CN117157694A - 显示装置及其制造方法 - Google Patents

Abstract

显示装置可以包括显示面板和支撑件。显示面板可以包括基底层，基底层包括停止图案和耦接到多个停止图案的支撑层。支撑件支撑多个停止图案和支撑层。支撑件包括多个支撑块，支撑块中的每一个在第一方向上延伸并且在第二方向上排列。多个支撑块包括在第二方向上间隔开的第一支撑块和第二支撑块。第一支撑块包括在平面图中与多个停止图案当中的第一停止图案重叠的第二部分，并且第二支撑块包括在平面图中与第一停止图案重叠的第一部分。

Description

显示装置及其制造方法

技术领域

本公开在此涉及显示装置和用于制造该显示装置的方法，并且更具体地，涉及柔性显示装置和用于制造该柔性显示装置的方法。

背景技术

已经开发诸如智能电话、平板PC、膝上型计算机、车辆导航单元和智能电视的电子设备。这样的电子设备配备有用于提供信息的显示装置。

已经开发各种类型的显示装置以满足用户的UX/UI。在显示装置当中，已经积极地开发柔性显示装置。

发明内容

技术问题

本公开提供具有减少的缺陷率的柔性显示装置。

本公开还提供用于制造柔性显示装置的方法。

技术方案

本发明构思的实施例提供一种包括显示面板和支撑件的显示装置。显示面板包括基底层。基底层包括多个停止图案和耦接到多个停止图案的支撑层。多个停止图案中的每一个沿着第一方向延伸，并且多个停止图案沿着与第一方向交叉的第二方向排列。支撑件支撑基底层的由多个停止图案和支撑层限定的底表面。支撑件包括多个支撑块，支撑块中的每一个沿着第一方向延伸并且沿着第二方向排列。多个支撑块包括在第二方向上彼此间隔开的第一支撑块和第二支撑块，并且多个停止图案包括在第二方向上彼此间隔开的第一停止图案和第二停止图案。第一支撑块包括当在平面图中观看时与第一停止图案重叠的第二部分，并且第二支撑块包括当在平面图中观看时与第一停止图案重叠的第一部分。

槽可以限定在多个停止图案中的每一个中，并且槽可以沿着第一方向延伸。

槽在第一方向上的长度可以与基底层在第一方向上的长度基本相同。

第二支撑块的顶表面的一部分可以与第一停止图案和支撑层接触。

第一槽可以限定在第一停止图案中，并且第二槽可以限定在第二停止图案中。第二支撑块的顶表面的一部分可以与第一停止图案和支撑层接触，并且第二支撑块的顶表面的另一部分可以与第一槽重叠。

第一槽的宽度可以比第一支撑块与第二支撑块之间的最小间隙大。

显示面板可以在第一模式中提供平坦的显示表面，并且显示面板可以在第二模式中缠绕在辊上。在第二模式中在第二支撑块和基底层的与第一槽相对应的底表面之间的距离可以比在第一模式中在第二支撑块和基底层的与第一槽相对应的底表面之间的距离大。

第二支撑块可以进一步包括与第二停止图案重叠的第二部分和布置在第二支撑块的第一部分与第二支撑块的第二部分之间的第三部分。

第一支撑块与第二支撑块之间的间隙在第一支撑块的顶表面和第二支撑块的顶表面的延长线上可以是最小的，并且第一支撑块与第二支撑块之间的间隙在第一支撑块的底表面和第二支撑块的底表面的延长线上可以是最大的。

支撑层可以包括合成树脂，并且多个停止图案中的每一个可以包括金属。

多个支撑块中的每一个可以包括玻璃。

显示面板可以包括在第二方向上彼此面对的一端和另一端，并且多个支撑块可以进一步包括第一外部支撑块和第二外部支撑块，第一支撑块和第二支撑块位于第一外部支撑块与第二外部支撑块之间。第一外部支撑块可以支撑显示面板的一端，并且第二外部支撑块可以支撑显示面板的另一端。

显示面板可以进一步包括：像素层，布置在基底层的顶表面上；以及封装层，布置在像素层上。

显示面板可以包括在第二方向上排列的第一平面区域、折叠区域和第二平面区域，多个支撑块可以与折叠区域重叠，并且支撑件可以进一步包括与第一平面区域重叠的第一支撑板和与第二平面区域重叠的第二支撑板。

槽可以限定在多个停止图案中的每一个中，并且在多个停止图案当中，在第二方向上布置在最外侧的停止图案可以与折叠区域和第一平面区域重叠。

第一支撑块的第二部分的侧表面可以是曲面，并且第二支撑块的第一部分的侧表面可以是曲面。

第一支撑块的第二部分的侧表面可以关于以第二方向为法线的参考平面与第二支撑块的第一部分的侧表面对称。

在本发明构思的实施例中，显示装置包括：显示面板，包括基底层，基底层包括限定在基底层的底表面中的第一槽和第二槽；以及支撑件，包括与第一槽重叠的第一支撑块、与第一槽和第二槽重叠的第二支撑块以及与第二槽重叠的第三支撑块。支撑件支撑基底层的底表面。第一支撑块的支撑表面的第二区域通过第一槽与基底层间隔开，第二支撑块的支撑表面的第一区域通过第一槽与基底层间隔开，并且第二支撑块的支撑表面的第二区域通过第二槽与基底层间隔开，并且第三支撑块的支撑表面的第一区域通过第二槽与基底层间隔开。

在本发明构思的实施例中，显示装置包括：显示面板，包括基底层，其中，基底层包括多个停止图案和耦接到多个停止图案的支撑层，多个停止图案中的每一个沿着第一方向延伸，并且多个停止图案沿着与第一方向交叉的第二方向排列；以及玻璃支撑件，支撑基底层的由多个停止图案和支撑层限定的底表面，玻璃支撑件具有多个槽，多个槽限定在玻璃支撑件的底表面中并且分别对应于多个停止图案。

在本发明构思的实施例中，一种用于制造显示装置的方法包括：在支撑基板的一个表面上形成多个停止图案，其中，多个停止图案中的每一个沿着第一方向延伸，并且多个停止图案沿着与第一方向交叉的第二方向排列；在支撑基板的一个表面上形成支撑层，其中，支撑层覆盖多个停止图案；在支撑层上形成像素层和封装层；以及对支撑基板的蚀刻区域进行蚀刻，其中，蚀刻区域分别对应于多个停止图案。

在形成多个停止图案之前，该方法可以进一步包括：在支撑基板的另一表面上形成多个激光照射区域，其中，多个激光照射区域分别对应于支撑基板的蚀刻区域；以及在支撑基板的一个表面与多个停止图案之间形成多个牺牲图案。

多个激光照射区域中的每一个可以从支撑基板的另一表面延伸到支撑基板的一个表面。

在多个停止图案的形成中，多个停止图案中的每一个可以包围多个牺牲图案当中的对应的牺牲图案。

多个停止图案可以包括金属，并且牺牲图案可以包括氧化硅、氮化硅或氮氧化硅。

支撑基板可以包括玻璃基板，并且可以通过使用蚀刻溶液对支撑基板的蚀刻区域执行蚀刻，并且蚀刻溶液可以包括氟化氢。

在对支撑基板的蚀刻区域进行蚀刻之前，该方法可以进一步包括在封装层上形成保护层。

该方法可以进一步包括在支撑基板的另一表面上形成掩模。掩模可以具有分别与支撑基板的蚀刻区域相对应的开口。

掩模可以包括光刻胶层或合成树脂层。

发明的效果

如上所述，当显示装置被卷曲或折叠时，局部应力不施加到显示面板的特定区域。应力可以分布在整个显示面板上。因此，减少了显示面板的缺陷。

支撑基板的图案化和牺牲图案的去除在同一制造工艺期间执行。简化了制造工艺，缩短了制造时间。

在显示装置的制造中使用的支撑基板可以用作显示装置的支撑块。

附图说明

图1a和图1b是根据本发明构思的实施例的电子设备的截面图。

图2是根据本发明构思的实施例的显示装置的截面图。

图3是根据本发明构思的实施例的显示模块的截面图。

图4a是根据本发明构思的实施例的基底层的平面图。

图4b是根据本发明构思的实施例的基底层的截面图。

图5a是根据本发明构思的实施例的支撑件的平面图。

图5b是根据本发明构思的实施例的支撑件的截面图。

图6是根据本发明构思的实施例的显示装置中彼此耦接的基底层和支撑件的截面图。

图7a是图示出根据本发明构思的实施例的根据显示装置的操作模式的支撑件相对于基底层的变形的截面图。

图7b是图示出根据比较示例的根据显示装置的操作模式的支撑件相对于基底层的变形的截面图。

图8a至图8g是图示出根据本发明构思的实施例的显示装置的制造方法的截面图。

图9是根据本发明构思的实施例的耦接到显示装置的基底层的支撑件的截面图。

图10a和图10b是根据本发明构思的实施例的显示装置的透视图。

图11a是根据本发明构思的实施例的基底层的平面图。

图11b是根据本发明构思的实施例的支撑件的平面图。

图11c是图示出在根据本发明构思的实施例的显示装置被折叠的状态中支撑件相对于基底层的变形的截面图。

图12是根据本发明构思的实施例的显示装置中彼此耦接的基底层和支撑件的截面图。

图13a至图13j是图示出根据本发明构思的实施例的显示装置的制造方法的截面图。

图14是根据本发明构思的实施例的耦接到显示装置的基底层的支撑件的截面图。

图15是图示出根据本发明构思的实施例的显示装置的制造方法的一个工艺的平面图。

具体实施方式

在本说明书中，当元件(或区、层或部分等)被称为“在”另一元件“上”、“连接到”或“耦接到”另一元件时，其可以直接布置在另一元件上、直接连接到或直接耦接到另一元件，或者居间的第三元件也可以布置在其间。

在全文中，相同的附图标记指代相同的元件。此外，在附图中，为了有效地描述技术内容，元件的厚度、比例和尺寸被夸大。“和/或”包括可以由关联元件限定的一个或多个组合。

尽管可以使用术语第一、第二等来描述各种元件，但这些元件不应受到这些术语的限制。这些术语仅用于将一个元件与另一元件区分开。例如，第一元件可以被称为第二元件，并且类似地，第二元件也可以被称为第一元件而不脱离本公开的范围。单数形式也包括复数形式，除非上下文另有明确指示。

此外，可以使用“下方”、“在下侧”、“上方”或“在上侧”等术语来描述附图中所示的元件的关系。这些术语具有相对的概念并且是基于附图中指示的方向来描述的。

将理解的是，当术语“包括”或“包含”在本说明书中使用时，指定所陈述的特征、整体、步骤、操作、元件、部件或其组合的存在，但不排除一个或多个其他特征、整体、步骤、操作、元件、部件或其组合的存在或添加。

除非另有限定，否则在此使用的所有术语(包括技术术语和科学术语)具有与本公开所属领域的普通技术人员通常理解的含义相同的含义。此外，诸如在常用词典中限定的术语的术语应当被解释为具有与其在相关技术的背景中的含义一致的含义，并且不应当以理想化的或过于正式的意义来解释，除非在此明确地如此限定。

在下文中，将参照附图描述本发明构思的实施例。

图1a和图1b是根据本发明构思的实施例的电子设备ED的截面图。

图1a和图1b图示出作为电子设备ED的一个示例的可卷曲电视。图1a和图1b图示出使用大显示装置的可卷曲电视，但本发明构思的实施例不限于此。本发明构思的实施例还可以应用于使用小显示装置的诸如移动电话的小电子设备。

参照图1a和图1b，根据本发明构思的实施例的电子设备ED可以包括显示装置DD、机械结构SUP、辊ROL和外壳HS。电子设备ED可以根据其目的进一步包括附加部件。

图1a图示出在第一模式中的电子设备ED，并且图1b图示出在第二模式中的电子设备ED。在第一模式中，显示装置DD可以在展开状态中。在第二模式中，显示装置DD可以在卷曲状态中。

当显示装置DD在第一模式中完全展开时，显示装置DD的从外壳HS暴露的至少一部分可以提供平面的显示表面DD-IS。第一模式中的显示表面DD-IS平行于由第一方向轴DR1和第二方向轴DR2限定的平面。显示表面DD-IS的法线方向(即，显示装置DD的厚度方向)被指示为第三方向轴DR3。构件中的每一个中的前表面(或顶表面)和后表面(或底表面)由第三方向轴DR3区分。在下文中，第一方向至第三方向分别与第一方向轴至第三方向轴DR1、DR2和DR3指示的方向引用相同的附图标记。

当显示装置DD在第二模式中完全卷曲时，显示装置DD的大部分卷曲在辊ROL上。辊ROL具有在第一方向DR1上延伸的形状并且用作卷曲轴。用于驱动辊ROL的电动机可以进一步提供在外壳HS内部。

尽管未单独图示出，但根据本发明构思的实施例，显示装置DD的全部可以在第一模式中展开，并且显示装置DD的大约一半可以在第二模式中展开。根据实施例，显示装置DD可以确保能够将图像提供给用户的区域而与第一模式和第二模式无关。显示装置可用于诸如移动电话的便携式电子设备。

显示装置DD通过外壳HS的开口HS-OP进出。机械结构SUP布置在显示装置DD的后表面或侧表面上，并且引导在第一模式与第二模式之间变形的显示装置DD。机械结构SUP可以包括长度逐渐增加或减小的支撑架的组件或多关节结构。

根据本发明构思的实施例，当显示装置DD如在第二模式中那样缠绕时，应力可能发生在显示装置DD处。应力的控制是用于防止或减少在显示装置DD处发生的缺陷的关键因素。即使在显示装置DD处发生应力，稍后将描述的基底层和支撑件也可以将应力分布在整个显示装置DD上。在下文中，将详细描述基底层和支撑件。

图2是根据本发明构思的实施例的显示装置DD的截面图。图3是根据本发明构思的实施例的显示模块DM的截面图。

如图2中所示，根据本发明构思的实施例的显示装置DD包括显示模块DM和支撑件SPL。支撑件SPL布置在显示模块DM下方。当显示装置DD如图1a中所示展开时，支撑件SPL可以将显示模块DM维持在展开状态中。

支撑件SPL可以直接耦接到显示模块DM的底表面。支撑件SPL可以具有比稍后将描述的显示面板DP的弹性模量大的弹性模量。

如图3中所示，显示模块DM可以包括显示面板DP和窗口WIN。尽管未单独图示出，但在本发明构思的实施例中，显示模块DM可以进一步包括抗反射单元和输入传感器中的至少一个。抗反射单元可以包括偏振器或滤色器。

窗口WIN保护显示面板DP并且提供物理的最外表面。窗口WIN可以包括玻璃或塑料膜。在图3中，通过粘合构件耦接到显示面板DP的窗口WIN作为示例被图示出。粘合层OCA可以包括一般的粘合剂或结合剂，但没有具体限制。

显示面板DP生成图像。根据本发明构思的实施例的显示面板DP可以是发光显示面板，但不特别限于此。例如，显示面板DP可以是有机发光显示面板或无机发光显示面板。有机发光显示面板的发光层可以包括有机发光材料。无机发光显示面板的发光层可以包括量子点、量子棒或无机LED等。在下文中，显示面板DP被描述为有机发光显示面板。

显示面板DP可以包括基底层SUB、布置在基底层SUB上的像素层PXL和布置在基底层SUB上以覆盖像素层PXL的封装层TFE。像素层PXL可以包括多个像素，并且像素中的每一个可以包括像素驱动电路和发光元件。像素可以朝向封装层TFE发射光。

封装层TFE保护像素。封装层TFE可以包括至少两个无机层和布置在无机层之间的有机层。无机层包括无机材料，并且可以保护像素层PXL免受湿气/氧气的影响。有机层包括有机材料，并且可以保护像素层PXL免受诸如灰尘颗粒的异物的影响。

图4a是根据本发明构思的实施例的基底层SUB的平面图。图4b是根据本发明构思的实施例的基底层SUB的截面图。图5a是根据本发明构思的实施例的支撑件SPL的平面图。图5b是根据本发明构思的实施例的支撑件SPL的截面图。图6是根据本发明构思的实施例的显示装置中彼此耦接的基底层SUB和支撑件SPL的截面图。

图4b图示出与图4a的线I-I'相对应的截面，并且图5b图示出与图5a的线II-II'相对应的截面。图6图示出图4a和图4b的基底层SUB耦接到图5a和图5b的支撑件SPL的截面。

如图4a中所示，多个槽GV可以限定在基底层SUB中。多个槽GV中的每一个可以在第一方向DR1上延伸，并且多个槽GV在第二方向DR2上排列。多个槽GV可以设置在第二方向DR2上同时彼此间隔开。在第一方向DR1上，多个槽GV中的每一个的长度L-G可以与基底层SUB的长度L-S基本相同。

如图4a中所示，在第二方向DR2上，基底层SUB包括与显示面板DP的一端和另一端相对应的一端SUB-E1和另一端SUB-E2。

多个槽GV可以具有基本相同的长度L-G和基本相同的宽度W-L。多个槽GV可以彼此间隔基本相同的间隙W-I。在此，“基本相同”意指忽略稍后将描述的显示装置的制造工艺中的槽GV的形成期间发生的工艺误差。

如图4b中所示，基底层SUB可以包括平坦的顶表面US和限定有槽GV的底表面LS。已经参照图3描述像素层PXL形成在平坦的顶表面US上。形成在底表面LS中的槽GV可以对应于布置有在制造工艺期间去除的牺牲层的空间。这将在随后详细描述。

基底层SUB可以包括多个停止图案EST和支撑层SL。槽GV布置在多个停止图案EST中的每一个中。多个停止图案EST可以在第二方向DR2上彼此间隔特定距离。彼此对应的停止图案EST和槽GV可以在第一方向DR1上具有相同的长度。

支撑层SL覆盖多个停止图案EST并且物理连接多个停止图案EST。支撑层SL可以直接耦接到多个停止图案EST或者通过粘合层耦接到多个停止图案EST。可以描述为多个槽限定在支撑层SL中，并且停止图案EST布置在多个槽中的每一个中。

如图5a中所示，支撑件SPL包括彼此间隔开的多个支撑块SB。多个支撑块SB中的每一个在第一方向DR1上延伸。多个支撑块SB可以在第一方向DR1上具有基本相同的长度L-SB。多个支撑块SB可以在多个支撑块SB的顶表面US-1上具有基本相同的宽度SB-ML。多个支撑块SB可以在顶表面US-1上具有最大宽度SB-ML。

支撑件SPL可以支撑整个显示面板DP(参见图3)。在多个支撑块SB当中的最靠近一侧布置的第一外部支撑块SB-1可以支撑基底层SUB的一端SUB-E1(参见图4a)，并且最靠近另一侧布置的第二外部支撑块SB-2可以支撑基底层SUB的另一端SUB-E2(参见图4a)。

如图5b中所示，多个支撑块SB中的每一个可以包括平坦的顶表面US-1和平坦的底表面LS-1。实质上，多个支撑块SB的顶表面US-1对应于接触基底层SUB的支撑表面。参照图6，支撑块SB1、SB2和SB3的顶表面US-1支撑基底层SUB的底表面LS。

参照图5b，多个支撑块SB当中的相邻支撑块SB之间的空间可以是蚀刻区。换句话说，其中在稍后将描述的显示装置的制造工艺中的槽GV的形成期间支撑件SPL的一部分被去除的区对应于相邻支撑块SB之间的空间。从支撑件SPL的角度来看，支撑块SB之间的空间可以对应于支撑件SPL的穿过支撑件SPL的开口OP。支撑块SB中的每一个可以包括第一侧表面SS-L和第二侧表面SS-R。

相邻支撑块SB的第一侧表面SS-L和第二侧表面SS-R彼此面对并且限定开口OP。相邻支撑块SB的第一侧表面SS-L和第二侧表面SS-R之间的间隙可以从顶表面US-1到底表面LS-1逐渐增加。相邻支撑块SB的顶表面US-1的延长线上的在相邻支撑块SB之间的最小间隙被图示为第一距离D1，并且支撑块SB的底表面LS-1的延长线上的在相邻支撑块SB之间的最大间隙被图示为第二距离D2。相邻支撑块SB的第一侧表面SS-L和第二侧表面SS-R之间的间隙在远离顶表面US-1的方向上逐渐增加。这是因为第一侧表面SS-L和第二侧表面SS-R中的每一个倾斜以相对于顶表面US-1形成锐角并且相对于底表面LS-1形成钝角。相邻支撑块SB的第一侧表面SS-L和第二侧表面SS-R之间的间隙与制造工艺相关，并且这将在稍后详细描述。

图6图示出多个支撑块SB(参见图5a)当中的第一支撑块SB1、第二支撑块SB2和第三支撑块SB3。第一支撑块SB1、第二支撑块SB2和第三支撑块SB3可以直接耦接到基底层SUB的底表面。与图6中所示的第二支撑块SB2一样，多个支撑块SB(参见图5a)中的大部分与位于两侧的两个槽GV-L和GV-R重叠。例外地，仅图5a中所示的第一外部支撑块SB-1和第二外部支撑块SB-2可以与一个槽重叠。在下文中，将主要描述第二支撑块SB2。

图6图示出限定有第一槽GV-L的第一停止图案EST-L以及限定有第二槽GV-R的第二停止图案EST-R。第一停止图案EST-L布置在第二支撑块SB2的左侧，并且第二停止图案EST-R布置在第二支撑块SB2的右侧。

当在平面图中观看时，第二支撑块SB2可以被划分成多个部分。第二支撑块SB2可以包括当在平面图中观看时与第一停止图案EST-L重叠的部分LP、与第二停止图案EST-R重叠的部分RP以及不与第一停止图案EST-L和第二停止图案EST-R重叠的部分CP。

关于第二支撑块SB2，与第一停止图案EST-L重叠的部分LP限定为第一部分，并且与第二停止图案EST-R重叠的部分RP限定为第二部分。不与第一停止图案EST-L和第二停止图案EST-R重叠的部分CP限定为第三部分。第一部分LP可以包括与第一槽GV-L重叠的间隔部分LP1和不与第一槽GV-L重叠的支撑部分LP2，并且第二部分RP可以包括与第二槽GV-R重叠的间隔部分RP1和不与第二槽GV-R重叠的支撑部分RP2。

第一支撑块SB1、第二支撑块SB2和第三支撑块SB3中的每一个包括分别与两个相邻停止图案EST-L和EST-R重叠的两个部分。当两个部分中的一个被称为第一部分时，另一个可以限定为第二部分。换句话说，可以认为第二支撑块SB2的第一部分LP和第一支撑块SB1的第二部分RP在第二方向DR2上与第一停止图案EST-L重叠。

第二支撑块SB2的第一部分LP和第二支撑块SB2的第二部分RP可以包括侧表面SS-L和SS-R的至少一部分。在图6中，第二支撑块SB2的第一部分LP包括倾斜的第一侧表面SS-L的整体，并且第二支撑块SB2的第二部分RP包括倾斜的第二侧表面SS-R的整体。第二支撑块SB2的第一部分LP和第二支撑块SB2的第二部分RP中的每一个可以包括顶表面US-1的从对应的槽GV-L和GV-R暴露的区域。

参照图6，第二支撑块SB2的顶表面US-1的第一区域对应于第二支撑块SB2的第一部分LP的顶表面。第二支撑块SB2的顶表面US-1的第二区域对应于第二支撑块SB2的第二部分RP的顶表面。第二支撑块SB2的顶表面US-1的第一区域中与间隔部分LP1相对应的区域通过第一槽GV-L与基底层SUB间隔开，并且第二支撑块SB2的顶表面US-1的第二区域中与间隔部分RP1相对应的区域通过第二槽GV-R与基底层SUB间隔开。第二支撑块SB2的顶表面US-1与相邻的第一停止图案EST-L和第二停止图案EST-R以及支撑层SL接触。由于支撑层SL的底表面LS直接耦接到第二支撑块SB2的顶表面US-1，因此这些表面可以基本相同。

在第二支撑块SB2的顶表面US-1上沿着第二方向DR2测量的第二支撑块SB2的宽度比第二支撑块SB2和与其相邻的支撑块SB1和SB3中的每一个之间的间隙大。可以确保表面面积，使得第二支撑块SB2充分支撑基底层SUB。

支撑块SB1、SB2和SB3之间的开口OP-L和OP-R可以连续地连接到槽GV-L和GV-R。在支撑块SB1、SB2和SB3中的每一个两侧的在第二方向DR2上的端部通过槽GV-L和GV-R物理地脱离基底层SUB。

在第二支撑块SB2的顶表面US-1上沿着第二方向DR2测量的槽GV-L和GV-R的宽度比相邻支撑块SB1、SB2和SB3之间的与相应槽重叠的间隙大。提供槽GV-L和GV-R的第一停止图案EST-L和第二停止图案EST-R中的每一个的沿着第二方向DR2测量的宽度也比相邻支撑块SB1、SB2和SB3之间的间隙大。

第一停止图案EST-L和第二停止图案EST-R可以防止或减少支撑层SL由于外部压力(例如，当粘合层OCA(参见图3)附接到基底层SUB上时施加的压力)而变形的变形。这是因为第一停止图案EST-L和第二停止图案EST-R中的每一个具有比支撑层SL的模量大的模量。第一停止图案EST-L和第二停止图案EST-R可以防止或减少支撑层SL被从上面施加的压力压入相邻支撑块SB1、SB2和SB3之间的空间中的情况。

图7a是图示出根据本发明构思的实施例的根据显示装置的操作模式的支撑件相对于基底层的变形的截面图。图7b是图示出根据比较示例的根据显示装置的操作模式的支撑件相对于基底层的变形的截面图。

如图7a中所示，当显示装置DD从第一模式M1变形成第二模式M2时，支撑件SPL相对于基底层SUB发生变形。

在第一模式M1中，在基底层SUB和支撑件SPL处不发生应力，但当显示装置DD转换成第二模式M2时，在基底层SUB处发生拉伸应力。

在第二模式M2中基底层SUB的在槽GV内的底表面与支撑块SB的顶表面之间的距离R2变得比在第一模式M1中基底层SUB的在槽GV内的底表面与支撑块SB的顶表面之间的距离R1大。

要集中在支撑层SL的在相邻支撑块SB之间的区域A1上(具体地，在支撑层SL的与支撑块SB的边缘相对应的点上)的应力被分布到与停止图案的宽度(或槽的宽度)相对应的区域A2。由于分布了应力，因此可以减少或防止卷曲时在显示面板DP处发生的缺陷。

根据图7b中所示的比较示例，应力集中在支撑层SL的与支撑块SB的边缘相对应的点上。相应地，可能发生支撑层SL在第二模式M2中急剧弯折的缺陷。

图8a至图8g是图示出根据本发明构思的实施例的显示装置DD的制造方法的截面图。图8a至图8g是在与图6相对应的截面的基础上图示出的。

如图8a中所示，提供了支撑基板SPL-P。支撑基板SPL-P对应于用于形成显示装置的基底基板。支撑基板SPL-P可以是可以被干法蚀刻或湿法蚀刻的基板。在实施例中，支撑基板SPL-P可以是玻璃基板。

如图8b中所示，支撑基板SPL-P的一些区域被激光束照射。可以使用超短脉冲激光。多个激光照射区域LBA可以形成在支撑基板SPL-P中。多个激光照射区域LBA中的每一个在第一方向DR1上延伸，并且多个激光照射区域LBA在第二方向DR2上彼此间隔开并且排列。

激光照射区域LBA可以对应于要被充分蚀刻的区域(在下文中，被称为蚀刻区域)。激光照射区域LBA具有比激光非照射区域相对更高的蚀刻速率，并且因此，在稍后将描述的蚀刻工艺中相对更快地去除更大量的激光照射区域LBA。

图8b图示出支撑基板SPL-P的底表面被激光束照射的示例。当在截面图中观看时，激光照射区域LBA在第二方向DR2上的宽度可以在朝向支撑基板SPL-P的底表面的方向上逐渐增加。

可以利用激光束照射支撑基板SPL-P的顶表面，或者可以利用激光束照射支撑基板SPL-P的顶表面和底表面两者。根据激光束的照射方向，激光照射区域LBA的截面区域可以改变。

如图8c中所示，与激光照射区域LBA重叠的多个牺牲图案SCL形成在支撑基板SPL-P的一个表面上。形成在支撑基板SPL-P的顶表面上的两个牺牲图案SCL作为示例被图示出。

选择与支撑基板SPL-P具有类似蚀刻性质的材料用于牺牲图案SCL。在实施例中，牺牲图案SCL中的每一个可以包括具有与玻璃类似的蚀刻性质的氧化硅、氮化硅或氮氧化硅。

牺牲图案SCL在第一方向DR1上延伸并且布置在支撑基板SPL-P的顶表面上以覆盖激光照射区域LBA。

如图8d中所示，分别与牺牲图案SCL重叠的多个停止图案EST形成在支撑基板SPL-P的顶表面上。可以选择对蚀刻材料有强抵抗力的材料用于停止图案EST。可以选择具有比稍后将描述的支撑层的弹性模量高的弹性模量的材料用于停止图案EST。

在实施例中，停止图案EST可以包括金属。停止图案EST可以包括钼或钨。

多个停止图案EST中的每一个包围牺牲图案SCL当中的对应牺牲图案。多个停止图案EST与支撑基板SPL-P的顶表面接触。具有上述形状的多个停止图案EST可以防止或减少蚀刻溶液在稍后将描述的蚀刻工艺中被输送到停止图案EST的外部。

如图8e中所示，用于覆盖停止图案EST的支撑层SL形成在支撑基板SPL-P的顶表面上。支撑层SL可以包括合成树脂。合成树脂可以通过旋涂或喷墨印刷方法形成。合成树脂层可以提供平坦的顶表面。

随后，如图8f中所示，像素层PXL和封装层TFE形成在支撑层SL上，并且相应地，形成初步显示装置DD-P。像素层PXL的形成工艺可以包括形成金属层的工艺和图案化金属层的工艺，并且可以包括形成半导体层的工艺和图案化半导体层的工艺。封装层TFE的形成工艺可以包括无机材料的沉积工艺和有机材料的沉积工艺。可以通过显示装置的一般形成方法执行形成像素层PXL和封装层TFE的方法，并且因此，将省略其详细描述。尽管未图示出，但用于保护像素层PXL和封装层TFE免受稍后将描述的蚀刻工艺的保护层可以进一步形成在封装层TFE的顶表面上。

随后，蚀刻初步显示装置DD-P。可以执行湿法蚀刻或干法蚀刻。以将初步显示装置DD-P浸入包括氟化氢的蚀刻溶液中的方式执行湿法蚀刻。

通过蚀刻工艺去除支撑基板SPL-P的激光照射区域LBA，并且然后，去除牺牲图案SCL。实质上，可以在比激光照射区域LBA宽的区域上执行蚀刻。然而，该区域比激光照射区域LBA小，并且因此，可以忽略实施例中附加蚀刻的区域。

作为蚀刻的结果，可以制造图8g中所示的显示装置DD。支撑块SB由支撑基板SPL-P形成。支撑块SB之间的空间延伸到槽GV。

图9是根据本发明构思的实施例的耦接到显示装置DD的基底层SUB的支撑件SPL的截面图。在下文中，将省略与参照图1a至图8g描述的部件相同的部件的详细描述。

如图9中所示，基底层SUB可以包括支撑层SL。与图6中所示的基底层SUB不同，可以省略停止图案EST。多个槽GV可以形成在支撑层SL中。由有机材料制成的支撑层SL对氟化氢具有相对强的抵抗力，并且因此，在参照图8f至图8g描述的蚀刻期间可以不被损坏。

在图9中所示的基底层SUB的制造工艺中，可以省略图8d中所示的停止图案EST的形成工艺。在形成牺牲图案SCL之后，用于覆盖牺牲图案SCL的支撑层SL可以立即形成在支撑基板SPL-P的顶表面上。

图10a和图10b是根据本发明构思的实施例的显示装置DD的透视图。图11a是根据本发明构思的实施例的基底层SUB的平面图。图11b是根据本发明构思的实施例的支撑件SPL的平面图。图11c是图示出在根据本发明构思的实施例的显示装置DD被折叠的状态中支撑件SPL相对于基底层SUB的变形的截面图。

图10a和图10b图示出作为柔性显示装置的一个示例的可折叠的显示装置DD。图10a图示出可折叠的显示装置DD展开的状态(第一模式)。图10b图示出可折叠的显示装置DD被折叠的状态(第二模式)。

显示装置DD可以包括关于折叠轴FX折叠的折叠区域FA以及与折叠区域FA相邻的第一平面区域NFA1和第二平面区域NFA2。在实施例中，折叠轴FX可以平行于第一方向轴DR1。折叠区域FA可以是基本形成曲率的区域。折叠区域FA可以在第二模式中提供弯曲的显示表面DD-IS。在实施例中，其中限定了与显示装置DD的长轴平行的折叠轴FX的显示装置DD作为示例被图示出。然而，本发明构思的实施例不受限制，并且折叠轴FX可以平行于显示装置DD的短轴。

如图10a和图10b中所示，显示装置DD可以向内折叠或向内弯折，使得第一平面区域NFA1的显示表面DD-IS面对第二平面区域NFA2的显示表面DD-IS。在本发明构思的实施例中，显示装置DD可以向外折叠或向外弯折，使得显示表面DD-IS暴露于外部。

参照图11a，基底层SUB包括被折叠的折叠区域FA-S以及在第二方向DR2上布置在折叠区域FA-S的一侧和另一侧的第一平面区域NFA1-S和第二平面区域NFA2-S。多个槽GV限定在折叠区域FA-S中。

参照图11b，支撑件SPL包括与图11a的基底层SUB的折叠区域FA-S相对应布置的支撑块SB、与图11a的基底层SUB的第一平面区域NFA1-S相对应布置的第一支撑板SPL-1以及与图11a的基底层SUB的第二平面区域NFA2-S相对应布置的第二支撑板SPL-2。

图11a的槽GV与图11b的支撑块SB之间的设置关系与参照图4a至图6所描述的设置关系相同，并且因此，将省略其详细描述。

参照图11c，在第二模式中，支撑件SPL布置得比基底层SUB更远离折叠轴FX。槽GV当中的布置在最外侧的槽GV-E与折叠区域FA-S和与折叠区域FA-S相邻的平面区域NFA1-S重叠。图11c图示出第一平面区域NFA1-S作为示例。布置在最外侧的槽GV-E与第一支撑板SPL-1的一部分和支撑块SB的与第一支撑板SPL-1相邻的一部分重叠。

在第二模式中，布置在最外侧的槽GV-E内的基底层SUB的底表面与支撑块SB的顶表面之间的距离R2变得比布置在最外侧的槽GV-E内的基底层SUB的底表面与第一支撑板SPL-1的顶表面之间的距离R1大。在第二模式中，另一槽GV内的基底层SUB的底表面与支撑块SB的顶表面之间的距离R3可以至少等于或大于布置在最外侧的槽GV-E内的基底层SUB的底表面与支撑块SB的顶表面之间的距离R2。当发生的应力逐渐增加时，槽GV内的基底层SUB的底表面与支撑块SB的顶表面之间的距离R3可以逐渐增加以分布应力。

在实施例中，包括停止图案EST的基底层SUB作为示例被图示出。然而，如图9中所示，可以省略停止图案EST。

图12是根据本发明构思的实施例的显示装置中彼此耦接的基底层SUB和支撑件SPL的截面图。在下文中，将省略关于参照图1a至图6描述的显示装置的重复描述。

参照图12，基底层SUB可以包括多个停止图案EST-L和EST-R以及支撑层SL。多个停止图案EST-L和EST-R以及支撑层SL可以提供基底层SUB的底表面S-L，并且支撑层SL可以提供基底层SUB的顶表面S-U。基底层SUB的底表面S-L和顶表面S-U可以彼此平行。

图12图示出第一支撑块SB1、第二支撑块SB2和第三支撑块SB3以及位于它们之间的第一开口OP-L和第二开口OP-R。第一开口OP-L和第二开口OP-R在第三方向DR3上从一个表面到另一表面穿过支撑件SPL。第一开口OP-L和第二开口OP-R分别与第一停止图案EST-L和第二停止图案EST-R重叠。

第一开口OP-L布置在第二支撑块SB2的左侧，并且第二开口OP-R布置在第二支撑块SB2的右侧。当在平面图中观看时，第二支撑块SB2可以被划分成多个部分。第二支撑块SB2可以包括当在平面图中观看时与第一停止图案EST-L重叠的第一部分LP、与第二停止图案EST-R重叠的第二部分RP以及不与第一停止图案EST-L和第二停止图案EST-R重叠的第三部分CP。

图12图示出第一侧表面SS-L的整体提供在第一部分LP中并且第二侧表面SS-R的整体提供在第二部分RP中的第二支撑块SB2作为示例。然而，本发明构思的实施例不受限制。第二支撑块SB2的第一部分LP可以仅包括第一侧表面SS-L的一部分，并且第二支撑块SB2的第二部分RP可以仅包括第二侧表面SS-R的一部分。

第一支撑块SB1的第二侧表面SS-R和第二支撑块SB2的第一侧表面SS-L限定第一开口OP-L，并且第二支撑块SB2的第二侧表面SS-R和第三支撑块SB3的第一侧表面SS-L限定第二开口OP-R。

第一侧表面SS-L和第二侧表面SS-R中的每一个可以是曲面。第一侧表面SS-L可以关于以第二方向DR2为法线的参考平面RS与第二侧表面SS-R对称。该形状是通过制造工艺形成的，并且将在稍后详细描述。

图13a至图13j是图示出根据本发明构思的实施例的显示装置的制造方法的截面图。在下文中，将省略关于参照图8a至图8g描述的显示装置的制造方法的重复描述。

如图13a中所示，提供了支撑基板SPL-P。支撑基板SPL-P可以是玻璃基板。

如图13b中所示，多个停止图案EST形成在支撑基板SPL-P的一个表面上。在实施例中，停止图案EST可以包括金属。

如图13c中所示，用于覆盖停止图案EST的支撑层SL形成在支撑基板SPL-P的顶表面上。支撑层SL可以包括合成树脂。

随后，如图13d中所示，像素层PXL和封装层TFE形成在支撑层SL上。图13d图示出在制造工艺的中间形成的初步显示装置DD-P。

接下来，如图13e中所示，保护层PF形成在初步显示装置DD-P的顶表面上。保护层PF可以包括合成树脂膜。例如，保护层PF可以包括具有高耐腐蚀性的聚氨酯膜、聚对苯二甲酸乙二醇酯膜或聚乙烯膜。保护层PF可以通过粘合层附接到封装层TFE。

接下来，如图13f中所示，掩模MSK形成在初步显示装置DD-P的底表面上。掩模MSK形成在支撑基板SPL-P的底表面上。

与停止图案EST相对应的开口M-O可以限定在掩模MSK中。开口M-O在第一方向DR1上的长度可以大于或等于支撑基板SPL-P的长度。

掩模MSK可以包括光刻胶层或合成树脂层。在光刻胶层形成在支撑基板SPL-P的底表面上之后，开口M-O可以通过曝光工艺和显影工艺形成。具有开口M-O的合成树脂膜可以附接到支撑基板SPL-P的底表面。合成树脂膜可以包括与保护层PF的材料相同的材料。

开口M-O中的每一个在第二方向DR2上的宽度可以根据要蚀刻的支撑基板SPL-P的区S-EA(在下文中，被称为蚀刻区域)的表面区域来确定。与在第二方向DR2上的宽度成比例，蚀刻区域S-EA的宽度也增加。

图13g图示出通过执行蚀刻形成的支撑件SPL。可以执行湿法蚀刻或干法蚀刻。以将初步显示装置DD-P浸入包括氟化氢的蚀刻溶液中的方式执行湿法蚀刻。

支撑块SB由支撑基板SPL-P形成。当开口OP形成时，支撑基板SPL-P被划分成支撑块SB。

图13h示出已经执行蚀刻的支撑件SPL的图片。支撑件SPL的通过开口OP暴露的底表面(即停止图案EST的暴露的底表面)的宽度W20可以由掩模MSK的开口M-O在第二方向DR2上的宽度、支撑基板SPL-P的厚度T、蚀刻速率和蚀刻时间来确定。

如图13i中所示，当通过开口M-O蚀刻支撑基板SPL-P(参见图13f)时，可以执行各向同性蚀刻。各向同性蚀刻可以沿着在截面上其中心CC位于掩模MSK的限定开口M-O的顶点上的圆来执行。当执行蚀刻时，圆的半径增加。

当充分执行蚀刻时，形成开口OP，并且支撑基板SPL-P被划分成支撑块SB。

停止图案EST的暴露的底表面的宽度W20由等式1至等式3表示。在等式1中，W10可以是开口M-O在第二方向DR2上的宽度。

[等式1]

W20＝2x D10+W10

[等式2]

D10＝T x tan(arccos(T/R10))

[等式3]

R10＝蚀刻速率(长度/时间)x蚀刻时间

当设置蚀刻工艺时，可以通过调节蚀刻时间来控制停止图案EST的暴露的底表面的宽度W20。

如图13j中所示，在完成蚀刻工艺之后去除保护层PF和掩模MSK。相应地，可以制造显示装置DD。

图14是根据本发明构思的实施例的耦接到显示装置的基底层SUB的支撑件SPL的截面图。

根据实施例，通过蚀刻工艺不形成开口OP(参见图12)，而是形成多个槽GV。当在参照图13i描述的蚀刻工艺中减少蚀刻时间时，可以形成多个槽GV而不是开口。

可以在不划分支撑件SPL的区域的情况下支撑基底层SUB，并且与不形成槽GV的情况相比，支撑件SPL具有相对更多的柔性区域。因此，可以更容易地执行卷曲和折叠。

图15是图示出根据本发明构思的实施例的显示装置的制造方法的一个工艺的平面图。图15对应于图13f并且图示出形成有掩模MSK-W的工作基板WS的后表面。

工作基板WS包括多个单元区域UA。在多个单元区域UA中的每一个中执行参照图13a至图13j描述的显示装置的制造方法。

参照图13g描述的开口M-O被图示出在多个单元区域UA中的每一个中。开口M-O在第一方向DR1上延伸并且在第二方向DR2上设置。

掩模MSK-W的开口M-OB形成在多个单元区域UA之间的边界区域中。当在参照图13g描述的蚀刻工艺中形成开口OP时，蚀刻工作基板WS的多个单元区域UA之间的边界区域。

不需要对工作基板进行附加的切割工艺以分离形成在多个单元区域UA中的显示装置。然而，可以执行用于分离图13j中所示的支撑层SL、像素层PXL和封装层TFE的边界区域的切割工艺。

尽管参照实施例描述了本公开，但应当理解，本领域的普通技术人员或者具有本领域普通知识的人可以对本公开进行各种改变和修改而不脱离本公开所要求保护的精神和技术领域。

因此，本发明构思的技术范围由所附权利要求确定，而不应受前述描述的限制。

工业实用性

根据本发明，通过防止或减少在卷曲或折叠期间在显示面板的特定区域中生成的局部应力，可以防止对显示面板的损坏。可以通过防止对显示面板的损坏来增加显示面板的生产效率。

Claims (28)

1.一种显示装置，包括：

显示面板，包括基底层，其中，所述基底层包括多个停止图案和耦接到所述多个停止图案的支撑层，所述多个停止图案中的每一个沿着第一方向延伸，并且所述多个停止图案沿着与所述第一方向交叉的第二方向排列；以及

支撑件，支撑所述基底层的由所述多个停止图案和所述支撑层限定的底表面，

其中，所述支撑件包括多个支撑块，所述多个支撑块中的每一个沿着所述第一方向延伸并且沿着所述第二方向排列，

所述多个支撑块包括在所述第二方向上彼此间隔开的第一支撑块和第二支撑块，

所述多个停止图案包括在所述第二方向上彼此间隔开的第一停止图案和第二停止图案，并且

所述第一支撑块包括当在平面图中观看时与所述第一停止图案重叠的第二部分，并且所述第二支撑块包括当在平面图中观看时与所述第一停止图案重叠的第一部分。

2.根据权利要求1所述的显示装置，其中，槽限定在所述多个停止图案中的每一个中，并且

所述槽沿着所述第一方向延伸。

3.根据权利要求2所述的显示装置，其中，所述槽在所述第一方向上的长度与所述基底层在所述第一方向上的长度基本相同。

4.根据权利要求1所述的显示装置，其中，所述第二支撑块的顶表面的一部分与所述第一停止图案和所述支撑层接触。

5.根据权利要求1所述的显示装置，其中，第一槽限定在所述第一停止图案中，并且第二槽限定在所述第二停止图案中，

其中，所述第二支撑块的顶表面的一部分与所述第一停止图案和所述支撑层接触，并且所述第二支撑块的所述顶表面的另一部分与所述第一槽重叠。

6.根据权利要求5所述的显示装置，其中，所述第一槽的宽度比所述第一支撑块与所述第二支撑块之间的最小间隙大。

7.根据权利要求5所述的显示装置，其中，所述显示面板在第一模式中提供平坦的显示表面，并且所述显示面板在第二模式中缠绕在辊上，

其中，在所述第二模式中在所述第二支撑块和所述基底层的与所述第一槽相对应的所述底表面之间的距离比在所述第一模式中在所述第二支撑块和所述基底层的与所述第一槽相对应的所述底表面之间的距离大。

8.根据权利要求5所述的显示装置，其中，所述第二支撑块进一步包括与所述第二停止图案重叠的第二部分和布置在所述第二支撑块的所述第一部分与所述第二支撑块的所述第二部分之间的第三部分。

9.根据权利要求1所述的显示装置，其中，所述第一支撑块与所述第二支撑块之间的间隙在所述第一支撑块的顶表面和所述第二支撑块的顶表面的延长线上是最小的，并且

所述第一支撑块与所述第二支撑块之间的所述间隙在所述第一支撑块的底表面和所述第二支撑块的底表面的延长线上是最大的。

10.根据权利要求1所述的显示装置，其中，所述支撑层包括合成树脂，并且所述多个停止图案中的每一个包括金属。

11.根据权利要求1所述的显示装置，其中，所述多个支撑块中的每一个包括玻璃。

12.根据权利要求1所述的显示装置，其中，所述显示面板包括在所述第二方向上彼此面对的一端和另一端，并且

所述多个支撑块进一步包括第一外部支撑块和第二外部支撑块，所述第一支撑块和所述第二支撑块位于所述第一外部支撑块与所述第二外部支撑块之间，

其中，所述第一外部支撑块支撑所述显示面板的所述一端，并且

所述第二外部支撑块支撑所述显示面板的所述另一端。

13.根据权利要求1所述的显示装置，其中，所述显示面板进一步包括：

像素层，布置在所述基底层的顶表面上；以及

封装层，布置在所述像素层上。

14.根据权利要求1所述的显示装置，其中，所述显示面板包括在所述第二方向上排列的第一平面区域、折叠区域和第二平面区域，

所述多个支撑块与所述折叠区域重叠，并且

所述支撑件进一步包括与所述第一平面区域重叠的第一支撑板和与所述第二平面区域重叠的第二支撑板。

15.根据权利要求14所述的显示装置，其中，槽限定在所述多个停止图案中的每一个中，并且

在所述多个停止图案当中，在所述第二方向上布置在最外侧的所述停止图案与所述折叠区域和所述第一平面区域重叠。

16.根据权利要求1所述的显示装置，其中，所述第一支撑块的所述第二部分的侧表面是曲面，并且所述第二支撑块的所述第一部分的侧表面是曲面。

17.根据权利要求1所述的显示装置，其中，所述第一支撑块的所述第二部分的侧表面关于以所述第二方向为法线的参考平面与所述第二支撑块的所述第一部分的侧表面对称。

18.一种显示装置，包括：

显示面板，包括基底层，所述基底层包括限定在所述基底层的底表面中的第一槽和第二槽；以及

支撑件，支撑所述基底层的所述底表面并且包括与所述第一槽重叠的第一支撑块、与所述第一槽和所述第二槽重叠的第二支撑块以及与所述第二槽重叠的第三支撑块，

其中，所述第一支撑块的支撑表面的第二区域通过所述第一槽与所述基底层间隔开，

所述第二支撑块的支撑表面的第一区域通过所述第一槽与所述基底层间隔开，并且所述第二支撑块的所述支撑表面的第二区域通过所述第二槽与所述基底层间隔开，并且

所述第三支撑块的支撑表面的第一区域通过所述第二槽与所述基底层间隔开。

19.一种显示装置，包括：

显示面板，包括基底层，其中，所述基底层包括多个停止图案和耦接到所述多个停止图案的支撑层，所述多个停止图案中的每一个沿着第一方向延伸，并且所述多个停止图案沿着与所述第一方向交叉的第二方向排列；以及

玻璃支撑件，支撑所述基底层的由所述多个停止图案和所述支撑层限定的底表面，所述玻璃支撑件具有多个槽，所述多个槽限定在所述玻璃支撑件的底表面中并且分别对应于所述多个停止图案。

20.一种用于制造显示装置的方法，所述方法包括：

在支撑基板的一个表面上形成多个停止图案，其中，所述多个停止图案中的每一个沿着第一方向延伸，并且所述多个停止图案沿着与所述第一方向交叉的第二方向排列；

在所述支撑基板的所述一个表面上形成支撑层，其中，所述支撑层覆盖所述多个停止图案；

在所述支撑层上形成像素层和封装层；以及

对所述支撑基板的蚀刻区域进行蚀刻，其中，所述蚀刻区域分别对应于所述多个停止图案。

21.根据权利要求20所述的方法，其中，在形成所述多个停止图案之前，所述方法进一步包括：

在所述支撑基板的另一表面上形成多个激光照射区域，其中，所述多个激光照射区域分别对应于所述支撑基板的所述蚀刻区域；以及

在所述支撑基板的所述一个表面与所述多个停止图案之间形成多个牺牲图案。

22.根据权利要求21所述的方法，其中，所述多个激光照射区域中的每一个从所述支撑基板的所述另一表面延伸到所述支撑基板的所述一个表面。

23.根据权利要求21所述的方法，其中，在所述多个停止图案的所述形成中，所述多个停止图案中的每一个包围所述多个牺牲图案当中的对应的牺牲图案。

24.根据权利要求21所述的方法，其中，所述多个停止图案包括金属，并且所述多个牺牲图案包括氧化硅、氮化硅或氮氧化硅。

25.根据权利要求20所述的方法，其中，所述支撑基板包括玻璃基板，并且

通过使用蚀刻溶液对所述支撑基板的所述蚀刻区域执行所述蚀刻，并且所述蚀刻溶液包括氟化氢。

26.根据权利要求20所述的方法，其中，在对所述支撑基板的所述蚀刻区域进行所述蚀刻之前，所述方法进一步包括在所述封装层上形成保护层。

27.根据权利要求20所述的方法，进一步包括在所述支撑基板的另一表面上形成掩模，

其中，所述掩模具有分别与所述支撑基板的所述蚀刻区域相对应的开口。

28.根据权利要求27所述的方法，其中，所述掩模包括光刻胶层或合成树脂层。