CN117031842A - 一种液晶显示器及其制备方法 - Google Patents

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Abstract

本发明公开了一种液晶显示器的制备方法，包括以下步骤：S01：制备包含预设图形或字符的TN液晶空盒；S02：配置混合液，所述混合液中包含液晶和预聚合物，所述预聚合物的含量为所述混合液的10~25%；S03：向所述TN液晶空盒中灌注所述混合液；S04：对灌注了所述混合液的所述TN液晶盒进行紫外光曝光；其中，所述预聚合物为光聚合单体，所述液晶为正性向列相液晶，所述S04步骤中紫外线曝光的光源为垂直于所述液晶混合液液面的垂直入射光源。本发明还公开了一种液晶显示器，该液晶显示器采用本发明公开的制备方法进行制备。

Description

一种液晶显示器及其制备方法
技术领域
本发明涉及显示设备领域，具体涉及一种液晶显示器及其制备方法。
背景技术
液晶显示器是人们日常生活中使用频率很高的设备，在手机、平板、电脑、电视等等电器中均起到显示成像的效果；同时，不同型号和不同工艺设备制成的液晶显示器在不同的领域有着不同的应用。
在液晶的分类中，有一类是使用聚合物与液晶的混合液进行制备的液晶显示器，此类液晶显示器可以划分为聚合物分散液晶（PDLC）和聚合物网络液晶（PNLC），这两类液晶的聚合物含量分别为30%以上和15%以下，这两类液晶显示器已经有了成熟的工业应用和工业产品，例如PNLC产品在液晶手写板中应用广泛，将PDLC和PNLC应用做显示器也是业内新产品的开发方向。
目前本领域中极少有使用浓度在15%至30%区间内的聚合物进行液晶显示器制作的方法，且现有的使用浓度在15%至30%的聚合物与液晶的复合体系进成像的显示器的制作工艺相对复杂，制作出来的液晶显示器的品质参差不齐。
发明内容
针对上述提出的液晶显示器的开发价值和市场前景，对相关的液晶显示器的制作方法进行优化以保证液晶显示器的品质，本发明提供了一种液晶显示器及其制备方法。采用该制备方法，能够制备出一种不同于PDLC和PNLC工艺的混合液液晶显示器。
优选地，一种液晶显示器的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：
S01：制备包含预设图形或字符的TN液晶空盒；
S02：配置混合液，所述混合液中包含液晶和预聚合物，所述预聚合物的含量为所述混合液的10~25%；
S03：向所述TN液晶空盒中灌注所述混合液；
S04：对灌注了所述混合液的所述TN液晶盒进行紫外光曝光；
其中，所述预聚合物为光聚合单体，所述液晶为正性向列相液晶，所述S04步骤中紫外线曝光的光源为垂直于所述液晶混合液液面的垂直入射光源。
优选地，所述S01步骤具体为：
S101：通过阵列工艺，制备阵列基板；
S102：通过彩膜工艺，制备彩膜基板；
S103：通过成盒工艺，形成所述TN液晶空盒。
优选地，所述S101步骤具体为：
S1011：使用清洗剂和超纯水清洗玻璃基板；
S1012：在所述玻璃基板上，控制溅射电压为220V至280V之间，溅射功率在120W至150W，溅射时间25min至40min，形成金属薄膜；
S1013：在所述金属薄膜表面涂覆光刻胶，通过掩膜版照射所述玻璃基板并对其进行曝光；
S1014：将所述玻璃基板放置进入腐蚀液或腐蚀气体中进行腐蚀处理；
S1015：去除残余的光刻胶；
S1016：通过化学气象淀积，形成绝缘体或半导体薄膜；
S1017：多次重复所述S1012至所述S1016后，得到所述阵列基板。
优选地，所述S102步骤具体为：
S1021：使用清洗剂和超纯水清洗彩膜基板；
S1022：在所述彩膜基板上涂覆感光材料，并通过掩膜版进行曝光和显影，形成黑矩阵；
S1023：在所述彩膜基板的像素位置依次涂覆RGB感光层并形成RGB滤光层；
S1024：在所述彩膜基板上淀积导电薄膜；
S1025：在所述彩膜基板上涂覆衬垫物，得到所述彩膜基板。
优选地，所述S103步骤具体为：
S1031：使用清洗剂和超纯水清洗所述S101步骤得到的所述阵列基板和所述S102步骤得到的所述彩膜基板；
S1032：在所述阵列基板和所述彩膜基板上涂覆形成取向层；
S1033：使用滚轮沿特定方向摩擦所述阵列基板和所述彩膜基板，
S1034：压合形成所述TN液晶空盒。
优选地，所述S02步骤具体为：
S201：加热所述液晶和所述预聚合物至预设温度，预设温度在220℃至280℃之间；
S202：将加热后的所述液晶和所述预聚合物进行混合，得到加热预混合液；
S203：将所述加热与混合液降低至高于室温的温度，所述加热预混合液得到所述混合液。
优选地，所述S03步骤具体为：
S301：沿水平方向向所述TN液晶空盒中灌注所述S02步骤配置好的所述混合液；
S302：在所述TN液晶空盒中涂覆封边框胶；
S303：真空压合所述液晶空盒。
另外，本发明还提供了一种液晶显示器，其采用上述方法进行制备。
本发明具有以下有益效果：
通过将聚合物和液晶进行混合后制备液晶显示器，降低了液晶显示器的生产成本；
通过上述制造工艺，在需要显示特定图形或字符的显示场景下，能够满足现实场景的需求，同时呈现更好的显示效果。
具体实施方式
下面结合实施例对本发明作进一步的详细说明，但是本发明不仅限于以下实施例：
本发明公开了一种液晶显示器的制备方法，一种液晶显示器的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：
S01：制备包含预设图形或字符的TN液晶空盒；
S02：配置混合液，所述混合液中包含液晶和预聚合物，所述预聚合物的含量为所述混合液的10~25%；
S03：向所述TN液晶空盒中灌注所述混合液；
S04：对灌注了所述混合液的所述TN液晶盒进行紫外光曝光；
其中，所述预聚合物为光聚合单体，所述液晶为正性向列相液晶，所述S04步骤中紫外线曝光的光源为垂直于所述液晶混合液液面的垂直入射光源。
采用垂直于液晶混合液液面的垂直入射光源，同时配合液晶混合液中的预聚合物为光聚合单体液晶采用正性向列相液晶，由于某些现行单体对垂直摄入的光束有易聚合方向的特性，在现有技术中，普遍采用的紫外光为大面积紫外光面光源，紫外线的传输方向为四面八方，常规照射方式下聚合物丝涟会三维散乱分布，无法展现定向聚合的特性。本发明在进行紫外线曝光过程中采用了垂直于液晶混合液面的垂直入射光源，保证预聚合物经过曝光后，其内部的丝涟呈现定向分布。另外，本发明对于聚合物的光聚合单体的具体类型不做具体限定，但从成像效果而言，最好采用可偏振光诱导定向聚合单体。
对照试验1：紫外线照射方向对照试验
此对照试验采用传统紫外线光源（单点光源）和垂直入射光源对相同的混合液进行曝光，通过观察曝光后的混合液内的丝涟的分布情况进行对比
通过上述对照实验能看出，在对液晶混合液进行紫外线曝光时，若采用垂直于混合液页面的入射光源，能够使液晶混合液内的丝涟朝向基本一致，当丝涟朝向基本一致时，所制成的液晶显示器具备定向聚合的特性，能够使得制备而成的液晶显示器的机械性能优异，强度极高，尺寸稳定性、光学性能、电性能、耐化学药品性、自阻燃性、加工性等性能良好，且耐热性好，热膨胀系数低等各项优点。
对照试验2：照射时间对照试验
此对照实验采用垂直入射光源对相同的混合液进行不同时间长度的曝光，观察不同时间长度的曝光下，液晶混合液的状态对比
在经过不同的曝光时间的曝光下，液晶内丝涟的朝向会趋于朝向同一方向的定向聚合特性，且在经过一定曝光时间后，丝涟的朝向不会再发生相关变化。
对照试验3：不同预聚合物浓度制备的液晶显示器的形状测试对比
由上述实验可以看到，当预聚合物浓度低于10%时，是有液晶形成基体，预聚合物离散分布在液晶层中，在实际工作过程中，利用液晶分子的介电各向异性获得具有电光回响特性的材料；在预聚合物浓度为8%时，丝涟网线的离散分布， 液晶作为基体，预聚合物分散在液晶基体中，在预聚合物的浓度低于10%时，制作出的液晶显示器工作在散射态与透明态之间，且该液晶显示器具有一定的灰度。
此类液晶显示器在没有外加电压的情况下，膜间无法形成规律的电场，液晶微粒的光轴去向是随机的，呈现无序状态，入射光线会被散射，显示器液晶薄膜呈现不透明或半透明的状态。当外部施加电压的情况下，液晶微粒的光轴垂直于膜表面排列，与电场方向一致，构成了基本均匀的介质，在通电情况下入射光不会发生散射。
当预聚合物的浓度大于25%时，基体从液晶变为预聚合物形成的球腔基体，液晶被聚合物分散，分布在基体内，此类液晶显示器，在液晶通道中，会出现向列相指向矢的空间失真，液晶通道间的向列指向矢的不连续性，在没有外加电源的情况下，此类液晶显示器呈现暗态，在施加了一定电压的情况下，具有介电各向异性的液晶分子收到电厂扭矩作用，入射光能够透过薄膜，呈现透明态。为保证严谨性，本次对照试验使用了预聚合物浓度25%和30%两个值来进行对照试验，可以明显看出，预聚合物浓度为30%是，基体的成分是预聚合物反应后的聚合物，但当预聚合物浓度为25%时，液晶与预聚合物混合形成混合基体，二者的性状不同，在通电及不通电的情况下呈现不同。
本发明中所用的预聚合物浓度为10%至25%，在此种预聚合物与液晶的配比条件下，基体是由液晶和预聚合物共同形成，预聚合物与液晶共同形成类似蜂窝的密集网络且相互联通，并且，通过对紫外线曝光方向的限定，光聚合单体形成沿液晶盒内二位横躺分布的状态。当没有施加电场时，液晶盒呈现散射态，入射光照射时也会发生散射，当存在外接电场时，液晶盒呈现透明状态，在通电与不通电时，使用此材料制作的液晶显示器能够在散射态与透明态之间形成明显的反差，在显示某些特定字符或图形时具有更好的显示效果。
以下对具体步骤进行具体说明：
其中，S01步骤具体为：
S101：通过阵列工艺，制备阵列基板；
S102：通过彩膜工艺，制备彩膜基板；
S103：通过成盒工艺，形成所述TN液晶空盒。
此处的工艺是为了制备TN液晶空盒，制备TN液晶空盒的过程采用列阵、彩膜和成盒三个主要步骤，通过列阵工艺制备列阵基板，保证列阵基板上的像素排列，同时，在制备特定图形或字符时，在列阵基板的光刻过程中进行计算机预输入，调整像素排列或每个像素点的具体形状以达成包含预设图形或字符。
其中，S101步骤具体为：
S1011：使用清洗剂和超纯水清洗玻璃基板；
S1012：在所述玻璃基板上，控制溅射电压为220V至280V之间，溅射功率在120W至150W，溅射时间25min至40min，形成金属薄膜；
S1013：在所述金属薄膜表面涂覆光刻胶，通过掩膜版照射所述玻璃基板并对其进行曝光；
S1014：将所述玻璃基板放置进入腐蚀液或腐蚀气体中进行腐蚀处理；
S1015：去除残余的光刻胶；
S1016：通过化学气象淀积，形成绝缘体或半导体薄膜；
S1017：多次重复所述S1012至所述S1016后，得到所述阵列基板。
上述步骤为具体的阵列基板的制备工艺，通过溅射淀积形成的金属薄膜，在金属薄膜上进行光刻胶的涂覆，同事经过照射曝光、腐蚀处理，并多次光刻形成最终使用的列阵基板，在此需要说明的是，若需要进行特定字符或图像的阵列基板的制备，在制备过程中所用的掩膜版的形状需要进行对应的设计加工，保证掩膜版照射后的玻璃基板上光刻胶的留存位置和厚度能够达到工艺要求。
通过限定溅射电压、功率时间，在玻璃基板上能够制作出符合结构要求的导电薄膜，导电薄膜上具备多孔结构，多孔结构能够降低导电薄膜的折射率，增加有无施加电源时液晶显示器之间的差异，获得更好的显示效果。
其中，S102步骤具体为：
S1021：使用清洗剂和超纯水清洗彩膜基板；
S1022：在所述彩膜基板上涂覆感光材料，并通过掩膜版进行曝光和显影，形成黑矩阵；
S1023：在所述彩膜基板的像素位置依次涂覆RGB感光层并形成RGB滤光层；
S1024：在所述彩膜基板上淀积导电薄膜；
S1025：在所述彩膜基板上涂覆衬垫物，得到所述彩膜基板。
上述步骤为彩膜基板制作过程中的具体步骤，通过清洗剂和超纯水清洗彩膜基板，清楚基板上的异物杂物，在彩膜基板上形成黑矩阵，之后在每个像素位置依次涂覆RGB感光层，保障像素点上具有RGB显示特性。在此需要说明的是，在需要进行预设图形或字符的TN液晶空盒制备过程中，彩膜基板的RGB涂覆位置需要与阵列基板上的像素点位置对应，此对应过程通过工艺手段去进行，例如对掩膜版进行单独独立设计，保障掩膜版的位置正确，涂覆形成的黑矩阵及RGB滤光层均可满足相关要求。另外，在一些只需要显示特定颜色的应用场景下，RGB的感光层也可仅进行单种涂覆，满足相关应用场景。
其中，所述S103步骤具体为：
S1031：使用清洗剂和超纯水清洗所述S101步骤得到的所述阵列基板和所述S102步骤得到的所述彩膜基板；
S1032：在所述阵列基板和所述彩膜基板上涂覆形成取向层；
S1033：使用滚轮沿着特定方向摩擦所述阵列基板和所述彩膜基板，
S1034：压合形成所述TN液晶空盒。
其中，所述S02步骤具体为：
S201：加热所述液晶和所述预聚合物至预设温度，预设温度在220℃至280℃之间；
S202：将加热后的所述液晶和所述预聚合物进行混合，得到加热预混合液；
S203：将所述加热与混合液降低至高于室温的温度，所述加热预混合液得到所述混合液。
此处例举的制备混合液的具体步骤是通过加热材料并进行混合，把混合后的溶液冷却后制备得到，当然，冷却的温度应高于室温，例如50℃左右，保证能够形成预聚合物的微粒，同时在一定温度条件下对TN液晶空盒内部进行灌注，保证灌注后的混合液内的微粒具备良好的电光性能，根据不同的预聚合物材料，对TN液晶空盒是在高于室温的条件下进行灌注，例如55℃。当然，上述方法是针对能够进行加热的预聚合物，针对不能加热的预聚合物也可以采用目前较为成熟的溶剂相分离法（SIPS）和聚合相分离法（PIPS）等进行相关制备，但需要注意的是，溶剂相分离法（SIPS）在制备过程中的影响因素较多，对于不同材料，不同体系应当摸索其特定的实验条件，以控制其中预聚合物的尺寸和形貌。
其中，所述S03步骤具体为：
S301：沿水平方向向所述TN液晶空盒中灌注所述S02步骤配置好的所述混合液；
S302：在所述TN液晶空盒中涂覆封边框胶；
S303：真空压合所述液晶空盒。
另外，本发明还公开了一种液晶显示器，其采用上述方法进行制备，
以上内容是结合具体的优选实施方式对本发明作的进一步详细说明，不能认定本发明的具体实施方式只局限于这些说明。对于本发明所属技术领域的普通技术人员来说，在不脱离本发明的技术方案下得出的其他实施方式，均应包含在本发明的保护范围内。

Claims (8)

1.一种液晶显示器的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：
S01：制备包含预设图形或字符的TN液晶空盒；
S02：配置混合液，所述混合液中包含液晶和预聚合物，所述预聚合物的含量为所述混合液的10~25%；
S03：向所述TN液晶空盒中灌注所述混合液；
S04：对灌注了所述混合液的所述TN液晶盒进行紫外光曝光；
其中，所述预聚合物为光聚合单体，所述液晶为正性向列相液晶；
所述S02步骤中所述预聚合物含量为所述混合液的10%、15%、20%或25%；
所述S04步骤中紫外线曝光的光源为垂直于所述液晶混合液液面的垂直入射光源。
2.如权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述S01步骤具体为：
S101：通过阵列工艺，制备阵列基板；
S102：通过彩膜工艺，制备彩膜基板；
S103：通过成盒工艺，形成所述TN液晶空盒。
3.如权利要求2所述的制备方法，其特征在于，所述S101步骤具体为：
S1011：使用清洗剂和超纯水清洗玻璃基板；
S1012：在所述玻璃基板上，控制溅射电压为220V至280V之间，溅射功率在120W至150W，溅射时间25min至40min，形成金属薄膜；
S1013：在所述金属薄膜表面涂覆光刻胶，通过掩膜版照射所述玻璃基板并对其进行曝光；
S1014：将所述玻璃基板放置进入腐蚀液或腐蚀气体中进行腐蚀处理；
S1015：去除残余的光刻胶；
S1016：通过化学气象淀积，形成绝缘体或半导体薄膜；
S1017：多次重复所述S1012至所述S1016后，得到所述阵列基板。
4.如权利要求2所述的制备方法，其特征在于，所述S102步骤具体为：
S1021：使用清洗剂和超纯水清洗彩膜基板；
S1022：在所述彩膜基板上涂覆感光材料，并通过掩膜版进行曝光和显影，形成黑矩阵；
S1023：在所述彩膜基板的像素位置依次涂覆RGB感光层并形成RGB滤光层；
S1024：在所述彩膜基板上淀积导电薄膜；
S1025：在所述彩膜基板上涂覆衬垫物，得到所述彩膜基板。
5.如权利要求2所述的制备方法，其特征在于，所述S103步骤具体为：
S1031：使用清洗剂和超纯水清洗所述S101步骤得到的所述阵列基板和所述S102步骤得到的所述彩膜基板；
S1032：在所述阵列基板和所述彩膜基板上涂覆形成取向层；
S1033：使用滚轮沿特定方向摩擦所述阵列基板和所述彩膜基板，
S1034：压合形成所述TN液晶空盒。
6.如权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述S02步骤具体为：
S201：加热所述液晶和所述预聚合物至预设温度，预设温度在220℃至280℃之间；
S202：将加热后的所述液晶和所述预聚合物进行混合，得到加热预混合液；
S203：将所述加热与混合液降低至高于室温的温度，所述加热预混合液得到所述混合液。
7.如权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述S03步骤具体为：
S301：沿水平方向向所述TN液晶空盒中灌注所述S02步骤配置好的所述混合液；
S302：在所述TN液晶空盒中涂覆封边框胶；
S303：真空压合所述液晶空盒。
8.一种液晶显示器，其特征在于，采用如权利要求1至7中任一所述的方法进行制备。
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