连接；可以是电连接。对于本领域的普通技术人员而言，可以根据具体情况理解上述术语在本申请中的具体含义。
请参阅图1，图1为本申请一些实施例提供的电弧数据管理方法的流程图。
如图1所示，所述电弧数据管理方法包括：
S101：响应一采集信号而控制采集电弧相关数据。
S102：基于所述电弧相关数据确定电弧产生原因。
S103：控制提示所述电弧产生原因，和/或基于所述电弧产生原因控制当前设备。
本申请中，基于所述电弧相关数据确定电弧产生原因后，控制提示所述电弧产生原因，和/或基于所述电弧产生原因控制当前设备，从而有助于避免因电弧出现而导致设备被损坏，辅助用户快速明确产生电弧的原因而有助于用户快速采取相应的解决措施，进而发挥了电弧相关数据的价值为生产管理赋能。
其中，所述电弧数据管理方法可应用于有可能产生电弧的设备中，比如射频电源、发电机以及变电站等。
其中，所述采集信号可以是在检测到产生电弧时产生的信号，检测是否产生电弧的方式包括：
1、高速摄像：使用高速摄像机捕捉电弧产生和燃烧的过程，可以观察电弧的形状、颜色和行为，以及其变化的速度和频率。
2、光谱分析：通过光谱仪检测电弧放出的光谱，可以确定电弧中存在的元素和化学物质，从而推断电弧的特性和温度。
3、电流和电压测量：使用电流和电压传感器，可以实时测量电弧产生的电流和电压强度，从而评估电弧的功率和能量。
4、红外成像：利用红外热像仪，可以检测电弧产生的热量，并观察电弧的热分布和热效应。
5、声音检测：通过声音传感器或麦克风，可以捕捉电弧产生的声音信号，从而判断电弧的强度和频率。
其中，在可能会产生电弧的设备运行过程中，按照时间顺序，检测到产生电弧时采集电弧相关数据。
一些实施例中，所述电弧数据管理方法应用于射频电源中，射频电源作为提供电能的装置可用于光伏制造、真空镀膜以及芯片制造等领域中。
其中，基于所述电弧产生原因控制当前设备，可以控制当前设备的工作参数、工作状态等，所述工作参数包括电压输出与电流输出等，所述工作状态包括正常工作、暂停工作与关机等。
其中，所述电弧相关数据包括电弧产生的设备信息(比如设备的标识、设备允许的最大输出电压、输出电流以及输出功率等)、电弧产生的时间、电弧产生所运行的工艺类型信息(比如光伏制造领域中有Topcon工艺-一种高效薄膜太阳能电池制造工艺、PE-poly工艺-一种多晶硅太阳能电池制造工艺)、电弧产生所运行的工艺步骤信息(比如Topcon工艺中包括正膜工艺步骤和背膜工艺步骤)、电弧产生时的电流、电弧产生时的电压、电弧产生时的功率、电弧持续时间、电弧灭弧时间、电弧产生时的闪烁开启时间(即，电弧产生时设备启动闪烁模式的时间点)、电弧产生时的闪烁关闭时间(即，电弧产生后设备关闭闪烁模式的时间点)、电弧的电流最大值(其中，用户可以设定电弧的电流最大值，当电流超过电弧的电流最大值时判断为产生电弧)以及电弧的电压最大值(其中，用户可以设定电弧的电压最大值，当电压超过电弧的电压最大值时判断为产生电弧)中的至少一个。
需要知道的是，电弧产生所运行的工艺类型信息与电弧产生所运行的工艺步骤信息在射频电源应用于不同的制造领域时，工艺类型与工艺步骤不同，可根据制造领域进行确定。
一些实施例中，所述基于所述电弧相关数据确定电弧产生原因，包括：
从预设维度统计所述电弧相关数据，得到统计数据。
基于所述统计数据，以及预存的统计数据与电弧产生原因之间的关系确定所述电弧产生原因。
其中，所述预设维度包括工艺类型维度、工艺步骤维度、时间维度、电弧的电流最大值维度以及电弧的电压最大值维度中的至少一个。
具体地，按照工艺类型维度统计所述电弧相关数据，比如：统计在Topcon工艺中产生的电弧数量以及电弧产生频率等，以及统计在PE-poly工艺中产生电弧的数量以及电弧产生频率等。
按照工艺步骤维度统计所述电弧相关数据，比如：统计正膜工艺步骤中产生的电弧数量以及电弧产生频率，以及背膜工艺步骤中产生的电弧数量以及电弧产生频率。
按照时间维度统计所述电弧相关数据，比如，XX年XX月产生的电弧数量，以及电弧产生频率。
按照电弧的电流最大值维度统计所述电弧相关数据，比如当用户设置电弧的电流最大值为A时产生的电弧数量与电弧产生频率，或者当用户设置电弧的电流最大值为B时产生的电弧数量与电弧产生频率；其中电流超过电弧的电流最大值时，即认为产生电弧。
按照电弧的电压最大值维度统计所述电弧相关数据，比如当用户设置电弧的电压最大值为C时产生的电弧数量与电弧产生频率，或者当用户设置电弧的电压最大值为D时产生的电弧数量与电弧产生频率；其中电压超过电弧的电压最大值时，即认为产生电弧。
其中，当所述电弧数据管理方法应用于射频电源中，射频电源作为提供电能的装置用于光伏制造时，所述电弧产生的原因包括：硅片有碎片、硅片有碰片、硅片没有卡到点位、电极杆氧化、电极杆接触不良以及石墨舟页破损等。射频电源作为提供电能的装置用于真空镀膜时，所述电弧产生的原因包括：气体污染、靶材表面污染、靶材和基材之间距离过近、射频功率过高以及气体压力过低等。
一些实施例中，所述基于所述电弧相关数据确定电弧产生原因，比如：电弧产生频率为5000-6000个/秒，则可以确定电弧产生原因为硅片中有碎片；电弧产生频率为3000-4000个/秒，则可以确定电弧产生原因为硅片有碰片或硅片没有卡到点位；电弧产生频率为1000-1500个/秒，则可以确定电弧产生原因为电极杆氧化；电弧产生频率为500-1000个/秒，则可以确定电弧产生原因为电极杆接触不良；电弧产生频率为100-499个/秒，则可以确定电弧产生原因为石墨舟页破损。
其中，可以根据实践确定不同的电弧产生原因下的统计数据，其中统计数据包括电弧产生数量与电弧产生频率等。
一些实施例中，所述电弧数据管理方法还包括：
响应用户的特定操作确定用户的管理权限；
基于所述用户的管理权限与所述用户的特定操作确定是否执行所述用户的特定操作；
其中，所述用户的特定操作包括访问相应地所述电弧相关数据与删除相应地所述电弧相关数据中的至少一个。
其中，所述用户的特定操作为删除相应地所述电弧相关数据时，具体可以是按照时间段删除相应地电弧相关数据，比如删除2023年2月1日-2023年5月-1日的电弧相关数据；也可以是按照工艺类型删除相应地电弧相关数据，比如删除与PE-poly工艺有关的电弧相关数据；还可以按照工艺步骤删除相应地电弧相关数据，比如删除正膜工艺步骤有关的电弧相关数据。进一步地，还可以结合工艺类型与时间段删除相应地电弧相关数据，比如删除2023年2月1日-2023年5月-1日与PE-poly工艺有关的电弧相关数据；也可以结合工艺步骤与时间段删除相应地电弧相关数据，比如删除2023年2月1日-2023年5月-1日与正膜工艺步骤有关的电弧相关数据。
一些实施例中，所述管理权限包括管理员权限、操作员权限与访客权限。
基于所述用户的管理权限与所述用户的特定操作确定是否执行所述用户的特定操作，包括：
当所述用户的管理权限为所述管理员权限，确定执行所述用户的特定操作。
当所述用户的管理权限为操作员权限，且所述用户的特定操作为访问所述电弧相关数据，或删除第一限定电弧相关数据，确定执行所述用户的特定操作。
其中，当所述用户的管理权限为操作员权限，且所述用户的特定操作为删除除所述第一限定电弧相关数据以外的其他电弧相关数据时，确定不执行所述用户的特定操作。
当所述用户的管理权限为访客权限，且所述用户的特定操作为访问限定电弧相关数据或删除第二限定电弧相关数据，确定执行所述用户的特定操作。
其中，当所述用户的管理权限为访客权限，所述用户的特定操作为访问除所述限定电弧相关数据之外的电弧相关数据，或删除除所述第二限定电弧相关数据之外的电弧相关数据时，确定不执行所述用户的特定操作。
一些实施例中，所述用户的特定操作还包括创建角色(比如操作员、访客等)，以及为所述角色分配权限。其中，基于所述用户的管理权限与所述用户的特定操作确定是否执行所述用户的特定操作，包括：
当所述用户的管理权限为所述管理员权限，所述用户的特定操作为创建角色，以及为所述角色分配权限，确定执行所述用户的特定操作。
一些实施例中，所述电弧数据管理方法还包括：基于电源状态删除目标电弧相关数据。
其中，所述目标电弧相关数据可以基于用户自定义来确定，比如：当电源处于待关机状态时，删除本次开机过程中产生的电弧相关数据；或者当电源处于待关机状态时，删除一周前产生的电弧相关数据等。
请参阅图2，图2为本申请一些实施例提供的电弧数据管理装置的结构框图。
如图2所示，第一实施例中，所述电弧数据管理装置100包括控制采集模块10、确定模块11以及控制执行模块12。所述控制采集模块10用于响应一采集信号而控制采集电弧相关数据。所述确定模块11基于所述电弧相关数据确定电弧产生原因。所述控制执行模块12用于控制提示所述电弧产生原因，和/或，基于所述电弧产生原因控制当前设备。
本申请中，所述确定模块11基于所述电弧相关数据确定电弧产生原因，所述控制执行模块12用于控制提示所述电弧产生原因，从而可以辅助用户快速明确产生电弧的原因而有助于用户快速采取相应的解决措施。所述控制执行模块12基于所述电弧产生原因控制当前设备，从而有助于避免因电弧出现而导致设备被损坏，进而发挥了电弧相关数据的价值为生产管理赋能。
请参阅图3，图3为本申请一些实施例提供的电源的结构框图。
如图3所示，一些实施例中，所述电源200包括采集器20与处理器21。其中，所述采集器20用于采集电弧相关数据。所述处理器21基于所述电弧相关数据确定电弧产生原因，并基于所述电弧产生原因控制当前设备。
本申请中，所述处理器21基于所述电弧相关数据确定电弧产生原因，并基于所述电弧产生原因控制当前设备，从而有助于避免因电弧出现而导致设备被损坏。
请参阅图4，图4为本申请另一些实施例提供的电源的结构框图。
如图4所示，另一些实施例中，所述电源200包括采集器20、处理器21与提示器22。其中，所述采集器20用于采集电弧相关数据。所述处理器21基于所述电弧相关数据确定电弧产生原因。所述处理器21还用于控制所述提示器22提示所述电弧产生原因。
本申请中，所述处理器21基于所述电弧相关数据确定电弧产生原因，并基于所述电弧产生原因控制当前设备，从而有助于避免因电弧出现而导致设备被损坏。所述处理器21还用于控制所述提示器22提示所述电弧产生原因，从而可以辅助用户快速明确产生电弧的原因而有助于用户快速采取相应的解决措施，进而发挥了电弧相关数据的价值为生产管理赋能。
上述实施例中提到的所述处理器21可以是单片机、中央处理器(CentralProcessing Unit，CPU)，通用处理器，数字信号处理器(Digital Signal Processor，DSP)，专用集成电路(Application-Specific Integrated Circuit，ASIC)，现场可编程门阵列(Field Programmable Gate Array，FPGA)或者其他可编程逻辑器件、晶体管逻辑器件、硬件部件或者其任意组合。
上述实施例中提到的所述采集器20可以是专用集成电路(Application-SpecificIntegrated Circuit，ASIC)、现场可编程门阵列(Field Programmable Gate Array，FPGA)或者其他可编程逻辑器件、晶体管逻辑器件、硬件部件或者其任意组合。
上述实施例中提到的所述提示器22可以是显示屏与语音播报器等。
上述实施例中，所述电弧数据管理装置100的所述控制采集模块10、所述确定模块11以及所述控制执行模块12所执行的步骤可以参照前述实施例中记载的电弧数据管理方法而确定，此处不再赘述。
上述实施例中，所述电源200的所述采集器20、所述处理器21与所述提示器22所执行的步骤可以参照前述实施例中记载的电弧数据管理方法而确定，此处不再赘述。
本申请实施例还提供一种计算机可读存储介质，所述计算机可读存储介质内存储有计算机程序，所述计算机程序供处理器调用后执行前述的任一实施例提供的所述电弧数据管理方法。
本领域普通技术人员可以理解上述实施例的各种方法中的全部或部分步骤是可以通过程序来指令相关的硬件来完成，该程序可以存储于一计算机可读存储器中，存储器可以包括：闪存盘、只读存储器、随机存取器、磁盘或光盘等。
以上是本申请实施例的实施方式，应当指出，对于本技术领域的普通技术人员来说，在不脱离本申请实施例原理的前提下，还可以做出若干改进和润饰，这些改进和润饰也视为本申请的保护范围。

Claims (10)

1.一种电弧数据管理方法，其特征在于，所述电弧数据管理方法包括：
响应一采集信号而控制采集电弧相关数据；
基于所述电弧相关数据确定电弧产生原因；
控制提示所述电弧产生原因，和/或基于所述电弧产生原因控制当前设备。
2.根据权利要求1所述的电弧数据管理方法，其特征在于，所述电弧相关数据包括电弧产生的设备信息、电弧产生的时间、电弧产生所运行的工艺类型信息、电弧产生所运行的工艺步骤信息、电弧产生时的电流、电弧产生时的电压、电弧产生时的功率、电弧持续时间、电弧灭弧时间、电弧产生时的闪烁开启时间、电弧产生时的闪烁关闭时间、电弧的电流最大值以及电弧的电压最大值中的至少一个。
3.根据权利要求1所述的电弧数据管理方法，其特征在于，所述基于所述电弧相关数据确定电弧产生原因，包括：
从预设维度统计所述电弧相关数据，得到统计数据；
基于所述统计数据，以及预存的统计数据与电弧产生原因之间的关系确定所述电弧产生原因。
4.根据权利要求3所述的电弧数据管理方法，其特征在于，所述预设维度包括工艺类型维度、工艺步骤维度、时间维度、电弧的电流最大值维度以及电弧的电压最大值维度中的至少一个。
5.根据权利要求1所述的电弧数据管理方法，其特征在于，所述电弧数据管理方法还包括：
响应用户的特定操作确定用户的管理权限；
基于所述用户的管理权限与所述用户的特定操作确定是否执行所述用户的特定操作；
其中，所述用户的特定操作包括访问相应地所述电弧相关数据与删除相应地所述电弧相关数据中的至少一个。
6.根据权利要求5所述的电弧数据管理方法，其特征在于，所述管理权限包括管理员权限、操作员权限与访客权限；
基于所述用户的管理权限与所述用户的特定操作确定是否执行所述用户的特定操作，包括：
当所述用户的管理权限为所述管理员权限，确定执行所述用户的特定操作；
当所述用户的管理权限为操作员权限，且所述用户的特定操作为访问所述电弧相关数据，或删除第一限定电弧相关数据，确定执行所述用户的特定操作；
当所述用户的管理权限为访客权限，且所述用户的特定操作为访问限定电弧相关数据或删除第二限定电弧相关数据，确定执行所述用户的特定操作。
7.根据权利要求1所述的电弧数据管理方法，其特征在于，所述电弧数据管理方法还包括：
基于电源状态删除目标电弧相关数据。
8.一种电弧数据管理装置，其特征在于，包括：
控制采集模块，用于响应一采集信号而控制采集电弧相关数据；
确定模块，基于所述电弧相关数据确定电弧产生原因；
控制执行模块，用于控制提示所述电弧产生原因，和/或，基于所述电弧产生原因控制当前设备。
9.一种电源，其特征在于，所述电源包括采集器、处理器，或者所述电源包括采集器、处理器与提示器；所述采集器用于响应一采集信号而采集电弧相关数据；所述处理器基于所述电弧相关数据确定电弧产生原因，并基于所述电弧产生原因控制当前设备；所述处理器还用于控制所述提示器提示所述电弧产生原因。
10.一种计算机可读存储介质，其特征在于，所述计算机可读存储介质内存储有计算机程序，所述计算机程序供处理器调用后执行权利要求1-7任意一项所述的电弧数据管理方法。
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