CN117125897A - 微晶玻璃、强化玻璃及其制备方法、应用 - Google Patents
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Abstract
本申请涉及一种微晶玻璃、强化玻璃及其制备方法、应用。微晶玻璃包含有结晶度＞20％的尖晶石晶相；按质量百分比计，微晶玻璃的组成包括：35％≤SiO2≤55％、15％≤Al2O3≤35％、0％≤Li2O＜1％、0％≤MgO≤10％、0％≤Na2O≤15％、5％≤ZnO≤15％、0％≤ZrO2≤6％、及0％≤TiO2≤6％；所述微晶玻璃的组成的质量百分比满足以下条件：SiO2+Al2O3≥67％，3％≤ZrO2+TiO2≤8％，MgO+ZnO≤16％，Li2O/(MgO+ZnO)≤0.11。
Description
技术领域
本申请涉及玻璃技术领域，特别是涉及一种微晶玻璃、强化玻璃及其制备方法、应用。
背景技术
随着各行业数字信息化进程不断发展，人们对电子显示设备的轻量化和使用寿命提出了越来越高的要求。电子盖板玻璃作为保护显示设备屏幕与外界环境直接接触的重要材料之一，对其光学及机械性能存在较高的要求。传统的普通高铝玻璃性能已接近材料的极限区间，性能可提升幅度较低，而微晶玻璃由于晶相的存在，具有优异的机械性能，能够满足市场在各类环境、不同情形下对盖板玻璃的使用需求。
目前市场上现有的微晶玻璃主要为锂铝硅酸盐(LAS)体系，但所需的原料碳酸锂价格过高，限制了该体系微晶玻璃的大规模应用。为满足微晶玻璃的而市场需求，也有不少致力于改善微晶玻璃工艺的研究，例如CN202111056618.6提供了一种透明镁铝硅微晶玻璃，但玻璃的熔制温度高＞1650℃、硬度较低＜714HV，且加入了Sb2O3等非环境友好型澄清剂；CN202010009864.5和CN202210737448.6均提供了一种尖晶石透明微晶玻璃，但同样具有熔制温度高的问题，且在透过率、离子交换深度、化强后机械性能方面表现均较差。
发明内容
基于此，本申请提供了一种既能降低熔制温度，又能提高玻璃的透过率的微晶玻璃及其制备方法。
进一步地，本申请一实施例还提供了能够提高离子交换深度以及机械性能的强化玻璃及其制备方法。
更进一步地，本申请一实施例还提供了所述微晶玻璃、所述强化玻璃的应用。
本申请一实施例提供了一种微晶玻璃，包含有结晶度＞20％的尖晶石晶相；
按质量百分比计，微晶玻璃的组成包括：
35％≤SiO2≤55％、
15％≤Al2O3≤35％、
0％≤Li2O＜1％、
0％≤MgO≤10％、
0％≤Na2O≤15％、
5％≤ZnO≤15％、
0％≤ZrO2≤6％、及
0％≤TiO2≤6％；
所述微晶玻璃的组成的质量百分比满足以下条件：
SiO2+Al2O3≥67％，3％≤ZrO2+TiO2≤8％，
MgO+ZnO≤16％，Li2O/(MgO+ZnO)≤0.11。
在其中一个实施例中，所述微晶玻璃还含有氧化锆晶相和/或锂辉石晶相。
在其中一个实施例中，所述微晶玻璃含有所述氧化锆晶相，所述氧化锆晶相的结晶度＜15％。
在其中一个实施例中，所述微晶玻璃含有所述锂辉石晶相，所述锂辉石晶相的结晶度＜0.5％。
在其中一个实施例中，晶粒平均直径为10nm～70nm。
在其中一个实施例中，按质量百分比计，所述微晶玻璃的组成包括：
40％≤SiO2≤55％、
20％≤Al2O3≤35％、
0％≤Li2O＜1％、
1％≤MgO≤8％、
2％≤Na2O≤13％、
5％≤ZnO≤12％、
2％≤ZrO2≤6％、及
0％≤TiO2≤6％。
本申请一实施例提供了一种微晶玻璃的制备方法，包括如下步骤：
按照上述任一实施例中所述微晶玻璃的组成称取玻璃原料；
将所述原料熔制，制备玻璃熔体；
将所述玻璃熔体浇铸成型，制备基体玻璃；
将所述基体玻璃进行微晶化处理，制备所述微晶玻璃。
本申请一实施例还提供了一种强化玻璃的制备方法，包括如下步骤：
对上述任一实施例中所述的微晶玻璃进行化学强化处理。
本申请一实施例还提供了一种强化玻璃，由上述实施例中所述的制备方法制备得到。
本申请一实施例还提供了一种如上述任一实施例中所述的微晶玻璃，或如如上述一实施例中所述的强化玻璃在制备玻璃制品中的应用。
上述微晶玻璃采用特定质量百分比的玻璃组成，以尖晶石作为主晶相，可以通过较低的熔制温度制得，微晶玻璃的平均透过率高、雾度低，经化学强化后，所形成的强化玻璃离子强化深度高、机械性能良好。
附图说明
图1为实施例1微晶玻璃样品晶相SEM扫描电镜形貌图；
图2为实施例4微晶玻璃样品XRD图。
具体实施方式
为了便于理解本申请，下面将结合实施例和附图对本申请进行更全面的描述。但是，本申请可以以许多不同的形式来实现，并不限于本申请所描述的实施例。相反地，提供这些实施例的目的是使对本申请的公开内容的理解更加透彻全面。
除非另有定义，本申请所使用的所有的技术和科学术语与属于本申请的技术领域的技术人员通常理解的含义相同。本文中在本申请的说明书中所使用的术语只是为了描述具体的实施例的目的，不是旨在于限制本申请。本申请所使用的术语“和/或”包括一个或多个相关的所列项目的任意的和所有的组合。
本申请中，以开放式描述的技术特征中，包括所列举特征组成的封闭式技术方案，也包括包含所列举特征的开放式技术方案。
本申请的一些实施例提供了一种微晶玻璃，包含有结晶度＞20％的尖晶石晶相。
尖晶石例如镁铝、锌铝、镁锌尖晶石等是具有通式AB2O4和立方型基本尖晶石结构的晶体氧化物，原型尖晶石结构是铝酸镁(MgAl2O4)。在基本尖晶石结构中，O原子填充面心立方(FCC)阵列位点，具有极高的机械性能，控制尖晶石主晶相的结晶度超过20％可使微晶玻璃和强化玻璃具有较高的机械强度。
按质量百分比计，微晶玻璃的组成包括：
35％≤SiO2≤55％、
15％≤Al2O3≤35％、
0％≤Li2O＜1％、
0％≤MgO≤10％、
0％≤Na2O≤15％、
5％≤ZnO≤15％、
0％≤ZrO2≤6％、及
0％≤TiO2≤6％。
微晶玻璃的组成的质量百分比满足以下条件：
SiO2+Al2O3≥67％，3％≤ZrO2+TiO2≤8％，
MgO+ZnO≤16％，Li2O/(MgO+ZnO)≤0.11。
在本申请的一些实施例中，微晶玻璃的组成中含有质量百分比为35％～55％的SiO2。SiO2是用做于形成玻璃的主要氧化物，且可用于稳定微晶玻璃的网络结构，通过限制SiO2的含量在上述范围内可以实现对玻璃原料熔融温度(200泊温度)的控制，避免熔融温度过高或过低。优选地，微晶玻璃的组成中含有质量百分比40％～55％的SiO2。
在本申请的一些实施例中，微晶玻璃的组成中含有质量百分比为15％～35％的Al2O3。Al2O3也可稳定玻璃网络，且还具有改善玻璃的机械性能和化学耐久性的效果。控制Al2O3的质量百分比在适宜范围内，确保Al2O3的浓度足够高，可以以形成尖晶石晶相，且残余玻璃相中也含有Al2O3可以用于增强Li-Na和Na-K离子交换的能力；与此同时，由于Al2O3的熔化温度较高，可以作为网络中间体，通过调节Al2O3的含量可以实现对玻璃熔体粘度的控制，如果Al2O3的含量过高，会导致熔体粘度增加，使得玻璃熔体的成玻能力降低，因此控制Al2O3的质量百分比在适宜范围内，可以确保玻璃熔体具有适宜的熔体温度，成玻能力较好。优选地，微晶玻璃的组成中含有质量百分比为20％～35％的Al2O3。进一步地，控制质量百分比SiO2+Al2O3≥67％，可以确保微晶玻璃结构足够稳定。在本申请的一些实施例中，微晶玻璃的组成中含有MgO和ZnO。MgO和ZnO是碱土金属氧化物，利用它们可以降低基体玻璃的高温粘度，修饰玻璃结构体，从而提高基体玻璃的强度和化学稳定性，同时MgO也是主晶相尖晶石的重要组成成分之一。进一步地，MgO的质量百分比为0％～10％，若MgO的含量过高，熔体高温粘度将会增大，使熔制难度变大，而且还会使尖晶石晶相的生成过程变得难以控制、晶粒生成尺寸过大，不利于提高玻璃的透过率。优选的，MgO的质量百分比为1％～8％。进一步地，ZnO的质量百分比为5％～12％，由于Zn2+在玻璃熔体中具有高场强积聚作用，添加ZnO会增大基体玻璃的析晶倾向，降低尖晶石晶相的析晶活化能，但ZnO原料价格较为昂贵，且与MgO一样，若添加量过高，会使玻璃的析晶倾向增大，在晶化热处理时难以控制晶相的长大过程，极易导致晶体尺寸过大。此外，ZnO在玻璃相中大量残留，会使玻璃性能下降，也会降低Li-Na、Na-K离子交换能力。因此，控制MgO+ZnO≤16。
镁铝硅体系玻璃的析晶倾向较低，析晶势垒较高，在本申请的一些实施例中，TiO2和ZrO2作为成核剂加入，在玻璃的制备过程中，可提高玻璃熔体的析晶能力、提高液相线温度。进一步地，微晶玻璃的组成中含有质量百分比为0％～6％的ZrO2以及0％～6％的TiO2，通过添加适量的TiO2和/或ZrO2可降低析晶活化能，促进基体玻璃中析出均匀的晶核，并生成目标晶相。但TiO2具有极强的着色能力，会使玻璃带有较深的颜色，不宜添加过多；同时，较高含量的TiO2将使基体玻璃中的晶相生长难以控制，异常长大，生成较多的杂相，使微晶玻璃或强化玻璃的性能难以控制，容易出现开裂、性能大幅度下降的现象。ZrO2在玻璃熔体中的溶解度较低，熔化温度极高，不宜添加过多，同时含量过高的ZrO2将使基体玻璃中的晶相生长难以控制，异常长大，将生成较多的杂相。优选地，微晶玻璃的组成中含有质量百分比为2％～6％的ZrO2以及0％～6％的TiO2。为确保在基体玻璃中同时析出数量众多、分布均匀、纳米尺寸的尖晶石、氧化锆、锂辉石等晶相，使微晶玻璃具有高透过率，进一步地，限定ZrO2和TiO2的质量百分比关系满足3％≤ZrO2+TiO2≤8％。
同时，在本申请的一些实施例中，通过限定Li2O与MgO、ZnO的质量百分比关系满足Li2O/(MgO+ZnO)≤0.11，满足上述关系的条件下，可以有效控制锂辉石晶相的含量，使微晶玻璃具有优异的光学性能，且可以有效平衡玻璃中碱金属离子交换能力，经化学强化后所得的强化玻璃具有良好的应力性能。
Li2O和Na2O的引入均有利于降低玻璃的熔制温度，并且有利于后续的离子交换。其中锂离子因其离子半径小，具有较强的积聚作用，在一定程度上有助于目标晶相的析出，但其含量过高将大量析出锂辉石晶相，抑制尖晶石晶相的析出，使样品透过率降低、性能下降，优选地，微晶玻璃的组成中Li2O的质量百分比为0％～1％。Na2O引入过多会抑制尖晶石目标晶相的析出，不利于晶相控制，容易析出钠长石、钠霞石等杂相，使样品失透、性能降低，优选地，微晶玻璃的组成中Na2O的质量百分比为0％～15％，进一步优选地，Na2O的质量百分比为2％～13％。
在其中一个实施例中，微晶玻璃还含有氧化锆晶相和/或锂辉石晶相。氧化锆晶体具有极高的机械性能(莫氏硬度＞7.5)，是微晶玻璃中理想的增强增韧晶相。锂辉石LiAlSi2O6属于单斜晶系，晶体常呈柱状、粒状或板状，对称性2/m，晶体结构类似透辉石，是主要含锂矿物之一，又称2型锂辉石，微晶玻璃中含有锂辉石晶相，可在盐浴中进行化学强化，其中Na+和/或K+将会取代锂辉石结构中的Li+，使玻璃表面得以压缩和强化，整体强度可大幅提升。
进一步地，微晶玻璃含有氧化锆晶相，氧化锆晶相的结晶度＜15％。ZrO2是作为玻璃组成中的成核剂加入的，晶相含量过多易导致玻璃的晶粒尺寸难以控制，无法得到透明的微晶玻璃，因此，控制氧化锆的结晶度＜15％。
进一步地，微晶玻璃含有锂辉石晶相，锂辉石晶相的结晶度＜0.5％。控制锂辉石的结晶度＜0.5wt％，可以避免由于锂辉石晶相含量过多影响玻璃的光学性能，例如导致雾度增大、透过率降低等。
在本申请的一些实施例中，晶粒平均直径为10nm～70nm。控制晶粒平均直径在特定范围内，可以避免由于晶粒尺寸过大导致玻璃的光学性能变差，例如雾度增高、透过率降低等。
在本申请的一些实施例中，按质量百分比计，微晶玻璃的组成包括：
40％≤SiO2≤55％、
20％≤Al2O3≤35％、
0％≤Li2O＜1％、
1％≤MgO≤8％、
2％≤Na2O≤13％、
5％≤ZnO≤12％、
2％≤ZrO2≤6％、及
0％≤TiO2≤6％。
本申请一些实施例提供了一种微晶玻璃的制备方法，包括如下步骤S110～S140。
S110：按照上述任一实施例中微晶玻璃的组成称取玻璃原料。
利用玻璃原料按照质量百分比计可以得到玻璃组成包括35％≤SiO2≤55％、15％≤Al2O3≤35％、0％≤Li2O＜1％、0％≤MgO≤10％、0％≤Na2O≤15％、5％≤ZnO≤15％、0％≤ZrO2≤6％、及0％≤TiO2≤6％；
且微晶玻璃的组成的质量百分比满足以下条件：SiO2+Al2O3≥67％，3％≤ZrO2+TiO2≤8％，MgO+ZnO≤16％，Li2O/(MgO+ZnO)≤0.11。
S120：将原料熔制，制备玻璃熔体。
进一步地，熔制的温度为1300℃～1550℃。
进一步地，熔制的时间为6h～10h。
进一步地，在熔制过程中还可以进行搅拌。
S130：将玻璃熔体浇铸成型，制备基体玻璃。
进一步地，浇铸之前还可以包括对玻璃熔体进行降温的步骤。优选地，降温至1200℃～1450℃，保温2h均化。
进一步地，浇铸之前还可以包括对模具进行预热的步骤。优选地，将模具预热至400℃～500℃。
进一步地，浇铸成型后，还可以包括对成型的玻璃进行退火的步骤。优选地，退火条件包括：在400℃～500℃条件下保温1.5h～2.5h，然后控制降温速率在5h～7h内降温至130℃～150℃。
进一步地，退火后还可以包括自然冷却的步骤。
S140：将基体玻璃进行微晶化处理，制备微晶玻璃。
进一步地，微晶化处理的步骤包含：先对基体玻璃进行热处理核化，再升温晶化。
进一步地，核化温度为600℃～800℃。
进一步地，核化时间为0.5h～10h。
进一步地，晶化温度为700℃～900℃。
进一步地，晶化时间为0.1h～4h。
可以理解地，本申请提供的微晶玻璃可以通过常规的玻璃工艺制备得到，玻璃工艺例如包括但不限于浮法成形工艺、溢流下拉法、引上法、平拉法、压延法等。
本申请一些实施例还提供了一种强化玻璃的制备方法，包括如下步骤：
对上述任一实施例中的微晶玻璃进行化学强化处理。
进一步地，化学强化处理包括两次化学强化。
进一步地，第一次化学强化处理的步骤包括：将微晶玻璃置于由硝酸钠以及硝酸钾中的至少一种形成的第一熔化液中进行浸泡。
优选地，第一熔化液中，硝酸钠与硝酸钾的质量比为(40～100):(0～60)。
优选地，第一次化学强化处理的浸泡条件包括：浸泡温度为440℃～500℃，浸泡时间为4h～16h。
进一步地，第二次化学强化处理的步骤包括：将第一次化学强化后的玻璃置于由硝酸钠以及硝酸钾中的至少一种形成的第二熔化液中进行浸泡。
优选地，第二熔化液中，硝酸钠与硝酸钾的质量比为(96～100):(4～0)。
优选地，第二次化学强化处理的浸泡条件包括：浸泡温度为380℃～440℃，浸泡时间为1h～4h。
本申请一些实施例还提供了一种强化玻璃，由上述实施例中的制备方法制备得到。
本申请一些实施例还提供了一种如上述任一实施例中的微晶玻璃，或如上述一实施例中的强化玻璃在制备玻璃制品中应用。
可以理解地，玻璃制品例如可以但不限于是电子玻璃、保护玻璃、光电玻璃、防火玻璃、建筑玻璃或其他特种玻璃等等。
本申请一些实施例中，所提供的微晶玻璃平均透过率≥85％，雾度≤1.8。经化学强化后本申请所得到的强化玻璃可达到30μm深度的压应力CS30超过50MPa、整体压应力深度Dol_0超过100μm，表面莫氏硬度超过7.5，环压强度超过823MPa，整机砂纸跌落高度超过1.6m的优益性能。
以下通过具体实施例对本申请的微晶玻璃、强化玻璃及其制备方法、应用作进一步详细的说明。以下实施例较为具体，可以理解地，在其他实施例中，不限于此。在以下具体实施例中，所涉及的仪器、试剂、材料，若无特别说明，均为现有技术中已有的常规仪器、试剂、材料，可通过正规商业途径获得。下述实施例中所涉及的实验方法、检测方法等，若无特别说明，均为现有技术中已有的常规实验方法、检测方法。
1、制备基体玻璃：
实施例1～实施例20、对比例1～对比例4中微晶玻璃的各组成的质量百分比如下表1～表3，根据各实施例的玻璃组成称取相应的玻璃原料，经充分混合均匀后，用铂金坩埚在1450℃的条件下熔制8h形成玻璃熔体，同时用铂金搅拌桨搅拌；待抽出搅拌桨后，使玻璃熔体降温至1320℃，保温2h均化；然后将玻璃熔体浇铸到铁质模具上形成80mm×160mm左右大小的玻璃块，模具浇铸前预热到450℃，玻璃块硬化后立即转移至退火炉中退火，保温2h，控制6小时降温至140℃，自然冷却，得基体玻璃，取出后备用。
将实施例1～实施例20、对比例1～对比例4的基体玻璃样品经沈阳科晶的STX-1203线切割机切割成70mm×140mm×0.6mm的玻璃片，经深圳海德的HD-640-5L双面研磨抛光机减薄抛光，再经CNC磨边，使用美国PerkinElmer公司的Lambda950紫外可见分光光度计测试其380nm～780nm波长范围的透过率，结果见表1～表3。
2、制备微晶玻璃
将上述实施例1～实施例20、对比例1～对比例4经步骤1制备得到的基体玻璃按照表1～表3所示的微晶化工艺参数进行微晶化处理，制备微晶玻璃。
将实施例1～实施例20、对比例1～对比例4析晶后得到的微晶玻璃样品进行切割，断面经研磨抛光后备用。将上述微晶玻璃样品切割成20mm×20mm，通过布鲁克的X射线衍射仪Bruker D8 advance测试其晶相种类，并通过其TOPAS软件模拟计算出其不同种类晶相比例和非晶相比例，记录在表1～表3中。
3、制备强化玻璃
将实施例1～实施例20、对比例1～对比例4经步骤2制备得到的微晶玻璃经过二次强化工艺处理，制备强化玻璃。
第一次化学强化：将微晶玻璃置于由硝酸钠以及硝酸钾中的至少一种形成的第一熔化液中进行浸泡，第一熔化液的中硝酸钠以及硝酸钾的质量百分比以及浸泡条件如下表1～表3。
第二次化学强化：将第一次化学强化后的玻璃置于由硝酸钠以及硝酸钾中的至少一种形成的第二熔化液中进行浸泡，第二熔化液中硝酸钠以及硝酸钾的质量百分比以及浸泡条件如下表1～表3。
通过日本折原工业有限公司SLP2000表面应力计进行测试实施例1～实施例20、对比例1～对比例4制备得到的强化玻璃中Li-Na交换30μm深度的压应力CS30和应力深度Dol_0(μm)，采用莫氏硬度笔测试表面维莫氏硬度，采用美国PerkinElmer公司的Lambda950紫外可见光分光光度计测试其380nm～780nm波长范围的透过率，采用SUGA光学HZ-V3雾度计测试样品雾度，采用普赛特的PT-307A万能试验机测试环压强度(上环下环)，采用深圳高品的GP-2112-T定向跌落测试仪测试180目砂纸跌落高度，记录于下表1～表3中。
表1实施例1～实施例10的玻璃组成、工艺参数、性能数据
表2实施例11～实施例20的玻璃组成、工艺参数、性能数据
/>
表3对比例1～对比例4的玻璃组成、工艺参数、性能数据
由表1～表3可见，实施例1～实施例20的微晶玻璃以尖晶石作为主晶相，平均透过率高、雾度低，经化学强化后，所形成的强化玻璃离子强化深度高、机械性能良好。
对比例1中，Li2O的质量百分比为2％，大于0.95％，且
Li2O/(MgO+ZnO)＝0.15，大于0.11；晶化后析出较多的锂辉石晶相、晶粒尺寸变大，导致玻璃透过率降低、雾度变大，离子强化后最终体现为环压及抗跌落性能降低。
对比例2中MgO的质量百分比为13％，大于10％，MgO+ZnO＝18％，大于16％，SiO2+Al2O3＝65％，小于67％；氧化镁含量增加、氧化硅及氧化铝含量降低，降低了杂相生成难度，析出较多方镁石杂相，抑制了尖晶石目标晶相生成，晶粒尺寸变大，导致样品透过率降低、雾度变大，离子强化后最终体现为强化应力、环压及抗跌落性能降低。
对比例3中ZnO的质量百分比为2％，小于5％，TiO2的质量百分比为8％，大于6％，ZrO2+TiO2＝10％，大于8％；氧化锌含量降低，使尖晶石析晶倾向变弱，易生成方镁石杂相，晶粒尺寸变大，难以控制其透过率。另外，氧化钛成核剂的含量增加，析晶倾向变大，易出现方镁石杂相，晶粒尺寸难以控制，且氧化钛含量过高，使玻璃着色，影响玻璃的透过率；离子强化后最终体现为强化应力、环压及抗跌落性能降低。
对比例4中ZrO2+TiO2＝2％，小于3％，成核剂含量过低，导致玻璃样品析晶倾向低，无法析出晶相，离子强化后最终体现为强化应力、环压及抗跌落性能均较低。
图1示出了实施例1微晶玻璃样品晶相SEM扫描电镜形貌图，由图1可见玻璃具有微晶结构。
图2示出了实施例4微晶玻璃样品XRD图，由图2可见实施例4同时含有尖晶石和氧化锆晶相，且尖晶石为主晶相。
以上所述实施例的各技术特征可以进行任意的组合，为使描述简洁，未对上述实施例中的各个技术特征所有可能的组合都进行描述，然而，只要这些技术特征的组合不存在矛盾，都应当认为是本说明书记载的范围。
以上所述实施例仅表达了本发明的几种实施方式，其描述较为具体和详细，但并不能因此而理解为对发明专利范围的限制。应当指出的是，对于本领域的普通技术人员来说，在不脱离本发明构思的前提下，还可以做出若干变形和改进，这些都属于本申请的保护范围。因此，本申请专利的保护范围应以所附权利要求为准。
Claims (10)
1.一种微晶玻璃，其特征在于，包含有结晶度＞20％的尖晶石晶相；
按质量百分比计，微晶玻璃的组成包括：
35％≤SiO2≤55％、
15％≤Al2O3≤35％、
0％≤Li2O＜1％、
0％≤MgO≤10％、
0％≤Na2O≤15％、
5％≤ZnO≤15％、
0％≤ZrO2≤6％、及
0％≤TiO2≤6％；
所述微晶玻璃的组成的质量百分比满足以下条件：
SiO2+Al2O3≥67％，3％≤ZrO2+TiO2≤8％，
MgO+ZnO≤16％，Li2O/(MgO+ZnO)≤0.11。
2.根据权利要求1所述的微晶玻璃，其特征在于，所述微晶玻璃还含有氧化锆晶相和/或锂辉石晶相。
3.根据权利要求2所述的微晶玻璃，其特征在于，所述微晶玻璃含有所述氧化锆晶相，所述氧化锆晶相的结晶度＜15％。
4.根据权利要求2所述的微晶玻璃，其特征在于，所述微晶玻璃含有所述锂辉石晶相，所述锂辉石晶相的结晶度＜0.5％。
5.根据权利要求1～4任一项所述的微晶玻璃，其特征在于，晶粒平均直径为10nm～70nm。
6.根据权利要求1～4任一项所述的微晶玻璃，其特征在于，按质量百分比计，所述微晶玻璃的组成包括：
40％≤SiO2≤55％、
20％≤Al2O3≤35％、
0％≤Li2O＜1％、
1％≤MgO≤8％、
2％≤Na2O≤13％、
5％≤ZnO≤12％、
2％≤ZrO2≤6％、及
0％≤TiO2≤6％。
7.一种微晶玻璃的制备方法，其特征在于，包括如下步骤：
按照权利要求1～6任一项所述微晶玻璃的组成称取玻璃原料；
将所述原料熔制，制备玻璃熔体；
将所述玻璃熔体浇铸成型，制备基体玻璃；
将所述基体玻璃进行微晶化处理，制备所述微晶玻璃。
8.一种强化玻璃的制备方法，其特征在于，包括如下步骤：
对权利要求1～6任一项所述的微晶玻璃进行化学强化处理。
9.一种强化玻璃，其特征在于，由权利要求8所述的制备方法制备得到。
10.一种如权利要求1～6任一项所述的微晶玻璃，或如权利要求9所述的强化玻璃在制备玻璃制品中的应用。
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|---|---|---|---|
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| SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
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