CN117067757A - 覆盖窗和制造覆盖窗的方法 - Google Patents
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Abstract
本公开涉及一种覆盖窗和一种制造覆盖窗的方法。所述方法包括：将第一油墨提供到印刷板；将所述第一油墨转移到第一移印头，所述第一移印头包括移印头中心区域和移印头外围区域，所述移印头中心区域包括所述第一移印头的底表面的中心部分，所述移印头外围区域围绕所述移印头中心区域并包括移印头凹槽；以及将所述第一油墨从所述第一移印头转移到覆盖窗基底，其中，所述第一油墨到所述第一移印头的所述转移包括将所述第一油墨转移到所述移印头外围区域。
Description
相关申请的交叉引用
本申请分别要求于2022年5月17日提交的第10-2022-0060446号韩国专利申请和于2022年8月4日提交的第10-2022-0097574号韩国专利申请的优先权和从其产生的所有权益，该韩国专利申请的全部内容通过引用包含于本文中。
技术领域
一个或多个实施例涉及一种覆盖窗和一种制造覆盖窗的方法，并且更具体地说，涉及一种其中可以降低制造过程中的缺陷的风险的覆盖窗和一种制造覆盖窗的方法。
背景技术
显示设备的覆盖窗保护包括在显示设备中的显示面板的显示器件免受外部冲击并且阻挡光，从而显示面板的布线或电路无法从外部识别。为此，在覆盖窗的表面上形成遮光层。当覆盖窗是平坦的时，通过使用丝网印刷方法形成遮光层，并且当覆盖窗是弯曲的时，通过使用移印方法形成遮光层。
发明内容
然而，相关技术中的制造覆盖窗的方法具有的问题是：当覆盖窗基底的与移印头接触但不具有形成在其上的遮光层的部分在后续过程中被印刷时，印刷不容易。
一个或多个实施例包括其中可以降低制造过程中的缺陷的风险的覆盖窗和制造覆盖窗的方法。然而，实施例是示例，并且不限制本公开的范围。
附加方面将在接下来的描述中部分地阐述，并且部分地，从描述中将是明显的，或者可以通过所呈现的实施例的实践来了解。
根据一个或多个实施例，一种制造覆盖窗的方法包括：将第一油墨提供到印刷板；将所述第一油墨转移到第一移印头，所述第一移印头包括移印头中心区域和移印头外围区域，其中，所述移印头中心区域包括所述第一移印头的底表面的中心部分，并且所述移印头外围区域围绕所述移印头中心区域并在所述移印头外围区域中限定移印头凹槽；以及将所述第一油墨从所述第一移印头转移到覆盖窗基底，其中，所述第一油墨到所述第一移印头的所述转移包括将所述第一油墨转移到所述移印头外围区域。
所述第一油墨到所述第一移印头的所述转移可以包括不将所述第一油墨转移到所述移印头外围区域的其中限定所述移印头凹槽的部分。
所述移印头外围区域可以包括所述第一移印头的所述底表面的围绕所述底表面的所述中心部分的外部部分和所述第一移印头的侧表面的与所述底表面的所述外部部分接触的部分。
所述第一油墨可以包括遮光材料。
所述印刷板可以包括印刷板中心区域和围绕所述印刷板中心区域的印刷板外围区域，并且所述印刷板外围区域可以在所述印刷板外围区域中限定印刷板凹槽，其中，所述第一油墨到所述印刷板的所述提供可以包括用所述第一油墨填充所述印刷板凹槽。
所述印刷板凹槽可以沿着所述移印头中心区域的外侧延伸。
所述第一油墨到所述第一移印头的所述转移可以包括：在可以用所述第一油墨填充所述印刷板凹槽的状态下，通过将所述第一移印头压到所述印刷板，将所述第一油墨转移到所述第一移印头。
所述第一油墨到所述第一移印头的所述转移可以包括：将填充所述印刷板凹槽的所述第一油墨转移到所述第一移印头。
所述第一油墨到所述第一移印头的所述转移可以包括：使所述移印头中心区域与所述印刷板中心区域接触，并且使所述移印头外围区域与填充所述印刷板凹槽的所述第一油墨接触。
所述第一油墨到所述第一移印头的所述转移可以包括：使所述移印头外围区域的其中限定所述移印头凹槽的部分不与填充所述印刷板凹槽的所述第一油墨接触。
所述第一油墨到所述覆盖窗基底的所述转移可以包括：通过将所述第一油墨转移到的所述第一移印头压到所述覆盖窗基底，将所述第一油墨转移到所述覆盖窗基底。
所述第一油墨到所述覆盖窗基底的所述转移可以包括：将转移到所述第一移印头的所述第一油墨转移到所述覆盖窗基底。
所述第一油墨到所述覆盖窗基底的所述转移可以包括：使所述移印头中心区域和所述移印头外围区域与所述覆盖窗基底接触。
所述第一油墨到所述覆盖窗基底的所述转移可以包括：使所述移印头外围区域的其中限定所述移印头凹槽的部分不与所述覆盖窗基底接触。
所述第一移印头可以包括硅类化合物。
所述方法还可以包括：通过以大约150摄氏度(℃)加热所述第一油墨转移到的所述覆盖窗基底大约10分钟，在所述覆盖窗基底上形成遮光层和遮光层孔。
所述方法还可以包括：将与所述第一油墨不同的第二油墨转移到所述覆盖窗基底；以及通过以大约150℃加热所述第二油墨转移到的所述覆盖窗基底大约10分钟，形成覆盖所述遮光层孔的颜色层。
与所述第一油墨不同的所述第二油墨到所述覆盖窗基底的所述转移可以包括：通过将所述第二油墨转移到的第二移印头压到所述覆盖窗基底，将所述第二油墨转移到所述覆盖窗基底的通过所述遮光层孔暴露的部分。
根据一个或多个实施例，一种覆盖窗包括：覆盖窗基底，所述覆盖窗基底包括透明区域和不透明区域，其中，所述透明区域包括第一透明区域和第二透明区域，所述第二透明区域定位在所述第一透明区域的在第一方向上的相反两侧上，并且所述不透明区域包括第一不透明区域和第二不透明区域，所述第一不透明区域定位在所述第一透明区域的在与所述第一方向交叉的第二方向上的相反两侧上，所述第二不透明区域围绕所述第二透明区域；遮光层，所述遮光层定位在所述不透明区域中；以及颜色层，所述颜色层填充在所述第一不透明区域中限定的遮光层孔，其中，所述覆盖窗基底的与所述颜色层接触的界面的碳(C)含量或硅(Si)含量低于所述覆盖窗基底的定位在所述透明区域中并靠近所述遮光层的表面的C含量或Si含量。
所述覆盖窗基底的与所述颜色层接触的所述界面可以具有范围为从大约15原子百分比(at％)至大约16at％的C含量，并且所述覆盖窗基底的在所述透明区域中并靠近所述遮光层的所述表面可以具有范围为从大约31at％至大约33at％的C含量。
所述覆盖窗基底的与所述颜色层接触的所述界面可以具有范围为从大约19at％至大约20at％的Si含量，并且所述覆盖窗基底的在所述透明区域中并靠近所述遮光层的所述表面可以具有范围为从大约23at％至大约24at％的Si含量。
本公开的其他方面、特征和优点将从详细的描述、权利要求书和附图中变得更明显。
附图说明
特定实施例的以上和其他方面、特征和优点将结合附图从以下描述中更加明显，其中：
图1是示意性地示出根据实施例的显示设备的包括覆盖窗的部分的透视图；
图2A是示意性地示出沿图1的线A-A'截取的显示设备的截面图；
图2B是示意性地示出沿图1的线B-B'截取的显示设备的截面图；
图3是示意性地示出根据实施例的显示设备的包括覆盖窗的部分的截面图；
图4A是示意性地示出根据实施例的制造覆盖窗的方法中使用的第一移印头的透视图；
图4B是示意性地示出沿图4A的线C-C'截取的第一移印头的截面图；
图4C是示意性地示出沿图4A的线D-D'截取的第一移印头的截面图；
图4D是示意性地示出沿图4A的线E-E'截取的第一移印头的截面图；
图5至图17是用于描述根据实施例的制造覆盖窗的方法的视图；
图18是示出根据实施例的覆盖窗的透视图；以及
图19和图20是示出根据实施例的覆盖窗的截面图。
具体实施方式
现在将详细参考实施例，实施例的示例在附图中示出，在附图中相同的附图标记始终指代相同的元件。在这方面，本实施例可以具有不同形式，并且不应该被解释为限于本文中所阐述的描述。因此，下面仅通过参照附图描述实施例，以解释本描述的各方面。如本文中所使用的，术语“和/或”包括一个或多个相关所列项的任意组合和所有组合。在整个公开中，表述“a、b和c中的至少一者”表示仅a、仅b、仅c、a和b两者、a和c两者、b和c两者、a、b和c的全部，或它们的变型。
由于本公开允许各种变化和众多实施例，特定实施例将在附图中示出并且在详细描述中描述。本公开的效果和特征以及实现这些效果和特征的方法将参照下面参考附图详细描述的实施例来阐明。然而，本公开不限于以下实施例，并且可以以各种形式实现。
在下文中，将参照附图详细描述实施例，在实施例中相同或相应的元件始终通过相同的附图标记表示，并且省略对其的重复描述。
将理解的是，当组件(诸如层、膜、区或板)被称为“在”另一组件“上”时，该组件可以直接在该另一组件上，或者它们之间可以存在居间组件。另外，为了解释的方便，附图中组件的尺寸可以被夸大或缩小。例如，因为附图中元件的尺寸和厚度是为了解释的方便而任意地示出的，所以本公开不限于此。
在以下实施例中，x方向、y方向和z方向不限于矩形坐标系的三个轴，并且可以以更广泛的意义进行解释。例如，x方向、y方向和z方向可以相互垂直，或者可以代表相互不垂直的不同方向。
尽管术语“第一”、“第二”等可以用于描述各种元件，但这些元件不应受这些术语限制。这些术语仅用于将一个元件与另一个元件区分开。
除非上下文明确指出，否则如本文中所使用的，单数形式“一个”、“一种(者)”和“所述(该)”也旨在包括复数形式。考虑到讨论中的测量和与特定量的测量相关的误差(即，测量系统的限制)，如本文中所使用的“大约(约)”或“近似”包括所陈述的值，并且表示在如由本领域普通技术人员确定的特定值的可接受的偏差的范围内。例如，“大约”可以表示在一个或多个标准偏差内，或在所陈述的值的±30％、±20％、±10％或±5％内。
还将理解的是，本文中使用的术语“包括”或“包含”指明存在所陈述的特征或组件，但不排除存在或添加一个或多个其他特征或组件。
“A和/或B”在本文中用于仅选择A仅选择B或选择A和B两者。“A和B中的至少一者”用于仅选择A仅选择B或选择A和B两者。
图1是示意性地示出根据实施例的显示设备1的包括覆盖窗20(例如，见图2A)的部分的透视图。图2A是示意性地示出沿图1的线A-A'截取的显示设备1的截面图。图2B是示意性地示出沿图1的线B-B'截取的显示设备1的截面图。
作为用于显示动态图像或静态图像的装置的显示设备1可以是诸如移动电话、智能电话、平板个人计算机(“PC”)、移动通信终端、电子记事簿、电子书、便携式多媒体播放器(“PMP”)、导航装置或超移动PC(“UMPC”)的便携式电子装置。可替代地，显示设备1可以是诸如电视机、膝上型计算机、监视器、广告板、或物联网(“IoT”)装置的电子装置。可替代地，显示设备1可以是诸如智能手表、手表电话、眼镜式显示器、或头戴式显示器(“HMD”)的可穿戴装置。可替代地，显示设备1可以是另一装置的一部分。例如，显示设备1可以是电子装置的显示部分。可替代地，显示设备1可以是车辆的定位在仪表面板、中央仪表盘或仪表板上的中央信息显示器(“CID”)、车辆的替代侧视镜的车内后视镜显示器、或车辆的定位在前排座椅的背面上的用于后排座椅的娱乐的显示器。
参照图1，能够显示图像的显示设备1可以具有在第一方向上延伸的边缘和在第二方向上延伸的边缘。第一方向和第二方向可以彼此相交。例如，第一方向和第二方向之间的角度可以是锐角。可替代地，第一方向和第二方向之间的角度可以是钝角或直角。为了解释的方便，下文将在假设第一方向和第二方向彼此垂直的情况下进行描述。例如，第一方向可以是x方向或-x方向，并且第二方向可以是y方向或-y方向。
如图1中所示，显示设备1可以包括显示区域DA和围绕显示区域DA的非显示区域NDA。显示设备1可以通过在显示区域DA中二维地布置的像素PX的阵列提供图像。显示设备1的每个像素PX是可以发射特定颜色的光的区域，并且显示设备1可以通过使用由像素PX发射的光提供图像。例如，每个像素PX可以发射红光、绿光或蓝光。
如图1中所示，显示区域DA在平面图中可以具有包括四边形形状的多边形形状。例如，显示区域DA可以具有其中水平长度大于竖直长度的矩形形状、其中水平长度小于竖直长度的矩形形状、或正方形形状。可替代地，显示区域DA可以具有诸如椭圆形状或圆形形状的各种形状中的任意一种。如本文中所使用的，“平面图”是在z方向(即，显示设备1的厚度方向)上的视图。
显示区域DA可以包括第一显示区域DA1和第二显示区域DA2。第一显示区域DA1可以是平坦区域。显示设备1可以在第一显示区域DA1中提供大部分的图像。如图2A中所示，第二显示区域DA2可以定位在第一显示区域DA1的在第一方向(例如，x方向或-x方向)上的相反两侧上。第二显示区域DA2可以在第二方向(例如，y方向或-y方向)上延伸。显示设备1可以在第二显示区域DA2中弯折。尽管在图2B中弯折区域没有定位在第一显示区域DA1的在第二方向(例如，y方向或-y方向)上的相反两侧上，但是本公开不限于此。例如，作为弯折区域的第二显示区域DA2可以围绕第一显示区域DA1。为了解释的方便，下面将在假设第二显示区域DA2仅定位在第一显示区域DA1的在第一方向(例如，x方向或-x方向)上的相反两侧上的情况下进行描述。
也就是说，与第一显示区域DA1不同，第二显示区域DA2可以在第一方向(例如，x方向或-x方向)上的截面(例如，zx截面)中限定为弯折区域。相反，第二显示区域DA2可以在第二方向(例如，y方向或-y方向)上的截面(例如，yz截面)中不弯折。也就是说，第二显示区域DA2可以是绕在第二方向(例如，y方向或-y方向)上延伸的轴弯折的区域。在图2A中，从第一显示区域DA1起在x方向上定位的第二显示区域DA2和从第一显示区域DA1起在-x方向上定位的第二显示区域DA2可以具有相同的曲率。然而，本公开不限于此。例如，从第一显示区域DA1起在x方向上定位的第二显示区域DA2和从第一显示区域DA1起在-x方向上定位的第二显示区域DA2可以具有不同的曲率。
非显示区域NDA可以定位在显示区域DA的外部。详细地，非显示区域NDA可以包括第一非显示区域NDA1和第二非显示区域NDA2。第一非显示区域NDA1可以定位在第一显示区域DA1的在第二方向(例如，y方向或-y方向)上的相反两侧上。第二非显示区域NDA2可以部分地围绕第二显示区域DA2。像素PX可以不定位在非显示区域NDA中。也就是说，非显示区域NDA可以是其中不显示图像的区域。用于将电信号提供到像素PX的驱动电路可以定位在非显示区域NDA中，或者用于将电力提供到像素PX的电源布线可以定位在非显示区域NDA中。
非显示区域NDA的一部分可以被弯折。详细地，如图2A中所示，部分地围绕第二显示区域DA2的第二非显示区域NDA2可以被弯折。如图2B中所示，定位在第一显示区域DA1的相反两侧上的第一非显示区域NDA1可以不弯折，而可以是平坦的。也就是说，如图2A中所示，第二非显示区域NDA2和第二显示区域DA2可以以曲率半径R弯折。
图3是示意性地示出根据实施例的显示设备1的包括覆盖窗20的部分的截面图。显示设备1可以包括覆盖窗20和显示面板10。显示面板10可以定位在覆盖窗20下面。显示面板10可以显示图像。显示在显示面板10上的图像可以通过透明的覆盖窗20提供到用户。也就是说，由显示设备1提供的图像可以由显示面板10产生。
如图3中所示，显示面板10可以包括基底100、像素电路层200、显示器件层300和封装层400。像素电路层200可以定位在基底100上。基底100可以包括各种柔性材料或可弯折材料。例如，基底100可以包括玻璃、金属或聚合物树脂。另外，基底100可以包括诸如聚醚砜、聚丙烯酸酯、聚醚酰亚胺、聚萘二甲酸乙二醇酯、聚对苯二甲酸乙二醇酯、聚苯硫醚、聚芳酯、聚酰亚胺、聚碳酸酯或醋酸丙酸纤维素的聚合物树脂。然而，可以进行各种修改。例如，基底100可以具有包括两层和屏障层的多层结构，所述两层中的每层包括聚合物树脂，所述屏障层包括无机材料(例如，氧化硅、氮化硅或氮氧化硅)并且定位在所述两层之间。
像素电路层200可以包括薄膜晶体管TFT、绝缘层IL和平坦化层240。如图3中所示，薄膜晶体管TFT可以包括半导体层Act(包含非晶硅、多晶硅、氧化物半导体材料或有机半导体材料)、栅极电极GE、源极电极SE以及漏极电极DE。绝缘层IL可以包括栅极绝缘层210、第一层间绝缘层220和第二层间绝缘层230。为了确保半导体层Act和栅极电极GE之间的绝缘，包括诸如氧化硅、氮化硅和/或氮氧化硅的无机材料的栅极绝缘层210可以定位在半导体层Act和栅极电极GE之间。包括诸如氧化硅、氮化硅和/或氮氧化硅的无机材料的第一层间绝缘层220可以定位在栅极电极GE上，并且第二层间绝缘层230可以定位为覆盖源极电极SE和漏极电极DE。包括无机材料的绝缘层IL可以通过化学气相沉积(“CVD”)或原子层沉积(“ALD”)形成。平坦化层240可以定位在薄膜晶体管TFT上。平坦化层240可以使薄膜晶体管TFT的上部部分基本上平面化。平坦化层240可以包括诸如亚克力、苯并环丁烯(“BCB”)或六甲基二硅氧烷(“HMDSO”)的有机材料。尽管在图3中平坦化层240具有单层结构，但是可以进行各种修改。例如，平坦化层240可以具有多层结构。
显示器件层300可以定位在像素电路层200上。显示器件层300可以包括显示器件310(其电连接到薄膜晶体管TFT)和像素限定膜320。显示器件310可以是包括像素电极311、对电极313、以及定位在像素电极311和对电极313之间并包括发射层的中间层312的有机发光二极管。当显示器件310电连接到薄膜晶体管TFT时，其可以表示显示器件310的像素电极311电连接到薄膜晶体管TFT。
如图3中所示，像素电极311通过穿过在平坦化层240等中形成的开口部分接触源极电极SE电连接到薄膜晶体管TFT。像素电极311包括由诸如氧化铟锡(ITO)、氧化铟(In2O3)或氧化铟锌(IZO)的透光导电氧化物形成的透光导电层、以及由诸如铝(Al)或银(Ag)的金属形成的反射层。例如，像素电极311可以具有包括ITO/Ag/ITO的三层结构。
像素限定膜320可以定位在平坦化层240上。像素限定膜320通过具有对应于每个像素的开口(即，通过其暴露像素电极311的至少中心部分的开口)来限定像素。另外，如图3中所示，像素限定膜320增加了像素电极311的边缘与像素电极311上方的对电极313之间的距离，以防止在像素电极311的边缘上发生电弧等。像素限定膜320可以包括诸如聚酰亚胺或六甲基二硅氧烷(HMDSO)的有机材料。
显示器件310的中间层312可以包括低分子量材料或高分子量材料。当中间层312包括低分子量材料时，中间层312可以具有其中堆叠空穴注入层(“HIL”)、空穴传输层(“HTL”)、发射层(“EML”)、电子传输层(“ETL”)和电子注入层(“EIL”)的单层或多层结构，并且可以通过使用真空沉积形成。当中间层312包括高分子量材料时，中间层312可以具有包括HTL和EML的结构。在这种情况下，HTL可以包括聚(3，4-乙烯二氧噻吩)(“PEDOT”)，并且EML可以包括诸如聚对苯乙炔(“PPV”)类材料或聚芴类材料的聚合物材料。中间层312可以通过使用丝网印刷、喷墨印刷或激光诱导热成像(“LITI”)等形成。然而，中间层312不一定限于此，并且可以具有各种结构中的任意一种。中间层312可以包括遍及多个像素电极311一体形成的层，或者可以包括被图案化以对应于多个像素电极311中的每一个的层。
对电极313可以遍及多个显示器件310一体形成，以对应于多个像素电极311。对电极313可以包括由ITO、In2O3或IZO形成的透光导电层，并且可以包括包含诸如Al或Ag的金属的半透射膜。例如，对电极313可以是包括Mg或Ag的半透射膜。
封装层400可以定位在显示器件层300上。因为显示器件310可能容易被外部湿气或氧气等损坏，所以封装层400可以覆盖并保护显示器件310免受外部湿气或氧气等影响。如图3中所示，封装层400可以包括第一无机封装层410、有机封装层420以及第二无机封装层430。
第一无机封装层410可以覆盖对电极313，并且可以包括氧化硅、氮化硅和/或氮氧化硅。诸如封盖层的其他层可以定位在第一无机封装层410和对电极313之间。如图3中所示，因为第一无机封装层410沿着下部结构形成，所以第一无机封装层410的顶表面不是平坦的。有机封装层420覆盖第一无机封装层410，并且与第一无机封装层410不同，有机封装层420可以具有基本上平坦的顶表面。有机封装层420可以包括选自由聚对苯二甲酸乙二醇酯、聚萘二甲酸乙二醇酯、聚碳酸酯、聚酰亚胺、磺酸聚乙烯、聚甲醛、聚芳酯和六甲基二硅氧烷组成的组中的至少一种材料。第二无机封装层430可以覆盖有机封装层420，并且可以包括氧化硅、氮化硅和/或氮氧化硅。
如此，因为封装层400包括第一无机封装层410、有机封装层420和第二无机封装层430，所以即使当封装层400中发生裂缝时，由于这种多层结构，裂缝也可以不在第一无机封装层410和有机封装层420之间连接或不在有机封装层420和第二无机封装层430之间连接。因此，可以有效地防止或最小化外部湿气或氧气渗入显示设备1所通过的路径的形成。
覆盖窗20可以定位在显示面板10上。覆盖窗20可以覆盖显示面板10的顶表面。覆盖窗20可以保护显示面板10的顶表面。另外，因为覆盖窗20形成显示设备1的外部，所以覆盖窗20可以包括与显示设备1的形状对应的平坦表面和弯曲表面。
覆盖窗20可以具有高的透射率以透射从显示面板10发射的光，并且可以具有小的厚度以使显示设备1的重量最小化。另外，覆盖窗20可以具有高的强度和硬度以保护显示面板10免受外部冲击。覆盖窗20可以包括柔性窗。覆盖窗20可以通过被外力容易弯折而不造成裂缝等来保护显示面板10。覆盖窗20可以通过粘合层(未示出)附接到显示面板10。粘合层可以包括诸如光学透明粘合剂(“OCA”)或压敏粘合剂(“PSA”)的粘合剂。
尽管在图3中未示出，但保护膜可以定位在显示面板10下面以面对显示面板10的底表面(在-z方向上的底表面)。详细地，保护膜可以定位在基底100下面以面对基底100的底表面(在-z方向上的底表面)。保护膜可以在制造显示设备的过程期间保护显示面板10。粘合层可以定位在保护膜和基底100之间，并且保护膜可以通过粘合层附接到基底100的底部。定位在保护膜和基底100之间的粘合层可以包括光学透明树脂(“OCR”)、光学透明粘合剂(“OCA”)和压敏粘合剂(“PSA”)中的至少一种。
现在将描述根据实施例的制造覆盖窗的方法。图4A是示意性地示出根据实施例的制造覆盖窗的方法中使用的第一移印头50的透视图。图4B是示意性地示出沿图4A的线C-C'截取的第一移印头50的截面图。图4C是示意性地示出沿图4A的线D-D'截取的第一移印头50的截面图。图4D是示意性示出沿图4A的线E-E'截取的第一移印头50的截面图。为了解释的方便，图4A至图4D示出第一移印头50颠倒翻转的状态，使得第一移印头50的底表面(在-z方向上的底表面)面向上。
在图4A中，尽管第一移印头50在平面图中具有矩形形状，但本公开不限于此。例如，第一移印头50在平面图中可以具有除了矩形形状以外的各种形状中的任何形状。第一移印头50可以包括弹性材料。例如，第一移印头50可以包括硅类化合物。第一移印头50可以由硅酮材料形成。因此，当在第一移印头50接触印刷板60(例如，见图5)或覆盖窗基底21(例如，见图10)的同时压第一移印头50时，可以使第一移印头50压缩或拉伸。
第一移印头50可以包括印刷单元50PP和主体部分50BP。当将油墨转移到第一移印头50或从第一移印头50转移油墨时，印刷单元50PP可以是与印刷板60或覆盖窗基底21接触的部分。印刷单元50PP可以在中心部分处具有平缓的曲率。详细地，印刷单元50PP的中心部分可以在第一方向(例如，x方向或-x方向)上弯折，并且还可以在第二方向(例如，y方向或-y方向)上弯折。也就是说，如图4C中所示，印刷单元50PP的中心部分可以在第一方向(例如，x方向或-x方向)上的截面(例如，zx截面)中弯折，并且如图4B中所示，印刷单元50PP的中心部分也可以在第二方向(例如，y方向或-y方向)上的截面(例如，yz截面)中弯折。作为第一移印头50的除了印刷单元50PP以外的部分的主体部分50BP可以是支撑印刷单元50PP但在将油墨转移到第一移印头50或从第一移印头50转移油墨的过程中不接触印刷板60或覆盖窗基底21的部分。
印刷单元50PP可以包括移印头中心区域50CA和围绕移印头中心区域50CA的移印头外围区域50PA。移印头中心区域50CA可以定位在印刷单元50PP的中心部分处。详细地，移印头中心区域50CA可以包括印刷单元50PP的底表面(在-z方向上的底表面)的中心部分。也就是说，移印头中心区域50CA可以包括第一移印头50的底表面(在-z方向上的底表面)的中心部分。移印头外围区域50PA可以定位在移印头中心区域50CA的外部。移印头外围区域50PA可以围绕印刷单元50PP的中心部分。详细地，移印头外围区域50PA可以包括底表面(在-z方向上的底表面)的围绕印刷单元50PP的底表面(在-z方向上的底表面)的中心部分的外部部分和印刷单元50PP的侧表面的与外部部分接触的部分。也就是说，移印头外围区域50PA可以包括底表面(在-z方向上的底表面)的围绕第一移印头50的底表面(在-z方向上的底表面)的中心部分的外部部分和第一移印头50的侧表面的与外部部分接触的部分。
如图4D中所示，可以在印刷单元50PP的移印头外围区域50PA中限定移印头凹槽50G。详细地，可以在底部(在-z方向上的底部)中限定包括在移印头外围区域50PA中的移印头凹槽50G。因此，当油墨转移到第一移印头50时，油墨可以不转移到移印头外围区域50PA的其中限定移印头凹槽50G的部分。另外，当油墨从第一移印头50转移时，目标物体的与移印头凹槽50G对应的部分可以不接触第一移印头50，并且油墨可以不转移到目标物体的所示部分。移印头凹槽50G的深度从印刷单元50PP的底表面(在-z方向上的底表面)起可以在从2.4毫米(mm)到7.2mm的范围内。当移印头凹槽50G的深度从印刷单元50PP的底表面(在-z方向上的底表面)起小于2.4mm时，油墨甚至可能转移到移印头外围区域50PA的其中限定移印头凹槽50G的部分。另外，当油墨从第一移印头50转移时，目标物体的与移印头凹槽50G对应的部分可能接触第一移印头50，或者油墨可能转移到目标物体的所述部分。当移印头凹槽50G的深度从印刷单元50PP的底表面(在-z方向上的底表面)起超过7.2mm时，用于制造移印头的成本可能增加。
尽管图4A和图4D示出在定位在印刷单元50PP的底表面(在-z方向上的底表面)上的移印头外围区域50PA中限定一个移印头凹槽50G，但本公开不限于此。例如，可以在定位在印刷单元50PP的底表面(在-z方向上的底表面)上的移印头外围区域50PA中限定多个移印头凹槽50G，并且多个移印头凹槽50G可以彼此间隔开。多个移印头凹槽50G可以具有相同的形状或相似的形状，并且可以具有相同的尺寸或相似的尺寸。可替代地，多个移印头凹槽50G可以具有不同的形状或可以具有不同的尺寸。为了解释的方便，下面将在假设在定位在印刷单元50PP的底表面(在-z方向上的底表面)上的移印头外围区域50PA中限定一个移印头凹槽50G的情况下进行描述。
图5至图17是用于描述根据实施例的制造覆盖窗的方法的视图。图5和图6是用于描述根据实施例的制造覆盖窗的方法中将第一油墨I1提供到印刷板60的步骤的视图。详细地，图6是示意性地示出沿图5的线I-I'截取的印刷板60、印刷板凹槽60G和第一油墨I1的截面图。
如图5和图6中所示，印刷板60可以是在移印方法中使用的基本上平坦的板。印刷板60可以包括印刷板中心区域60CA和印刷板外围区域60PA。印刷板中心区域60CA可以具有与覆盖窗20(例如，见图18)的透明区域TA(见图18)对应的形状。例如，当覆盖窗20的透明区域TA具有长矩形形状时，印刷板中心区域60CA可以具有长矩形形状。印刷板外围区域60PA可以围绕印刷板中心区域60CA。
可以在印刷板外围区域60PA中限定印刷板凹槽60G。印刷板凹槽60G可以沿着印刷板中心区域60CA的外侧延伸。例如，印刷板凹槽60G可以在印刷板中心区域60CA的周围形成。例如，在平面图中，印刷板凹槽60G可以具有含有空的中心的四边形框架形状。印刷板凹槽60G可以具有与将要印刷在覆盖窗20上的图像形状对应的形状。也就是说，将要在覆盖窗20上印刷的图像形状可以在印刷板60的顶表面中形成为雕刻的图像区域，并且印刷板凹槽60G可以是与将要在覆盖窗20上印刷的图像形状对应的雕刻的图像区域。印刷板凹槽60G可以用第一油墨I1填充。
第一油墨I1可以包括遮光材料。也就是说，第一油墨I1可以包括阻挡光的不透明材料。遮光材料可以包括黑色染料和黑色颗粒中的至少一种。例如，遮光材料可以包括Cr、CrOx、Cr/CrOx、Cr/CrOx/CrNy、树脂(碳素颜料或RGB混合颜料)、石墨、非Cr类材料、内酰胺类颜料、或苝类颜料。遮光材料可以包括黑色有机颜料，并且黑色有机颜料可以包括选自由苯胺黑、内酰胺黑和苝黑组成的组中的至少一种。
图7至图9是用于描述根据实施例的制造覆盖窗的方法中将第一油墨I1转移到第一移印头50的步骤的视图。图7是示出沿图5的线I-I'截取的印刷板60的截面图，特别地示出当第一移印头50定位在印刷板60上方时的第一移印头50和印刷板60。图8是示出沿图5的线I-I'截取的印刷板60的截面图，特别地示出当第一移印头50压在印刷板60上时的第一移印头50和印刷板60。图9是示出沿图5的线II-II'截取的印刷板60的截面图，特别地示出当第一移印头50压在印刷板60上时的第一移印头50和印刷板60。
首先，如图7中所示，第一移印头50的底表面(在-z方向上的底表面)可以定位为面对印刷板60，并且然后第一移印头50和印刷板60可以彼此对准。详细地，第一移印头50可以定位在印刷板60上方，使得移印头中心区域50CA与印刷板中心区域60CA对应。
接下来，如图8中所示，可以通过压第一移印头50，将第一移印头50压在印刷板60上。第一移印头50可以连接到控制装置CM。详细地，第一移印头50可以附接到与控制装置CM连接的连接单元CP的表面。因此，控制装置CM可以控制第一移印头50的移动，并且随着第一移印头50通过控制装置CM向印刷板60移动(例如，在-z方向上移动)，可以将第一移印头50压在印刷板60上。因为第一移印头50包括诸如硅类化合物的弹性材料，所以当向第一移印头50施加压力时，可以使第一移印头50压缩或拉伸。因此，第一移印头50的移印头中心区域50CA可以与印刷板60的印刷板中心区域60CA接触，并且第一移印头50的移印头外围区域50PA可以与填充印刷板60的印刷板凹槽60G的第一油墨I1接触。因此，可以将第一油墨I1转移到第一移印头50的移印头外围区域50PA。转移到移印头外围区域50PA的第一油墨I1可以是填充印刷板60的印刷板凹槽60G的第一油墨I1的至少一部分。
如图9中所示，由于移印头外围区域50PA的其中限定移印头凹槽50G的部分不与填充印刷板60的印刷板凹槽60G的第一油墨I1接触，因此第一油墨I1可以不转移到移印头外围区域50PA的其中限定移印头凹槽50G的部分。接下来，当第一移印头50通过控制装置CM移离印刷板60(例如，在z方向上移离印刷板60)时，第一移印头50可以与印刷板60分离。
图10至图13是用于描述根据实施例的制造覆盖窗的方法中将第一油墨I1转移到覆盖窗基底21的步骤的视图。图11是示出沿图10的线III-III'截取的覆盖窗基底21的截面图，特别地示出当第一移印头50定位在覆盖窗基底21上方时的第一移印头50和覆盖窗基底21。图12是示出沿图10的线III-III'截取的覆盖窗基底21的截面图，特别地示出当第一移印头50压在覆盖窗基底21上时的第一移印头50和覆盖窗基底21。图13是示出沿图10的线IV-IV'截取的覆盖窗基底21的截面图，特别地示出当第一移印头50压在覆盖窗基底21上时的第一移印头50和覆盖窗基底21。
首先，如图10中所示，可以准备覆盖窗基底21。通过使用包括与覆盖窗20(例如，见图18)的最终形状对应的凹面的夹具JIG，可以使覆盖窗基底21变形以具有平坦的表面和弯曲的表面。也就是说，所述夹具JIG可以是具有将要最终制造的显示设备的形状的框架。通过将覆盖窗基底21紧密地附接到夹具JIG的凹面，可以使覆盖窗基底21变形为夹具JIG的凹面的形状。
接下来，如图11中所示，第一移印头50的底表面(在-z方向上的底表面)可以定位为面对覆盖窗基底21，并且然后第一移印头50和覆盖窗基底21可以彼此对准。详细地，第一移印头50可以定位在覆盖窗基底21上方，使得移印头中心区域50CA与覆盖窗基底21的中心部分的平坦区域对应。
接下来，如图12中所示，可以通过压第一移印头50，将第一移印头50压在覆盖窗基底21上。随着第一移印头50通过控制装置CM朝向覆盖窗基底21移动(例如，在-z方向上朝向覆盖窗基底21移动)，可以将第一移印头50压在覆盖窗基底21上。因此，第一移印头50的移印头中心区域50CA和移印头外围区域50PA可以接触覆盖窗基底21。因此，可以将转移到第一移印头50的移印头外围区域50PA的第一油墨I1转移到覆盖窗基底21。转移到覆盖窗基底21的第一油墨I1可以是转移到移印头外围区域50PA的第一油墨I1的至少一部分。覆盖窗基底21的与移印头中心区域50CA接触的部分可以与第一移印头50接触，但第一油墨I1可以不转移到覆盖窗基底21的与移印头中心区域50CA接触的部分。
如图13中所示，移印头外围区域50PA的其中限定移印头凹槽50G的部分可以不接触覆盖窗基底21。也就是说，移印头凹槽50G的内侧可以不接触覆盖窗基底21。当与覆盖窗基底21的接触移印头中心区域50CA的部分相比时，覆盖窗基底21的与移印头凹槽50G对应的部分可以不接触第一移印头50，并且第一油墨I1可以不转移到覆盖窗基底21的与移印头凹槽50G对应的部分。
在将转移到第一移印头50的第一油墨I1转移到覆盖窗基底21的过程中，覆盖窗基底21的与第一移印头50接触的部分的表面可能被异物污染。例如，覆盖窗基底21的与移印头中心区域50CA接触的部分的表面可能被异物污染。所述异物可以包括硅油、有机材料和灰尘中的至少一种。例如，当第一移印头50包括硅类化合物时，覆盖窗基底21的与第一移印头50接触的部分的表面可能被硅油污染。所述硅油可以包括六甲基二硅氧烷、八甲基三硅氧烷、十甲基四硅氧烷、十二甲基五硅氧烷和聚二甲基硅氧烷中的至少一种。
因此，覆盖窗基底21的与移印头中心区域50CA接触的部分的表面的碳(C)含量和硅(Si)含量可以高于覆盖窗基底21的与移印头凹槽50G对应的部分的表面的碳(C)含量和硅(Si)含量。本文中所使用的“覆盖窗基底21的表面”指覆盖窗基底21的从覆盖窗基底21和覆盖窗基底21的外部之间的接触点到覆盖窗基底21内部的大约10纳米(nm)的深度的部分。也就是说，覆盖窗基底21的与移印头凹槽50G对应的部分的表面的碳(C)含量和硅(Si)含量可以低于覆盖窗基底21的与移印头中心区域50CA接触的部分的表面的碳(C)含量和硅(Si)含量。例如，覆盖窗基底21的与移印头中心区域50CA接触的部分的表面可以具有范围为从大约31原子百分比(at％)至大约33at％的C含量和范围为大约23at％至大约24at％的Si含量，并且覆盖窗基底21的与移印头凹槽50G对应的部分的表面可以具有范围为大约15at％至大约16at％的C含量和范围为大约19at％至大约20at％的Si含量。
接下来，可以通过以大约150℃加热第一油墨I1转移到的覆盖窗基底21大约10分钟形成如图14中所示的遮光层22。也就是说，当通过加热使转移到覆盖窗基底21的第一油墨I1变干时，可以形成遮光层22。遮光层22可以限定覆盖窗基底21的一部分通过其暴露的遮光层孔22H(见图14)。因为第一移印头50不接触覆盖窗基底21的一部分，所以可以形成遮光层孔22H，并且因此，第一油墨I1不转移到覆盖窗基底21的所述一部分。
参照图7至图14描述的将第一油墨I1转移到第一移印头50的步骤、将第一油墨I1转移到覆盖窗基底21的步骤、以及以大约150℃将第一油墨I1转移到的覆盖窗基底21加热大约10分钟的步骤可以多次执行。也就是说，由于多次执行上述步骤，遮光层22在z方向上的厚度可以增加，并且因此，可以改善遮光层22的阻挡光使得显示面板10的布线或电路无法从外部识别的效果。
图15和图16是用于描述根据实施例的制造覆盖窗的方法中将第二油墨I2转移到覆盖窗基底21的步骤的视图。图15是示出沿图10的线IV-IV'截取的覆盖窗基底21的截面图，特别地示出当第二移印头80定位在覆盖窗基底21上方时的第二移印头80和覆盖窗基底21。图16是示出沿图10的线IV-IV'截取的覆盖窗基底21的截面图，特别地示出当第二移印头80压在覆盖窗基底21上时的第二移印头80和覆盖窗基底21。
首先，如图15中所示，第二移印头80的第二油墨I2所转移到的底表面(在-z方向上的底表面)可以定位为面对覆盖窗基底21，并且然后第二移印头80和覆盖窗基底21可以彼此对准。详细地，第二移印头80可以定位在覆盖窗基底21上方，使得第二移印头80的底表面(在-z方向上的底表面)的中心部分与遮光层孔22H对应。
第二油墨I2可以与第一油墨I1(例如，见图11)不同。例如，第二油墨I2可以包括红色、绿色或蓝色的染料或颜料。因此，第二油墨I2可以具有特定颜色。第二油墨I2的颜色可以由第二油墨I2中包括的染料或颜料确定。第二油墨I2可以定位在不包括凹槽的印刷板上，并且当第二移印头80定位在印刷板上并压在印刷板上时，第二油墨I2可以转移到第二移印头80。
因此，第二油墨I2可以转移到第二移印头80的底表面(在-z方向上的底表面)和侧表面的一部分。如上参照图8所述，第一油墨I1可以转移到第一移印头50的移印头外围区域50PA。也就是说，在第一移印头50中，第一油墨I1可以转移到第一移印头50的底表面(在-z方向上的底表面)的围绕底表面(在-z方向上的底表面)的中心部分的外部部分和第一移印头50的侧表面的与底表面(在-z方向上的底表面)的外部部分接触的部分。然而，在第一移印头50中，第一油墨I1可以不转移到第一移印头50的底表面(在-z方向上的底表面)的中心部分。当与第一移印头50相比时，在第二移印头80中，第二油墨I2可以转移到第二移印头80的底表面(在-z方向上的底表面)的中心部分。另外，在第二移印头80中，第二油墨I2可以转移到第二移印头80的底表面(在-z方向上的底表面)的围绕底表面(在-z方向上的底表面)的中心部分的外部部分、以及第二移印头80的侧表面的与所述外部部分接触的部分。第二移印头80的底表面(在-z方向上的底表面)的面积可以与覆盖窗基底21的通过遮光层孔22H暴露的部分的面积相同或相似。
接下来，如图16中所示，可以通过压第二移印头80，将第二移印头80压在覆盖窗基底21上。因此，转移到第二移印头80的底表面(在-z方向上的底表面)和第二移印头80的侧表面的所述部分的第二油墨I2可以转移到覆盖窗基底21。详细地，第二移印头80可以压在覆盖窗基底21的通过遮光层孔22H暴露的部分上，并且转移到第二移印头80的第二油墨I2可以转移到覆盖窗基底21的通过遮光层孔22H暴露的部分。如上所述，第二移印头80的底表面(在-z方向上的底表面)的面积可以与覆盖窗基底21的通过遮光层孔22H暴露的部分的面积相同或相似。因此，第二油墨I2可以仅转移到覆盖窗基底21的通过遮光层孔22H暴露的部分以及遮光层22的与覆盖窗基底21的所述部分相邻的部分，并且可以不转移到其他区域。
与第一移印头50(见图8)类似，第二移印头80可以附接到连接单元CP的表面，并且可以连接到控制装置CM。对在第一移印头50、连接单元CP和控制装置CM之中的关系的描述可以适用于在第二移印头80、连接单元CP和控制装置CM之中的关系，并且因此将省略重复描述。
当覆盖窗基底21的第二油墨I2转移到的部分是覆盖窗基底21的与第一移印头50接触的部分时，可能不容易将第二油墨I2转移到覆盖窗基底21的所述部分。也就是说，在将第一油墨I1(见图8)转移到覆盖窗基底21的过程中，第二油墨I2可能转移到覆盖窗基底21的与第一移印头50接触的部分。在这种情况下，覆盖窗基底21的所述部分的表面可能被异物污染。例如，当第一移印头50包括硅类化合物时，覆盖窗基底21的与第一移印头50接触的部分的表面可能被硅油污染。因此，可能不容易将第二油墨I2转移到覆盖窗基底21的与第一移印头50接触的部分。
然而，在根据本实施例的制造覆盖窗的方法中，第一移印头50可以包括移印头凹槽50G(见图9)。因此，在将第一油墨I1转移到覆盖窗基底21的过程中，覆盖窗基底21的与第一移印头50的移印头凹槽50G对应的部分可以不接触第一移印头50。因此，覆盖窗基底21的第二油墨I2转移到的部分的表面可以不被异物污染。详细地，在根据本实施例的制造覆盖窗的方法中，覆盖窗基底21的通过遮光层孔22H暴露的部分的表面可以具有范围为从大约15at％至大约16at％的C含量和范围为从大约19at％至大约20at％的Si含量。也就是说，覆盖窗基底21的通过遮光层孔22H暴露的部分的表面可以不被异物污染。因此，当第二油墨I2转移到覆盖窗基底21时，第二油墨I2可以容易地转移到覆盖窗基底21。因此，可以降低制造过程中的缺陷的风险。
接下来，如图17中所示，可以通过以大约150℃加热第二油墨I2转移到的覆盖窗基底21大约10分钟形成颜色层23。也就是说，当通过加热使转移到覆盖窗基底21的第二油墨I2变干时，可以形成颜色层23。颜色层23可以覆盖遮光层孔22H。也就是说，颜色层23的一部分可以形成在遮光层孔22H中，并且颜色层23的一部分可以形成在遮光层22的与遮光层孔22H相邻的部分上。
尽管已经描述了制造覆盖窗的方法，但本公开不限于此。例如，通过所述制造方法制造的覆盖窗20(例如，见图18)也属于本公开的范围。现在将对覆盖窗20进行描述。已经描述了如上制造的覆盖窗20的效果，并且因此，将省略重复描述，并且将仅描述覆盖窗20的结构。为了解释的方便，将省略与参照图1至图17所做的相同描述。
图18是示出根据实施例的覆盖窗20的透视图。图19是示出根据实施例的覆盖窗20的截面图。详细地，图19是示意性示出沿图18的线F-F'截取的覆盖窗20的截面图。为了解释的方便，图18和图19示出与显示面板10(见图3)分离的覆盖窗20。图18和图19示出覆盖窗20颠倒翻转的状态，使得覆盖窗20的后表面面向上。
如图18中所示，覆盖窗20可以包括分别与图1中示出的显示区域DA和非显示区域NDA对应的透明区域TA和不透明区域OA。透明区域TA可以包括第一透明区域TA1和第二透明区域TA2，并且不透明区域OA可以包括第一不透明区域OA1和第二不透明区域OA2。也就是说，第一透明区域TA1、第二透明区域TA2、第一不透明区域OA1和第二不透明区域OA2可以分别对应于图1中示出的第一显示区域DA1、第二显示区域DA2、第一非显示区域NDA1和第二非显示区域NDA2。第一透明区域TA1、第二透明区域TA2、第一不透明区域OA1和第二不透明区域OA2的位置和形状可以分别对应于第一显示区域DA1、第二显示区域DA2、第一非显示区域NDA1和第二非显示区域NDA2的位置和形状。详细地，第二透明区域TA2可以定位在第一透明区域TA1的在第一方向(例如，x方向或-x方向)上的相反两侧上，第一不透明区域OA1可以定位在第一透明区域TA1的在第二方向(例如，y方向或-y方向)上的相反两侧上，并且第二不透明区域OA2可以围绕第二透明区域TA2。因此，将省略对其的重复描述。
透明区域TA可以是光学透明区域。因此，显示面板10(见图3)可以通过覆盖窗20的第一透明区域TA1和第二透明区域TA2显示图像，第一透明区域TA1和第二透明区域TA2是光学透明的。与显示区域DA和非显示区域NDA之间的关系类似，在实施例中，不透明区域OA可以围绕透明区域TA。不透明区域OA的透光率可以小于透明区域TA的透光率。
覆盖窗20可以包括覆盖窗基底21、遮光层22和颜色层23。覆盖窗基底21可以具有与覆盖窗20的形状基本上相同的形状。覆盖窗基底21可以包括玻璃、蓝宝石或塑料。例如，覆盖窗基底21可以是超薄玻璃或无色聚酰亚胺(“CPI”)，所述超薄玻璃/>的强度通过使用诸如化学强化或热强化的方法增强。覆盖窗基底21可以具有其中柔性聚合物层定位在玻璃基底的表面上的结构，或者可以仅包括聚合物层。因为覆盖窗20包括覆盖窗基底21，所以覆盖窗基底21可以包括第一透明区域TA1、第二透明区域TA2、第一不透明区域OA1和第二不透明区域OA2。为了解释的方便，下面将在假设覆盖窗基底21包括第一透明区域TA1、第二透明区域TA2、第一不透明区域OA1和第二不透明区域OA2的情况下进行描述。
遮光层22可以定位在覆盖窗基底21上。详细地，遮光层22可以定位在不透明区域OA中。在实施例中，遮光层22可以包括遮光材料。也就是说，遮光层22可以包括阻挡光使得显示面板10的布线或电路无法从外部识别的不透明材料。遮光材料可以包括黑色染料和黑色颗粒中的至少一种。例如，遮光材料可以包括Cr、CrOx、Cr/CrOx、Cr/CrOx/CrNy、树脂(碳素颜料或RGB混合颜料)、石墨、非Cr类材料、内酰胺类颜料、或苝类颜料。遮光材料可以包括黑色有机颜料，并且黑色有机颜料可以包括选自由苯胺黑、内酰胺黑和苝黑组成的组中的至少一种。
遮光层22可以限定覆盖窗基底21的一部分通过其暴露的遮光层孔22H。在实施例中，可以在覆盖窗20的上侧上限定遮光层孔22H。详细地，可以在定位在第一透明区域TA1的上侧上的第一不透明区域OA1中限定遮光层孔22H。然而，本公开不限于此。例如，可以在定位在第一透明区域TA1的下侧上的第一不透明区域OA1中限定遮光层孔22H。
如图19中所示，颜色层23可以填充遮光层孔22H。详细地，颜色层23可以定位在遮光层孔22H中。在实施例中，颜色层23的一部分可以定位在遮光层孔22H中，并且颜色层23的另一部分可以定位在遮光层22的与遮光层孔22H相邻的部分上。颜色层23可以包括红色、绿色或蓝色的染料或颜料。因此，颜色层23可以具有特定颜色。颜色层23的颜色可以由颜色层23中包括的染料或颜料确定。虽然在图19中未示出，但显示设备1(例如，见图1)可以包括定位在颜色层23下面的组件。也就是说，组件可以与颜色层23重叠。组件是使用红外光或可见光的相机，并且可以包括图像拾取装置。可替代地，组件可以包括闪光灯、接近传感器、照明传感器和红外(“IR”)传感器中的至少一种。由于颜色层23比遮光层22仅阻挡小的光的量，因此外部光可以通过颜色层23到达组件，或者来自组件的光可以到达外部。
覆盖窗基底21的与颜色层23接触的界面的C含量和Si含量可以低于覆盖窗基底21的在透明区域TA(见图18)中并靠近遮光层22的表面的C含量和Si含量。本文中所使用的“覆盖窗基底的与颜色层接触的界面”指覆盖窗基底21的从覆盖窗基底21和颜色层23之间的接触点到覆盖窗基底21内部大约10nm的深度的部分，并且本文中所使用的“覆盖窗基底的表面”指覆盖窗基底21的从覆盖窗基底21和覆盖窗基底21的外部之间的接触点到覆盖窗基底21内部大约10nm的深度的部分。也就是说，覆盖窗基底21的在透明区域TA中并靠近遮光层22的表面的C含量和Si含量可以高于覆盖窗基底21的与颜色层23接触的界面的C含量和Si含量。例如，覆盖窗基底21的在透明区域TA中并靠近遮光层22的表面可以具有范围为从大约31at％至大约33at％的C含量和范围为从大约23at％至大约24at％的Si含量，并且覆盖窗基底21的与颜色层23接触的界面可以包括范围为从大约15at％至16at％的C含量和范围为从大约19at％至大约20at％的Si含量。
尽管在图19中遮光层22仅限定一个遮光层孔22H，但本公开不限于此。例如，如图20中所示，图20是示出根据实施例的覆盖窗20的截面图，可以提供多个遮光层孔22H。遮光层孔22H可以限定在第一不透明区域OA1中，并且遮光层孔22H可以彼此间隔开。
在这种情况下，颜色层23可以填充多个遮光层孔22H。详细地，一个一体形成的颜色层23可以填充多个遮光层孔22H。可替代地，可以提供多个颜色层23，并且多个颜色层23中的每一层可以填充遮光层孔22H。因此，分别填充多个遮光层孔22H的多个颜色层23的颜色可以彼此不同。然而，本公开不限于此，并且即使当多个颜色层23填充多个遮光层孔22H时，多个颜色层23的颜色也可以相同。多个遮光层孔22H可以具有相同或相似的形状，并且可以具有相同的尺寸或相似的尺寸。可替代地，多个遮光层孔22H可以具有不同的形状或者可以具有不同的尺寸。
如上所述，根据实施例，可以实现一种其中可以降低制造过程中的缺陷的风险的覆盖窗和一种制造覆盖窗的方法。然而，本公开的范围不受这些效果的限制。
应当理解的是，本文中描述的实施例应当仅在描述性意义上考虑，并且不是为了限制的目的。每个实施例中的特征或方面的描述通常应当被视为可用于其他实施例中的其他相似特征或方面。虽然已经参照附图描述了一个或多个实施例，但本领域的普通技术人员将理解的是，在不背离由所附权利要求限定的精神和范围的情况下，可以在其中进行形式和细节上的各种改变。
Claims (21)
1.一种制造覆盖窗的方法，其中，所述方法包括：
将第一油墨提供到印刷板；
将所述第一油墨转移到第一移印头，所述第一移印头包括移印头中心区域和移印头外围区域，其中，所述移印头中心区域包括所述第一移印头的底表面的中心部分，并且所述移印头外围区域围绕所述移印头中心区域并在所述移印头外围区域中限定移印头凹槽；以及
将所述第一油墨从所述第一移印头转移到覆盖窗基底，
其中，所述第一油墨到所述第一移印头的所述转移包括将所述第一油墨转移到所述移印头外围区域。
2.根据权利要求1所述的方法，其中，所述第一油墨到所述第一移印头的所述转移包括不将所述第一油墨转移到所述移印头外围区域的其中限定所述移印头凹槽的部分。
3.根据权利要求1所述的方法，其中，所述移印头外围区域包括所述第一移印头的所述底表面的围绕所述底表面的所述中心部分的外部部分和所述第一移印头的侧表面的与所述底表面的所述外部部分接触的部分。
4.根据权利要求1所述的方法，其中，所述第一油墨包括遮光材料。
5.根据权利要求1所述的方法，其中，所述印刷板包括印刷板中心区域和围绕所述印刷板中心区域的印刷板外围区域，并且所述印刷板外围区域在所述印刷板外围区域中限定印刷板凹槽，
其中，所述第一油墨到所述印刷板的所述提供包括用所述第一油墨填充所述印刷板凹槽。
6.根据权利要求5所述的方法，其中，所述印刷板凹槽沿着所述印刷板中心区域的外侧延伸。
7.根据权利要求5所述的方法，其中，所述第一油墨到所述第一移印头的所述转移包括：在用所述第一油墨填充所述印刷板凹槽的状态下，通过将所述第一移印头压到所述印刷板，将所述第一油墨转移到所述第一移印头。
8.根据权利要求7所述的方法，其中，所述第一油墨到所述第一移印头的所述转移包括：将填充所述印刷板凹槽的所述第一油墨转移到所述第一移印头。
9.根据权利要求5所述的方法，其中，所述第一油墨到所述第一移印头的所述转移包括：使所述移印头中心区域与所述印刷板中心区域接触，并且使所述移印头外围区域与填充所述印刷板凹槽的所述第一油墨接触。
10.根据权利要求9所述的方法，其中，所述第一油墨到所述第一移印头的所述转移包括：使所述移印头外围区域的其中限定所述移印头凹槽的部分不与填充所述印刷板凹槽的所述第一油墨接触。
11.根据权利要求1所述的方法，其中，所述第一油墨到所述覆盖窗基底的所述转移包括：通过将所述第一油墨转移到的所述第一移印头压到所述覆盖窗基底，将所述第一油墨转移到所述覆盖窗基底。
12.根据权利要求9所述的方法，其中，所述第一油墨到所述覆盖窗基底的所述转移包括：将转移到所述第一移印头的所述第一油墨转移到所述覆盖窗基底。
13.根据权利要求9所述的方法，其中，所述第一油墨到所述覆盖窗基底的所述转移包括：使所述移印头中心区域和所述移印头外围区域与所述覆盖窗基底接触。
14.根据权利要求9所述的方法，其中，所述第一油墨到所述覆盖窗基底的所述转移包括：使所述移印头外围区域的其中限定所述移印头凹槽的部分不与所述覆盖窗基底接触。
15.根据权利要求1所述的方法，其中，所述第一移印头包括硅类化合物。
16.根据权利要求1所述的方法，其中，所述方法还包括：
通过以150摄氏度加热所述第一油墨转移到的所述覆盖窗基底10分钟，在所述覆盖窗基底上形成遮光层和遮光层孔。
17.根据权利要求16所述的方法，其中，所述方法还包括：
将与所述第一油墨不同的第二油墨转移到所述覆盖窗基底；以及
通过以150摄氏度加热所述第二油墨转移到的所述覆盖窗基底10分钟，形成覆盖所述遮光层孔的颜色层。
18.根据权利要求17所述的方法，其中，与所述第一油墨不同的所述第二油墨到所述覆盖窗基底的所述转移包括：通过将所述第二油墨转移到的第二移印头压到所述覆盖窗基底，将所述第二油墨转移到所述覆盖窗基底的通过所述遮光层孔暴露的部分。
19.一种覆盖窗，其中，所述覆盖窗包括：
覆盖窗基底，所述覆盖窗基底包括透明区域和不透明区域，其中，所述透明区域包括第一透明区域和第二透明区域，所述第二透明区域定位在所述第一透明区域的在第一方向上的相反两侧上，并且所述不透明区域包括第一不透明区域和第二不透明区域，所述第一不透明区域定位在所述第一透明区域的在与所述第一方向交叉的第二方向上的相反两侧上，所述第二不透明区域围绕所述第二透明区域；
遮光层，所述遮光层定位在所述不透明区域中；以及
颜色层，所述颜色层填充在所述第一不透明区域中限定的遮光层孔，
其中，所述覆盖窗基底的与所述颜色层接触的界面的碳含量或硅含量低于所述覆盖窗基底的定位在所述透明区域中并靠近所述遮光层的表面的碳含量或硅含量。
20.根据权利要求19所述的覆盖窗，其中，
所述覆盖窗基底的与所述颜色层接触的所述界面具有范围为从15原子百分比至16原子百分比的碳含量，并且
所述覆盖窗基底的在所述透明区域中并靠近所述遮光层的所述表面具有范围为从31原子百分比至33原子百分比的碳含量。
21.根据权利要求19所述的覆盖窗，其中，
所述覆盖窗基底的与所述颜色层接触的所述界面具有范围为从19原子百分比至20原子百分比的硅含量，并且
所述覆盖窗基底的在所述透明区域中并靠近所述遮光层的所述表面具有范围为23原子百分比至24原子百分比的硅含量。
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