CN117270806B - 显示面板、显示装置和显示面板的制备方法 - Google Patents

显示面板、显示装置和显示面板的制备方法 Download PDF

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Abstract

本申请提供了一种显示面板、显示装置和显示面板的制备方法，涉及显示技术领域。其中，显示面板包括基板、多个发光结构、多个光学感应结构以及多个屏蔽结构，基板具有第一侧，多个发光结构设于第一侧，各发光结构包括第一电极，第一电极靠近基板设置，多个光学感应结构设于第一侧、且各光学感应结构与发光结构间隔设置，各光学感应结构包括第二电极，第二电极靠近基板设置，多个屏蔽结构设于第一侧、且各屏蔽结构与发光结构和光学感应结构间隔设置，其中，至少部分屏蔽结构位于发光结构和光学感应结构之间。上述显示面板能够改善显示面板中发光结构对光学感应结构的光干扰问题，提高屏内光学指纹对比度，还能够降低显示面板的制造成本。

Description

显示面板、显示装置和显示面板的制备方法
技术领域
本申请涉及显示技术领域，具体涉及一种显示面板、显示装置和显示面板的制备方法。
背景技术
当前指纹识别已经成为显示终端产品的重要组成部分，其在设备解锁、移动支付等应用场景中给用户提供了极大的便利。其中，光学指纹识别在功耗、响应速度、成本等方面具有较大优势而被广泛采用。
发明内容
本申请第一方面提供了一种显示面板，显示面板包括基板、多个发光结构、多个光学感应结构以及多个屏蔽结构，基板具有第一侧，多个发光结构设于第一侧，各发光结构包括第一电极，第一电极靠近基板设置，多个光学感应结构设于第一侧、且各光学感应结构与发光结构间隔设置，各光学感应结构包括第二电极，第二电极靠近基板设置，多个屏蔽结构设于第一侧、且个屏蔽结构与发光结构和光学感应结构间隔设置，其中，至少部分屏蔽结构位于发光结构和光学感应结构之间。
在一个实施例中，显示面板还包括介质层，介质层设于第一侧，介质层包括多个开口；其中，多个开口包括间隔设置的第一开口、第二开口和第三开口，发光结构位于第一开口内，光学感应结构位于第二开口内，屏蔽结构位于第三开口内。
在一个实施例中，第三开口环绕于第一开口、并与第一开口间隔设置；和/或，第三开口环绕于第二开口、并与第二开口间隔设置；和/或，介质层为像素定义层，像素定义层包括像素限定部和由像素限定部围合形成的多个像素开口，多个像素开口包括第一开口、第二开口和第三开口。
在一个实施例中，屏蔽结构的材料与光学感应结构的材料相同；和/或，所述屏蔽结构的开口面积小于所述发光结构的开口面积；和/或，所述屏蔽结构的开口面积小于所述光学感应结构的开口面积；和/或，所述屏蔽结构的高度大于所述光学感应结构的高度。
在一个实施例中，显示面板还包括驱动电路层，其中，驱动电路层设于第一侧，所述驱动电路层与所述屏蔽结构绝缘、且包括像素电路和感测电路；其中，像素电路耦接发光结构，感测电路耦接光学感应结构。
在一个实施例中，发光结构还包括发光功能层，光学感应结构还包括活性层，其中，第一电极在基板上的正投影与发光功能层在基板上的正投影具有交叠部分，第二电极在基板上的正投影与活性层在基板上的正投影具有交叠部分；和/或，发光功能层在基板上的正投影覆盖第一电极在基板上的正投影，活性层在基板上的正投影覆盖第二电极在基板上的正投影。
在一个实施例中，驱动电路层包括有源层、栅极层和源漏极层，像素电路包括第一驱动晶体管，感测电路包括第二驱动晶体管，其中，有源层设于第一侧；栅极层设于有源层背离基板的一侧，第一驱动晶体管的栅极和第二驱动晶体管的栅极位于栅极层中、且与有源层绝缘；优源漏极层设于栅极层背离有源层的一侧，第一驱动晶体管的源极、第一驱动晶体管的漏极、第二驱动晶体管的源极和第二驱动晶体管的漏极位于源漏极层中、且分别耦接有源层中对应的掺杂区；第一驱动晶体管耦接发光结构，第二驱动晶体管耦接光学感应结构。
在一个实施例中，在垂直于基板的平面上，发光结构具有第一正投影，光学感应结构具有第二正投影，屏蔽结构具有第三正投影，其中，第一正投影和第三正投影具有交叠部分，第二正投影位于交叠部分之内。
在一个实施例中，在垂直于第一侧的纵向上，发光结构具有第一高度，光学感应结构具有第二高度，屏蔽结构具有第三高度，第三高度不小于第一高度和第二高度；发光结构具有背离第一侧的第一表面，光学感应结构具有背离第一侧的第二表面，屏蔽结构具有背离第一侧的第三表面，在沿基板至介质层的方向上，第三表面不低于第一表面和第二表面。
在一个实施例中，第一表面、第二表面和第三表面平齐；和/或，在纵向上，第一开口、第二开口和第三开口具有相同的深度。
本申请第二方面提供了一种显示装置，包括上述的显示面板。
本申请第三方面提供了一种显示面板的制备方法，至少包括：提供基板，基板具有第一侧；在第一侧形成介质层；其中，介质层包括间隔设置的第一开口、第二开口和第三开口；以及，在第一开口内形成发光结构，在第二开口内形成光学感应结构，在第三开口内形成屏蔽结构，其中，至少部分所述屏蔽结构位于所述发光结构和所述光学感应结构之间。
在一个实施例中，在第一侧形成介质层的步骤，包括：在第一侧形成像素定义材料层；对像素定义材料层进行图案化处理，得到包括像素限定部以及由像素限定部围合形成的多个像素开口的像素定义层，其中，多个像素开口包括间隔设置的第一开口、第二开口和第三开口；和/或，屏蔽结构的材料与光学感应结构的材料相同，在第一开口内形成发光结构，在第二开口内形成光学感应结构，在第三开口内形成屏蔽结构的步骤，包括：在第一开口内形成发光结构；在第二开口内形成光学感应结构的同时，在第三开口内形成屏蔽结构。
本申请提供的显示面板，多个发光结构、多个光学感应结构和多个屏蔽结构均设于基板的第一侧，各发光结构包括第一电极，各光学感应结构包括第二电极，第一电极和第二电极均靠近基板设置。各屏蔽结构与发光结构和光学感应结构间隔设置，并位于发光结构和光学感应结构之间，屏蔽结构用于吸收发光结构射向屏蔽结构方向的光，从而改善显示面板中发光结构对光学感应结构的光干扰问题，提高了屏内光学指纹对比度，屏蔽结构还能够阻挡发光结构和光学感应结构之间的漏电流。进一步地，发光结构、光学感应结构和屏蔽结构同层设置，可以在制备光学感应结构的同时制备屏蔽结构，不需要额外增加制作工艺，从而能够在提高屏内光学指纹对比度的同时，降低显示面板的制造成本。
附图说明
图1为本申请第一实施例提供的显示面板的结构示意图。
图2为图1所示的显示面板的俯视图。
图3为图1所示的显示面板的另一种俯视图。
图4为图1所示的显示面板的又一种俯视图。
图5为图1所示的显示面板的再一种俯视图。
图6为本申请第二实施例提供的显示面板的结构示意图。
图7为本申请第三实施例提供的显示面板的结构示意图。
图8为本申请一实施例提供的显示装置的结构示意图。
图9为本申请第一实施例提供的显示面板的制备方法的流程示意图。
图10为图9所示的制备方法的工艺流程示意图。
具体实施方式
下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。
需要说明的是，基于本申请中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有相关实施例，都属于本申请保护的范围。
还需要说明的是，本申请实施例中的“第一”、“第二”、“第三”等仅仅是为了彼此之间相互区分，并不用于界定具有固定的顺序，也不用于界定具有固定的数量。
当前指纹识别已经成为显示终端产品的重要组成部分，其在设备解锁、移动支付等应用场景中给用户提供了极大的便利。目前的指纹识别主要有光学指纹识别、超声指纹识别、电容式指纹识别，其中光学指纹识别在功耗、响应速度、成本等方面具有较大优势而被广泛采用。传统的光学指纹识别通常是独立的指纹模组贴合在屏体背面，其对屏体的透过率要求较高，而目前有源矩阵有机发光二极管（Active Matrix Organic LightEmitting Diode，AMOLED）对多种功能的集成导致屏体透过率大幅下降，对屏下指纹识别的响应时间、误识率、拒识率提出了极大的挑战。进一步的，经本案发明人研究发现，在一些实施方式下，是选择将OPD器件集成于显示面板的发光功能层中，以使显示面板具有指纹识别功能，在这种实施方式下，OPD器件与发光功能层中的OLED器件为共面结构，因此，存在OLED器件发射光横向串扰OPD器件的问题。
为了解决上述技术问题和其他问题，本申请提供一种显示面板、显示装置和显示面板的制备方法，多个发光结构、多个光学感应结构和多个屏蔽结构均设于基板的第一侧，各发光结构包括第一电极，各光学感应结构包括第二电极，第一电极和第二电极均靠近基板设置。各屏蔽结构与发光结构和光学感应结构间隔设置，并位于发光结构和光学感应结构之间，屏蔽结构用于吸收发光结构射向屏蔽结构方向的光，从而改善显示面板中发光结构对光学感应结构的光干扰问题，提高了屏内光学指纹对比度，屏蔽结构还能够阻挡发光结构和光学感应结构之间的漏电流。进一步地，发光结构、光学感应结构和屏蔽结构同层设置，可以在制备光学感应结构的同时制备屏蔽结构，不需要额外增加制作工艺，从而能够在提高屏内光学指纹对比度的同时，降低显示面板的制造成本。
图1为本申请第一实施例提供的显示面板的结构示意图。如图1所示，显示面板100包括基板10、多个发光结构20、多个光学感应结构30以及多个屏蔽结构40，基板10具有第一侧12，多个发光结构20设于基板10的第一侧12上，各发光结构20包括第一电极24，第一电极24靠近基板10设置。光学感应结构30设于基板10的第一侧12、且各光学感应结构30与发光结构20间隔设置，各光学感应结构30包括第二电极34，第二电极34靠近过基板10设置。多个屏蔽结构40设于基板10的第一侧12、且各屏蔽结构40与发光结构20和光学感应结构30间隔设置，其中，至少部分屏蔽结构40位于发光结构20和光学感应结构30之间，屏蔽结构40用于吸收发光结构20射向光学感应结构30方向的光，从而改善显示面板100中发光结构20对光学感应结构30的光干扰问题，提高屏内光学指纹对比度，屏蔽结构40还能够阻挡发光结构20和光学感应结构30之间的漏电流。进一步地，发光结构20、光学感应结构30和屏蔽结构40同层设置，可以在制备光学感应结构30的同时制备屏蔽结构40，不需要额外增加制作工艺，从而能够在提高屏内光学指纹对比度的同时，降低显示面板100的制造成本。
在本实施例中，基板10可以为柔性基板。柔性基板可以由诸如聚酰亚胺(PI)、聚碳酸酯(PC)、聚醚砜(PES)、聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)、聚萘二甲酸乙二醇酯(PEN)、多芳基化合物(PAR)或玻璃纤维增强塑料(FRP)等聚合物材料形成。柔性基板可以是透明的、半透明的或不透明的。
进一步的，基板10可以包括衬底层、阻挡层(Barrier)、缓冲层(Buffer)、栅极绝缘层(Gate Insulator，GI)、电容绝缘层(Capacitance Insulator，CI)、栅极、源漏极、层间介质层(Interlayer Dielectric，ILD)、平坦化层(Planarization Layer，PLN)等。
在本实施例中，显示面板100还包括介质层50，介质层50设于基板10的第一侧12，介质层50能够分隔相邻的发光结构20，以避免相邻的发光结构20在显示面板100中互相干扰。
优选的，介质层50可以为透光材质，能够提高介质层50的分辨率。进一步的，本申请通过透光的介质层50和屏蔽结构40阻挡发光结构20对光学感应结构30的光干扰，相比于不透光的介质层而言，能够提高分辨率，还能够避免黑色光刻胶的残留，降低制造成本。
介质层50包括多个开口，多个开口用于容纳发光结构20、光学感应结构30和屏蔽结构40。多个开口包括间隔设置的第一开口541、第二开口543和第三开口545，发光结构20位于第一开口541内，光学感应结构30位于第二开口543内，屏蔽结构40位于第三开口545内。
进一步地，在一些实施例中，第一开口541、第二开口543和第三开口545通过同一精细金属掩膜(Fine Metal Mask，FMM)制作而成，仅需要增加FMM的开口面积，不增加额外的工艺步骤和工艺成本，从而简化了显示面板100的制备步骤和制作成本。
可选的，图2为图1所示的显示面板的俯视图。如图2所示，第三开口545环绕于第二开口543并与第二开口543间隔设置。
可选的，图3为图1所示的显示面板的另一种俯视图。如图3所示，第三开口545环绕于第一开口541并与第一开口541间隔设置。
可选的，第三开口545环绕于第一开口541并与第一开口541间隔设置，且第三开口545环绕于第二开口543并与第二开口543间隔设置。
图4为图1所示的显示面板的又一种俯视图。如图4所示，作为一种方式，第一开口541的周围和第二开口543的周围分别环绕一个第三开口545。
图5为图1所示的显示面板的再一种俯视图。如图5所示，作为一种方式，第一开口541的周围和第二开口543的周围共同环绕一个第三开口545。
可选的，第三开口545还可以设置在第二开口543朝向第一开口541的一侧。
请再次参阅图1，可选的，在一些实施方式中，介质层50为像素定义层，像素定义层包括像素限定部52以及由像素限定部52围合形成的多个像素开口，多个像素开口包括上述的第一开口541、第二开口543和第三开口545。
在本实施例中，发光结构20可以为多个，多个发光结构20设置在基板10上。可选的，多个发光结构可以为单一种类的发光结构，单一种类的发光结构为可出射单一颜色光的发光结构，例如，可出射白色光的发光结构。可选的，多个发光结构也可以为不同种类的发光结构，不同种类的发光结构为可出射不同颜色光的发光结构，诸如可出射蓝色光的发光结构、可出射红色光的发光结构、可出射绿色光的发光结构、可出射黄色光的发光结构和可出射白色光的发光结构中的任意多个。
可选的，在一些实施方式中，发光结构20还包括发光功能层26，第一电极24在基板10上的正投影与发光功能层26在基板10上的正投影有交叠部分，优选的，第一电极24在基板10上的正投影覆盖发光功能层26在基板10上的正投影。第二电极单元64在基板10上的正投影与光学感应结构30在基板10上的正投影有交叠部分。
第二电极单元64在基板10上的正投影覆盖光学感应结构30在基板10上的正投影。
在本实施例中，光学感应结构30可以为多个，多个光学感应结构30和对应的发光结构20间隔设置。光学感应结构30由光学感应材料制成，优选的，光学感应材料可以包括受体材料和给体材料，可选的，受体材料可以是富勒烯及其衍生物，给体材料可以是酞菁类小分子化合物等。
可选的，在一些实施方式中，光学感应结构30还包括活性层36，第二电极34在基板10上的正投影与活性层36在基板10上的正投影有交叠部分。
优选的，第二电极34在基板10上的正投影覆盖活性层36在基板10上的正投影。
可选的，在一些实施方式中，第二电极34和第一电极32被介质层50分隔开，以使第二电极34和第一电极32间隔设置。
可选的，在一些实施方式中，第一电极24为第一阳极，第二电极34为第二阳极。
可选的，在一些实施方式中，光学感应结构30可以为有机光电探测器。
在本实施例中，屏蔽结构40用于吸收发光结构20的横向发射光，即，屏蔽结构40用于吸收发光结构20射向光学感应结构30方向的光，从而改善显示面板100中发光结构20对光学感应结构30的光干扰问题，屏蔽结构40还能够阻挡发光结构20和光学感应结构30之间的漏电流。
进一步地，在一些实施方式中，屏蔽结构40的材料与光学感应结构30的材料相同，即，屏蔽结构40由光学感应材料制成，不但可以利用光学感应材料较好的吸光性，还能够在制备光学感应结构30的同时制备屏蔽结构40，即，在第二开口543内形成光学感应结构30的同时，在第三开口545内形成屏蔽结构40，不需要额外增加制作工艺步骤，从而能够简化显示面板100的制造工艺，降低显示面板100的制造成本。
进一步地，相对于金属遮光层而言，由光学感应材料制作而成的屏蔽结构不会导致显示面板100内部的杂散光增加，从而有更好的吸光效果。
进一步地，屏蔽结构40在垂直于基板10的平面上的正投影覆盖光学感应结构30在垂直于基板10上的正投影，以使屏蔽结构40能够将发光结构20直接射向光学感应结构30的光全部遮挡，从而提高屏蔽结构40的吸光效果。
在一些实施方式中，在垂直于基板10的平面上，发光结构20具有第一正投影，光学感应结构30具有第二正投影，屏蔽结构40具有第三正投影，其中，第一正投影和第三正投影具有交叠部分，第二正投影位于交叠部分之内，从而保证屏蔽结构40能够挡住发光结构20向光学感应结构30发出的光线，以提高屏蔽结构40的吸光效果。
在一些实施方式中，在垂直于第一侧12的纵向X上，发光结构20具有第一高度L1，光学感应结构30具有第二高度L2，屏蔽结构40具有第三高度L3，第三高度L3不小于第一高度L1和第二高度L2；且发光结构20具有背离第一侧12的第一表面22，光学感应结构30具有背离第一侧12的第二表面32，屏蔽结构40具有背离第一侧12的第三表面42，在沿基板10至介质层50的方向上，第三表面42不低于第一表面22和第二表面32，从而保证屏蔽结构40能够挡住发光结构20向光学感应结构30发出的光线，以提高屏蔽结构40的吸光效果。
可选的，在一些实施方式中，第一表面22、第二表面32和第三表面48平齐，需要说明的是，在这些实施方式中，在垂直于第一侧12的纵向X上，发光结构20、光学感应结构30和屏蔽结构40可以具有相同的高度，也可以具有不完全相同的高度，或具有完全不同的高度，并且，在纵向X上，第一开口541、第二开口543和第三开口545可以具有相同的深度，也可以具有不完全相同的深度，或具有完全不同的深度，本申请对此不加以限制，应当理解的是，在这些实施方式中，屏蔽结构40也能够挡住发光结构20向光学感应结构30发出的光线，可以保证屏蔽结构40的吸光效果。
优选的，在一些实施方式中，在纵向X上，第一开口541、第二开口543和第三开口545具有相同的深度，需要说明的是，在这些实施方式中，在垂直于第一侧12的纵向X上，发光结构20、光学感应结构30和屏蔽结构40可以具有相同的高度，也可以具有不完全相同的高度，或具有完全不同的高度，并且，第一表面22、第二表面32和第三表面48可以平齐，也可以不完全平齐，或可以完全不平齐，本申请对此不加以限制，应当理解的是，在这些实施方式中，第三开口545中的屏蔽结构40也能够挡住第一开口541中的发光结构20向第二开口543中的光学感应结构30发出的光线，从而保证屏蔽结构40的吸光效果。
可选的，在一些实施方式中，屏蔽结构40的开口面积小于发光结构20的开口面积和光学感应结构30的开口面积中的至少一个。优选的，屏蔽结构40的开口面积小于发光结构20的开口面积，或屏蔽结构40的开口面积小于光学感应结构30的开口面积。优选的，屏蔽结构40的开口面积小于发光结构20的开口面积和光学感应结构30的开口面积。
可选的，在一些实施方式中，屏蔽结构40的高度大于光学感应结构30的高度，使得屏蔽结构40不但可以阻挡发光结构20直接射向光学感应结构30的光线，还能够阻挡发光结构20通过反射、折射等方式射向光学感应结构30的光线，提高屏蔽结构40的吸光效果。进一步的，可以通过控制屏蔽结构40的开口面积和光学感应结构30的开口面积来控制屏蔽结构40和光学感应结构30的高度。具体地，屏蔽结构40的开口面积小于光学感应结构30的开口面积，当屏蔽结构40和光学感应结构30采用同等量的材料进行沉积时，可以实现屏蔽结构40的高度大于光学感应结构30的高度。
图6为本申请第二实施例提供的显示面板的结构示意图。如图6所示，在本实施例中，显示面板100还包括驱动电路层70，驱动电路层70设于基板10的第一侧12。
可选的，在一些实施方式中，屏蔽结构40与驱动电路层70绝缘，即屏蔽结构40靠近驱动电路层70的一侧不设置电极层60，不会形成光电流，从而不影响光学感应结构30的正常工作。
在本实施例中，驱动电路层70包括像素电路72和感测电路74，像素电路72耦接发光结构20，以保证发光结构20的正常工作；感测电路74耦接光学感应结构30，以保证光学感应结构30的正常工作。
可选的，在一些实施方式中，像素电路72包括第一驱动晶体管，第一驱动晶体管耦接发光结构20。
可选的，在一些实施方式中，感测电路74包括第二驱动晶体管，第二驱动晶体管耦接光学感应结构30。
在本实施例中，驱动电路层70还包括有源层和栅极层，有源层设在基板10的第一侧12，栅极层位于有源层背离基板10的一侧，像素电路72的栅极Gate1和感测电路74的栅极Gate2位于栅极层中、且与有源层绝缘。具体而言，有源层包括并列设置的第一有源区ACT1和第二有源区ACT2，像素电路72的栅极Gate1位于第一有源区ACT1背离基板10的一侧，感测电路74的栅极Gate2位于第二有源区ACT2背离基板10的一侧。
在本实施例中，显示面板100还包括源漏极层，源漏极层设于栅极层背离有源层的一侧，源漏极层能够转换电流的极性，控制电流的流动方向。像素电路72的源极S1、像素电路72的漏极D1、感测电路74的源极S2和感测电路74的漏极D2位于源漏极层中、且分别耦接有源层中对应的掺杂区。具体而言，像素电路72的源极S1、像素电路72的漏极D1耦接第一有源区ACT1中对应的掺杂区，感测电路74的源极S2和感测电路74的漏极D2耦接第二有源区ACT2中对应的掺杂区。进一步的，像素电路72的漏极D1耦接第一电极24，感测电路74的漏极D2耦接第二电极34。
在本实施例中，显示面板100还包括电极层80，电极层80设置在发光结构20和光学感应结构30远离基板10的一侧。优选的，电极层80为阴极层。进一步的，位于屏蔽结构40上的电极层80还能够对发光结构20的出射光进行反射，最大限度地减少出射光的横向串扰。
进一步的，在一些实施例中，基板10与介质层50之间可以包括交替设置的绝缘层和金属层，本申请对基板10与介质层50之间的具体层间结构不做限定。可选的，显示面板100可以包括依次叠置的栅极绝缘层90、金属绝缘层110、间介质层120以及钝化层130。
可选的，显示面板100还可以包括电容层，电容层位于栅极绝缘层90和介质50之间。可选的，电容层可以包括第一电容极板C1和第二电容极板C2，第一电容极板C1与栅极层同层设置，第二电容极板C2位于第一电容极板C1和介质层50之间。
图7为本申请第三实施例提供的显示面板的结构示意图。如图7所示，在本实施例中，显示面板100还可以包括依次叠置在显示面板100上的第一无机层140、有机层150、第二无机层160、第一氮化硅170、透明的有机材料层180以及第二氮化硅层190，上述层级结构能够对发光结构20的出射光进行反射，最大限度地减少出射光的横向串扰。
可选的，显示面板100还可以包括触控金属层195，触控金属层195位于第一氮化硅层170和透明的有机材料层180之间，触控金属层195能够感应用户的触控操作，并将感应的触控操作转换为电信号传输给显示面板100的驱动电路。
根据本申请任一实施例提供的显示面板200与本申请实施例所提供的显示面板100属于同一发明构思，具有相应的膜层结构和有益效果。未在显示面板200的实施例中详尽描述的细节，可参见显示面板100的实施例部分，此处不再赘述。
图8为本申请一实施例提供的显示装置的结构示意图。如图8所示，显示装置200包括上述实施例提供的显示面板100。显示装置200为具有图像显示功能的产品。例如，显示装置200可以用于显示静态图像，例如图片或照片。显示装置200也可以用于显示动态图像，例如视频。
显示装置200可以是笔记本电脑、移动电话、手持式或便携式计算机、相机、摄像机、车载智能中控屏、计算器、智能手表、GPS导航器、电子相片、电子广告牌或指示牌、投影仪等。
此外，显示装置200还可以兼具拍照、录像、指纹识别、人脸识别等功能。相应地，显示装置200还包括用于实现上述功能的至少一个功能模块，例如屏下摄像头、屏下指纹识别传感器等。
根据本申请任一实施例提供的显示装置200与本申请实施例所提供的显示面板100属于同一发明构思，具有相应的膜层结构和有益效果。未在显示装置200的实施例中详尽描述的细节，可参见显示面板100的实施例部分，此处不再赘述。
本申请实施例还提供了一种显示面板的制备方法，图9为本申请第一实施例提供的显示面板的制备方法的流程图，图10为图9所示的制备方法的工艺流程示意图。如图9和图10所示，显示面板的制备方法900包括：
步骤S910：提供基板10。
其中，基板10具有第一侧12。
在本实施例中，基板10可以为柔性基板。柔性基板可以由诸如聚酰亚胺(PI)、聚碳酸酯(PC)、聚醚砜(PES)、聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)、聚萘二甲酸乙二醇酯(PEN)、多芳基化合物(PAR)或玻璃纤维增强塑料(FRP)等聚合物材料形成。柔性基板可以是透明的、半透明的或不透明的。
进一步的，基板10可以包括衬底层、阻挡层(Barrier)、缓冲层(Buffer)、栅极绝缘层(Gate Insulator，GI)、电容绝缘层(Capacitance Insulator，CI)、栅极、源漏极、层间介质层(Interlayer Dielectric，ILD)、平坦化层(Planarization Layer，PLN)等。
步骤S920：在第一侧12形成介质层50。
其中，介质层50包括间隔设置的第一开口541、第二开口543和第三开口545。
可选的，在一些实施方式中，步骤S820包括：
步骤S921：在第一侧12形成像素定义材料层。
步骤S923：对像素定义材料层进行图案化处理，得到像素限定部52以及由像素限定部52围合形成的多个像素开口的像素定义层。
可选的，在一些实施方式中，像素定义层作为介质层50。
其中，多个像素开口包括第一开口541、第二开口543和第三开口545。
进一步地，在一些实施例中，第一开口541、第二开口543和第三开口545通过同一精细金属掩膜(Fine Metal Mask，820FMM)制作而成，仅需要增加FMM的开口面积，不增加额外的工艺步骤和工艺成本，从而简化了显示面板100的制备步骤和制作成本。
步骤S930，在第一开口541内形成发光结构20，在第二开口543内形成光学感应结构30，在第三开口545内形成屏蔽结构40。
其中，至少部分屏蔽结构40位于发光结构20和光学感应结构30之间。
需要说明的是，在一些实施方式中，屏蔽结构40的材料和光学感应结构30的材料相同。
因此，步骤S930具体可以包括：在第一开口541内形成发光结构；在第二开口543内形成光学感应结构30的同时，在第三开口545内形成屏蔽结构40。
需要说明的是，这样的设计方式，一方面，可以保证屏蔽结构40的吸光效果，另一方面，也可以降低工艺步骤和工艺成本。
以上结合具体实施例描述了本申请的基本原理，但是，需要指出的是，在本申请中提及的优点、优势、效果等仅是示例而非限制，不能认为这些优点、优势、效果等是本申请的各个实施例必须具备的。另外，上述公开的具体细节仅是为了示例的作用和便于理解的作用，而非限制，上述细节并不限制本申请为必须采用上述具体的细节来实现。
本申请中涉及的器件、装置、设备、系统的方框图仅作为例示性的例子并且不意图要求或暗示必须按照方框图示出的方式进行连接、布置、配置。如本领域技术人员将认识到的，可以按任意方式连接、布置、配置这些器件、装置、设备、系统。诸如“包括”、“包含”、“具有”等等的词语是开放性词汇，指“包括但不限于”，且可与其互换使用。这里所使用的词汇“或”和“和”指词汇“和/或”，且可与其互换使用，除非上下文明确指示不是如此。这里所使用的词汇“诸如”指词组“诸如但不限于”，且可与其互换使用。
还需要指出的是，在本申请的装置、设备和方法中，各部件或各步骤是可以分解和/或重新组合的。这些分解和/或重新组合应视为本申请的等效方案。
提供所公开的方面的以上描述以使本领域的任何技术人员能够做出或者使用本申请。对这些方面的各种修改对于本领域技术人员而言是非常显而易见的，并且在此定义的一般原理可以应用于其他方面而不脱离本申请的范围。因此，本申请不意图被限制到在此示出的方面，而是按照与在此公开的原理和新颖的特征一致的最宽范围。
为了例示和描述的目的已经给出了以上描述。此外，此描述不意图将本申请的实施例限制到在此公开的形式。尽管以上已经讨论了多个示例方面和实施例，但是本领域技术人员将认识到其某些变型、修改、改变、添加和子组合。

Claims (14)

1.一种显示面板，其特征在于，所述显示面板至少包括：
基板，具有第一侧；
多个发光结构，设于所述第一侧，各所述发光结构包括第一电极，所述第一电极靠近所述基板设置；
多个光学感应结构，设于所述第一侧、且各所述光学感应结构与所述发光结构间隔设置，各所述光学感应结构包括第二电极，所述第二电极靠近所述基板设置；以及
多个屏蔽结构，设于所述第一侧、且各所述屏蔽结构与所述发光结构和所述光学感应结构间隔设置，其中，至少部分所述屏蔽结构位于所述发光结构和所述光学感应结构之间；所述屏蔽结构的材料与所述光学感应结构的材料相同。
2.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述显示面板还包括：
介质层，所述介质层设于所述第一侧，所述介质层包括多个开口；
其中，所述多个开口包括间隔设置的第一开口、第二开口和第三开口，所述发光结构位于所述第一开口内，所述光学感应结构位于所述第二开口内，所述屏蔽结构位于所述第三开口内。
3.根据权利要求2所述的显示面板，其特征在于，
所述第三开口环绕于所述第一开口、并与所述第一开口间隔设置；和/或，
所述第三开口环绕于所述第二开口、并与所述第二开口间隔设置；和/或，
所述介质层为像素定义层，所述像素定义层包括像素限定部和由所述像素限定部围合形成的多个像素开口，所述多个像素开口包括所述第一开口、所述第二开口和所述第三开口。
4.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述屏蔽结构的高度大于所述光学感应结构的高度。
5.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述显示面板还包括驱动电路层，其中，
所述驱动电路层设于所述第一侧，所述驱动电路层与所述屏蔽结构绝缘、且包括像素电路和感测电路；
其中，所述像素电路耦接所述发光结构，所述感测电路耦接所述光学感应结构。
6.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述发光结构还包括发光功能层，所述光学感应结构还包括活性层，其中，
所述第一电极在所述基板上的正投影与所述发光功能层在所述基板上的正投影具有交叠部分，所述第二电极在所述基板上的正投影与所述活性层在所述基板上的正投影具有交叠部分；和/或，
所述发光功能层在所述基板上的正投影覆盖所述第一电极在所述基板上的正投影，所述活性层在所述基板上的正投影覆盖所述第二电极在所述基板上的正投影。
7.根据权利要求5所述的显示面板，其特征在于，所述驱动电路层包括有源层、栅极层和源漏极层，所述像素电路包括第一驱动晶体管，所述感测电路包括第二驱动晶体管，其中，
所述有源层设于所述第一侧；
所述栅极层设于所述有源层背离所述基板的一侧，所述第一驱动晶体管的栅极和所述第二驱动晶体管的栅极位于所述栅极层中、且与所述有源层绝缘；
所述源漏极层设于所述栅极层背离所述有源层的一侧，所述第一驱动晶体管的源极、所述第一驱动晶体管的漏极、所述第二驱动晶体管的源极和所述第二驱动晶体管的漏极位于所述源漏极层中、且分别耦接所述有源层中对应的掺杂区；
所述第一驱动晶体管耦接所述发光结构，所述第二驱动晶体管耦接所述光学感应结构。
8.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，在垂直于所述基板的平面上，所述发光结构具有第一正投影，所述光学感应结构具有第二正投影，所述屏蔽结构具有第三正投影，其中，
所述第一正投影和所述第三正投影具有交叠部分，所述第二正投影位于所述交叠部分之内。
9.根据权利要求2所述的显示面板，其特征在于，
在垂直于所述第一侧的纵向上，所述发光结构具有第一高度，所述光学感应结构具有第二高度，所述屏蔽结构具有第三高度，所述第三高度不小于所述第一高度和所述第二高度；
所述发光结构具有背离所述第一侧的第一表面，所述光学感应结构具有背离所述第一侧的第二表面，所述屏蔽结构具有背离所述第一侧的第三表面，在沿所述基板至所述介质层的方向上，所述第三表面不低于所述第一表面和所述第二表面。
10.根据权利要求9所述的显示面板，其特征在于，
所述第一表面、所述第二表面和所述第三表面平齐；和/或，
在所述纵向上，所述第一开口、所述第二开口和所述第三开口具有相同的深度。
11.根据权利要求2所述的显示面板，其特征在于，
所述第三开口的面积小于所述第一开口的面积；和/或，
所述第三开口的面积小于所述第二开口的面积。
12.一种显示装置，其特征在于，包括如权利要求1-10中任一项所述的显示面板。
13.一种显示面板的制备方法，其特征在于，所述制备方法至少包括：
提供基板，所述基板具有第一侧；
在所述第一侧形成介质层，其中，所述介质层包括间隔设置的第一开口、第二开口和第三开口；
在所述第一开口内形成发光结构，在所述第二开口内形成光学感应结构，在所述第三开口内形成屏蔽结构，其中，至少部分所述屏蔽结构位于所述发光结构和所述光学感应结构之间；所述屏蔽结构的材料与所述光学感应结构的材料相同。
14.根据权利要求13所述的制备方法，其特征在于，
所述在所述第一侧形成介质层的步骤，包括：在所述第一侧形成像素定义材料层；对所述像素定义材料层进行图案化处理，得到包括像素限定部以及由所述像素限定部围合形成的多个像素开口的像素定义层，所述像素定义层作为所述介质层；其中，所述多个像素开口包括所述第一开口、所述第二开口和所述第三开口；和/或，
所述屏蔽结构的材料与所述光学感应结构的材料相同，所述在所述第一开口内形成发光结构，在所述第二开口内形成光学感应结构，在所述第三开口内形成屏蔽结构的步骤，包括：在所述第一开口内形成发光结构；在所述第二开口内形成光学感应结构的同时，在所述第三开口内形成屏蔽结构。
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