CN117031834A - 一种显示面板及其制备方法、控制方法和显示装置 - Google Patents

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Abstract

本发明公开了一种显示面板及其制备方法、控制方法和显示装置，显示面板包括依次设置的阵列基板、液晶层和对置基板；显示区包括反射区和发光区，反射区围绕发光区；反射区设置反射层、像素电极和公共电极，像素电极和反射层位于阵列基板，且，反射层位于像素电极远离液晶层的一侧；公共电极位于对置基板，像素电极和公共电极相对设置；或者，公共电极位于阵列基板，像素电极和公共电极同层；发光区的发光器件位于阵列基板；阵列基板还的反射驱动电路与像素电极电连接，发光驱动电路与发光器件电连接。通过反射区和发光区单独显示，降低显示面板的整机功耗和解决整机发热的问题，实现显示面板的多种模式显示。

Description

一种显示面板及其制备方法、控制方法和显示装置
技术领域
本发明实施例涉及显示技术领域，尤其涉及一种显示面板及其制备方法、控制方法和显示装置。
背景技术
随着显示行业的发展，显示面板单一模式的显示功能越来越不能满足显示应用的需求。与此同时，在显示面板在显示时，由于通过IC(Integrated driver chip，IC)电流驱动显示面板的发光器件进行发光，随着发光器件数量增多，PPI(Pixels Per Inch，PRI)变大，会导致显示面板的整体功耗增加，极易造成元器件发热，同时由于显示面板的使用环境越来越复杂，例如在户外使用，易导致芯片使用寿命及光效的降低，影响显示效果、使用成本及后续的维修成本等，不利于显示面板的市场推广和应用。
发明内容
本发明提供一种显示面板及其制备方法、控制方法和显示装置，通过将显示区划分为反射区和发光区，将反射区和发光区单独显示，在一些不需要彩色显示的应用，仅采用反射区显示，可以降低显示面板的整机功耗和解决整机发热的问题，实现显示面板的多种模式显示，满足显示面板的多种使用环境应用。
第一方面，本发明实施例提供了一种显示面板，包括依次设置的阵列基板、液晶层、对置基板和偏光层；所述显示面板包括显示区，所述显示区包括反射区和发光区，所述反射区围绕所述发光区；
所述反射区包括反射层、像素电极和公共电极，所述像素电极和所述反射层位于所述阵列基板，且，所述反射层位于所述像素电极远离所述液晶层的一侧；所述公共电极位于所述对置基板，所述像素电极和所述公共电极相对设置；或者，所述公共电极位于所述阵列基板，所述像素电极和所述公共电极同层或者异层绝缘设置；
所述发光区包括发光器件，所述发光器件位于所述阵列基板；沿第一方向，所述反射层的投影围绕所述发光器件的投影；其中，所述第一方向为所述显示面板的厚度方向；
所述阵列基板还包括反射驱动电路和发光驱动电路，所述反射驱动电路与所述像素电极电连接；所述发光驱动电路与所述发光器件电连接。
第二方面，本发明实施例还提供了一种显示面板的制备方法，包括：
制备阵列基板；
制备对置基板；
将所述阵列基板和所述对置基板对位贴合；且，在所述阵列基板和所述对置基板之间填充液晶层；
在所述对置基板远离所述阵列基板的一侧贴附偏光层；
其中，所述显示面板包括显示区，所述显示区包括反射区和发光区，所述反射区围绕所述发光区；所述反射区包括像素电极、公共电极和反射层，所述像素电极和所述反射层位于所述阵列基板，且，所述反射层位于所述像素电极远离所述液晶层的一侧；所述公共电极位于所述阵列基板，所述像素电极和所述公共电极同层；或者，所述公共电极位于所述对置基板，所述像素电极和所述公共电极相对设置；
所述发光区包括发光器件，所述发光器件位于所述阵列基板；沿第一方向，所述反射层的投影围绕所述发光器件的投影；其中，所述第一方向为所述显示面板的厚度方向；
所述阵列基板还包括反射驱动电路和发光驱动电路，所述反射驱动电路分别与所述像素电极、所述公共电极电连接；所述发光驱动电路与所述发光器件电连接。
第三方面，本发明实施例还提供了一种显示面板的控制方法，包括：
反射工作模式，控制发光驱动电路关闭，发光区为黑态显示；控制反射驱动电路开启，反射区为灰态显示。
直显工作模式，控制反射驱动电路关闭，反射区为常白显示；控制发光驱动电路开启，发光区为彩色显示。
第四方面，本发明实施例还提供了一种显示装置，还显示装置包括第一方面提供的显示面板。
本发明实施例提供的显示面板，通过将显示区划分为反射区和发光区，反射区围绕发光区，设置发光驱动电路单独向发光器件提供驱动电压，实现彩色显示；在反射区设置反射层、像素电极和公共电极，设置反射驱动电路单独向像素电极提供像素电压，使得像素电极与公共电极之间形成电场，利用电场驱动液晶分子偏转，调整外界光线经反射层反射后由液晶层、对置基板出射的光线亮度，以形成灰态显示，实现显示面板的多种模式显示，满足显示面板的多种使用环境应用。
附图说明
图1是本发明实施例提供的一种显示面板的结构示意图；
图2是本发明实施例提供的另一种显示面板的结构示意图；
图3是图1中沿AA’方向的一种截面示意图；
图4是图1中沿AA’方向的另一种截面示意图；
图5是图1中沿AA’方向的一种截面示意图；
图6是图1中沿AA’方向的另一种截面示意图；
图7是图1中沿AA’方向的一种截面示意图；
图8是本发明实施例提供的显示面板的直显工作模式的示意图；
图9是本发明实施例提供的显示面板的反射工作模式的示意图；
图10是本发明实施例提供的一种显示面板的制备方法的示意图；
图11是本发明实施例提供的另一种显示面板的制备方法的示意图；
图12是本发明实施例提供的一种阵列基板的制备方法的流程示意图；
图13是本发明实施例提供的一种对置基板的制备方法的流程示意图；
图14为本发明实施例提供的一种显示面板的控制方法的示意图；
图15是本发明实施例提供的一种显示装置的结构示意图。
具体实施方式
下面结合附图和实施例对本发明作进一步的详细说明。可以理解的是，此处所描述的具体实施例仅仅用于解释本发明，而非对本发明的限定。另外还需要说明的是，为了便于描述，附图中仅示出了与本发明相关的部分而非全部结构。
现有技术中，针对显示面板降低功耗，通常是通过降低发光器件的驱动电流，或者对发光器件的驱动电路进行分段电流设计，但是，由于电流的变化易导致发光器件的色度及亮度存在显示差异，最终影响显示面板的的显示效果。
基于此，发明人进一步研究提出本发明实施例的技术方案。具体的，本发明实施例提供了一种显示面板包括依次设置的阵列基板、液晶层、对置基板和偏光层；显示面板包括显示区，显示区包括反射区和发光区，反射区围绕发光区；反射区包括反射层、像素电极和公共电极，像素电极和反射层位于阵列基板，且，反射层位于像素电极远离液晶层的一侧；公共电极位于对置基板，像素电极和公共电极相对设置；或者，公共电极位于阵列基板，像素电极和公共电极同层或者异层绝缘设置；发光区包括发光器件，发光器件位于阵列基板；沿第一方向，反射层的投影围绕发光器件的投影；其中，第一方向为显示面板的厚度方向；阵列基板还包括反射驱动电路和发光驱动电路，反射驱动电路与像素电极电连接；发光驱动电路与发光器件电连接。
采用上述技术方案，本申请显示面板由依次设置的阵列基板、液晶层和对置基板组成，液晶层中填充液晶分子，将显示区划分为反射区和发光区，反射区围绕发光区，通过发光驱动电路单独向发光器件提供驱动电压，实现彩色显示，从而降低显示面板的整机功耗和解决整机发热的问题；在反射区设置反射层、像素电极和公共电极，通过反射驱动电路单独向像素电极提供像素电压，像素电极与公共电极之间形成电场，驱动液晶层液晶分子偏转，利用反射层反射外界环境入射的光线，使得部分外界环境光经反射层反射后由液晶层、对置基板出射，形成灰态显示，利用外部环境光线做光源，通过调节液晶分子的偏转，调节反射光的亮度，实现显示面板的多种模式显示，满足显示面板的多种使用环境和应用，从而实现降低显示面板的功耗、成本以及后期的维护。
以上是本发明的核心思想，下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下，所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。
图1是本发明实施例提供的一种显示面板的结构示意图；图2是本发明实施例提供的另一种显示面板的结构示意图；图3是图1中沿AA’方向的一种截面示意图；图4是图1中沿AA’方向的另一种截面示意图；图5是图1中沿AA’方向的一种截面示意图；图6是图1中沿AA’方向的另一种截面示意图。结合图1-图6所示，本发明实施例提供的显示面板200包括依次设置的阵列基板10、液晶层20、对置基板30和偏光层302；显示面板200包括显示区AA，显示区AA包括反射区A1和发光区A2，反射区A1围绕发光区A2；反射区A1包括反射层103、像素电极104和公共电极105，像素电极104和反射层103位于阵列基板10，且，反射层103位于像素电极104远离液晶层20的一侧；或者，如图3和图4所示，公共电极105位于阵列基板10，像素电极104和公共电极105同层；或者，公共电极105位于阵列基板10，像素电极104和公共电极105异层(图中未示出)；如图5和图6所示，公共电极105位于对置基板30，像素电极104和公共电极105相对设置；发光区A2包括发光器件21，发光器件21位于阵列基板10；沿第一方向(如图中Z方向所示)，反射层103的投影围绕发光器件21的投影；其中，第一方向(如图中Z方向所示)为显示面板200的厚度方向；阵列基板10还包括反射驱动电路和发光驱动电路，反射驱动电路与像素电极104电连接；发光驱动电路与发光器件21电连接。
具体的，结合图1和图2所示，本申请实施例提供的显示面板200包括显示区AA，显示区AA用于显示画面，将显示区AA划分为反射区A1和发光区A2，反射区A1用于反射工作模式的灰态显示；发光区A2内设置发光器件21，发光区A2用于直显工作模式的彩色显示，其中，反射区A1的灰态显示和发光区A2的彩色显示独立互不影响。
结合图3-图6所示，显示面板200包括依次设置的阵列基板10、液晶层20和对置基板30，液晶层20内填充液晶分子。示例性的，液晶层20可以采用电控双折射型液晶(ECB型液晶)，液晶采用正性液晶，液晶排列方式为垂直排列液晶(DAP型)，其中，ECB型液晶是一种可以由电压控制显示多种颜色的彩色液晶，DAP型液晶是由具有负介电各向异性的向列液晶垂直于液晶盒表面排列构成。ECB型液晶显示器件在通电时，液晶分子长轴与电场之间的夹角因电压大小不同而变化，故使液晶盒的双折射率发生变化。当线偏振光人射该液晶盒后，在不同的双折射率下会形成不同的相位延迟，器件因此具有相位调制能力。
结合图3-图6所示，阵列基板10包括第一衬底101以及位于第一衬底101一侧的驱动电路层102，其中，第一衬底101可以为玻璃或硅片等刚性材料，也可为超薄玻璃、金属箔或高分子塑料材料等柔性材料，柔性或者刚性第一衬底101可以阻挡氧和湿气，防止湿气或杂质通过第一衬底101向显示面板内部扩散。驱动电路层102包括反射驱动电路和发光驱动电路(图中均未示出)，发光驱动电路可以是2T1C、4T1C、7T1C、7T2C、8T1C、8T2C等电路结构，发光驱动电路包括多个薄膜晶体管(Thin Film Transistor，TFT)、存储电容和金属走线等结构(图中未示出)，薄膜晶体管TFT的漏极与发光器件21的阳极电连接，发光驱动电路用于向发光器件21提供驱动电压，驱动发光器件21发光；反射驱动电路包括至少一个薄膜晶体管(Thin Film Transistor，TFT)，薄膜晶体管TFT的漏极与像素电极104的电连接，用于向像素电极104提供像素电压。本申请通过反射驱动电路，控制显示面板的反射区A1实现彩色显示，通过发光驱动电路控制发光区A2实现灰态显示，从而实现显示面板的多种显示效果，在一些显示应用中，用户可以根据需要选择灰态显示，可以避免一直采用彩色显示，从而实现整体功耗的下降；若使用过程中，反射区A1和/或发光区A2出现显示故障，由于反射驱动电路和发光驱动电路独立，便于后续显示面板的维修，同时有利于降低显示面板使用以及后续的维修成本。
图7是图1中沿AA’方向的一种截面示意图。结合图4、图6以及图7所示，在阵列基板10的反射区A1内，在驱动电路层102远离第一衬底101的一侧，且像素电极104远离液晶层20的一侧设置反射层103。其中，反射层103的材料可以是金属结构。示例性的，如银膜层。在阵列基板10的发光区A2内设置发光器件21；反射区A1内，在驱动电路层102远离第一衬底101的一侧蒸镀一层反射金属层，沿图中Z方向，设置反射层103的投影围绕发光器件21的投影，利用反射层103围绕发光器件21，一方面，结合图4和图6所示，在发射显示时，可以反射外界环境光线作为灰态显示的光源，另一方面，结合图7所示，在彩色显示时，可以反射发光器件21的侧向出射光线S2或者大视角方向光线，以提高发光器件21的出光亮度。
结合图3和图4所示，本申请实施例的像素电极104和公共电极105可以同时位于阵列基板10，像素电极104和公共电极105同层绝缘设置或者异层(图中未示出)绝缘设置，像素电极104和公共电极105之间可以产生与第一衬底101所确定平面平行的水平电场，控制液晶分子在与第一衬底101确定平面平行的方向内进行偏转。示例性的，可以采用“图案化”的工艺制备像素电极104和公共电极105；或者，结合图5和图6所示，像素电极104位于阵列基板10，公共电极105位于对置基板30，像素电极104和公共电极105相对设置，像素电极104和公共电极10之间产生垂直电场，控制液晶分子在垂直电场方向上偏转。其中，像素电极104和公共电极105的材料采用透明导电材料，示例性的，如，ITO(氧化铟锡)，IZO(氧化铟锌)、ITO/Ag/ITO等；在置基板30远离阵列基板10的一侧贴附偏光层302，例如线偏振片，当公共电极105位于对置基板30，偏光层302和公共电极105的相对位置不做限制。
根据不同的显示应用需求，本申请实施例提供的像素电极104与发光器件21存在多种应关系，一种可行的实施方式，如图1所示，沿图中Z方向，可以设置一个像素电极104的投影围绕一个发光器件21；一种可行的实施方式，如图2所示，沿图中Z方向，可以设置一个像素电极104的投影围绕多个发光器件21，其中，图2仅以一个像素电极104的投影围绕2个发光器件21为例进行说明，更多的实施例，本申请不再一一示出。通过合理设置像素电极104的覆盖区域，实现对反射区特定面积内的液晶分子控制，实现显示面板的最终显示。
在上述实施例的基础上，本申请实施例提供的显示面板存在多种显示模式，如直显工作模式和反射工作模式，图8是本发明实施例提供的显示面板的直显工作模式的示意图。其中，当显示面板的直显工作模式启动，发光驱动电路启动，发光驱动电路向发光器件21提供驱动电压，驱动发光器件21出射的显示光线S2透过液晶层20和对置基板30，正常显示彩色画面；反射驱动电路关闭，反射区为常白态，为发光区A2提供白光背光。结合图3和图5所示，在显示面板直显工作模式启动，反射工作模式关闭时，反射驱动电路关闭，像素电极104和公共电极105之间无电场作用，液晶层20内的液晶分子无偏转，外界环境光S1经偏光层302选偏后穿过液晶层20、像素电极104，大部分环境光经反射层103反射后再从像素电极104、液晶层20、对置基板30出射，在反射区A1形成白光反射，反射区A1为常白态，如图8所示。
图9是本发明实施例提供的显示面板的反射工作模式的示意图。其中，当显示面板的反射工作模式启动，发光驱动电路关闭，发光器件21不发光；反射驱动电路启动，反射驱动电路向像素电极10提供像素电压。结合图4和图6所示，显示面板直显工作模式关闭，发光驱动电路关闭，发光器件21不发光，发光器件21的发光面无反射层，外界环境光线到达发光器件21后被吸收，无法经发光器件21表面反射后出射，如图中虚线箭头所示，从而在发光区A1表现为类灰态显示，如图9中的发光器件21所示；反射工作模式启动时，反射驱动电路启动，反射驱动电路向像素电极104提供稳定的像素电压，公共电极105与稳定电压连接，像素电极104和公共电极105之间形成稳定电场，可以使液晶层20保持稳定的偏转角度，进而保证稳定的相位调制效果，使显示的画面可以持续保持，直到下一次更新画面，于此同时，外界环境光S1作为光源，外界环境光S1经偏光层302选偏后形成线偏振光线，由于液晶层20的液晶分子受电场作用偏转，线偏振光线透过液晶分子后偏振方向发生不同角度的改变，再透过像素电极104到达反射层103，经反射层103反射后部分线偏振光线无法从偏光层302出射，部分线偏振光线形成反射光线出射，相比于反射工作模式关闭时反射区A1为常白态时，反射区A1的显示亮度由常白态发生灰度变化，形成如图9中反射区A1所示的灰态显示，本申请通过调整像素电极104和公共电极105之间的稳定电场强度，改变液晶分子的偏转角，从而调整反射光线的亮度，从而调整反射区A1的灰度值，以达到反射区A1的灰态显示。示例性的，在无彩色显示的应用中，通过启动灰态显示模式，调节反射区A1的出射光线的亮度，可以满足一些无需色彩显示的应用，如时间显示、数字显示等，从而起到降低显示面板的功耗的目的。本申请利用电场驱动液晶分子偏转，控制部分反射光线透过液晶层20和透过置基板30，从而改变反射区A1的反射亮度，在反射区A1形成反射式的灰态显示，可以满足显示面板多种使用环境的应用要求。
需要说明的是，本文中的“图案化”具体是指非整层结构，即制作过程中先形成整层的材料再刻出具体形状后的结构；本发明实施例提供的显示面板还包括多个膜层，如绝缘层、封装层等，多个膜层共同作用实现显示面板的正常显示，本领域的技术人员在现有技术的基础上可以清楚地明白和理解，这里不再做一一释出。
综上，本申请提供的显示面板，通过将显示区划分为反射区和发光区，反射区围绕发光区，设置发光驱动电路单独向发光器件提供驱动电压，实现彩色显示；在反射区设置反射层、像素电极和公共电极，通过反射驱动电路单独向像素电极提供像素电压，像素电极与公共电极之间形成电场，利用电场驱动液晶分子偏转，调整外界光线经反射层反射后由液晶层、对置基板出射的光线亮度，以形成灰态显示，实现显示面板的多种模式显示，满足显示面板的多种使用环境应用，在一些无需彩色显示的应用中，仅采用灰态显示，可以降低显示面板的整机功耗和解决整机发热的问题，从而降低显示面板的成本，有利于显示面板的市场推广。
在上述实施例的基础上，继续结合图1-图9所示，可选的，发光器件21包括小型发光二极管(Mini Light Emitting Diode Display，Mini LED)、微发光二极管(Micro LightEmitting Diode Display，Micro LED)、有机发光显示二极管(Organic Light EmittingDiode Display，OLED)、有源矩阵有机发光二极管(Active-Matrix Organic LightEmitting Diode，AMOLED)、量子点发光二极管(Quantum Dot Light Emitting Diodes，QLED)等，本申请实施例对发光器件21的发光类型不做不提限制。示例性的，发光器件21至少包括红色发光器件R、绿色发光器件G和蓝色发光器件B，在显示面板直显工作模式下，RGB发光器件发光混合显示彩色画面。
在上述实施例的基础上，继续结合图3所示，沿第二方向(如图中X方向所示)，设置反射层103的宽度L1小于发光器件21的宽度L2。
若反射层103的宽度L1大于或者等于发光器件21的宽度L2，存在反射区A1的白光影响发光器件21混色显示的问题，本申请设置L1＜L2，可以保证显示面板直显工作模式下的彩色显示。其中，第二方向(如图中X方向所示)为相邻两个发光器件21的中心连线方向。
需要说明的是，发光器件的发光区域的面积与反射区的面积需要在设计阶段结合实际应用环境具体设计，例如，在实际应用环境中，在一些应用场景中，当显示面板的直显工作模式下为主要显示模式，可以设计发光器件的发光区域面积大于反射区的面积，此设计，通过损失掉一部分反射区的反射效果，提高发光区的彩色显示效果；在另一些应用场景中，当应用环境需要更多灰态显示时，则适当的减小发光器件的发光区域的面积，通过损失掉一部分发光区RGB的色彩显示，以达到多种显示模式可切换显示的效果。
作为一个示例，沿图3中X方向，反射层103的宽度L1和发光器件21的宽度L2，满足0.5L2≤L1≤0.8L2，通过对反射层103的宽度L1进行限制，有利于发光器件21混色显示，使得显示面板在直显工作模式下，达到较佳的显示效果。
在上述实施例的基础上，继续结合图1、图8和图9所示，沿第一方向(如图中Z方向所示)，设置反射层103的投影为连续镂空图案，有利于提高环境光线的利用率，使得显示面板在反射工作模式下，达到较佳的显示效果。
作为一个示例，继续结合图1、图8和图9所示，设置反射区A1的总面积与显示区AA的总面积的比值为M，0.3≤M≤0.45。根据不同的显示效果，对反射区A1的总面积进行限制，有利于满足显示面板在直显工作模式和反射工作模式，不同的显示应用需求，以达到较佳的显示效果。
在上述实施例的基础上，继续结合图3-图6所示，反射区A1还包括有机层106，有机层106于反射层103和像素电极104之间。
具体的，在反射区A1内的反射层103和像素电极104之间设置有机层106，有机层106具有平坦化作用，有利于像素电极104出光面所在的膜层的表面平整，有利于液晶层20的制备。其中，有机层106的材料包括但不限于聚酰亚胺、聚萘二甲酸乙二醇酯、聚碳酸酯、聚芳酯以及聚醚砜等。
在上述实施例的基础上，继续结合图3-图6所示，阵列基板10还包括第一衬底101和第一配向层107；第一配向层107位于像素电极104和发光器件21的出光面靠近液晶层20的一侧，且第一配向层107所在的平面与第一衬底101所在的平面平行。
具体的，通过增大有机层106的厚度，使得像素电极104所在的平面和发光器件21的出光面平齐，有利于在像素电极104和发光器件21的出光面靠近液晶层20的表面制备表面平整的第一配向层107，有利于液晶层20内液晶分子的稳定排布。
可选的，对置基板10还包括第二配向层303，第二配向层303位于靠近液晶层20的一侧，其中，第一配向层107和第二配向层303的主要成分是聚酰亚胺和DMA、NMP或BC溶剂。第一配向层固含成份在原液中是小分子化合物，它在高温下产生聚合反应，形成带很多支链的长链大分子固体聚合物聚酰胺，聚合物分子中支链与主链的夹角就是所谓的导向层预倾角，这些聚合物的支链基团与液晶分子间的作用力比较强，对液晶分子有锚定的作用，可以使液晶按预倾角方向排列。
基于同一个发明构思，本发明实施例还提供了一种显示面板的制备方法，用于制备上述实施例提供的显示面板。图10是本发明实施例提供的一种显示面板的制备方法的示意图。结合图1-图10所示，本发明实施例提供的显示面板的制备方法包括：
S101、制备阵列基板。
具体的，结合图3-图6所示，设置显示面板200包括显示区AA，显示区AA包括反射区A1和发光区A2，反射区A1围绕发光区A2。阵列基板10包括第一衬底101以及位于第一衬底10一侧的驱动电路层102，在阵列基板10的反射区A1内，在驱动电路层102的一侧制备反射层103、像素电极104、公共电极105，像素电极104和反射层103位于阵列基板10，且，反射层103位于像素电极104远离液晶层20的一侧，在阵列基板10的发光区A2内设置发光器件21；沿图中Z方向，反射层103的投影围绕发光器件21的投影，一种可行的实施方式，结合图3和图4所示，公共电极105位于阵列基板10，像素电极104和公共电极105同层绝缘设置；一种可行的实施方式，或者，公共电极位于阵列基板，像素电极和公共电极异层绝缘设置(图中未示出)；或者，一种可行的实施方式，结合图5和图6所示，像素电极104和反射层103位于阵列基板10，公共电极105位于对置基板30，像素电极104和公共电极105相对设置。阵列基板10还包括反射驱动电路和发光驱动电路，反射驱动电路与像素电极104电连接；发光驱动电路与发光器件21电连接，公共电极105与稳定电压连接。
其中，第一方向(如图中Z方向所示)为显示面板200的厚度方向。
S102、制备对置基板。
具体的，结合图3-图6所示，提供对置基板30的第二衬底301，可以为刚性衬底或者柔性衬底。结合图5和图6所示，当像素电极104和反射层103位于阵列基板10，公共电极105位于对置基板30，且位于第二衬底301的一侧。
S103、将阵列基板和对置基板对位贴合；且，在阵列基板和对置基板之间填充液晶层。
具体的，将阵列基板10和对置基板20对位贴合，在阵列基板10和对置基板30之间填充液晶层30，封装显示面板。进一步结合图5和图6所示，将像素电极104和公共电极105位于相对设置。
S104、在衬底远离阵列基板的一侧贴附偏光层。
示例性的，结合图3-图6所示，在第二衬底301远离阵列基板10的一侧贴附线偏振片。
需要说明的是，制备阵列基板和制备对置基板并无先后的顺序，可以同时进行，或者先制备阵列基板，再制备对置基板；或者，先制备对置基板，再制备阵列基板，申请实施例不做限制。
作为一个示例，结合图3和图4所示，以像素电极104和公共电极105均位于阵列基板10，发光器件21为Mini LED或者Micro LED为例。
图11是本发明实施例提供的另一种显示面板的制备方法的示意图；图12是本发明实施例提供的一种阵列基板的制备方法的流程示意图。结合图3-图6、图11-图12所示，步骤101的制备方法包括：
S111、提供第一衬底。
S112、在第一衬底的一侧制备驱动电路层。
其中，驱动电路层包括反射驱动电路和发光驱动电路。
具体的，结合图12中(a)图所示，提供第一衬底101，可以为刚性衬底或者柔性衬底，在第一衬底101的一侧制备驱动电路层102，驱动电路层102内设置电路相互独立的反射驱动电路和发光驱动电路，反射驱动电路用于向反射区A1内的像素电极提供像素电压，发光驱动电路用于向发光区A2内的发光器件提供驱动电压。
S113、在驱动电路层远离第一衬底的一侧制备反射层。
具体的，结合图12中(b)图所示，利用MASK光罩工艺，在驱动电路层102远离第一衬底101的一侧制备反射层103，示例性的，在驱动电路层102的表面蒸镀一层反射金属层，刻蚀发光区A2内的反射金属层，在反射区A1获得反射层103。
S114、在反射层远离第一衬底的一侧制备有机层。
具体的，结合图12中(c)图所示，利用MASK光罩工艺，在反射层103远离第一衬底101的一侧整体表面涂布正性光阻光感的整层有机层，刻蚀发光区A2内的有机层，在反射层103的表面获得有机层106。同时，考虑到发光器件21的厚度较厚，易导致反射区和发光区存在较大的断差，影响液晶层的制备，本申请可以通过增加有机层106的厚度，以达到减小反射区和发光区段差的目的。
S115、在反射层远离第一衬底的一侧制备像素电极；或者，在反射层远离第一衬底的一侧制备像素电极和公共电极，形成反射区。
具体的，结合图12中(d)图所示，利用MASK光罩工艺，在有机层106远离第一衬底101的一侧制备透明导的电像素电极104和公共电极105，电像素电极104和公共电极105同层且电绝缘，反射层103、有机层106、电像素电极104和公共电极105形成反射区A1；或者，在其他实施例中，在有机层远离第一衬底的一侧制备透明导的电像素电极，电像素电极和公共电极异层且电绝缘，反射层、有机层、电像素电极和公共电极形成反射区；或者，在其他实施例中，在有机层远离第一衬底的一侧制备透明导的电像素电极，在对置基板中制备公共电极，反射层、有机层、电像素电极和公共电极形成反射区。
需要说明的是，当电像素电极104和公共电极105同层时，由于显示面板的截面截取方向，电像素电极104和公共电极105存在不能同时示出的截面，如本申请实施例附图3、图4以及结合图12中(d)图中104/105的标注的含义是：该区域存在电像素电极104和/或公共电极105，电像素电极104和公共电极105同层且绝缘。
S116、转移发光器件至发光区，电连接发光器件与发光驱动电路。
S117、在电像素电极和发光器件远离第一衬底的一侧制备第一配向层，获得阵列基板。
具体的，结合图12中(d)和(e)图所示，巨量转移发光器件21至发光区A2，将发光器件21与发光驱动电路电连接，在电像素电极104和发光器件21远离第一衬底101的一侧表面整层制备第一配向层107，以便后续填充液晶分子，制备获得阵列基板10。
图13是本发明实施例提供的一种对置基板的制备方法的流程示意图。继续结合图3-图6、图11、图13所示，在制备阵列基板10的同时，还可以同时制备对置基板，制备方法包括：
S118、提供第二衬底。
具体的，图13中(a)和(b)所示，提供第二衬底301，可以为刚性衬底或者柔性衬底。
S119、当在反射层远离第一衬底的一侧制备像素电极和公共电极，在第二衬底远离第二衬底的一侧制备第二配向层，获得对置基板。
具体的，结合图3-图4、图12以及图13中(a)图所示，当在反射层103远离第一衬底101的一侧制备像素电极104和公共电极105，在第二衬底301远离第二衬底301的一侧制备第二配向层303，获得对置基板30。其中，阵列基板10和对置基板30对位贴合后，第二配向层303和阵列基板10的第一配向层106相对设置，用于将液晶按预倾角方向排列。
S120、当在反射层远离第一衬底的一侧制备像素电极，在第二衬底远离第二衬底的一侧制备公共电极。
S121、在公共电极远离第二衬底的一侧制备第二配向层，获得对置基板。
具体的，结合图5-图6以及图13中(b)图所示，当在反射层103远离第一衬底101的一侧制备像素电极104，在第二衬底301远离第二衬底301的一侧依次制备公共电极105和第二配向层303，获得对置基板30，其中，阵列基板10和对置基板30对位贴合后，公共电极105与像素电极104相对设置，用于向液晶分子提供电场，第二配向层303和阵列基板10的第一配向层107相对设置，用于将液晶按预倾角方向排列。
在步骤116之前，制备方法还包括：
制备发光器件。其中，发光器件包括Mini LED或者Micro LED。
基于同样的发明构思，本发明实施例还提供了一种显示面板的控制方法。图14为本发明实施例提供的一种显示面板的控制方法的示意图，结合图1-图9、图14所示，该显示面板的控制方法包括：
S1、反射工作模式，控制发光驱动电路关闭，发光区为黑态显示；控制反射驱动电路开启，反射区为灰态显示。
具体的，反射驱动电路向像素电极提供驱动电压，公共电极与稳定电压连接，像素电极和公共电极之间形成稳定电场，驱动液晶层液晶分子偏转，外界环境光为光源，部分外界环境光经反射层反射后从对置基板出射，实现灰态显示。结合图4和图6所示，显示面板反射工作模式启动，直显工作模式关闭，此时发光驱动电路关闭，发光器件不发光，发光区为黑态显示，如图9中发光区A2所示，此时反射驱动电路启动，反射驱动电路向像素电极104提供稳定的像素电压，公共电极105与稳定电压连接，像素电极104和公共电极105之间形成稳定电场，驱动液晶层20的液晶分子偏转一定角度，由于电场电压稳定，液晶分子保持稳定的偏转角度。于此同时，外界环境光S1作为光源，经偏光层302选偏后形成线偏振光线，由于部分光线经液晶层20的液晶分子偏转，偏振方向发生改变，再透过像素电极104到达反射层103，经反射层103反射后形成反射光线，发生偏转的光线无法从偏光层302出射，与偏光层302透振方向相同的反射光线透过，通过调整像素电极104和公共电极105之间的稳定电场强度，改变液晶分子的偏转角，从而调整反射光线的亮度，从而调整反射区A1的灰度值，以达到反射区A1的灰态显示，如图9所示的灰色显示。本申请通过调节反射区A1出射光线的亮度，可以满足一些无需色彩显示的应用，如时间显示、数字显示等，可以降低显示面板的功耗。本申请利用电场驱动液晶分子偏转，控制部分反射光线透过液晶层20和透过置基板30，从而改变反射区A1的反射亮度，在反射区A1形成反射式的灰态显示，可以满足显示面板多种使用环境的应用要求。
S2、直显工作模式，控制反射驱动电路关闭，反射区为常白显示；控制发光驱动电路开启，发光区为彩色显示。
具体的，结合图3和图5所示，当显示面板的直显工作模式启动，反射工作模式关闭，发光驱动电路启动，发光驱动电路向发光器件21提供驱动电压，驱动发光器件21出射的显示光线S2透过液晶层20和对置基板30，实现彩色显示的图像；此时，反射工作模式关闭，反射驱动电路关闭，像素电极104和公共电极105之间无电场作用，液晶层20内的液晶分子无偏转，外界环境光S1经偏光层302选偏后穿过液晶层20、像素电极104，环境光经反射层103反射后再从像素电极104、液晶层20、对置基板30出射，在反射区A1形成白光反射，反射区A1为常白显示，此时，环境光为发光区A2的白光背光，如图8中反射区A1所示。
在显示面板的其他显示模式中，根据显示面板的显示环境需要，还可以同时启动发光驱动电路和反射驱动电路，实现多种显示模式，本申请实施例不再一一示出。
基于同样的发明构思，本发明实施例还提供了一种显示装置。图15为本发明实施例提供的显示装置的结构示意图，如图15所示，该显示装置包括上述实施方式提供的任一种显示面板。示例性的，如图15所示，该显示装置300包括显示面板200。因此，该显示装置也具有上述实施方式中的显示面板所具有的有益效果，相同之处可参照上文对显示面板的解释说明进行理解，下文不再赘述。
本发明实施例提供的显示装置300可以为图15所示的手机，也可以为任何具有显示功能的电子产品，包括但不限于以下类别：电视机、笔记本电脑、桌上型显示器、平板电脑、数码相机、智能手环、智能眼镜、车载显示器、工控设备、医用显示屏、触摸交互终端等，本发明实施例对此不作特殊限定。
注意，上述仅为本发明的较佳实施例及所运用技术原理。本领域技术人员会理解，本发明不限于这里所述的特定实施例，对本领域技术人员来说能够进行各种明显的变化、重新调整和替代而不会脱离本发明的保护范围。因此，虽然通过以上实施例对本发明进行了较为详细的说明，但是本发明不仅仅限于以上实施例，在不脱离本发明构思的情况下，还可以包括更多其他等效实施例，而本发明的范围由所附的权利要求范围决定。

Claims (11)

1.一种显示面板，其特征在于，包括依次设置的阵列基板、液晶层、对置基板和偏光层；所述显示面板包括显示区，所述显示区包括反射区和发光区，所述反射区围绕所述发光区设置；
所述反射区包括反射层、像素电极和公共电极；所述像素电极和所述反射层位于所述阵列基板，且，所述反射层位于所述像素电极远离所述液晶层的一侧；所述公共电极位于所述对置基板，所述像素电极和所述公共电极相对设置；或者，所述公共电极位于所述阵列基板，所述像素电极和所述公共电极同层或者异层绝缘设置；
所述发光区包括发光器件，所述发光器件位于所述阵列基板；沿第一方向，所述反射层的投影围绕所述发光器件的投影；其中，所述第一方向为所述显示面板的厚度方向；
所述阵列基板还包括反射驱动电路和发光驱动电路，所述反射驱动电路与所述像素电极电连接；所述发光驱动电路与所述发光器件电连接。
2.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，沿第二方向，所述反射层的宽度小于所述发光器件的宽度；
其中，所述第二方向为相邻两个所述发光器件的中心连线方向。
3.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述反射区还包括有机层，所述有机层位于所述反射层和所述像素电极之间。
4.根据权利要求3所述的显示面板，其特征在于，所述阵列基板还包括第一衬底和第一配向层；所述第一配向层位于所述像素电极和所述发光器件的出光面靠近所述液晶层的一侧，且所述第一配向层所在的平面与所述第一衬底所在的平面平行。
5.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，沿所述第一方向，所述反射层的投影为连续镂空图案。
6.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述发光器件包括Mini LED、MicroLED或OLED。
7.一种显示面板的制备方法，其特征在于，包括：
制备阵列基板；
制备对置基板；
将所述阵列基板和所述对置基板对位贴合；且，在所述阵列基板和所述对置基板之间填充液晶层；
在所述对置基板远离所述阵列基板的一侧贴附偏光层；
其中，所述显示面板包括显示区，所述显示区包括反射区和发光区，所述反射区围绕所述发光区设置；所述反射区包括像素电极、公共电极和反射层，所述像素电极和所述反射层位于所述阵列基板，且，所述反射层位于所述像素电极远离所述液晶层的一侧；所述公共电极位于所述阵列基板，所述像素电极和所述公共电极同层；或者，所述公共电极位于所述对置基板，所述像素电极和所述公共电极相对设置；
所述发光区包括发光器件，所述发光器件位于所述阵列基板；沿第一方向，所述反射层的投影围绕所述发光器件的投影；其中，所述第一方向为所述显示面板的厚度方向；
所述阵列基板还包括反射驱动电路和发光驱动电路，所述反射驱动电路分别与所述像素电极、所述公共电极电连接；所述发光驱动电路与所述发光器件电连接。
8.根据权利要求7所述的制备方法，其特征在于，制备阵列基板包括：
提供第一衬底；
在所述第一衬底的一侧制备驱动电路层；所述驱动电路层包括反射驱动电路和发光驱动电路；
在所述驱动电路层远离所述第一衬底的一侧制备反射层；
在所述反射层远离所述第一衬底的一侧制备有机层；
在所述反射层远离所述第一衬底的一侧制备像素电极；或者，在所述反射层远离所述第一衬底的一侧制备像素电极和公共电极，形成反射区；
转移发光器件至发光区，将所述发光器件与所述发光驱动电路电连接；
在所述像素电极和所述发光器件远离所述第一衬底的一侧制备第一配向层。
9.根据权利要求8所述的制备方法，其特征在于，制备对置基板包括：
提供第二衬底；
当在所述反射层远离所述第一衬底的一侧制备所述像素电极和所述公共电极，在所述第二衬底远离所述第二衬底的一侧制备第二配向层，获得对置基板；
当在所述反射层远离所述第一衬底的一侧制备像素电极，在所述第二衬底远离所述第二衬底的一侧制备公共电极；
在所述公共电极远离所述第二衬底的一侧制备第二配向层，获得对置基板。
10.一种显示面板的控制方法，其特征在于，包括：
反射工作模式，控制发光驱动电路关闭，发光区为黑态显示；控制反射驱动电路开启，反射区为灰态显示；
直显工作模式，控制反射驱动电路关闭，反射区为常白显示；控制发光驱动电路开启，发光区为彩色显示。
11.一种显示装置，其特征在于，包括权利要求1-6任一项所述显示面板。
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