CN116921173A - 一种提高铜锑硫薄膜光电性能的方法 - Google Patents
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- CN116921173A CN116921173A CN202310809084.2A CN202310809084A CN116921173A CN 116921173 A CN116921173 A CN 116921173A CN 202310809084 A CN202310809084 A CN 202310809084A CN 116921173 A CN116921173 A CN 116921173A
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- CHRUUJJXTYHZCK-UHFFFAOYSA-N antimony;sulfanylidenecopper Chemical compound [Sb].[Cu]=S CHRUUJJXTYHZCK-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims abstract description 63
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 24
- 238000002791 soaking Methods 0.000 claims abstract description 69
- 239000000463 material Substances 0.000 claims abstract description 20
- 238000004804 winding Methods 0.000 claims abstract description 19
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 claims description 34
- 238000003756 stirring Methods 0.000 claims description 19
- 239000010408 film Substances 0.000 claims 11
- 239000010409 thin film Substances 0.000 claims 3
- 230000000149 penetrating effect Effects 0.000 claims 1
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 abstract description 15
- 239000002699 waste material Substances 0.000 abstract description 4
- 238000009434 installation Methods 0.000 abstract description 2
- 210000001503 joint Anatomy 0.000 description 9
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 6
- 239000003153 chemical reaction reagent Substances 0.000 description 2
- 238000006073 displacement reaction Methods 0.000 description 2
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 2
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 2
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 1
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 1
- 238000004070 electrodeposition Methods 0.000 description 1
- 230000017525 heat dissipation Effects 0.000 description 1
- 238000001027 hydrothermal synthesis Methods 0.000 description 1
- 238000002347 injection Methods 0.000 description 1
- 239000007924 injection Substances 0.000 description 1
- 238000001755 magnetron sputter deposition Methods 0.000 description 1
- 230000001737 promoting effect Effects 0.000 description 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
- 238000004528 spin coating Methods 0.000 description 1
- 238000006467 substitution reaction Methods 0.000 description 1
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 1
- 238000002207 thermal evaporation Methods 0.000 description 1
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-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B05—SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05D—PROCESSES FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05D1/00—Processes for applying liquids or other fluent materials
- B05D1/18—Processes for applying liquids or other fluent materials performed by dipping
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B05—SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05C—APPARATUS FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05C11/00—Component parts, details or accessories not specifically provided for in groups B05C1/00 - B05C9/00
- B05C11/10—Storage, supply or control of liquid or other fluent material; Recovery of excess liquid or other fluent material
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B05—SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05C—APPARATUS FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05C13/00—Means for manipulating or holding work, e.g. for separate articles
- B05C13/02—Means for manipulating or holding work, e.g. for separate articles for particular articles
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B05—SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05C—APPARATUS FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05C3/00—Apparatus in which the work is brought into contact with a bulk quantity of liquid or other fluent material
- B05C3/02—Apparatus in which the work is brought into contact with a bulk quantity of liquid or other fluent material the work being immersed in the liquid or other fluent material
- B05C3/12—Apparatus in which the work is brought into contact with a bulk quantity of liquid or other fluent material the work being immersed in the liquid or other fluent material for treating work of indefinite length
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B65—CONVEYING; PACKING; STORING; HANDLING THIN OR FILAMENTARY MATERIAL
- B65H—HANDLING THIN OR FILAMENTARY MATERIAL, e.g. SHEETS, WEBS, CABLES
- B65H18/00—Winding webs
- B65H18/08—Web-winding mechanisms
- B65H18/10—Mechanisms in which power is applied to web-roll spindle
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Abstract
本发明公开了一种提高铜锑硫薄膜光电性能的方法，包括以下步骤：步骤一、工作人员将含有铜锑硫薄膜的料辊一端与收集辊进行连接；步骤二、在收卷结构收卷的过程中，涂抹结构对铜锑硫薄膜进行浸泡；步骤三、将完成浸泡的铜锑硫薄膜推出，方便工作人员对其进行收集。本发明能够便于工作人员对含有铜锑硫薄膜料辊进行安装，有效降低了工作人员的劳动强度，并且能够刮除多余的催化剂溶液，减少催化剂溶液的浪费。
Description
技术领域
本发明涉及光电材料新能源技术领域，具体为一种提高铜锑硫薄膜光电性能的方法。
背景技术
铜锑硫薄膜是一种常用的半导体材料之一，为了提高铜锑硫薄膜的光电性能，通常在铜锑硫薄膜的基底预处理中将铜锑硫薄膜的表面负载催化剂。
常用的负载催化剂的方式包括但不限于：水热法、电沉积/光电沉积、浸泡、旋涂、热注射、磁控溅射和热蒸发其中的1～2种方法；
其中浸泡法，在现有的技术中最为常见，但是现有技术中的浸泡，对于完成浸泡的铜锑硫薄膜的收集，不够方便，需要工作人员手动将完成浸泡的铜锑硫薄膜取出，无形中提高了工作人员的劳动强度。因此提供一种提高铜锑硫薄膜光电性能的方法，用以解决上述问题。
发明内容
为实现上述目的，本发明提供如下技术方案：
一种提高铜锑硫薄膜光电性能的方法，包括以下步骤：
步骤一、工作人员将含有铜锑硫薄膜的料辊一端与收集辊进行连接；
步骤二、在收卷结构收卷的过程中，涂抹结构对铜锑硫薄膜进行浸泡；
步骤三、将完成浸泡的铜锑硫薄膜推出，方便工作人员对其进行收集。
另外，收卷结构的外部设置有浸泡池，收卷结构包括有设置在浸泡池一侧外壁的斜向底座，斜向底座的上端设置有料辊，料辊的两端对称设置有固定支架，浸泡池位于斜向底座相邻的一侧外壁设置有底座本体，底座本体的上表面设置有滑块，滑块靠近浸泡池的一侧设置有推动板，推动板的另一侧设置有收集辊，浸泡池远离滑块的一侧外壁设置有U型固定板；
涂抹结构包括有对称设置在浸泡池上表面两侧的L型支架，两个L型支架相向的一侧内部设置有限位辊以及对称设置的两个清洁辊。
其次，浸泡池整体呈长方形且内部空心并上端开口，两个固定支架整体呈长方形，其一侧上端贯穿开设有U形槽孔，两个固定支架的下表面均与斜向底座的上表面相接触且为支架连接，两个U形槽孔内壁均与料辊风两端外壁相接触，两个固定支架的上表面均设置有挡块，两个挡块的下表面一端均与固定支架上表面一端为转轴连接，两个挡块远离转轴的一侧外壁与固定支架一侧外壁卡扣连接，斜向底座靠近浸泡池的一侧外壁与浸泡池外壁相接触且为螺栓连接。
之后，滑块的下表面与底座本体上表面相接触且呈滑动连接，底座本体上表面位于滑块的一侧设置有横向液压杆，横向液压杆的外壁与底座本体上表面相接触且为支架连接，横向液压杆的输出端与滑块的一侧外壁相接触且为支架连接，滑块靠近浸泡池的一侧设置有导向柱，导向柱的一端外壁与滑块一侧外壁相接触且为支架连接，导向柱的外壁套设有推动板，两个L型支架相向的一侧内壁均设置有固定板板体，两个固定板板体相向的一侧设置有限位辊。
然后，推动板内壁与导向柱外壁相接触且呈滑动连接，推动板与滑块之间对称设置有推动液压杆，两个推动液压杆的输出端均与推动板一侧外壁相接触且为支架连接，两个推动液压杆的另一侧与滑块一侧外壁相接触且为支架连接，导向柱位于推动板远离推动液压杆的一侧设有收集辊，导向柱外壁与收集辊内壁相接触且为活动连接，两个固定板板体的上表面均设置有限位液压杆，两个限位液压杆的输出端均与固定板板体的上表面相接触且为支架连接。
进一步的，导向柱远离推动板的一端外壁镶嵌设置有内道齿，浸泡池内部位于内道齿的下端设置有下部支撑架，下部支撑架的下表面与浸泡池底板上表面相接触且为支架连接，下部支撑架的上表面设置有转轴本体，转轴本体外壁套设有齿轮，齿轮内壁与转轴本体外壁相接触且为固定连接，转轴本体的两端与下部支撑架上表面为支架连接，齿轮与内道齿内壁相接触且为啮合连接。
进一步的，两个限位液压杆的另一端与L型支架顶板下表面相接触且为支架连接，限位辊和收集辊之间设置有两个清洁辊，两个清洁辊的两端远离相向的一侧均设置有两组清洁液压杆，每组清洁液压杆共有两个，四个清洁液压杆的输出端均与清洁辊两端外壁支架连接，一组清洁液压杆远离输出端的一侧与L型支架顶板下表面相接触且为支架连接，一组清洁液压杆远离输出端的一侧与浸泡池底板上表面相接触且为螺栓连接。
进一步的，U型固定板的下端设置有U型伸缩杆，U型伸缩杆的输出端与U型固定板的下表面相接触且为支架连接，U型固定板外壁与收集辊一端外壁相接触且为转动连接，转轴本体的一端设置有电机本体。
进一步的，电机本体的输出端与转轴本体的一端外壁相接触且为转动连接，底座本体的一侧外壁与浸泡池外壁相接触且为螺栓连接，底座本体远离浸泡池的一侧外壁设置有挡板，挡板的一侧外壁与底座本体外壁相接触且为螺栓连接。
进一步的，浸泡池底板上表面对称设置有搅拌杆，浸泡池底板内部镶嵌设置有搅拌电机，两个搅拌电机的输出端均贯穿浸泡池底板与搅拌杆下表面相接触且为轴心连接，两个L型支架的下表面与浸泡池的上表面相接触且为螺栓连接。
综上所述，本发明主要具有以下有益效果：
1.本装置能够便于工作人员对含有铜锑硫薄膜料辊进行安装，有效的降低了工作人员的劳动强度，并且能够刮除多余的催化剂溶液，减少催化剂溶液的浪费；
2.收卷结构：该装置通过齿轮旋转带动收集辊旋转，使收集辊将完成浸泡的铜锑硫薄膜进行收集，完成收集之后，推动液压杆带动推动板，将收集辊推向一侧，方便工作人员对铜锑硫薄膜进行收集；
3.涂抹结构：该涂抹结构配合收卷结构，能够自动对铜锑硫薄膜自动进行浸泡，并对多余的试剂溶液进行清除，有效的降低了试剂溶液的浪费。
附图说明
图1为本发明的流程图；
图2为本发明整体非工作状态轴侧图；
图3为本发明整体收集辊推出状态轴侧图；
图4为本发明的收集辊相关透视图；
图5为图2中A处节点放大图；
图6为本发明的搅拌杆相关平面图；
图7为本发明的U型固定板相关平面图。
附图说明：1、浸泡池；200、收卷结构；211、斜向底座；212、固定支架；2121、U形槽孔；213、挡块；214、料辊；221、底座本体；222、滑块；223、横向液压杆；224、挡板；231、导向柱；232、推动液压杆；233、推动板；234、收集辊；241、内道齿；242、齿轮；243、转轴本体；244、电机本体；245、下部支撑架；251、U型固定板；252、U型伸缩杆；3、涂抹结构；311、L型支架；312、固定板板体；313、限位辊；314、限位液压杆；321、清洁辊；322、清洁液压杆；331、搅拌电机；332、搅拌杆。
具体实施方式
下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述。
实施例
请参阅图1至图7，一种提高铜锑硫薄膜光电性能的方法，所述方法包括如下步骤：
步骤一、工作人员将含有铜锑硫薄膜的料辊214一端与收集辊234进行连接；
步骤二、在收卷结构200收卷的过程中，涂抹结构3对铜锑硫薄膜进行浸泡；
步骤三、将完成浸泡的铜锑硫薄膜推出，方便工作人员对其进行收集。
请参阅图2、图3、图4和图7，收卷结构200的外部设置有浸泡池1，浸泡池1整体呈长方形且内部空心并上端开口，收卷结构200包括有设置在浸泡池1一侧外壁的斜向底座211，斜向底座211靠近浸泡池1的一侧外壁与浸泡池1外壁相接触且为螺栓连接，斜向底座211的上端设置有料辊214，料辊214的两端对称设置有固定支架212；
两个固定支架212整体呈长方形，其一侧上端贯穿开设有U形槽孔2121，两个固定支架212的下表面均与斜向底座211的上表面相接触且为支架连接，两个U形槽孔2121内壁均与料辊214风两端外壁相接触，两个固定支架212的上表面均设置有挡块213，两个挡块213的下表面一端均与固定支架212上表面一端为转轴连接，两个挡块213远离转轴的一侧外壁与固定支架212一侧外壁卡扣连接，浸泡池1位于斜向底座211相邻的一侧外壁设置有底座本体221，底座本体221的一侧外壁与浸泡池1外壁相接触且为螺栓连接；
底座本体221远离浸泡池1的一侧外壁设置有挡板224，挡板224的一侧外壁与底座本体221外壁相接触且为螺栓连接，挡板224的高度高于底座本体221的高度，底座本体221的高度小于浸泡池1的高度，使底座本体221处于浸泡池1和挡板224之间，这时滑块222在两者的限制下进行滑动，有效的保证了滑块222的稳定性；
底座本体221的上表面设置有滑块222，滑块222的下表面与底座本体221上表面相接触且呈滑动连接，底座本体221上表面位于滑块222的一侧设置有横向液压杆223，横向液压杆223的外壁与底座本体221上表面相接触且为支架连接，横向液压杆223的输出端与滑块222的一侧外壁相接触且为支架连接；
滑块222靠近浸泡池1的一侧设置有导向柱231，导向柱231的一端外壁与滑块222一侧外壁相接触且为支架连接，导向柱231的外壁套设有推动板233，推动板233内壁与导向柱231外壁相接触且呈滑动连接，推动板233与滑块222之间对称设置有推动液压杆232，两个推动液压杆232的输出端均与推动板233一侧外壁相接触且为支架连接，两个推动液压杆232的另一侧与滑块222一侧外壁相接触且为支架连接，导向柱231位于推动板233远离推动液压杆232的一侧设有收集辊234，导向柱231外壁与收集辊234内壁相接触且为活动连接；
当推动板233将收集辊234推离导向柱231时，工作人员可提前在一侧放置有支架，用于盛放收集辊234，之后，工作人员只需要移动支架即可完成对收集辊234的堆叠；
导向柱231远离推动板233的一端外壁镶嵌设置有内道齿241，浸泡池1内部位于内道齿241的下端设置有下部支撑架245，下部支撑架245的下表面与浸泡池1底板上表面相接触且为支架连接，下部支撑架245的上表面设置有转轴本体243，转轴本体243外壁套设有齿轮242，齿轮242内壁与转轴本体243外壁相接触且为固定连接，转轴本体243的两端与下部支撑架245上表面为支架连接，齿轮242与内道齿241内壁相接触且为啮合连接；
转轴本体243的一端设置有电机本体244，电机本体244的输出端与转轴本体243的一端外壁相接触且为转动连接，浸泡池1远离滑块222的一侧外壁设置有U型固定板251，U型固定板251的下端设置有U型伸缩杆252，U型伸缩杆252的输出端与U型固定板251的下表面相接触且为支架连接，U型固定板251外壁与收集辊234一端外壁相接触且为转动连接。
为了提高铜锑硫薄膜的光电性能：
S1：工作人员将卷有铜锑硫薄膜的料辊214放置在两个U形槽孔2121之间，接着，关上两个挡块213；
S2：工作人员将铜锑硫薄膜的一端与收集辊234一端进行连接连接，之后，工作人员通过外置的控制面板开启该装置；
S3：涂抹结构3开始工作，同时，电机本体244开始工作，其输出端开始工作，带动转轴本体243进行旋转，转轴本体243带动齿轮242进行旋转，齿轮242带动啮合连接的内道齿241进行旋转，进而使收集辊234在U型固定板251、导向柱231和推动板233的限制下进行旋转，对完成浸泡的铜锑硫薄膜进行收集；
S4：横向液压杆223开始工作，其输出端延伸，使滑块222进行移动，这时内道齿241脱离齿轮242，同时U型伸缩杆252开始回收，使U型固定板251脱离收集辊234，滑块222移动带动收集辊234移动，接着推动液压杆232开始工作，其输出端开始延伸；
S5：通过移动推动板233，使收集辊234向U型固定板251一侧进行移动，将收集辊234推离导向柱231，这时收集辊234会自动移动到工作人员事先放置的堆叠支架上；
该装置能够自动对铜锑硫薄膜进行收集，并将完成收集的铜锑硫薄膜移出，有效的降低了工作人员的劳动强度，
请参阅图2、图3、图5和图6，涂抹结构3包括有对设置在浸泡池1上表面两侧的L型支架311，两个L型支架311的下表面与浸泡池1的上表面相接触且为螺栓连接；
两个限位液压杆314的另一端与L型支架311顶板下表面相接触且为支架连接，限位辊313和收集辊234之间设置有两个清洁辊321，两个清洁辊321的两端远离相向的一侧均设置有两组清洁液压杆322，每组清洁液压杆322共有两个，四个清洁液压杆322的输出端均与清洁辊321两端外壁支架连接，一组清洁液压杆322远离输出端的一侧与L型支架311顶板下表面相接触且为支架连接，一组清洁液压杆322远离输出端的一侧与浸泡池1底板上表面相接触且为螺栓连接；
浸泡池1底板上表面对称设置有搅拌杆332，浸泡池1底板内部镶嵌设置有搅拌电机331；
浸泡池1底板下表面与搅拌电机331相匹配的位置开设有散热孔，便于搅拌电机331散热，两个搅拌电机331的输出端均贯穿浸泡池1底板与搅拌杆332下表面相接触且为轴心连接；
当需要对铜锑硫薄膜进行浸泡时：
S1：搅拌电机331开始工作，其输出端旋转，带动搅拌杆332进行旋转，使催化剂中的分子分布更加均匀；
S2：限位液压杆314开始工作，在L型支架311的限制下，其输出端开始延伸，带动固定板板体312向下移动，固定板板体312移动进而使限位辊313进行移动，使铜锑硫薄膜在限位辊313的带动下其一截整体埋入催化剂中；
S3：在收卷结构200的带动下，铜锑硫薄膜不断位移，同时，随着铜锑硫薄膜的位移，清洁液压杆322也开始工作，清洁液压杆322的输出端开始移动，使两个清洁辊321以上下夹持的方式，刮掉铜锑硫薄膜表面多余的催化剂；
S4：完成对多余催化剂的清理之后，铜锑硫薄膜被收卷结构200收集。
该装置能够对多余的催化剂进行清理，有效的降低了催化剂的浪费。
本发明的工作原理为：
为了提高铜锑硫薄膜的光电性能：
首先，工作人员将卷有铜锑硫薄膜的料辊214放置在两个U形槽孔2121之间，接着，关上两个挡块213；
然后，工作人员将铜锑硫薄膜的一端与收集辊234一端进行连接连接，之后，工作人员通过外置的控制面板开启该装置；
接着，搅拌电机331开始工作，其输出端旋转，带动搅拌杆332进行旋转，使催化剂中的分子分布更加均匀；
同时，限位液压杆314开始工作，在L型支架311的限制下，其输出端开始延伸，带动固定板板体312向下移动，固定板板体312移动进而使限位辊313进行移动，使铜锑硫薄膜在限位辊313的带动下其一截整体埋入催化剂中；
然后，电机本体244开始工作，其输出端开始工作，带动转轴本体243进行旋转，转轴本体243带动齿轮242进行旋转，齿轮242带动啮合连接的内道齿241进行旋转，进而使收集辊234在U型固定板251、导向柱231和推动板233的限制下进行旋转；
随着，铜锑硫薄膜不断位移，清洁液压杆322也开始工作，清洁液压杆322的输出端开始移动，使两个清洁辊321以上下夹持的方式，刮掉铜锑硫薄膜表面多余的催化剂；
当完成一卷铜锑硫薄膜的浸泡之后，横向液压杆223开始工作，其输出端延伸，使滑块222进行移动，这时内道齿241脱离齿轮242，同时U型伸缩杆252开始回收，使U型固定板251脱离收集辊234，滑块222移动带动收集辊234移动，接着推动液压杆232开始工作，其输出端开始延伸；
然后，通过移动推动板233，使收集辊234向U型固定板251一侧进行移动，将收集辊234推离导向柱231，这时收集辊234会自动移动到工作人员事先放置的堆叠支架上。
尽管已经示出和描述了本发明的实施例，但本具体实施例仅仅是对本发明的解释，其并不是对发明的限制，描述的具体特征、结构、材料或者特点可以在任何一个或多个实施例或示例中以合适的方式结合，本领域技术人员在阅读完本说明书后可在不脱离本发明的原理和宗旨的情况下，可以根据需要对实施例做出没有创造性贡献的修改、替换和变型等，但只要在本发明的权利要求范围内都受到专利法的保护。
Claims (10)
1.一种提高铜锑硫薄膜光电性能的方法，其特征在于，所述方法包括如下步骤：
步骤一、工作人员将含有铜锑硫薄膜的料辊(214)一端与收集辊(234)进行连接；
步骤二、在收卷结构(200)收卷的过程中，涂抹结构(3)对铜锑硫薄膜进行浸泡；
步骤三、将完成浸泡的铜锑硫薄膜推出，方便工作人员对其进行收集。
2.根据权利要求1所述的一种提高铜锑硫薄膜光电性能的方法，其特征在于，所述收卷结构(200)的外部设置有浸泡池(1)，所述收卷结构(200)包括有设置在浸泡池(1)一侧外壁的斜向底座(211)，所述斜向底座(211)的上端设置有料辊(214)，所述料辊(214)的两端对称设置有固定支架(212)，所述浸泡池(1)位于斜向底座(211)相邻的一侧外壁设置有底座本体(221)，所述底座本体(221)的上表面设置有滑块(222)，所述滑块(222)靠近浸泡池(1)的一侧设置有推动板(233)，所述推动板(233)的另一侧设置有收集辊(234)，所述浸泡池(1)远离滑块(222)的一侧外壁设置有U型固定板(251)；
所述涂抹结构(3)包括有对称设置在浸泡池(1)上表面两侧的L型支架(311)，两个所述L型支架(311)相向的一侧内部设置有限位辊(313)以及对称设置的两个清洁辊(321)。
3.根据权利要求2所述的一种提高铜锑硫薄膜光电性能的方法，其特征在于，所述浸泡池(1)整体呈长方形且内部空心并上端开口，两个所述固定支架(212)整体呈长方形，其一侧上端贯穿开设有U形槽孔(2121)，两个所述固定支架(212)的下表面均与斜向底座(211)的上表面相接触且为支架连接，两个所述U形槽孔(2121)内壁均与料辊(214)风两端外壁相接触，两个所述固定支架(212)的上表面均设置有挡块(213)，两个挡块(213)的下表面一端均与固定支架(212)上表面一端为转轴连接，两个挡块(213)远离转轴的一侧外壁与固定支架(212)一侧外壁卡扣连接，所述斜向底座(211)靠近浸泡池(1)的一侧外壁与浸泡池(1)外壁相接触且为螺栓连接。
4.根据权利要求2所述的一种提高铜锑硫薄膜光电性能的方法，其特征在于，所述滑块(222)的下表面与底座本体(221)上表面相接触且呈滑动连接，所述底座本体(221)上表面位于滑块(222)的一侧设置有横向液压杆(223)，所述横向液压杆(223)的外壁与底座本体(221)上表面相接触且为支架连接，所述横向液压杆(223)的输出端与滑块(222)的一侧外壁相接触且为支架连接，所述滑块(222)靠近浸泡池(1)的一侧设置有导向柱(231)，所述导向柱(231)的一端外壁与滑块(222)一侧外壁相接触且为支架连接，所述导向柱(231)的外壁套设有推动板(233)，两个所述L型支架(311)相向的一侧内壁均设置有固定板板体(312)，两个所述固定板板体(312)相向的一侧设置有限位辊(313)。
5.根据权利要求4所述的一种提高铜锑硫薄膜光电性能的方法，其特征在于，所述推动板(233)内壁与导向柱(231)外壁相接触且呈滑动连接，所述推动板(233)与滑块(222)之间对称设置有推动液压杆(232)，两个所述推动液压杆(232)的输出端均与推动板(233)一侧外壁相接触且为支架连接，两个所述推动液压杆(232)的另一侧与滑块(222)一侧外壁相接触且为支架连接，所述导向柱(231)位于推动板(233)远离推动液压杆(232)的一侧设有收集辊(234)，所述导向柱(231)外壁与收集辊(234)内壁相接触且为活动连接，两个所述固定板板体(312)的上表面均设置有限位液压杆(314)，两个所述限位液压杆(314)的输出端均与固定板板体(312)的上表面相接触且为支架连接。
6.根据权利要求5所述的一种提高铜锑硫薄膜光电性能的方法，其特征在于，所述导向柱(231)远离推动板(233)的一端外壁镶嵌设置有内道齿(241)，所述浸泡池(1)内部位于内道齿(241)的下端设置有下部支撑架(245)，所述下部支撑架(245)的下表面与浸泡池(1)底板上表面相接触且为支架连接，所述下部支撑架(245)的上表面设置有转轴本体(243)，所述转轴本体(243)外壁套设有齿轮(242)，所述齿轮(242)内壁与转轴本体(243)外壁相接触且为固定连接，所述转轴本体(243)的两端与下部支撑架(245)上表面为支架连接，所述齿轮(242)与内道齿(241)内壁相接触且为啮合连接。
7.根据权利要求6所述的一种提高铜锑硫薄膜光电性能的方法，其特征在于，两个所述限位液压杆(314)的另一端与L型支架(311)顶板下表面相接触且为支架连接，所述限位辊(313)和收集辊(234)之间设置有两个清洁辊(321)，两个清洁辊(321)的两端远离相向的一侧均设置有两组清洁液压杆(322)，每组所述清洁液压杆(322)共有两个，四个所述清洁液压杆(322)的输出端均与清洁辊(321)两端外壁支架连接，一组所述清洁液压杆(322)远离输出端的一侧与L型支架(311)顶板下表面相接触且为支架连接，一组所述清洁液压杆(322)远离输出端的一侧与浸泡池(1)底板上表面相接触且为螺栓连接。
8.根据权利要求6所述的一种提高铜锑硫薄膜光电性能的方法，其特征在于，所述U型固定板(251)的下端设置有U型伸缩杆(252)，所述U型伸缩杆(252)的输出端与U型固定板(251)的下表面相接触且为支架连接，所述U型固定板(251)外壁与收集辊(234)一端外壁相接触且为转动连接，所述转轴本体(243)的一端设置有电机本体(244)。
9.根据权利要求8所述的一种提高铜锑硫薄膜光电性能的方法，其特征在于，所述电机本体(244)的输出端与转轴本体(243)的一端外壁相接触且为转动连接，所述底座本体(221)的一侧外壁与浸泡池(1)外壁相接触且为螺栓连接，所述底座本体(221)远离浸泡池(1)的一侧外壁设置有挡板(224)，所述挡板(224)的一侧外壁与底座本体(221)外壁相接触且为螺栓连接。
10.根据权利要求9所述的一种提高铜锑硫薄膜光电性能的方法，其特征在于，所述浸泡池(1)底板上表面对称设置有搅拌杆(332)，所述浸泡池(1)底板内部镶嵌设置有搅拌电机(331)，两个所述搅拌电机(331)的输出端均贯穿浸泡池(1)底板与搅拌杆(332)下表面相接触且为轴心连接，两个所述L型支架(311)的下表面与浸泡池(1)的上表面相接触且为螺栓连接。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN202310809084.2A CN116921173B (zh) | 2023-07-04 | 2023-07-04 | 一种提高铜锑硫薄膜光电性能的方法 |
Applications Claiming Priority (1)
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Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| CN116921173A true CN116921173A (zh) | 2023-10-24 |
| CN116921173B CN116921173B (zh) | 2024-08-23 |
Family
ID=88379820
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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| CN202310809084.2A Active CN116921173B (zh) | 2023-07-04 | 2023-07-04 | 一种提高铜锑硫薄膜光电性能的方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| CN (1) | CN116921173B (zh) |
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