CN117015418A - 用于使用电磁波来治疗、抑制和预防炎性疾病的治疗设备和方法 - Google Patents

用于使用电磁波来治疗、抑制和预防炎性疾病的治疗设备和方法 Download PDF

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Abstract

本发明涉及用于治疗、抑制或预防受试体中的炎性疾病的电磁波治疗设备、操作该电磁波治疗设备的方法、以及用于使用该电磁波治疗设备来治疗、抑制或预防受试体中的炎性疾病的方法。本发明还涉及用于治疗、抑制或预防受试体中的炎性疾病的电磁波以及该电磁波的用途、以及包括用该电磁波照射受试体的步骤的方法。

Description

用于使用电磁波来治疗、抑制和预防炎性疾病的治疗设备和 方法
技术领域
本发明内容涉及用于治疗、抑制或预防受试对象的炎性疾病的电磁波治疗设备、该电磁波治疗设备的操作方法、以及用于使用该电磁波治疗设备来治疗、抑制或预防受试对象的炎性疾病的方法。本发明内容还涉及用于治疗、抑制或预防受试对象的炎性疾病的电磁波及其用途、以及包括将电磁波照射到受试对象上的方法。
背景技术
电磁波包括伽马射线、X射线、紫外(UV)射线、可见光、红外(IR)射线、微波等,并且用于许多工业、科学和医疗领域,包括通信和电子领域。IR和可见光范围内的电磁波通常从电能源产生,该电能源在高温下加热材料并且用作用于加热、远程控制和照明的光源。UV范围内的电磁波通常通过放电加热气体来产生,并且用于诸如灭菌和聚合物交联的领域。
X射线或伽马射线用于识别在诸如医疗、食品、水净化和安全的各种工业领域中可能无法通过肉眼确认的部分。此外,X射线或伽马射线还可以用于通过使用X射线或伽马射线的高能特性杀伤癌细胞等来进行治疗,并且这样的治疗方法被分类为其中将辐射照射到人体中的外部放射治疗(被称为“远距离治疗”)以及其中在患部周围安装电磁波源并且进行治疗的近距离治疗。
与相关技术中诸如化疗等的治疗方法相比,相关技术中使用电磁波的其中施加高能以杀伤患病细胞的治疗方法具有表现出优异效果的优点,但是也涉及因为患疾病细胞附近的正常细胞也被杀伤而对患者造成副作用的问题。
同时,炎症表现为正常的体内防御机制的作用,其针对由物理创伤、有害化学物质、感染和体内代谢物刺激性引起的组织损伤而局部出现。已知这样的炎症在正常情况下恢复正常的体内结构和功能,但是在其他情况下可能继续为疾病状态例如慢性炎症,并且最近,已知许多疾病是由与体内炎性反应有关的物质引起的。虽然使用各种化学疗法来治疗这样的炎性疾病,但是许多情况涉及副作用,而许多情况暂时地缓解了症状。
发明内容
[技术目标]
一方面提供了一种可以解决上述技术问题的用于通过用具有0.05nm或更大并且10nm或更小的波长的电磁波照射受试对象来治疗、抑制或预防受试对象的炎性疾病的电磁波治疗设备、操作该电磁波治疗设备的方法、以及使用该电磁波治疗设备的治疗方法。
一方面还提供了一种具有0.05nm或更大并且10nm或更小的波长的用于治疗、抑制或预防受试对象的炎性疾病的电磁波、该电磁波的用途、以及将该电磁波照射到受试对象上的方法。
[技术解决方案]
根据一个方面,提供了一种用于治疗、抑制或预防受试对象的炎性疾病的电磁波治疗设备。
用于治疗、抑制或预防受试对象的炎性疾病的电磁波治疗设备包括:电力供应器;照射器,其被配置成从该电力供应器接收电力并且用具有0.05nm或更大并且10nm或更小的波长的电磁波来照射受试对象;以及控制器,其被配置成调整从该照射器照射出的电磁波的波长或剂量。
该电磁波治疗设备还可以包括滤波器,该滤波器被配置成阻挡来自照射器的具有小于0.05nm的波长的电磁波。
该电磁波治疗设备还可以包括保护器,该保护器包围照射器的至少一部分。
该电磁波治疗设备还可以包括:距离测量器,其被配置成测量照射器的远端与受试对象之间的距离(L,米);以及位置调整器,其被配置成调整照射器的远端与受试对象之间的距离。控制器可以基于由距离测量器测量的距离通过控制位置调整器来调整照射器的远端与受试对象之间的距离。
该电磁波治疗设备还可以包括准直器,该准直器被配置成调整电磁波的照射范围或强度,并且该准直器可以由控制器控制。
控制器控制从电力供应器供应至照射器的电压或电流。
该电磁波治疗设备还可以包括监测装置,该监测装置被配置成显示从控制器输出的信号。
控制器可以通过调整照射器的远端与受试对象之间的距离(L,米)、照射时间(t,秒)以及照射器的输出电压(V,伏特数)或输出电流(I,安培)中的至少一者将被受试对象吸收的电磁波的剂量控制成满足一定条件。
电磁波治疗设备可以是将电磁波直接照射到受试对象的皮肤上或身体内的设备,或者还可以包括施加器,该施加器连接至照射器使得由该照射器生成的电磁波直接照射到受试对象的身体内。
照射器可以对应于包括阳极和阴极的管,阳极可以连接至电力供应器的一侧并且阴极可以连接至电力供应器的另一侧。所述管还可以包括至少一个栅极,并且控制器的一侧或另一侧中的至少一者可以连接至至少一个栅极。阴极可以包括碳纳米管(CNT),阴极可以由包括多个单元纱线的CNT结构形成,每个单元纱线具有其中多个CNT聚集并且在第一方向上延伸的结构,并且CNT结构可以是其中单元纱线中的每一个的前端面向与第一方向相同的方向的结构。
受试对象的炎性疾病可以是由包括白介素(IL)-1β、IL-6和肿瘤坏死因子(TNF)-α中的至少一种的生物标志物介导的疾病或脂贮积症,并且脂贮积症可以包括:尼曼皮克病A型、B型和C型;戈谢病II型;法布里病;神经节苷脂贮积症;泰-萨克斯病;桑德霍夫病;克拉伯病;或异染性脑白质营养不良、肝炎、肝癌、肝硬化、非酒精性脂肪性肝病或胆固醇酯贮积病、以及鲍尔曼病。
在受试对象中测量的以下指标中的至少一个可以被测量得比正常情况高,并且在电磁波照射到受试对象上之后,在受试对象中测量的以下指标中的至少一个可以降低,
-血液中IL-1β的表达水平;
-血液中IL-6的表达水平;
-血液中TNF-α的表达水平;
-表达细胞内IL-1β的信使核糖核酸(mRNA)的表达水平;
-表达细胞内IL-6的mRNA的表达水平;
-表达细胞内TNF-α的mRNA的表达水平;以及
-细胞内脂质累积的量。
受试对象的炎性疾病可以是自身免疫性疾病或自身炎性疾病。自身免疫性疾病可以包括:年龄相关性黄斑变性(AMD);炎性皮肤病、银屑病、特应性皮炎;系统性硬皮病、硬化症;克罗恩病、溃疡性结肠炎;呼吸窘迫综合征、成人呼吸窘迫综合征;急性呼吸窘迫综合征(ARDS);皮炎;脑膜炎;脑炎;葡萄膜炎;结肠炎;肾小球肾炎;变应性病症、湿疹、哮喘、T细胞浸润、与慢性炎性反应相关的其他病症;动脉粥样硬化;白细胞粘附缺陷;关节炎、类风湿性关节炎、炎性关节炎、幼年类风湿性关节炎、骨关节炎、银屑病关节炎;系统性红斑狼疮(SLE);狼疮性肾炎(LN);糖尿病、I型糖尿病、胰岛素依赖型糖尿病;多发性硬化症;雷诺综合征;自身免疫性甲状腺炎;变应性脑脊髓炎;干燥综合征,幼年型发作糖尿病;结核病;结节病;多发性肌炎;肉芽肿病和血管炎;由细胞因子和通过存在于结核病中的T淋巴细胞介导的急性和迟发性超敏反应相关的免疫反应;恶性贫血、艾迪生病;与白细胞移植相关的疾病;中枢神经系统炎性疾病;多器官损伤综合征;溶血性贫血;冷球蛋白血症、库姆斯阳性贫血;重症肌无力;抗原抗体复合物介导的疾病;抗肾小球基底膜病;抗磷脂综合征;变应性神经炎;格雷夫斯病;Lambert-Eaton肌无力综合征;大疱性类天疱疮;天疱疮;自身免疫性多内分泌病;赖特尔病;僵人综合征;白塞病;巨细胞动脉炎;免疫复合物性肾炎;IgA肾病;IgM多发性神经病;以及免疫性血小板减少性紫癜(ITP)或自身免疫性血小板减少症。自身炎性疾病可以包括:家族性地中海热(FMF);TNF受体相关周期性综合征(TRAPS);高免疫球蛋白血症D伴周期性发热综合征(HIDS);系统性幼年型发作特发性关节炎(斯蒂尔病);灾难性抗磷脂综合征(CAPS);家族性寒冷性自身炎症综合征;穆-韦综合征;白介素1受体(DIRA)拮抗剂缺乏;新生儿发作多系统炎性疾病(NOMID);或慢性婴儿神经性皮肤关节(CINCA)综合征。
根据一方面,提供了一种操作用于治疗、抑制或预防受试对象的炎性疾病的上述电磁波治疗设备的方法。
该方法可以包括:将照射器定位成使得电磁波照射到受试对象上;以及将电磁波从照射器照射到受试对象上。
该电磁波治疗设备还可以包括施加器,该施加器连接至照射器使得由该照射器生成的电磁波直接照射到受试对象的身体内,并且该方法可以包括:将施加器插入至受试对象的身体内;以及将电磁波从照射器照射到受试对象的身体内。
根据一方面,提供了一种用于通过使用用于治疗、抑制或预防受试对象的炎性疾病的上述电磁波治疗设备来治疗、抑制或预防受试对象的炎性疾病的方法。
根据一方面,提供了一种具有0.05nm或更大并且10nm或更小的波长的用于治疗、抑制或预防受试对象的炎性疾病的电磁波、以及该电磁波的用途。
根据一方面,提供了一种用于治疗、抑制或预防受试对象的炎性疾病的方法,该方法包括将具有0.05nm或更大并且10nm或更小的波长的电磁波照射到受试对象上。
[效果]
本发明内容使得通过用具有0.05nm或更大并且10nm或更小的被称为软X射线的电磁波照射受试对象而能够有效地治疗或抑制并且还预防炎性疾病,而不会引起相关技术的电磁波治疗中发生的副作用例如正常细胞的死亡。
本发明内容的效果将不限于上面所提及的效果,并且本领域技术人员根据以下权利要求将清楚地理解其他未提及的效果。
附图说明
图1是示出根据示例实施方式的用于将电磁波照射到受试对象上的设备的主要部件的示意图。
图2是通过测量细胞生存力来确定由于具有0.05nm或更大并且10nm或更小的波长的电磁波而是否发生细胞毒性的图,并且示出了当用电磁波照射细胞0、5分钟、10分钟和20分钟并且然后进行孵育时所述细胞是否存活。
图3A示出了使用针对未诱导炎性反应的正常细胞、诱导了炎性反应的炎性诱导细胞、以及电磁波被照射到诱导了炎性反应的炎性诱导细胞上的细胞的蛋白质印迹对为表现出炎性反应的细胞因子的IL-1β蛋白的表达水平进行比较的结果以及该结果的图,图3B示出了使用免疫细胞化学和荧光成像对IL-1β蛋白的表达水平进行比较的结果以及该结果的图,并且图3C至图3E是示出了使用实时聚合酶链反应(PCR)对表达已知表现出炎性反应的IL-1β蛋白、IL-6蛋白、TNF-α蛋白的mRNA的细胞内表达水平进行比较的图。
图4A示出了用三维(3D)全息图确定下述细胞中的细胞内脂质累积的量的图像:未诱导炎性反应的正常细胞、诱导了炎性反应的炎性诱导细胞、以及电磁波被照射到诱导了炎性反应的炎性诱导细胞上的细胞,并且图4B是通过对细胞内脂质累积的量进行量化和比较而获得的图。
图5是示出当电磁波被照射到动物模型中的除了患病部分之外的诱导了炎性的部分时体内IL-1β表达水平的图。
具体实施方式
在下文中,将通过参照示例和附图进行的详细描述来详细描述本发明内容的意图、操作和效果,以帮助理解本发明内容的示例实施方式。然而,以下描述和示例作为示例呈现,以帮助理解如上所述的本发明内容,并且因此本发明内容的范围不限于此。
在详细描述本发明内容之前,本说明书和权利要求中使用的术语和词语不应被解释为限于一般术语或字典术语,而应当基于发明人可以适当地定义术语的概念以便以最佳方式说明本发明内容的原则以根据本发明内容的技术精神的含义和构思来解释。
因此,应当理解的是,本文描述的示例实施方式的配置仅是本发明内容的最优选实施方式并且不代表本发明内容的全部技术精神,并且在提交本发明时可以进行各种改变和修改。
如本文所使用的,除非上下文另有明确指示,否则单数形式也旨在包括复数形式。应当理解的是,术语“包括(comprises)”、“包括(comprising)”、“包括(includes)”、“包括(including)”、“包含(contains)”、“包括(including)”、“具有(has)”和/或“具有(having)”当在本文中使用时指明存在所阐述的特征、整数、步骤、操作、元件、部件和/或其组合,但是不排除存在或添加至少一个其他特征、整数、步骤、操作、元件、部件和/或其组合。
如本文所使用,术语“……器”、“……部”等是指处理至少一个功能或操作的单元,其可以以硬件或软件来实现或者以硬件和软件的组合来实现。
如本文所使用的,术语“受试对象”是指但不限于人或非人哺乳动物例如牛、马、狗、羊或猫或者其部分,并且包括要通过本发明内容的电磁波治疗设备用电磁波照射的特定部分。优选地,受试对象是人或人体的一部分,并且是要通过本发明内容的电磁波治疗设备用电磁波照射的特定部分。
如本文所使用的,术语“治疗(treatment)”、“治疗(treating)”、“治疗(treat)”、“抑制(inhibition)”、“抑制(inhibiting)”和“抑制(inhibit)”是指治疗性治疗,其目的是减缓不期望的生理变化或病症例如炎性疾病的生长、发展或扩散。出于本发明内容的目的,有益的或期望的治疗效果或抑制效果包括防止疾病的发生或复发、减轻疾病的症状、减弱疾病的任何直接或间接病理后果、防止转移、降低疾病进展的速度、改善或缓解疾病状态、以及实现改善的预后。在一些实施方式中,电磁波治疗设备和电磁波用于延迟疾病的发生或者减缓疾病的进展。
如本文所使用的,术语“预防(prevention)”、“预防(preventing)”和“预防(prevent)”是指是降低在受试对象中可能发生事件的可能性,即,在受试对象中可能发生不期望的生理变化或病症例如炎性疾病的可能性,但是不要求100%消除事件发生的可能性。
在描述示例实施方式时,将省略对本发明内容所属的技术领域中公知的并且与本发明内容不直接相关的技术内容的描述。这是为了通过省略不必要的描述来更清楚地传达本发明内容的要点。出于同样的原因,附图中的一些部件被放大、省略或示意性地示出。另外,每个部件的大小不能完全反映实际大小。
在本发明内容的一个实施方式中,用于治疗、抑制或预防受试对象的炎性疾病的电磁波治疗设备包括电力供应器、照射器和控制器。
电力供应器可以向照射器供应电力,并且电力供应器还可以向控制器供应电力。由电力供应器供应的电力可以是直流(DC)电力或交流(AC)电力。电力供应器可以包括电池例如锂离子电池、锂聚合物电池和锂固体电池。例如,电力供应器可以包括脉冲宽度调制(PWM)逆变器、绝缘变压器和升压电路(电压倍增器电路或平滑电路)中的至少一个,并且在这种情况下,由电池生成的DC电力可以通过PWM逆变器转换为AC电力。另外,经转换的AC电力可以通过绝缘变压器来升压,并且可以通过升压电路输出高压AC电力。在一个具体示例中,电力供应器可以仅供应DC电力。
照射器电连接至电力供应器,从电力供应器接收电力,并且用电磁波照射受试对象。在一个具体示例中,照射器可以:从电力供应器接收电力;以及用具有特定波长的电磁波照射受试对象,并且可以用具有0.05nm或更大并且10nm或更小的波长的电磁波照射受试对象。然而,特定波长不限于从照射器生成的电磁波的波长,而是可以限于电磁波在通过诸如滤波器的其他部件到达受试对象之前的特定波长,这将在下面描述。
控制器可以包括收发器、存储器和处理器中的至少一个。在一个具体示例中,电力供应器和照射器可以各自包括收发器、存储器和处理器中的至少一个。处理器可以执行要贯穿说明书描述的至少一种方法,并且存储器可以存储用于执行要贯穿说明书描述的至少一种方法的信息,并且由处理器执行的程序的代码可以存储在存储器中。存储器可以是易失性存储器或非易失性存储器。
从照射器照射的电磁波的波长或剂量可以由控制器进行调整。例如,控制器可以控制照射器照射具有特定波长的电磁波,具体地,0.05nm或更大并且10nm或更小的波长。另外,控制器可以控制照射器照射具有特定剂量即特定电压和电流的电磁波。替选地,控制器可以控制从照射器照射的电磁波的照射时间。
在本发明内容中,具有0.05nm或更大并且10nm或更小的波长的电磁波可以对应于软X射线。替选地,在本发明内容中,电磁波可以对应于软X射线,该软X射线与X射线中除了具有0.01nm或更大以及0.05nm或更小的波长范围的高能X射线之外的其余部分对应。
在一个具体示例中,本发明内容的用于治疗、抑制或预防受试对象的炎性疾病的电磁波治疗设备可以包括:电力供应器;照射器,其被配置成从电力供应器接收电力并且用具有0.05nm或更大并且10nm或更小的波长的电磁波来照射受试对象;以及控制器,其被配置成对从照射器照射的电磁波的波长或剂量进行调整。
在本发明内容的一个实施方式中,用于治疗、抑制或预防受试对象的炎性疾病的电磁波治疗设备还可以包括滤波器,该滤波器被配置成阻挡被照射器照射的电磁波中具有小于0.05nm的波长的电磁波。由照射器照射出的电磁波可以由控制器调整成仅具有0.05nm或更大并且10nm或更小的波长。替选地,照射器可以被配置为下述X射线管,该X射线管仅照射出具有0.05nm或更大并且10nm或更小的波长的电磁波,使得具有0.05nm或更大并且10nm或更小的波长的电磁波可以照射到受试对象上。然而,从照射器照射出的电磁波不受理论极限的限制,但是从照射器照射出的电磁波更可能包括具有小于0.05nm的波长的电磁波。当具有小于0.05nm的波长的电磁波被照射到受试对象上时,通过适当地调整照射时间、受试对象与照射器的远端之间的距离、输出电压、电流等可以充分地实现对受试对象的治疗效果,但是可能发生由高能X射线引起的副作用。因此,在一个具体示例中,电磁波治疗设备还可以包括阻挡具有小于0.05nm的波长的电磁波的滤波器。此处,术语“阻挡”可以理解为包括完全阻挡相应电磁波的传输以及将透射率降低至减少副作用的发生的程度。滤波器的类型没有特别限制,并且可以由本领域技术人员来选择。
在本发明内容的一个实施方式中,用于治疗、抑制或预防受试对象的炎性疾病的电磁波治疗设备还可以包括保护器,该保护器被配置包围照射器的至少一部分。保护器可以防止从照射器照射出的电磁波被照射到除了朝向受试对象的方向之外的周围环境或者要照射的受试对象的特定部分的外部。从照射器生成的电磁波是具有0.05nm或更大并且10nm或更小的波长的电磁波即软X射线,并且当被照射到除了朝向受试对象的方向之外的周围环境时,可能对周围环境造成意想不到的危害。由于上述电磁波治疗设备包括围绕照射器的至少一部分的保护器,因此可以通过使得从照射器照射出的电磁波仅能够朝向作为要照射的目标的受试对象照射来防止上述问题。另外,照射器的至少一部分被保护器包围,使得可以保护照射器免受由于外部环境引起的物理、化学或光学影响。
在一个具体示例中,保护器可以包括绝缘材料例如聚合物,但是本发明内容不限于此。保护器可以通过下述形成:附接绝缘膜以包围照射器的至少一部分;或者通过在照射器的至少一部分上喷洒或涂覆液体或半液体的绝缘材料来覆盖所述部分。保护器可以形成为包围照射器的整个侧表面。保护器的厚度不受特别限制。保护器的厚度可以确定为在从照射器照射出的电磁波不会照射到除了朝向受试对象的方向之外的周围环境的范围内。
在一个具体示例中,电磁波治疗设备可以包括滤波器,该滤波器被配置成阻挡在从照射器发射出的电磁波中具有小于0.05nm的波长的电磁波。滤波器可以包括在照射器中或者定位在照射器的一端,或者可以定位在保护器的一端。然而,本发明内容不限于此,并且只要滤波器被定位在照射器与受试对象之间使得在从照射器照射出的电磁波中具有小于0.05nm的波长的电磁波不会被发射至受试对象或者以降低的发射功率发射,滤波器的位置就足够了。
在本发明内容的一个实施方式中,用于治疗、抑制或预防受试对象的炎性疾病的电磁波治疗设备还可以包括距离测量器,该距离测量器可以测量受试对象与照射器的远端之间的距离L(m)。距离测量器可以使用下述方法:使用其中照射的光与反射的光的强度比表现为照射器的远端与受试对象之间的距离的函数的特性来测量距离的方法;或者考虑光速来计算飞行时间并且计算照射器的远端与受试对象之间的距离,但是本发明内容不限于此,并且本领域技术人员可以选择可以测量距离的其他配置。
此处,照射器的远端是指来自电磁波治疗设备的电磁波从其照射到受试对象上的端部,并且原则上是指照射器。然而,当在电磁波传播方向上在照射器与受试对象之间存在其他部件例如保护器、滤波器、施加器等时,照射器的远端是指所述部件中最靠近受试对象的部件的端部,其中,该部件的端部被定位得最靠近受试对象。
距离测量器可以通过与照射器紧密接触而存在,或者可以被定位成与照射器间隔开预定距离,但是本发明内容不限于此,并且在距离测量器存在于可以测量照射器的远端与受试对象之间的距离处的位置的情况下是足够的。
在一个具体示例中,用于治疗、抑制或预防受试对象的炎性疾病的电磁波治疗设备还可以包括位置调整器,该位置调整器被配置成调整照射器的远端与受试对象之间的距离。具体地,调整照射器的远端与受试对象之间的距离的位置调整器可以包括使得照射器能够相对于受试对象移动的路径部分。例如,照射器可以通过改变其沿路径部分例如导轨、凹槽等的位置以相对于包围照射器的至少一部分的保护器进行相对移动来调整距受试对象的距离,但是本发明内容不限于此。
在一个具体示例中,控制器可以基于由距离测量器测量的距离通过控制位置调整器来调整照射器的远端与受试对象之间的距离。具体地,在接收到从距离测量器测量的距离数据之后,控制器可以控制位置调整器以将照射器的远端与受试对象之间的距离调整到特定值,以实现表现出期望的治疗效果的照射器的远端与受试对象之间的距离。例如,控制器可以通过使用连接至位置调整器并且可以由本领域技术人员进行选择的例如但不限于马达、活塞等的装置改变照射器的位置来调整照射器的远端与受试对象之间的距离。
控制器可以将输入至控制器的值应用至使用距受试对象的距离、照射时间、输出电压和电流作为变量的电磁波照射模型,并且然后该控制器控制位置调整器保持适于实现期望的治疗效果的距受试对象的距离。在将输入至控制器的值应用至模型之后,控制器可以进一步控制照射器或电力供应器以控制照射时间、输出电压和电流,以实现期望的治疗效果。
在本发明内容的一个实施方式中,用于治疗、抑制或预防受试对象的炎性疾病的电磁波治疗设备还可以包括准直器,该准直器被配置成调整电磁波的照射范围或强度。例如,准直器可以代表光学项,即折射电磁波或改变电磁波在至少一个轴上的角度分布、影响电磁波在至少一个轴上的焦点或者以其他方式影响电磁波的特性的任何元件,并且可以包括镜和其他反射表面、透镜、棱镜、光导、光栅等,但是本发明内容不限于此。
例如,准直器可以由控制器来控制。通过控制器控制准直器来调整针对受试对象的电磁波的照射范围或强度,可以实现治疗、抑制或预防炎性疾病的期望效果。另外,控制器可以将输入至控制器的值应用至模型,并且然后控制准直器以实现期望的治疗效果。
在本发明内容的一个实施方式中,用于治疗、抑制或预防受试对象的炎性疾病的电磁波治疗设备的控制器可以控制从电力供应器供应至照射器的电压或电流。具体地,控制器可以通过控制从电力供应器供应至照射器的电压或电流来控制下述中的至少一者:是否照射出从照射器照射的电磁波、照射时间、照射面积、照射波长和照射强度。
本发明内容的电磁波治疗设备还可以包括监测装置,该监测装置被配置成显示从控制器输出的信号。从控制器输出的信号可以与下述相关:电压是否从电力供应器施加至照射器、电压施加时间、电压、电流、由距离测量器测量的照射器的远端与受试对象之间的距离、位置调整器是否操作等,但是本发明内容不限于此。
在本发明内容的一个实施方式中,每次一次性治疗被受试对象吸收的电磁波的剂量在1mGy至100mGy的范围内。具体地,每次一次性治疗被受试对象吸收的电磁波的剂量可以在1mGy至50mGy的范围内,并且更具体地,每次一次性治疗被受试对象吸收的电磁波的剂量可以在10mGy至15mGy的范围内。如本文使用的,术语“一次性照射”意指电磁波连续地照射到受试对象上而没有时间上的中断,并且术语“一次性治疗”是指将电磁波照射到受试对象的一系列动作,并且可以包括一次性照射或多次性照射。当每次一次性治疗或一次性照射被受试对象吸收的电磁波剂量较低时,本发明内容的电磁波治疗设备不能充分地实现期望的效果,并且当每次一次性治疗或一次性照射被受试对象吸收的电磁波剂量太高时,由于电磁波的能量可能在受试对象中累积,因此可能发生细胞毒性效应例如细胞损伤和死亡,或者可能发生副作用例如对皮肤的损伤或癌症的发生,这不是优选的。被受试对象吸收的电磁波的剂量可以通过测量被受试对象直接吸收的电磁波的剂量来测量,还可以在照射器的一端或者在与照射器间隔一定距离的位置处包括电磁波剂量计,或者可以根据照射器的远端与受试对象之间的距离的函数以及来自照射器的电磁波的输出电压、电流和照射时间来计算电磁波的剂量。例如,当电磁波在每次一次性治疗中被照射多次时,如在用电磁波对受试对象进行一次性治疗的同时照射电磁波两次或更多次的情况下,可以使一次性照射时的电磁波的剂量变小以将一次性治疗期间被受试对象吸收的电磁波的剂量保持为恒定。为此,可以对照射器的远端与受试对象之间的距离、来自照射器的电磁波的输出电压、电流和照射时间进行调整。
在一个具体示例中,控制器可以通过调整照射器的远端与受试对象之间的距离L(m)、照射时间t(秒)、以及照射器的输出电压V(V)、输出电流I(A)或输出功率P(W)中的至少一者将被受试对象吸收的电磁波的剂量控制成满足一定条件。在一个具体示例中,照射器的远端与受试对象之间的距离L(m)可以在1×10-6m至3m的范围内,具体地在1×10-5m至2m的范围内,并且更具体地在1×10-3m至1m的范围内。照射器的输出电压V(V)可以在1×10- 3kV至50kV的范围内,具体地在0.01kV至40kV的范围内,并且更具体地在0.1kV至25kV的范围内。照射器的输出电流I(A)可以在1×10-3mA至100mA的范围内,具体地在5×10-3mA至70mA的范围内,更具体地在0.01mA至50mA的范围内。照射器的输出功率P(W)可以在1×10-6W至5000W的范围内,具体地在5×10-5W至2800W的范围内,更具体地在1×10-3W至1000W的范围内,并且还更具体地在1W至20W的范围内。电磁波的照射时间t(秒)可以在0.001秒至1000秒的范围内,具体地在0.005秒至800秒的范围内,并且更具体地在0.01秒至600秒的范围内。可以通过改变照射器的远端与受试对象之间的距离L(m)、照射时间t(秒)以及照射器的输出电压V(V)、输出电流I(A)和输出功率P(W)中的每一者的范围来调整被受试对象吸收的电磁波的剂量,并且可以通过五个指标的组合来确定期望的电磁波的剂量。
在本发明内容的一个实施方式中,从电磁波治疗设备照射出的电磁波可以照射到受试对象上,具体地照射到受试对象的皮肤上。此处,受试对象的皮肤可以是其中发生炎性疾病并且需要对其进行治疗或抑制的患病部分、患病部分附近的皮肤组织、或者预期发生炎性疾病的皮肤。另外,当电磁波被照射到受试对象的皮肤上时,在该受试对象中发生的炎性疾病可能在除了其上被照射电磁波的皮肤之外的部分处发生。例如,当关节中发生炎性疾病时,可以将电磁波照射到受试对象的关节部分或受试对象的任意部分的皮肤上。
此外,从电磁波治疗设备照射出的电磁波可以是直接照射到受试对象的身体内的电磁波。此处,当电磁波直接照射到受试对象的身体内时,电磁波可以直接照射到其中发生炎性疾病并且需要对其进行治疗或抑制的患病部分、预期发生炎性疾病的部分、或者身体中的除了其中已经发生炎性疾病的部位之外的部分。
因此,受试对象的其上被照射电磁波的部分可以是皮肤或身体的一部分,并且可以是患病部分或者除了患病部分之外的部分。
在本发明内容的一个实施方式中,电磁波治疗设备还可以包括施加器,该施加器连接至照射器使得由该照射器生成的电磁波可以直接照射到受试对象的身体内。例如,施加器可以被配置成具有被设计成直接插入受试对象的身体内的管的形式例如光纤的形式,使得从照射器生成的电磁波可以沿形成在该施加器的内表面上的路径照射到受试对象的身体内。替选地,照射器可以通过被施加器包围而被直接插入至受试对象的身体内,并且从照射器照射出的电磁波可以通过施加器直接照射到受试对象的身体内。然而,施加器不限于上面的示例,并且本领域技术人员可以选择其中由照射器生成的电磁波可以直接照射到受试对象的身体内的构造。
在本发明内容的一个实施方式中,照射器可以包括包含阳极和阴极的管。在这种情况下,阳极可以连接至电力供应器的一侧,并且阴极可以连接至电力供应器的另一侧,使得来自电力供应器的电力可以被供应至包括阳极和阴极的管。在一个具体示例中,包括阳极和阴极的管还可以包括至少一个栅极,并且控制器的一侧或另一侧中的至少一者可以连接至至少一个栅极。栅极可以是栅格、导线或者针孔结构的栅极中的一者。另外,栅极还可以由一个或更多个导线以及一个或更多个空的空间形成。在其中栅极存在于管中的情况下,该栅极可以由一个栅极形成,并且可以是由多个栅极形成的多栅极。栅极可以诱导电子的发射,并且电子可以基于施加至管的电压从阴极发射。
在一个具体示例中,阴极可以包括碳纳米管(CNT)。具体地,阴极可以对应于由CNT形成的发射极。在这种情况下,阴极的场发射元件即发射极可以由包括多个单元纱线的CNT结构形成,每个单元纱线具有其中多个CNT聚集并且在第一方向上延伸的结构。在这种情况下,CNT结构可以被设计成使得单元纱线中的每一个的前端面向与第一方向相同的方向。在以这种方式设计的管的情况下,有利的是,通过该结构的前端发射的大部分电子可以在第一方向上发射,该第一方向是每个CNT和单元纱线延伸的方向。因此,有利的是,当管被应用至通过金属靶和电子的碰撞来生成X射线的X射线管时,大部分电子可以集中到期望的碰撞部分。
然而,这仅是配置照射器的示例,并且照射器不一定包括与由CNT组成的发射极对应的阴极,并且如上所述,照射器可以照射出0.05nm或更大并且10nm或更小的波长范围内的电磁波,并且还可以照射出上述范围之外的波长的电磁波,但是上述范围之外的波长的电磁波可能被还包括上述滤波器的构造阻挡。
在本发明内容的一个实施方式中,通过电磁波治疗设备治疗、抑制或预防的受试对象的炎性疾病可以是由生物标志物介导的疾病。生物标志物是指在受试对象中介导炎性代谢反应或引起炎性疾病的任何体内物质,并且可以具体地包括白介素(IL)、肿瘤坏死因子(TNF)等,并且更具体地可以是IL-1β、IL-6和TNF-α中的至少一种,但是本发明内容不限于此。在本发明内容的一个实施方式中,通过电磁波治疗设备治疗、抑制或预防的受试对象的炎性疾病可以是脂贮积症。
在本发明内容中,其炎性疾病通过电磁波治疗设备来治疗、抑制或预防的受试对象可以是受试对象中所测量的以下指标中的至少一个指标被测量高于正常情况的目标。在一个具体示例中,在用从根据本发明内容的电磁波治疗设备照射出的电磁波对受试对象进行照射之后从该受试对象测量的以下指标中的至少一个指标的值与照射电磁波之前测量的以下指标相比较可以降低,
-血液中IL-1β的表达水平;
-血液中IL-6的表达水平;
-血液中TNF-α的表达水平;
-表达细胞内IL-1β的信使核糖核酸(mRNA)的表达水平;
-表达细胞内IL-6的mRNA的表达水平;
-表达细胞内TNF-α的mRNA的表达水平;以及
-细胞内脂质累积的量。
此处,“正常”可以是指其中受试对象被诊断为没有患有炎性疾病或者受试对象被诊断为不太可能发生炎性疾病的情况。
在本发明内容的一个实施方式中,通过电磁波治疗设备治疗、抑制或预防的受试对象的炎性疾病可以是自身免疫性疾病或自身炎性疾病。具体地,自身免疫性疾病可以包括:年龄相关性黄斑变性(AMD);炎性皮肤病、银屑病、特应性皮炎;系统性硬皮病、硬化症;克罗恩病、溃疡性结肠炎;呼吸窘迫综合征、成人呼吸窘迫综合征;急性呼吸窘迫综合征(ARDS);皮炎;脑膜炎;脑炎;葡萄膜炎;结肠炎;肾小球肾炎;变应性病症、湿疹、哮喘、T细胞浸润、与慢性炎性反应相关的其他病症;动脉粥样硬化;白细胞粘附缺陷;关节炎、类风湿性关节炎、炎性关节炎、幼年类风湿性关节炎、骨关节炎、银屑病关节炎;系统性红斑狼疮(SLE);狼疮性肾炎(LN);糖尿病、I型糖尿病、胰岛素依赖型糖尿病;多发性硬化症;雷诺综合征;自身免疫性甲状腺炎;变应性脑脊髓炎;干燥综合征,幼年型发作糖尿病;结核病;结节病;多发性肌炎;肉芽肿病和血管炎;由细胞因子和通常存在于结核病中的T淋巴细胞介导的急性和迟发性超敏反应相关的免疫反应;恶性贫血、艾迪生病;与白细胞移植相关的疾病;中枢神经系统炎性疾病;多器官损伤综合征;溶血性贫血;冷球蛋白血症、库姆斯阳性贫血;重症肌无力;抗原抗体复合物介导的疾病;抗肾小球基底膜病;抗磷脂综合征;变应性神经炎;格雷夫斯病;Lambert-Eaton肌无力综合征;大疱性类天疱疮;天疱疮;自身免疫性多内分泌病;赖特尔病;僵人综合征;白塞病;巨细胞动脉炎;免疫复合物性肾炎;IgA肾病;IgM多发性神经病;以及免疫性血小板减少性紫癜(ITP)或自身免疫性血小板减少症。
免疫相关疾病和炎性疾病是对正常生理条件下的损伤或损害的反应,启动从损伤或损害中恢复,以及启动针对外来生物体的先天性防御和获得性防御,并且因此是重要的、相当复杂的且通常是多个互连的生物途径的症状或后果。当这些正常的生理途径与反应的强度直接相关时,由于异常条件作用或过度刺激、由于自身或者由于其组合,产生疾病状况或病理状况,从而导致进一步的损伤或损害。
自身炎性疾病可以包括:家族性地中海热(FMF);TNF受体相关周期性综合征(TRAPS);高免疫球蛋白血症D伴周期性发热综合征(HIDS);系统性幼年型发作特发性关节炎(斯蒂尔病);灾难性抗磷脂综合征(CAPS);家族性寒冷性自身炎症综合征;穆-韦综合征;白介素1受体(DIRA)拮抗剂缺乏;新生儿发作多系统炎性疾病(NOMID);和慢性婴儿神经性皮肤关节(CINCA)综合征。
脂贮积症可以包括:尼曼皮克病A型、B型和C型;戈谢病II型;法布里病;神经节苷脂贮积症;泰-萨克斯病;桑德霍夫病;克拉伯病;以及异染性脑白质营养不良、肝炎、肝癌、肝硬化、非酒精性脂肪性肝病或胆固醇酯贮积病以及鲍尔曼病。
根据本发明内容的电磁波治疗设备可以与已知的炎性疾病治疗组合物一起使用,以治疗、抑制或预防受试对象的炎性疾病。具体地,将炎性疾病治疗组合物施用于受试对象,并且然后使用根据本发明内容的电磁波治疗设备将电磁波照射到受试对象上,使得可以进一步增强治疗炎性疾病的效果。替选地,将炎性疾病治疗组合物施加至受试对象的患病部分,并且然后使用根据本发明内容的电磁波治疗设备将电磁波照射到受试对象上,使得可以进一步增强治疗炎性疾病的效果。
本发明内容提供了用于操作上述电磁波处理设备的方法并且可以包括:将照射器定位成使用电磁波照射受试对象;以及通过照射器用电磁波来照射受试对象。在一个具体示例中,上述电磁波治疗设备还可以包括施加器,该施加器连接至照射器使得由照射器生成的电磁波可以直接照射到受试对象的身体内;并且用于操作施加器的方法可以包括:将施加器插入至受试对象的身体内;以及通过照射器将电磁波照射到受试对象的身体内。此处,施加器如本说明书中先前所限定的。
本发明内容提供了用于治疗、抑制或预防受试对象的炎性疾病的方法,该方法包括用具有0.05nm或更大并且10nm或更小的波长的电磁波来照射受试对象。另外,本发明内容提供了用于使用上述电磁波治疗设备来治疗、抑制或预防受试对象的炎性疾病的方法。此外,本发明内容提供了:用于治疗、抑制或预防受试对象的炎性疾病并且具有0.05nm或更大并且10nm或更小的波长的电磁波;以及其用于治疗、抑制或预防受试对象的炎性疾病的用途。
<示例>
在下文中,将详细描述示例以便说明本发明内容的操作和效果。然而,以下示例仅是对本发明内容的说明,并且不旨在限制本发明内容的范围。
示例1.根据电磁波的照射时间确认细胞生存力
进行以下实验以确定当具有0.05nm或更大并且10nm或更小的波长的电磁波照射到细胞上时是否存在毒性例如细胞死亡。
将RAW264.7巨噬细胞与包含10%胎牛血清(FBS)和1%青霉素-链霉素的Dulbecco改良Eagle培养基(DMEM)在37+/-2℃下及5% CO2气氛中进行孵育。将细胞以1×104个细胞/孔接种在96孔板上。用电磁波(波长为0.05nm或更大并且10nm、输出功率为4.9W、在0.07m的距离处)照射所述细胞分别持续5分钟、10分钟和20分钟,并且然后在37+/-2℃下孵育24小时。将所述细胞与XTT试剂在37+/-2℃下孵育2小时,并且然后使用微板阅读仪(美国,加利福尼亚州,赫拉克勒斯市,伯乐生命医学产品有限公司)在450nm处测量细胞生存力。
作为结果,如图2所示,确定了当在不同照射时间用具有0.05nm或更大并且10nm或更小的波长的电磁波照射RAW264.7巨噬细胞时,细胞生存力与没有用电磁波照射的RAW264.7巨噬细胞相比没有显著差异。因此,确定了即使在具有0.05nm或更大并且10nm或更小的波长的电磁波被照射到细胞上时,也没有观察到细胞毒性例如细胞死亡或细胞损伤。
示例2.确定电磁波对LPS处理的RAW264.7巨噬细胞的炎性反应的影响
进行以下实验以通过当具有0.05nm或更大并且10nm或更小的波长的电磁波照射到诱导了炎性反应的细胞上时引起的分子水平的变化来确定对炎性反应的治疗效果。
蛋白质印迹
将RAW264.7巨噬细胞以1×105个细胞/孔的密度接种在6孔板上,孵育24小时,并且然后用500μM脂多糖(LPS)处理3小时以诱导炎性反应。将LPS处理的RAW264.7巨噬细胞用具有0.05nm或更大并且10nm或更小的波长和4.9W的输出功率的电磁波在0.07M的距离处照射10分钟,并且然后在没有电磁波进一步照射的情况下在37+/-2℃下及5% CO2气氛中孵育21小时。为了进行蛋白质印迹,从用没有经过LPS处理的正常的RAW264.7巨噬细胞、LPS处理的RAW264.7巨噬细胞、以及在进行LPS处理之后用电磁波照射的RAW264.7巨噬细胞中提取蛋白质,并且然后使用蛋白质测定试剂(美国,加利福尼亚州,赫拉克勒斯市,伯乐生命医学产品有限公司)来测量所提取的蛋白质的浓度。将提取的蛋白质样品与十二烷基硫酸钠(SDS)缓冲溶液以1:1的比例混合,并且然后加热10分钟以转化蛋白质。在每柱12% SDS-聚丙烯酰胺凝胶电泳(PAGE)加载30μg的蛋白质样品之后,通过电泳分离蛋白质样品,并且然后将该蛋白质样品电转移至聚偏二氟乙烯(PVDF)膜(美国,马萨诸塞州,贝德福德市,密理博公司)。将PVDF膜在含有5%牛血清白蛋白(BSA)的磷酸盐缓冲盐水(PBS)溶液中在室温下封闭2小时。将PVDF膜与抗IL-1β抗体(1:1000)在4℃下孵育16小时。将膜与辣根过氧化物酶缀合的二级抗体孵育1小时。为了检测IL-1β,将膜与增强发光(ECL)试剂孵育,并且使用化学发光检测器对IL-1β的表达进行检测。使用ImageJ程序对IL-1β的表达进行分析。
根据正常的RAW264.7巨噬细胞、对LPS进行处理以诱导炎性反应的RAW264.7巨噬细胞、以及在进行LPS处理之后用具有0.05nm或更大并且10nm或更小的波长的电磁波治疗的RAW264.7巨噬细胞确定IL-1β蛋白表达的蛋白质印迹(如图3A左侧所示,按顺序示出“正常的”、“炎性诱导的”、“炎性诱导的+X射线”)。通过蛋白质印迹结果的图像分析对IL-1β的表达水平进行相对定量分析的结果是,与正常的RAW264.7巨噬细胞相比,在对LPS进行处理以诱导炎性反应的RAW264.7巨噬细胞中IL-1β的表达水平增加了329.8(±17.1)%。另一方面,与诱导了炎性反应的RAW264.7巨噬细胞相比,在用具有0.05nm或更大并且10nm或更小的波长的电磁波处理的RAW264.7巨噬细胞中IL-1β的表达水平降低了297.8(±14.2)%,并且因此表现出显著的炎性反应降低效果,并且与正常细胞相比没有显著差异。因此,确定了当具有0.05nm或更大并且10nm或更小的波长的电磁波照射到炎性反应降低的细胞上时,IL-1β蛋白的表达降低,并且因此,确定了具有0.05nm或更大并且10nm或更小的波长的电磁波降低了细胞的炎性反应。
免疫细胞化学
将RAW264.7巨噬细胞以5×103细胞/孔接种在8个室中。将细胞分为以下3组:正常的RAW264.7巨噬细胞;LPS处理的RAW264.7巨噬细胞;在LPS处理之后用电磁波照射的RAW264.7巨噬细胞。用500μm LPS处理细胞3小时。并且用具有一定波长的电磁波(0.05nm或更大并且10nm或更小的波长和4.9W的输出功率在0.07m的距离处)照射LPS处理的RAW264.7巨噬细胞10分钟,并且然后在37+/-2℃下及5% CO2气氛中孵育21小时。将3组细胞用4%福尔马林固定10分钟,并且将细胞膜溶解在0.1% Triton X-100溶液中。在室温下,将细胞与抗IL-1β抗体孵育1小时并且与Alexa Fluor488缀合的二级抗体(1:1000)孵育1小时。用4’,6-二氨基-2-苯基吲哚(激发波长:358nm并且发射波长:461nm)对细胞核进行染色。使用荧光显微镜(韩国,大田市,纳兹克股份有限公司,K1-Fluo)获得荧光图像,并且使用ImageJ对荧光强度进行测量和分析。
作为结果,如图3所示,即使在通过免疫细胞化学分析来分析IL-1β蛋白表达时,与没有用LPS处理的正常的RAW264.7巨噬细胞相比,在LPS处理的RAW264.7巨噬细胞中IL-1β的表达增加了357.3%(+/-23.2),但是与LPS处理的RAW264.7巨噬细胞相比,在用具有0.05nm或更大并且10nm或更小的波长的电磁波处理的RAW264.7巨噬细胞中IL-1β的表达降低了173.1%(+/-8.1),从而表现出显著的表达降低效果。因此,确定了当用具有0.05nm或更大并且10nm或更小的波长的电磁波对诱导了炎性反应的细胞进行照射时,降低了为炎性因子的IL-1β蛋白的表达,并且作为结果,具有0.05nm或更大并且10nm或更小的波长的电磁波已经被确定降低了细胞的炎性反应。
实时聚合酶链反应(qPCR)
将细胞分为以下3组:正常的RAW264.7巨噬细胞;LPS处理的RAW264.7巨噬细胞;以及在进行LPS处理之后用电磁波对其进行照射的RAW264.7巨噬细胞。使用TRIzol试剂分别分离Raw264.7细胞组的总RNA;使用SuperScript III第一链cDNA合成试剂盒由1μg总RNA合成互补DNA(cDNA)。
使用SYBR Green PCR Mix在Applied Biosystems 7500快速实时PCR系统(美国,马萨诸塞州,赛默飞世尔科技公司)上进行实时PCR。cDNA的扩增包括在95℃下进行初始变性10分钟,随后是40个循环的在95℃下变性10秒、在60℃下退火30秒、以及在72℃下延伸30秒。用于扩增的引物在下面表1中示出。使用2-ΔΔCt法计算相对mRNA水平并且将所述水平归一化为β-肌动蛋白。
<表1>
作为结果,如图3所示,与正常的RAW264.7巨噬细胞相比,在LPS处理的RAW264.7巨噬细胞中表达IL-1β蛋白的mRNA水平增加了260%(+/-57.6);但是与LPS处理的RAW264.7巨噬细胞相比,在用具有0.05nm或更大并且10nm或更小的波长的电磁波处理的RAW 264.7巨噬细胞中表达IL-1β蛋白的mRNA水平降低了29.2%(+/-11.8),从而表现出显著较低的mRNA水平(图3C)。
另外,如图3D和图3E所示,与正常的RAW 264.7巨噬细胞相比,在LPS处理的RAW264.7巨噬细胞中表达IL-6和TNF-α的mRNA水平分别增加了613.1%(+/-175)和455.4%(+/-80.0);但是在用具有0.05nm或更大并且10nm或更小的波长的电磁波处理的RAW264.7巨噬细胞中表达IL-6和TNF-α的mRNA水平分别降低了17.4%(+/-15.9)和58.8%(+/-16),从而表现出显著较低的mRNA水平(图3D和图3E)。
因此,确定了当具有0.05nm或更大并且10nm或更小的波长的电磁波照射到诱导了炎性反应的细胞上时,表达引起炎性反应的IL-1β、IL-6和TNF-α蛋白的mRNA水平显著降低,并且因此,具有0.05nm或更大并且10nm或更小的波长的电磁波已经被确定降低了细胞的炎性反应。
脂质累积分析
将RAW264.7巨噬细胞接种在tomidish中24小时,并且用500μM LPS处理3小时以诱导炎性反应。此后,用具有0.05nm或更大并且10nm或更小的波长和4.9W的输出功率的电磁波在0.07m的距离处照射LPS处理的RAW264.7巨噬细胞10分钟,并且然后在没有电磁波的进一步照射的情况下在37+/-2℃下及5% CO2的气氛中孵育21小时。此后,使用Tomocube HT-1S显微镜(韩国,大田市,唐摩库柏公司)获得没有用LPS处理的正常的RAW264.7巨噬细胞的活细胞图像、LPS处理的RAW264.7巨噬细胞的活细胞图像、以及在进行LPS处理之后用电磁波照射的RAW264.7巨噬细胞的活细胞图像。使用Tomostudio软件基于细胞的三维(3D)折射率(RI)分布来分析细胞中脂质累积的程度。
作为通过3D全息分析确定细胞中累积的脂滴的量的结果,如图4所示,确定了与LPS处理的RAW264.7巨噬细胞相比,在用具有0.05nm或更大并且10nm或更小的波长的电磁波处理的RAW264.7巨噬细胞中,脂质分布显著减少(图4A),并且甚至当对脂质累积的量进行定量比较时,确定了脂质分布减少了0.017%(+/-0.012)并且观察到脂质累积的量显著减少(图4B)。因此,确定了当具有0.05nm或更大并且10nm或更小的波长的电磁波照射到诱导了炎性反应的细胞上时,细胞中的与炎性反应相关联的脂质累积的量显著减少,并且因此,确定了具有0.05nm或更大并且10nm或更小的波长的电磁波可以治疗、抑制或预防炎性反应。
示例3.炎性诱导动物模型中的炎性因子的分析
将8周龄雄性C5BL/6鼠(韩国,京畿道,Orient Bio股份有限公司)单独饲养,以允许在具有12小时光/暗周期的受控环境(在24+/-2℃的室温下并且在40±2%的湿度下)中自由获得水和食物(基于AIN-93G配方)。将鼠稳定持续一周,并且然后将5mg/kg LPS施用至每只鼠的腹腔,并且在4小时之后,用具有0.05nm或更大并且10nm或更小的波长和4.9W的输出功率的电磁波在0.05m的距离处照射一些鼠10分钟。在施用LPS 4小时之后,从没有用电磁波照射的鼠的心脏获取血液,并且将用电磁波照射的鼠放入肝素管中。
使用酶联免疫吸附测定(ELISA;R&D systems)来确定作为炎性细胞因子的IL-1β的表达水平。将获得的鼠血浆样品和50μL标准IL-1β包被的上清液置于96孔板上,使之在室温下进行反应,并且用1X洗涤缓冲液洗涤3次。将100μL缀合物置于96孔板上并且使之在室温下反应1小时,然后用1X洗涤缓冲液洗涤3次,并且然后添加底物并且使之在室温下反应30分钟。在添加终止溶液之后,通过分光光度计测量450nm波长下的光吸收程度,并且通过将光吸收程度与对照组进行比较来计算IL-1β蛋白的量。
作为结果,如图5所示,当具有0.05nm或更大并且10nm或更小的波长的电磁波照射到用LPS处理以诱导炎性的鼠上时,可以确定,与没有被诱导炎性的鼠相比,IL-1β蛋白的量显著减少。因此,确定了即使当具有0.05nm或更大并且10nm或更小的波长的电磁波直接照射到动物模型上时,也可以治疗或抑制炎性疾病。
根据上述结果,确定了即使当具有0.05nm或更大并且10nm或更小的波长的电磁波照射到受试对象的除了患病部分之外的部分上时,也可以有效地减少受试对象中诱导炎性反应的因子的量。换言之,确定了当具有0.05nm或更大并且10nm或更小的波长的电磁波照射到受试对象的整个身体时,也可以充分地治疗、抑制或预防炎性疾病。
虽然已经参照示例实施方式描述了本发明内容,但是本领域技术人员应当理解,在不脱离本公开内容的精神和范围的情况下,可以进行各种改变。

Claims (23)

1.一种用于治疗、抑制或预防受试对象的炎性疾病的电磁波治疗设备,所述电磁波治疗设备包括:
电力供应器;
照射器,其被配置成从所述电力供应器接收电力,并且用具有0.05nm或更大并且10nm或更小的波长的电磁波照射所述受试对象;以及
控制器,其被配置成调整从所述照射器照射出的所述电磁波的波长或剂量。
2.根据权利要求1所述的电磁波治疗设备,还包括滤波器,所述滤波器被配置成阻挡从所述照射器发射的所述电磁波中具有小于0.05nm的波长的电磁波。
3.根据权利要求1所述的电磁波治疗设备,还包括保护器,所述保护器包围所述照射器的至少一部分。
4.根据权利要求1所述的电磁波治疗设备,还包括距离测量器,所述距离测量器被配置成测量所述照射器的远端与所述受试对象之间的距离(L,米)。
5.根据权利要求4所述的电磁波治疗设备,还包括位置调整器,所述位置调整器被配置成调整所述照射器的远端与所述受试对象之间的距离。
6.根据权利要求5所述的电磁波治疗设备,其中,所述控制器基于由所述距离测量器测量的距离通过控制所述位置调整器来调整所述照射器的远端与所述受试对象之间的距离。
7.根据权利要求1所述的电磁波治疗设备,还包括准直器,所述准直器被配置成调整所述电磁波的照射范围或强度。
8.根据权利要求7所述的电磁波治疗设备,其中,所述准直器由所述控制器控制。
9.根据权利要求1所述的电磁波治疗设备,其中,所述控制器控制从所述电力供应器供应至所述照射器的电压或电流。
10.根据权利要求1所述的电磁波治疗设备,还包括监测装置,所述监测装置被配置成显示从所述控制器输出的信号。
11.根据权利要求1所述的电磁波治疗设备,其中,所述电磁波治疗设备将所述电磁波直接发射到所述受试对象的皮肤上或身体内。
12.根据权利要求1所述的电磁波治疗设备,还包括施加器,所述施加器连接至所述照射器使得由所述照射器生成的电磁波直接照射到所述受试对象的身体内。
13.根据权利要求1所述的电磁波治疗设备,其中,所述照射器对应于包括阳极和阴极的管,
其中,所述阳极连接至所述电力供应器的一侧,并且
所述阴极连接至所述电力供应器的另一侧。
14.根据权利要求13所述的电磁波治疗设备,其中,所述管还包括至少一个栅极,
其中,所述控制器的一侧或另一侧中的至少一者连接至所述至少一个栅极。
15.根据权利要求13所述的电磁波治疗设备,其中,所述阴极包括碳纳米管(CNT)。
16.根据权利要求1所述的电磁波治疗设备,其中,所述受试对象的炎性疾病是由包括白介素(IL)-1β、IL-6和肿瘤坏死因子(TNF)-α中的至少一种的生物标志物介导的疾病或脂贮积症。
17.根据权利要求1所述的电磁波治疗设备,其中,所述受试对象的炎性疾病是自身免疫性疾病或自身炎性疾病。
18.一种操作根据权利要求1所述的电磁波治疗设备的方法,所述方法包括:
将所述照射器定位成使得所述电磁波照射到所述受试对象上;以及
将所述电磁波从所述照射器照射到所述受试对象上。
19.根据权利要求18所述的方法,其中,
所述电磁波治疗设备还包括施加器,所述施加器连接至所述照射器使得由所述照射器生成的电磁波直接照射到所述受试对象的身体内,并且
所述方法包括:
将所述施加器插入至所述受试对象的身体内;以及
将所述电磁波从所述照射器照射到所述受试对象的身体内。
20.一种用于通过使用根据权利要求1至19中任一项所述的电磁波治疗设备来治疗、抑制或预防受试对象的炎性疾病的方法。
21.一种具有0.05nm或更大并且10nm或更小的波长的电磁波用于治疗、抑制或预防受试对象的炎性疾病的用途。
22.一种具有0.05nm或更大并且10nm或更小的波长的用于治疗、抑制或预防受试对象的炎性疾病的电磁波。
23.一种用于治疗、抑制或预防受试对象的炎性疾病的方法,所述方法包括将具有0.05nm或更大并且10nm或更小的波长的电磁波照射到所述受试对象上。
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