CN117274366A - 线条边距确定方法和装置 - Google Patents

Abstract

本申请涉及图像处理技术领域，特别涉及一种线条边距确定方法和装置。所述线条边距确定方法包括：获取目标光罩设计版图对应的光罩验证版图；对光罩验证版图进行轮廓识别处理，得到各测试验证图形对应的轮廓点；根据轮廓点的像素值，从轮廓点中筛选出初始凹点；对初始凹点进行线段配对，得到各测试验证图形对应的凹点线段；根据凹点线段和轮廓点，确定各测试验证图形中的线条边距，通过该种设置，避免了因为线条边缘凸起形成的异常轮廓点对线条边距确定过程造成的干扰，从而提高了线条边距确定的准确度，加快了光罩验证版图的验证速度。

Description

线条边距确定方法和装置

技术领域

本申请涉及图像处理技术领域，特别是涉及一种线条边距确定方法和装置。

背景技术

在制造光罩的过程中，工作人员通过辅助设计的制图软件完成光罩的形状和尺寸设计后得到光罩设计版图，随后将光罩设计版图发送至光罩制造方，光罩制作方根据光罩设计版图生成对应的光罩验证版图，并返回给工作人员以进行实际制作光罩之前的设计验证，该过程是光罩质量卡控的关键环节之一，在验证过程中，通常需要确认光罩设计版图中图形的间距最小的线段，以保证实际制作出的光罩精度。

然而，通常采用的线段边距确定方法准确度不够高，且处理速度太慢，大大降低了整体的光罩制作效率。

发明内容

基于此，有必要针对上述技术问题，提供一种能够加快光罩验证版图验证速度的线条边距确定方法和装置。

第一方面，本申请提供了一种线条边距确定方法，包括：

获取目标光罩设计版图对应的光罩验证版图；所述目标光罩设计版图包括多个测试设计图形；所述光罩验证版图包括与所述测试设计图形对应的多个测试验证图形；

对所述光罩验证版图进行轮廓识别处理，得到各所述测试验证图形对应的轮廓点；

根据所述轮廓点的像素值，从所述轮廓点中筛选出初始凹点；

对所述初始凹点进行线段配对，得到各所述测试验证图形对应的凹点线段；

根据所述凹点线段和所述轮廓点，确定各所述测试验证图形中的线条边距。在其中一个实施例中，所述对所述光罩验证版图进行轮廓识别处理，得到各所述测试验证图形对应的轮廓点之前，包括：

对所述光罩验证版图进行预处理；

所述对所述光罩验证版图进行轮廓识别处理，得到各所述测试验证图形对应的轮廓点的步骤，包括：

对预处理后的光罩验证版图进行轮廓识别处理，得到各所述测试验证图形对应的轮廓点。

在其中一个实施例中，所述根据所述轮廓点的像素值，从所述轮廓点中筛选出初始凹点，包括：

获取所述轮廓点对应的第一像素点阵列；所述第一像素点阵列由所述轮廓点、与所述轮廓点的距离值不超过第一预设长度值的像素点得到；

当所述第一像素点阵列内各像素点的像素值满足第一预设条件时，将所述第一像素点阵列对应的轮廓点作为所述初始凹点。

在其中一个实施例中，所述光罩验证版图预先设置有坐标系；

所述对所述初始凹点进行线段配对，得到各所述测试验证图形对应的凹点线段，包括：

获取各所述初始凹点在所述坐标系中的坐标信息；

根据各所述测试验证图形包含的初始凹点的坐标信息，获取所述测试验证图形包含的凹点线段。

在其中一个实施例中，所述凹点线段包含水平凹点线段和竖直凹点线段；

所述根据各所述测试验证图形包含的初始凹点的坐标信息，获取所述测试验证图形包含的凹点线段，包括：

根据所述初始凹点的坐标信息，将处于同一水平方向上的初始凹点存入水平凹点集合，将处于同一竖直方向上的初始凹点存入竖直凹点集合；

根据各所述水平凹点集合中的初始凹点，确定所述水平凹点线段；

根据各所述竖直凹点集合中的初始凹点，确定所述竖直凹点线段。

在其中一个实施例中，所述根据各所述水平凹点集合中的初始凹点，确定水平凹点线段，包括：

针对所述水平凹点集合中的任一初始凹点，将该初始凹点与当前水平凹点集合内其余初始凹点连接，得到初始水平线段；

获取所述初始水平线段对应的第二像素点阵列；所述第二像素点阵列由与所述初始水平线段在竖直方向上的距离值不超过第二预设长度值的像素点得到；

当所述第二像素点阵列内各像素点的像素值满足第二预设条件时，将所述第二像素点阵列对应的初始水平线段作为初始水平凹点线段；

获取各所述初始水平凹点线段的水平长度值；

根据所述水平长度值，从所述初始水平凹点线段中筛选出所述水平凹点线段。

在其中一个实施例中，所述根据各所述竖直凹点集合中的初始凹点，确定所述竖直凹点线段，包括：

针对所述竖直凹点集合中的任一初始凹点，将该初始凹点与当前竖直凹点集合内其余初始凹点连接，得到初始竖直线段；

获取所述初始竖直线段对应的第三像素点阵列；所述第三像素点阵列由与所述初始竖直线段在水平方向上的距离值不超过第三预设长度值的像素点得到；

当所述第三像素点阵列内各像素点的像素值满足第三预设条件时，将所述第三像素点阵列对应的初始竖直线段作为初始竖直凹点线段；

获取各所述初始竖直凹点线段的竖直长度值；

根据所述竖直长度值，从所述初始竖直凹点线段中筛选出所述竖直凹点线段。

在其中一个实施例中，所述根据所述凹点线段和所述轮廓点，确定各所述测试验证图形中的线条边距，包括：

获取所述轮廓点的坐标信息；

获取所述水平凹点线段中各像素点的水平坐标信息和所述竖直凹点线段中各像素点的竖直坐标信息；

根据所述轮廓点的坐标信息、所述水平凹点线段中各像素点的水平坐标信息和所述竖直凹点线段中各像素点的竖直坐标信息，确定所述线条边距。

在其中一个实施例中，所述轮廓点的坐标信息包括竖直坐标信息和水平坐标信息；

所述根据所述轮廓点的坐标信息、所述水平凹点线段中各像素点的水平坐标信息和所述竖直凹点线段中各像素点的竖直坐标信息，确定所述线条边距，包括：

当任意两个所述水平凹点线段中像素点的水平坐标信息存在重合时，将水平坐标信息存在重合的水平凹点线段之间的距离作为所述线条边距；

当任意两个所述竖直凹点线段中像素点的竖直坐标信息存在重合时，将竖直坐标信息存在重合的竖直凹点线段之间的距离作为所述线条边距；

当所述水平凹点线段中像素点的水平坐标信息与其余水平凹点线段中像素点的水平坐标信息不存在重合时，根据所述水平凹点线段中的像素点、以及与所述水平凹点线段中像素点的水平坐标信息相同的轮廓点，确定所述线条边距；

当所述竖直凹点线段中像素点的竖直坐标信息与其余竖直凹点线段中像素点的竖直坐标信息不存在重合时，根据所述竖直凹点线段中的像素点、以及与所述竖直凹点线段中像素点的竖直坐标信息相同的轮廓点，确定所述线条边距。

第二方面，本申请还提供了一种线条边距确定装置，包括：

获取模块，用于获取目标光罩设计版图对应的光罩验证版图；所述目标光罩设计版图包括多个测试设计图形；所述光罩验证版图包括与所述测试设计图形对应的多个测试验证图形；

处理模块，用于对所述光罩验证版图进行轮廓识别处理，得到各所述测试验证图形对应的轮廓点；

筛选模块，用于根据所述轮廓点的像素值，从所述轮廓点中筛选出初始凹点；

配对模块，用于对所述初始凹点进行线段配对，得到各所述测试验证图形对应的凹点线段；

确定模块，用于根据所述凹点线段和所述轮廓点，确定各所述测试验证图形中的线条边距。

第三方面，本申请还提供了一种计算机设备。所述计算机设备包括存储器和处理器，所述存储器存储有计算机程序，所述处理器执行所述计算机程序时实现上述任一实施例所述的线条边距确定方法。

第四方面，本申请还提供了一种计算机可读存储介质。所述计算机可读存储介质，其上存储有计算机程序，所述计算机程序被处理器执行时实现上述任一实施例所述的线条边距确定方法。

第五方面，本申请还提供了一种计算机程序产品。所述计算机程序产品，包括计算机程序，该计算机程序产品被处理器执行时实现上述任一实施例所述的线条边距确定方法。

上述线条边距确定方法和装置，能够根据光罩设计版图对应的光罩验证版图进行自动化线条边距确定，通过确定各个测试验证图形中的向内凹陷形成的轮廓线，查找到轮廓线上的凹点，进一步查找到当前测试验证图形内间距最小的线段长度值，基于凹点线段确定线条边距，避免了因为线条边缘凸起形成的异常轮廓点对线条边距确定过程造成的干扰，从而提高了线条边距确定的准确度，加快了光罩验证版图的验证速度，提高了薄弱线条的尺寸确定效率，进一步加快了光罩的制作速度。

附图说明

图1为一个实施例中线条边距确定方法的应用环境图；

图2为一个实施例中线条边距确定方法的流程示意图；

图3为另一个实施例中线条边距确定方法的流程示意图；

图4为一个实施例中线条边距确定方法中预设方向上的第一像素点阵列的示意图；

图5为一个实施例中水平方向上存在多个初始凹点的测试验证图形的部分结构示意图；

图6为一个实施例中竖直方向上存在多个初始凹点的测试验证图形的部分结构示意图；

图7为又一个实施例中线条边距确定方法的流程示意图；

图8为一个实施例中线条边距确定装置的结构框图；

图9为一个实施例中计算机设备的内部结构图。

具体实施方式

为了便于理解本公开，下面将参照相关附图对本公开进行更全面的描述。附图中给出了本公开的首选实施例。但是，本公开可以以许多不同的形式来实现，并不限于本文所描述的实施例。相反地，提供这些实施例的目的是使对本公开的公开内容更加透彻全面。

除非另有定义，本文所使用的所有的技术和科学术语与属于本公开的技术领域的技术人员通常理解的含义相同。本文中在本公开的说明书中所使用的术语只是为了描述具体的实施例的目的，不是旨在于限制本公开。

应当明白，当元件或层被称为“在...上”、“与...相邻”、“连接到”或“耦合到”其它元件或层时，其可以直接地在其它元件或层上、与之相邻、连接或耦合到其它元件或层，或者可以存在居间的元件或层。相反，当元件被称为“直接在...上”、“与...直接相邻”、“直接连接到”或“直接耦合到”其它元件或层时，则不存在居间的元件或层。应当明白，尽管可使用术语第一、 第二、第三等描述各种元件、部件、区、层和/或部分，这些元件、部件、区、层和/或部分不应当被这些术语限制。这些术语仅仅用来区分一个元件、部件、区、层或部分与另一个元件、部件、区、层或部分。因此，在不脱离本发明教导之下，下面讨论的第一元件、部件、区、层或部分可表示为第二元件、部件、区、层或部分。

空间关系术语例如“在...下”、“在...下面”、“下面的”、“在...之下”、“在...之上”、“上面的”等，在这里可以用于描述图中所示的一个元件或特征与其它元件或特征的关系。应当明白，除了图中所示的取向以外，空间关系术语还包括使用和操作中的器件的不同取向。例如，如果附图中的器件翻转，描述为“在其它元件下面”或“在其之下”或“在其下”元件或特征将取向为在其它元件或特征“上”。因此，示例性术语“在...下面”和“在...下”可包括上和下两个取向。此外，器件也可以包括另外地取向(譬如，旋转80度或其它取向)，并且在此使用的空间描述语相应地被解释。

在此使用时，单数形式的“一”、“一个”和“所述/该”也可以包括复数形式，除非上下文清楚指出另外的方式。还应明白，当术语“组成”和/或“包括”在该说明书中使用时，可以确定所述特征、整数、步骤、操作、元件和/或部件的存在，但不排除一个或更多其它的特征、整数、步骤、操作、元件、部件和/或组的存在或添加。同时，在此使用时，术语“和/或”包括相关所列项目的任何及所有组合。

在此使用时，“沉积”工艺包括但不限于物理气相沉积（Physical VaporDeposition，简称PVD）、化学气相沉积（Chemical VaporDeposition，简称CVD）或原子层沉积（Atomic Layer Deposition，简称ALD）。

这里参考作为本发明的理想实施例(和中间结构)的示意图的横截面图来描述发明的实施例，这样可以预期由于例如制造技术和/或容差导致的所示形状的变化。因此，本发明的实施例不应当局限于在此所示的区的特定形状，而是包括由于例如制造技术导致的形状偏差。例如，显示为矩形的注入区在其边缘通常具有圆的或弯曲特征和/或注入浓度梯度，而不是从注入区到非注入区的二元改变。同样，通过注入形成的埋藏区可导致该埋藏区和注入进行时所经过的表面之间的区中的一些注入。因此，图中显示的区实质上是示意性的，它们的形状并不表示器件的区的实际形状，且并不限定本发明的范围。

本申请实施例提供的线条边距确定方法，可以应用于如图1所示的应用环境中。其中，终端102通过网络与服务器104通过网络进行通信。

例如，线条边距确定方法应用于终端102，终端102可以在接收到处理指令时，首先从服务器104的数据存储系统中获取目标光罩设计版图对应的光罩验证版图；目标光罩设计版图包括多个测试设计图形；光罩验证版图包括与测试设计图形对应的多个测试验证图形；随后，终端102对光罩验证版图进行轮廓识别处理，得到各测试验证图形对应的轮廓点；并对各测试验证图形对应的轮廓点进行线段配对，得到凹点线段；最后根据凹点线段和轮廓点，确定各测试验证图形中的线条边距，其中，终端102可以但不限于是各种个人计算机、笔记本电脑、智能手机、平板电脑、物联网设备和便携式可穿戴设备，物联网设备可为智能音箱、智能电视、智能空调、智能车载设备等。便携式可穿戴设备可为智能手表、智能手环、头戴设备等。服务器104可以用独立的服务器或者是多个服务器组成的服务器集群来实现。终端102和服务器104可以通过有线或无线通信方式进行直接或间接的连接，例如通过网络连接。

又例如，线条边距确定方法应用于服务器104，终端102可以在接收到计算指令时，将计算指令转发给服务器104，随后服务器104从数据存储系统中获取目标光罩设计版图对应的光罩验证版图；目标光罩设计版图包括多个测试设计图形；光罩验证版图包括与测试设计图形对应的多个测试验证图形；随后，服务器104对光罩验证版图进行轮廓识别处理，得到各测试验证图形对应的轮廓点；并对各测试验证图形对应的轮廓点进行线段配对，得到凹点线段；最后根据凹点线段和轮廓点，确定各测试验证图形中的线条边距，可以理解的是，数据存储系统可为独立的存储设备，或者该数据存储系统位于服务器上，或者该数据存储系统位于另一终端上。

在一个实施例中，提供了一种线条边距确定方法，本实施例以该线条边距确定方法应用于终端进行举例说明，可以理解的是，该方法也可以应用于服务器，还可以应用于包括终端和服务器的系统，并通过终端和服务器的交互实现。如图2所示，该线条边距确定方法包括：

步骤202、获取目标光罩设计版图对应的光罩验证版图；目标光罩设计版图包括多个测试设计图形；光罩验证版图包括与测试设计图形对应的多个测试验证图形。

本实施例中，目标光罩设计版图指的是通过辅助设计的制图软件绘制的光罩的图纸，例如可以是计算机辅助设计（computer aided design，CAD）图，光罩验证版图指的是用于验证光罩的设计是否符合要求的图纸，例如可以是job deck view版图（JDV版图），JDV版图中可以包含光罩的外形轮廓和尺寸信息、光罩所使用的材料类型和厚度信息、光罩的孔洞和开口信息以及配件的配件和连接方式等信息。

在制造光罩的过程中，工作人员通过辅助设计的制图软件完成光罩的形状和尺寸设计后得到光罩设计版图，随后将光罩设计版图发送至光罩制造方，光罩制作方根据光罩设计版图生成对应的光罩验证版图，并返回给工作人员以进行实际制作光罩之前的设计验证，若验证通过，则光罩制造方会根据验证通过的光罩验证版图进行光罩的实际光刻制作，若验证失败，光罩制造方会根据验证失败的光罩验证版图进行轮廓、开口等优化，得到新的光罩验证版图，直到新的光罩验证版图验证成功。

本实施例中的终端可以是在人机交互界面目标接收到工作人员发出的处理指令时，首先根据处理指令携带的身份标签，从服务器的数据存储系统中匹配到身份标签对应的目标光罩设计版图，并进一步从数据存储系统中获取匹配到的目标光罩设计版图对应的光罩验证版图。其中，身份标签可以由字母、字符或数字中的至少一种组成，身份标签用于唯一标识光罩设计版图，本实施例的服务器中预存有身份标签与多个光罩设计版图的一一映射关系。

作为示例，处理指令可以是工作人员通过终端的人机交互界面发出的，又或者，在服务器接收到光罩设计版图的光罩验证版图并将其存储在数据存储系统中时，服务器能够自动生成当前光罩设计版图对应的处理指令。例如，在光罩制作方将光罩设计版图对应的光罩验证版图发送至本实施例中的服务器的接收地址时，服务器在将该光罩设计版图及光罩验证版图对应存储的同时，能够自动生成该光罩设计版图对应的处理指令并发送给终端，终端根据该处理指令携带的身份标签，从数据存储系统中匹配到的身份标签对应的光罩设计版图，作为目标光罩设计版图，并进一步获取匹配到的目标光罩设计版图对应的光罩验证版图。

本实施例中，可以采用方形、交错矩形等复杂环境图形作为测试设计图形的图形种类，相应的，测试验证图形同样可以包括方形、交错矩形等复杂环境图形。

步骤204、对光罩验证版图进行轮廓识别处理，得到各测试验证图形对应的轮廓点。

轮廓识别处理指的是识别光罩验证版图中测试验证图形的轮廓线包含的所有像素点的过程。

轮廓点指的是识别光罩验证版图中测试验证图形的轮廓线包含的像素点。

在本实施例中，终端例如可以采用Canny边缘检测算法从光罩验证版图中提取出所有测试验证图形的轮廓，随后对筛选出的轮廓进行分组，将属于同一个测试验证图形的轮廓归为一组，在分组过程中，例如可以使用测试验证图形的几何特征，如距离、角度等进行分组；最后，对每个测试验证图形的轮廓进行点集合提取，可以使用轮廓的近似算法，如Douglas-Peucker算法，将每个测试验证图形对应的轮廓点集合进行简化处理。

步骤206、根据所述轮廓点的像素值，从所述轮廓点中筛选出初始凹点。

初始凹点指的可以是测试验证图形中向内凹陷形成的轮廓线上的一个轮廓点。初始凹点用于指示轮廓线上向内凹陷最深的像素点。

步骤208、对初始凹点进行线段配对，得到各测试验证图形对应的凹点线段。

凹点线段指的可以是测试验证图形中向内凹陷形成的轮廓线。

本实施例中，终端在获取到各个测试验证图形对应的轮廓点后，可以分别从水平方向上和竖直方向上对轮廓点进行线段匹配，从而分别确定水平方向上线段起始点和线段结束点和竖直方向上的线段起始点和线段结束点，并将线段起始点和线段结束点连接，得到水平方向上的凹点线段和竖直方向上的凹点线段。

步骤2010、根据凹点线段和轮廓点，确定各测试验证图形中的线条边距。

终端根据测试验证图形中水平方向上向内凹陷形成的轮廓线、竖直方向上向内凹陷形成的轮廓线和测试验证图形包含的其余轮廓点，计算测试验证图形中的线条边距。

线条边距指的可以是在一个测试验证图形中，水平方向上间距最小的线段长度值、或竖直方向上间距最小的线段长度值，并且水平方向上间距最小或竖直方向上间距最小的线段对应的线段起始点和线段结束点均由当前测试验证图形的轮廓点组成。其中，一个测试验证图形中，水平方向上间距最小的线段、或竖直方向上间距最小的线段可以成为薄弱线条。

在一个测试验证图形中，间距最小的线段对应的线段起始点和线段结束点一定会出现在向内凹陷形成的轮廓线以及与该轮廓线相对的轮廓点上，针对任意一条凹点线段，当与其相对的另一侧轮廓线上不存在向内凹陷形成的轮廓线时，终端可以根据凹点线段以及与该凹点线段处于同一水平方向、或同一竖直方向上的另一侧轮廓线上的轮廓点，计算得到水平方向上间距最小的线段长度值、或竖直方向上间距最小的线段长度值。

上述线条边距确定方法中，终端能够根据光罩设计版图对应的光罩验证版图进行自动化线条边距确定，通过确定各个测试验证图形中的向内凹陷形成的轮廓线，从而查找到当前测试验证图形内间距最小的线段长度值，基于凹点线段确定线条边距，避免了因为线条边缘凸起形成的异常轮廓点对线条边距确定过程造成的干扰，从而提高了线条边距确定的准确度，加快了光罩验证版图的验证速度，提高了薄弱线条的尺寸确定效率，进一步加快了光罩的制作速度。

如图3所示，在一些可选的实施例中，在步骤204之前，还包括：

步骤203、对光罩验证版图进行预处理；

步骤204包括：步骤204a、对预处理后的光罩验证版图进行轮廓识别处理，得到各测试验证图形对应的轮廓点。

预处理的过程可以包括灰度化、二值化、去噪等处理。

作为示例，在对光罩验证版图进行轮廓识别处理之前，可以先对光罩验证版图进行二值化处理，将光罩验证版图从灰度值表示转换为只有两个值的二值图像，如像素值255和像素值0，从而使得光罩验证版图中每个测试验证图形的轮廓的边界更加清晰，便于轮廓的提取和分析，随后，终端针对二值化处理后的光罩验证版图进行噪声滤除处理，从而将二值化处理后的光罩验证版图中可能存在的、影响轮廓识别精度的噪声点去除，从而提高后续轮廓提取的准确性和稳定性。

在一些可选的实施例中，在步骤206中，筛选初始凹点的步骤具体可以包括：获取轮廓点对应的第一像素点阵列；第一像素点阵列由轮廓点、与轮廓点的距离值不超过第一预设长度值的像素点得到；当第一像素点阵列内各像素点的像素值满足第一预设条件时，将第一像素点阵列对应的轮廓点作为初始凹点。

第一预设长度值例如可以是当前光罩验证版图中，任意两个相邻像素点之间的距离。既可以理解成，与轮廓点的距离值不超过第一预设长度值的像素点指的可以是环绕当前轮廓点的八个像素点。

第一预设条件例如可以是第一像素点阵列中只存在一个像素点的像素值为0。当第一像素点阵列满足第一预设条件时，可以理解为，当前轮廓点周边的八个像素点中的七个是测试验证图形的轮廓点，即当前轮廓点是测试验证图形中向内凹陷处的底部端点。

作为示例，与轮廓点（x，y）的距离值不超过第一预设长度值的像素点可以包括：像素点(x-1,y-1)、像素点(x-1,y)、像素点(x,y-1)、像素点(x+1,y+1)、像素点(x+1, y)、像素点(x, y+1)、像素点(x+1, y-1)、像素点(x-1, y+1)。

在筛选初始凹点的过程中，针对任意一个测试验证图形，遍历该测试验证图形对应的所有轮廓点，采集每个轮廓点对应的第一像素点阵列，并进一步获取每个第一像素点阵列中包含的八个像素点的像素值，当这八个像素点中只存在一个像素点的像素值为0时，终端确定当前第一像素点阵列为初始凹点。

在另一种可选地实施例中，第一像素点阵列也可以由轮廓点、以及轮廓点的预设方向上的邻近像素点组成。

如图4所示，作为示例，预设方向例如可以是基于光罩验证版图中预设的坐标系，当前轮廓点的左上、右上、左下、右下四个方向。

则在筛选初始凹点的过程中，针对任意一个测试验证图形，遍历该测试验证图形对应的所有轮廓点，采集每个轮廓点对应的第一像素点阵列，并进一步获取每个第一像素点阵列中包含的四个像素点的像素值，当这四个像素点中只存在一个像素点的像素值为0时，终端确定当前第一像素点阵列为初始凹点。

在一些可选的实施例中，在步骤208中，线段配对的过程可以包括：获取各初始凹点在坐标系中的坐标信息；根据各测试验证图形包含的初始凹点的坐标信息，获取测试验证图形包含的凹点线段。

光罩验证版图中预设的坐标系例如可以将水平方向作为x轴，将竖直方向作为y轴。

凹点线段可以包含水平方向上的水平凹点线段和竖直方向上的竖直凹点线段。

终端在获取根据初始凹点的坐标信息后，可以将处于同一水平方向上的初始凹点存入水平凹点集合，将处于同一竖直方向上的初始凹点存入竖直凹点集合，随后根据各水平凹点集合中的初始凹点，确定水平凹点线段；根据各竖直凹点集合中的初始凹点，确定竖直凹点线段。

在本实施例中，终端将y坐标相同的初始凹点存入水平凹点集合，将x坐标相同的初始凹点存入竖直凹点集合。

进一步地，终端针对水平凹点集合中的任一初始凹点，将该初始凹点与当前水平凹点集合内其余初始凹点连接，得到初始水平线段；获取初始水平线段对应的第二像素点阵列；第二像素点阵列由与初始水平线段在竖直方向上的距离值不超过第二预设长度值的像素点得到；当第二像素点阵列内各像素点的像素值满足第二预设条件时，将第二像素点阵列对应的初始水平线段作为初始水平凹点线段；获取各初始水平凹点线段的水平长度值；根据水平长度值，从初始水平凹点线段中筛选出水平凹点线段。

第二预设长度值同样可以是当前光罩验证版图中，任意两个相邻像素点之间的距离。既可以理解成，与初始水平线段的距离值不超过第二预设长度值的像素点指的可以是位于初始水平线段上方、且与初始水平线段紧邻的像素点和位于初始水平线段下方、且与初始水平线段紧邻的像素点。

第二预设条件例如可以是第二像素点阵列中y坐标相同的像素点的像素值完全相同，且y坐标不相同的像素点的像素值完全相反，在二值化处理后的光罩验证版图中只存在两个值，可以理解为，第二像素点阵列中y坐标相同的像素点的像素值要么全部为0，要么全部为255，且y坐标不相同的像素点的像素值应该一边为0，另一边为255。第二预设条件用于判断初始水平线段是否处于测试验证图形与光罩验证版图背景的交界处。

当一个水平方向上存在多个初始凹点时，终端能够将所有初始凹点均存入一个水平凹点集合中，随后针对该水平凹点集合中的初始凹点进行两两配对，得到初始水平线段，如图5所示，在一个测试验证图形100中，其部分轮廓的水平方向上存在初始凹点a、b、c、d时，终端可以配对得到初始水平线段ab、ac、ad、bc、bd和cd。

随后，针对每个初始水平线段，采集位于初始水平线段上方、且与初始水平线段紧邻的像素点和位于初始水平线段下方、且与初始水平线段紧邻的像素点组成第二像素点阵列，当位于初始水平线段上方、且与初始水平线段紧邻的像素点的像素值均相同，且与位于初始水平线段下方、且与初始水平线段紧邻的像素点的像素值均相反时，将该初始水平线段作为初始水平凹点线段。

紧接着，根据初始水平凹点线段包含的两个端点，即两个初始凹点的x坐标计算初始水平凹点线段的水平长度值，随后遍历水平凹点集合中的任一初始凹点，针对每个初始凹点，将包含该初始凹点、且水平长度值最短的初始水平凹点线段作为该初始凹点对应的水平凹点线段。

再进一步地，终端针对竖直凹点集合中的任一初始凹点，将该初始凹点与当前竖直凹点集合内其余初始凹点连接，得到初始竖直线段；获取初始竖直线段对应的第三像素点阵列；第三像素点阵列由与初始竖直线段在水平方向上的距离值不超过第三预设长度值的像素点得到；当第三像素点阵列内各像素点的像素值满足第三预设条件时，将第三像素点阵列对应的初始竖直线段作为初始竖直凹点线段；获取各初始竖直凹点线段的竖直长度值；根据竖直长度值，从初始竖直凹点线段中筛选出竖直凹点线段。

第三预设长度值同样可以是当前光罩验证版图中，任意两个相邻像素点之间的距离。既可以理解成，与初始竖直线段的距离值不超过第三预设长度值的像素点指的可以是位于初始竖直线段左侧、且与初始竖直线段紧邻的像素点和位于初始水平线段右侧、且与初始竖直线段紧邻的像素点。

第三预设条件例如可以是第三像素点阵列中x坐标相同的像素点的像素值完全相同，且x坐标不相同的像素点的像素值完全相反，可以理解为，第三像素点阵列中x坐标相同的像素点的像素值要么全部为0，要么全部为255，且x坐标不相同的像素点的像素值应该一边为0，另一边为255。第三预设条件同样用于判断初始竖直线段是否处于测试验证图形与光罩验证版图背景的交界处。

当一个竖直方向上存在多个初始凹点时，终端能够将所有初始凹点均存入一个竖直凹点集合中，随后针对该竖直凹点集合中的初始凹点进行两两配对，得到初始竖直线段，如图6所示，在一个测试验证图形200中，其部分轮廓的竖直方向上存在初始凹点e、f、g、h时，终端可以配对得到初始竖直线段ef、eg、eh、fg、fh和gh。

随后，针对每个初始竖直线段，采集位于初始竖直线段左侧、且与初始竖直线段紧邻的像素点和位于初始竖直线段右侧、且与初始竖直线段紧邻的像素点组成第二像素点阵列，当位于初始竖直线段左侧、与初始竖直线段紧邻的像素点的像素值均相同，且与位于初始竖直线段右侧、与初始竖直线段紧邻的像素点的像素值均相反时，将该初始竖直线段作为初始竖直凹点线段。

紧接着，根据初始竖直凹点线段包含的两个端点，即两个初始凹点的y坐标计算初始竖直凹点线段的竖直长度值，随后遍历竖直凹点集合中的任一初始凹点，针对每个初始凹点，将包含该初始凹点、且竖直长度值最短的初始竖直凹点线段作为该初始凹点对应的竖直凹点线段。

如图7所示，在一些可选的实施例中，步骤208包括：

步骤2082、获取轮廓点的坐标信息；

步骤2084、获取水平凹点线段中各像素点的竖直坐标信息和竖直凹点线段中各像素点的水平坐标信息；

步骤2086、根据轮廓点的坐标信息、水平凹点线段中各像素点的竖直坐标信息和竖直凹点线段中各像素点的水平坐标信息，确定线条边距。

其中，轮廓点的坐标信息包括竖直坐标信息和水平坐标信息。

在步骤2086中，确定线条边距的步骤包括：

当任意两个水平凹点线段中像素点的竖直坐标信息存在重合时，将竖直坐标信息存在重合的水平凹点线段之间的距离作为线条边距；

当任意两个竖直凹点线段中像素点的水平坐标信息存在重合时，将水平坐标信息存在重合的竖直凹点线段之间的距离作为线条边距；

当水平凹点线段中像素点的水平坐标信息与其余水平凹点线段中像素点的水平坐标信息不存在重合时，根据水平凹点线段中的像素点、以及与水平凹点线段中像素点的水平坐标信息相同的轮廓点，确定线条边距；

当竖直凹点线段中像素点的竖直坐标信息与其余竖直凹点线段中像素点的竖直坐标信息不存在重合时，根据竖直凹点线段中的像素点、以及与竖直凹点线段中像素点的竖直坐标信息相同的轮廓点，确定线条边距。

其中，水平坐标信息指的可以是x坐标信息，竖直坐标信息指的可以是y坐标信息。

当水平凹点线段中像素点的水平坐标信息存在重合时，可以认为当前测试设计图形在水平凹点线段范围内的竖直方向上存在相对的两处向内凹陷形成的凹槽，两个凹槽之间的距离可以认为是测试设计图形竖直方向上间距最小的薄弱线条，此时将水平坐标信息存在重合的水平凹点线段之间的距离作为线条边距。

当竖直凹点线段中像素点的竖直坐标信息存在重合时，可以认为当前测试设计图形在竖直凹点线段范围内的水平方向上存在相对的两处向内凹陷形成的凹槽，两个凹槽之间的距离可以认为是测试设计图形水平方向上间距最小的薄弱线条，此时将竖直坐标信息存在重合的数值凹点线段之间的距离作为线条边距。

当水平凹点线段中像素点的水平坐标信息与其余水平凹点线段中像素点的水平坐标信息不存在重合时，可以认为当前测试设计图形在水平凹点线段范围内的竖直方向上只存在一个向内凹陷的凹槽，此时可以计算凹槽底部的水平凹点线段的每一个像素点与相对的另一侧的轮廓点之间的竖直距离，并将竖直距离最短的作为线条边距。

当竖直凹点线段中像素点的竖直坐标信息与其余竖直凹点线段中像素点的竖直坐标信息不存在重合时，可以认为当前测试设计图形在竖直凹点线段范围内的水平方向上只存在一个向内凹陷的凹槽，此时可以计算凹槽底部的数值凹点线段与相对的另一侧的轮廓点之间的水平距离，并将水平距离最短的作为线条边距。

在一种可选地实施例中，凹点线段还可以包含预设方向凹点线段，终端还可以根据工作人员预先设置的预设方向，采集处于同一预设方向上的初始凹点，得到预设方向凹点集合，并对预设方向凹点集合中的初始凹点进行两两配对，得到初始预设方向凹点线段，进一步将与预设方向相互垂直的方向作为参考方向，沿着参考方向采集与初始预设方向凹点线段紧邻的像素点，组成预设方向像素点阵列，当预设方向像素点阵列中位于初始预设方向凹点线段同一侧的所有像素点的像素值相同、且预设方向像素点阵列中位于初始预设方向凹点线段不同侧的所有像素点的像素值相反，则将该预设方向像素点阵列对应的初始预设方向凹点线段作为预设方向凹点线段。

进一步地，若沿着参考方向，存在任意两个预设方向凹点线段时，将两个预设方向凹点线段之间的距离作为线条边距，否则，计算预设方向凹点线段上的像素点与沿着参考方向上的、测试验证图形另一侧的轮廓点之间的预设方向距离，并将预设方向距离最短的作为线条边距。

上述线条边距确定方法中，终端能够根据光罩设计版图对应的光罩验证版图进行自动化线条边距确定，通过确定各个测试验证图形中的向内凹陷形成的轮廓线，从水平方向、竖直方向和任意一个预设方向上自动查找到当前测试验证图形内间距最小的线段长度值，从而实现了基于凹点线段确定线条边距，避免了因为线条边缘凸起形成的异常轮廓点对线条边距确定过程造成的干扰，从而提高了线条边距确定的准确度，加快了光罩验证版图的验证速度，提高了薄弱线条的尺寸确定效率，进一步加快了光罩的制作速度。

应该理解的是，虽然如上的各实施例所涉及的流程图中的各个步骤按照箭头的指示依次显示，但是这些步骤并不是必然按照箭头指示的顺序依次执行。除非本文中有明确的说明，这些步骤的执行并没有严格的顺序限制，这些步骤可以以其它的顺序执行。而且，如上的各实施例所涉及的流程图中的至少一部分步骤可以包括多个步骤或者多个阶段，这些步骤或者阶段并不必然是在同一时刻执行完成，而是可以在不同的时刻执行，这些步骤或者阶段的执行顺序也不必然是依次进行，而是可以与其它步骤或者其它步骤中的步骤或者阶段的至少一部分轮流或者交替地执行。

基于同样的发明构思，本申请实施例还提供了一种用于实现上述所涉及的线条边距确定方法的线条边距确定装置。该装置所提供的解决问题的实现方案与上述方法中所记载的实现方案相似，故下面所提供的一个或多个线条边距确定装置实施例中的具体限定可以参见上文中对于线条边距确定方法的限定，在此不再赘述。

在一个实施例中，如图8所示，提供了一种线条边距确定装置800，包括：获取模块802、处理模块804、筛选模块806、配对模块808和确定模块8010，其中：

获取模块802用于获取目标光罩设计版图对应的光罩验证版图；目标光罩设计版图包括多个测试设计图形；光罩验证版图包括与测试设计图形对应的多个测试验证图形；

处理模块804用于对光罩验证版图进行轮廓识别处理，得到各测试验证图形对应的轮廓点；

筛选模块806，用于根据轮廓点的像素值，从轮廓点中筛选出初始凹点；

配对模块808，用于对初始凹点进行线段配对，得到各测试验证图形对应的凹点线段；

确定模块8010用于根据凹点线段和轮廓点，确定各测试验证图形中的线条边距。

在一些可选的实施例中，处理模块804还被配置为：

对光罩验证版图进行预处理；

对预处理后的光罩验证版图进行轮廓识别处理，得到各测试验证图形对应的轮廓点。

在一些可选的实施例中，筛选模块806还被配置为：

获取轮廓点对应的第一像素点阵列；第一像素点阵列由轮廓点、与轮廓点的距离值不超过第一预设长度值的像素点得到；

当第一像素点阵列内各像素点的像素值满足第一预设条件时，将第一像素点阵列对应的轮廓点作为初始凹点。

在一些可选的实施例中，光罩验证版图预先设置有坐标系；

配对模块808还被配置为：

获取各初始凹点在坐标系中的坐标信息；

根据各测试验证图形包含的初始凹点的坐标信息，获取测试验证图形包含的凹点线段。

在一些可选的实施例中，凹点线段包含水平凹点线段和竖直凹点线段；

配对模块808还被配置为：

根据初始凹点的坐标信息，将处于同一水平方向上的初始凹点存入水平凹点集合，将处于同一竖直方向上的初始凹点存入竖直凹点集合；

根据各水平凹点集合中的初始凹点，确定水平凹点线段；

根据各竖直凹点集合中的初始凹点，确定竖直凹点线段。

在一些可选的实施例中，配对模块808还被配置为：

针对水平凹点集合中的任一初始凹点，将该初始凹点与当前水平凹点集合内其余初始凹点连接，得到初始水平线段；

获取初始水平线段对应的第二像素点阵列；第二像素点阵列由与初始水平线段在竖直方向上的距离值不超过第二预设长度值的像素点得到；

当第二像素点阵列内各像素点的像素值满足第二预设条件时，将第二像素点阵列对应的初始水平线段作为初始水平凹点线段；

获取各初始水平凹点线段的水平长度值；

根据水平长度值，从初始水平凹点线段中筛选出水平凹点线段。

在一些可选的实施例中，配对模块808还被配置为：

针对竖直凹点集合中的任一初始凹点，将该初始凹点与当前竖直凹点集合内其余初始凹点连接，得到初始竖直线段；

获取初始竖直线段对应的第三像素点阵列；第三像素点阵列由与初始竖直线段在水平方向上的距离值不超过第三预设长度值的像素点得到；

当第三像素点阵列内各像素点的像素值满足第三预设条件时，将第三像素点阵列对应的初始竖直线段作为初始竖直凹点线段；

获取各初始竖直凹点线段的竖直长度值；

根据竖直长度值，从初始竖直凹点线段中筛选出竖直凹点线段。

在一些可选的实施例中，确定模块8010还被配置为：

获取轮廓点的坐标信息；

获取水平凹点线段中各像素点的水平坐标信息和竖直凹点线段中各像素点的竖直坐标信息；

根据轮廓点的坐标信息、水平凹点线段中各像素点的水平坐标信息和竖直凹点线段中各像素点的竖直坐标信息，确定线条边距。

在一些可选的实施例中，轮廓点的坐标信息包括竖直坐标信息和水平坐标信息；

确定模块8010还被配置为：

当任意两个水平凹点线段中像素点的水平坐标信息存在重合时，将水平坐标信息存在重合的水平凹点线段之间的距离作为线条边距；

当任意两个竖直凹点线段中像素点的竖直坐标信息存在重合时，将竖直坐标信息存在重合的竖直凹点线段之间的距离作为线条边距；

当水平凹点线段中像素点的水平坐标信息与其余水平凹点线段中像素点的水平坐标信息不存在重合时，根据水平凹点线段中的像素点、以及与水平凹点线段中像素点的水平坐标信息相同的轮廓点，确定线条边距；

当竖直凹点线段中像素点的竖直坐标信息与其余竖直凹点线段中像素点的竖直坐标信息不存在重合时，根据竖直凹点线段中的像素点、以及与竖直凹点线段中像素点的竖直坐标信息相同的轮廓点，确定线条边距。

上述线条边距确定装置中的各个模块可全部或部分通过软件、硬件及其组合来实现。上述各模块可以硬件形式内嵌于或独立于计算机设备中的处理器中，也可以以软件形式存储于计算机设备中的存储器中，以便于处理器调用执行以上各个模块对应的操作。

在一个实施例中，提供了一种计算机设备，该计算机设备可以是终端，其内部结构图可以如图9所示。该计算机设备包括处理器、存储器、输入/输出接口、通信接口、显示单元和输入装置。其中，处理器、存储器和输入/输出接口通过系统总线连接，通信接口、显示单元和输入装置通过输入/输出接口连接到系统总线。其中，该计算机设备的处理器用于提供计算和控制能力。该计算机设备的存储器包括非易失性存储介质和内存储器。该非易失性存储介质存储有操作系统和计算机程序。该内存储器为非易失性存储介质中的操作系统和计算机程序的运行提供环境。该计算机设备的输入/输出接口用于处理器与外部设备之间交换信息。该计算机设备的通信接口用于与外部的终端进行有线或无线方式的通信，无线方式可通过WIFI、移动蜂窝网络、NFC（近场通信）或其他技术实现。该计算机程序被处理器执行时以实现一种线条边距确定方法。该计算机设备的显示单元用于形成视觉可见的画面，可以是显示屏、投影装置或虚拟现实成像装置。显示屏可以是液晶显示屏或者电子墨水显示屏，该计算机设备的输入装置可以是显示屏上覆盖的触摸层，也可以是计算机设备外壳上设置的按键、轨迹球或触控板，还可以是外接的键盘、触控板或鼠标等。

本领域技术人员可以理解，图9中示出的结构，仅仅是与本申请方案相关的部分结构的框图，并不构成对本申请方案所应用于其上的计算机设备的限定，具体的计算机设备可以包括比图中所示更多或更少的部件，或者组合某些部件，或者具有不同的部件布置。

在一个实施例中，提供了一种计算机可读存储介质，其上存储有计算机程序，计算机程序被处理器执行时实现上述任一实施例所述的线条边距确定方法。

在一个实施例中，提供了一种计算机程序产品，包括计算机程序，该计算机程序产品被处理器执行时上述任一实施例所述的线条边距确定方法。

本领域普通技术人员可以理解实现上述实施例方法中的全部或部分流程，是可以通过计算机程序来指令相关的硬件来完成，所述的计算机程序可存储于一非易失性计算机可读取存储介质中，该计算机程序在执行时，可包括如上述各方法的实施例的流程。其中，本申请所提供的各实施例中所使用的对存储器、数据库或其它介质的任何引用，均可包括非易失性和易失性存储器中的至少一种。非易失性存储器可包括只读存储器（Read-OnlyMemory，ROM）、磁带、软盘、闪存、光存储器、高密度嵌入式非易失性存储器、阻变存储器（ReRAM）、磁变存储器（Magnetoresistive Random Access Memory，MRAM）、铁电存储器（Ferroelectric Random Access Memory，FRAM）、相变存储器（Phase Change Memory，PCM）、石墨烯存储器等。易失性存储器可包括随机存取存储器（Random Access Memory，RAM）或外部高速缓冲存储器等。作为说明而非局限，RAM可以是多种形式，比如静态随机存取存储器（Static Random Access Memory，SRAM）或动态随机存取存储器（Dynamic RandomAccess Memory，DRAM）等。本申请所提供的各实施例中所涉及的数据库可包括关系型数据库和非关系型数据库中至少一种。非关系型数据库可包括基于区块链的分布式数据库等，不限于此。本申请所提供的各实施例中所涉及的处理器可为通用处理器、中央处理器、图形处理器、数字信号处理器、可编程逻辑器、基于量子计算的数据处理逻辑器等，不限于此。

以上实施例的各技术特征可以进行任意的组合，为使描述简洁，未对上述实施例中的各个技术特征所有可能的组合都进行描述，然而，只要这些技术特征的组合不存在矛盾，都应当认为是本说明书记载的范围。

以上所述实施例仅表达了本申请的几种实施方式，其描述较为具体和详细，但并不能因此而理解为对本申请专利范围的限制。应当指出的是，对于本领域的普通技术人员来说，在不脱离本申请构思的前提下，还可以做出若干变形和改进，这些都属于本申请的保护范围。因此，本申请的保护范围应以所附权利要求为准。

Claims (10)

1.一种线条边距确定方法，其特征在于，包括：

获取目标光罩设计版图对应的光罩验证版图；所述目标光罩设计版图包括多个测试设计图形；所述光罩验证版图包括与所述测试设计图形对应的多个测试验证图形；

对所述光罩验证版图进行轮廓识别处理，得到各所述测试验证图形对应的轮廓点；

根据所述轮廓点的像素值，从所述轮廓点中筛选出初始凹点；

对所述初始凹点进行线段配对，得到各所述测试验证图形对应的凹点线段；

根据所述凹点线段和所述轮廓点，确定各所述测试验证图形中的线条边距。

2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述对所述光罩验证版图进行轮廓识别处理，得到各所述测试验证图形对应的轮廓点之前，包括：

对所述光罩验证版图进行预处理；

所述对所述光罩验证版图进行轮廓识别处理，得到各所述测试验证图形对应的轮廓点的步骤，包括：

对预处理后的光罩验证版图进行轮廓识别处理，得到各所述测试验证图形对应的轮廓点。

3.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述根据所述轮廓点的像素值，从所述轮廓点中筛选出初始凹点，包括：

获取所述轮廓点对应的第一像素点阵列；所述第一像素点阵列由所述轮廓点、与所述轮廓点的距离值不超过第一预设长度值的像素点得到；

当所述第一像素点阵列内各像素点的像素值满足第一预设条件时，将所述第一像素点阵列对应的轮廓点作为所述初始凹点。

4.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述光罩验证版图预先设置有坐标系；

所述对所述初始凹点进行线段配对，得到各所述测试验证图形对应的凹点线段，包括：

获取各所述初始凹点在所述坐标系中的坐标信息；

根据各所述测试验证图形包含的初始凹点的坐标信息，获取所述测试验证图形包含的凹点线段。

5.根据权利要求4所述的方法，其特征在于，所述凹点线段包含水平凹点线段和竖直凹点线段；

所述根据各所述测试验证图形包含的初始凹点的坐标信息，获取所述测试验证图形包含的凹点线段，包括：

根据所述初始凹点的坐标信息，将处于同一水平方向上的初始凹点存入水平凹点集合，将处于同一竖直方向上的初始凹点存入竖直凹点集合；

根据各所述水平凹点集合中的初始凹点，确定所述水平凹点线段；

根据各所述竖直凹点集合中的初始凹点，确定所述竖直凹点线段。

6.根据权利要求5所述的方法，其特征在于，所述根据各所述水平凹点集合中的初始凹点，确定水平凹点线段，包括：

针对所述水平凹点集合中的任一初始凹点，将该初始凹点与当前水平凹点集合内其余初始凹点连接，得到初始水平线段；

获取所述初始水平线段对应的第二像素点阵列；所述第二像素点阵列由与所述初始水平线段在竖直方向上的距离值不超过第二预设长度值的像素点得到；

当所述第二像素点阵列内各像素点的像素值满足第二预设条件时，将所述第二像素点阵列对应的初始水平线段作为初始水平凹点线段；

获取各所述初始水平凹点线段的水平长度值；

根据所述水平长度值，从所述初始水平凹点线段中筛选出所述水平凹点线段。

7.根据权利要求5所述的方法，其特征在于，所述根据各所述竖直凹点集合中的初始凹点，确定所述竖直凹点线段，包括：

针对所述竖直凹点集合中的任一初始凹点，将该初始凹点与当前竖直凹点集合内其余初始凹点连接，得到初始竖直线段；

获取所述初始竖直线段对应的第三像素点阵列；所述第三像素点阵列由与所述初始竖直线段在水平方向上的距离值不超过第三预设长度值的像素点得到；

当所述第三像素点阵列内各像素点的像素值满足第三预设条件时，将所述第三像素点阵列对应的初始竖直线段作为初始竖直凹点线段；

获取各所述初始竖直凹点线段的竖直长度值；

根据所述竖直长度值，从所述初始竖直凹点线段中筛选出所述竖直凹点线段。

8.根据权利要求5所述的方法，其特征在于，所述根据所述凹点线段和所述轮廓点，确定各所述测试验证图形中的线条边距，包括：

获取所述轮廓点的坐标信息；

获取所述水平凹点线段中各像素点的水平坐标信息和所述竖直凹点线段中各像素点的竖直坐标信息；

根据所述轮廓点的坐标信息、所述水平凹点线段中各像素点的水平坐标信息和所述竖直凹点线段中各像素点的竖直坐标信息，确定所述线条边距。

9.根据权利要求8所述的方法，其特征在于，所述轮廓点的坐标信息包括竖直坐标信息和水平坐标信息；

所述根据所述轮廓点的坐标信息、所述水平凹点线段中各像素点的水平坐标信息和所述竖直凹点线段中各像素点的竖直坐标信息，确定所述线条边距，包括：

当任意两个所述水平凹点线段中像素点的水平坐标信息存在重合时，将水平坐标信息存在重合的水平凹点线段之间的距离作为所述线条边距；

当任意两个所述竖直凹点线段中像素点的竖直坐标信息存在重合时，将竖直坐标信息存在重合的竖直凹点线段之间的距离作为所述线条边距；

当所述水平凹点线段中像素点的水平坐标信息与其余水平凹点线段中像素点的水平坐标信息不存在重合时，根据所述水平凹点线段中的像素点、以及与所述水平凹点线段中像素点的水平坐标信息相同的轮廓点，确定所述线条边距；

当所述竖直凹点线段中像素点的竖直坐标信息与其余竖直凹点线段中像素点的竖直坐标信息不存在重合时，根据所述竖直凹点线段中的像素点、以及与所述竖直凹点线段中像素点的竖直坐标信息相同的轮廓点，确定所述线条边距。

10.一种线条边距确定装置，其特征在于，包括：

获取模块，用于获取目标光罩设计版图对应的光罩验证版图；所述目标光罩设计版图包括多个测试设计图形；所述光罩验证版图包括与所述测试设计图形对应的多个测试验证图形；

处理模块，用于对所述光罩验证版图进行轮廓识别处理，得到各所述测试验证图形对应的轮廓点；

筛选模块，用于根据所述轮廓点的像素值，从所述轮廓点中筛选出初始凹点；

配对模块，用于对所述初始凹点进行线段配对，得到各所述测试验证图形对应的凹点线段；

确定模块，用于根据所述凹点线段和所述轮廓点，确定各所述测试验证图形中的线条边距。