CN116770254A - 在线膜厚测试装置以及在线膜厚测试方法 - Google Patents
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Abstract
提供一种在线膜厚测试装置以及在线膜厚测试方法。在线膜厚测试装置用于安装在气相运输沉积的沉积室上。沉积室设置有第一透窗和第二透窗。在线膜厚测试装置包括固定架、测高装置、膜厚测试仪以及运动装置。固定架安装在沉积室上。测高装置固定安装在固定架上，测高装置具有第一探测头，第一探测头对准第一透窗。膜厚测试仪具有第二探测头，第二探测头对准第二透窗，膜厚测试仪内置有标准测距。运动装置安装在固定架上，运动装置连接于膜厚测试仪以使在沉积完成后基板的镀膜的点位随着对应传动辊轮的传输到达第二探测头的正下方时第二探测也处于与到达第二探测头的正下方的点位相距标准测距的高度、进而第二探测头进行镀膜的膜厚测量。
Description
技术领域
本公开涉及薄膜太阳能领域，更具体地涉及一种在线膜厚测试装置以及在线膜厚测试方法。
背景技术
针对薄膜太阳能电池的基板上的镀膜的膜厚测试，目前生产线采用的膜厚测试方式有两种。
一种方式是采用离线测试，即将基板从生产线上转移到单独的检测工位固定，测试探头移动，完成镀膜的膜厚的测量，这种方式测量的结果准确度高，但因为脱离生产线，故时效性低。
另外一种方式是在线测试，将膜厚测试仪集成到沉积室，膜厚测试仪的探测头固定不动，探测头沿其自身的竖直的轴线向下出射光并接收基板上的镀膜沿轴线竖直反射的光来测量膜厚，膜厚测试仪内置有标准测距，只有探测头到基板上的镀膜距离为标准测距时才能进行镀膜的膜厚的有效测量。
但是，在薄膜太阳能制备工艺中，VTD(Vapor transport Deposition,气相运输沉积)是其核心镀膜设备，但因加热源及成膜温度高，例如针对CdTe镀膜达700℃或以上、针对PSCs镀膜达400℃、针对CIGS镀膜达200℃，这会引起基板热变形，进而使得热变形的基板上的镀膜也会变形。
此外，供料源的镀膜材料经加热后，会挥发扩散至沉积室的各个部位；在连续生产过程中，传动辊轮运输的相邻基板之间有间距，导致沉积室内的传动辊轮会逐步沉积镀膜材料，根据实际生产经验，镀膜材料完全挥发后，传动辊轮的直径会增加。
因为膜厚测试仪的探测头固定不动，所以在气相运输沉积中，无论是基板热变形还是传动辊轮因沉积镀膜材料使得传动辊轮的直径增加，都会影响探测头到基板上的镀膜之间的距离，当探测头到基板上的镀膜之间的距离不为标准测距时，膜厚测试仪通过探测头的出射光和所接收的反射光得到的光谱会出现偏差，这种偏差会降低通过光谱构建得到的镀膜的膜厚的准确性、甚至无法得到镀膜的膜厚。
发明内容
鉴于背景技术中存在的问题，本公开的一目的在于提供一种在线膜厚测试装置以及在线膜厚测试方法，其针对气相运输沉积中基板上的镀膜的膜厚在线测试能提高基板上的镀膜的膜厚的测量的准确性。
由此，提供一种在线膜厚测试装置，在线膜厚测试装置用于安装在气相运输沉积的沉积室上。沉积室内安装在高度方向上对齐、在长度方向上间隔排列的多个传动辊轮，沉积室在长度方向的两端设有入口和出口，沉积室被加热以维持气相运输沉积所要求的沉积室内的沉积温度，沉积室内部连通于供给载气和镀膜材料的蒸汽的供料源，沉积室内部连通于流通式地维持沉积室内部真空度的抽真空装置，多个传动辊轮用于承载从入口进入的多个基板并将多个基板在长度方向上彼此间隔地向出口运送基板，在出口和入口之间的沉积位置经由通入沉积室的由载气运输的镀膜材料的蒸汽在到达该位置的对应基板进行沉积镀膜，沉积室的顶壁在与沉积位置紧邻的下游设置有第一透窗和第二透窗。在线膜厚测试装置包括固定架、测高装置、膜厚测试仪以及运动装置。固定架安装在沉积室的顶壁上并位于第一透窗和第二透窗之间。测高装置固定安装在固定架上，测高装置具有第一探测头，第一探测头在高度方向上对准第一透窗，测高装置用于测量沉积完成后基板的镀膜的点位所处的高度。膜厚测试仪具有第二探测头，第二探测头在高度方向上对准第二透窗，第二探测头沿第二轴线竖直向下出射光并接收沿第二轴线竖直反射的光，第二探测头的第二轴线与第一探测头的第一轴线处于高度方向和长度方向构成的平面内且彼此平行，膜厚测试仪用于测量沉积完成后基板的镀膜的点位所处的膜厚，膜厚测试仪内置有标准测距。运动装置安装在固定架上，运动装置连接于膜厚测试仪以控制膜厚测试仪在高度方向上下竖直运动以使在沉积完成后基板的镀膜的点位随着对应传动辊轮的传输到达第二探测头的正下方时第二探测也处于与到达第二探测头的正下方的点位相距标准测距的高度、进而第二探测头进行镀膜的膜厚测量。
一种在线膜厚测试方法采用前述的在线膜厚测试装置；在线膜厚测试装置安装在气相运输沉积的沉积室上；沉积室内安装在高度方向上对齐、在长度方向上间隔排列的多个传动辊轮，沉积室在长度方向的两端设有入口和出口，沉积室被加热以维持气相运输沉积所要求的沉积室内的沉积温度，沉积室内部连通于供给载气和镀膜材料的蒸汽的供料源，沉积室内部连通于流通式地维持沉积室内部真空度的抽真空装置，多个传动辊轮用于承载从入口进入的多个基板并将多个基板在长度方向上彼此间隔地向出口运送基板，在出口和入口之间的沉积位置经由通入沉积室的由载气运输的镀膜材料的蒸汽在到达该位置的对应基板进行沉积镀膜，沉积室的顶壁在与沉积位置紧邻的下游设置有第一透窗和第二透窗。
本公开的有益效果如下。
在本公开的在线膜厚测试装置以及在线膜厚测试方法中，通过测高装置测量沉积完成后基板的镀膜的点位所处的高度，基于膜厚测试仪的内置的标准测距，能够确定测高装置的第一探测头测得的沉积完成后基板的镀膜的点位所处的高度与膜厚测试仪的内置的标准测距之间的在高度方向上的偏差，再通过第二探测头相对第一探测头的运动前位置与该偏差进行比较，就能确定运动装置是否驱动膜厚测试仪在高度方向上上下运动，通过运动装置控制膜厚测试仪在高度方向上下竖直运动以使在沉积完成后基板的镀膜的点位随着对应传动辊轮的传输到达第二探测头的正下方时第二探测也处于与到达第二探测头的正下方的点位相距标准测距的高度、进而第二探测头进行镀膜的膜厚测量，实现了气相运输沉积中基板上的镀膜的膜厚在线测试(即在沉积室处测试)，由此使得第二探测头进行镀膜的膜厚测量是在与到达第二探测头的正下方的点位相距标准测距的高度处进行，这就避免了背景技术中膜厚测试仪的探测头固定不动的情况下无论是基板热变形还是传动辊轮因沉积镀膜材料使得传动辊轮的直径增加对探测头到基板上的镀膜之间的距离的影响，使得膜厚测试仪第二探测头沿第二轴线竖直向下的出射光并接收的从第二探测头的正下方的点位沿第二轴线竖直反射的光得到的光谱不会出现偏差，从而保证了通过光谱构建得到的镀膜的膜厚的准确性，实现了镀膜的膜厚的有效测量。
附图说明
图1是根据本公开的在线膜厚测试装置的示意图。
图2是用于说明确定基板的镀膜的位点的长度方向位置和高度方向位置以及膜厚测试仪的第二探测头运动的其中一种运动的说明图。
图3是测高装置的第一探测头测量的测量沉积完成后基板的镀膜的点位所处的高度、膜厚测试仪的内置的标准测距、第二探测头相对第一探测头的运动前位置以及膜厚测试仪的第二探测头的各种动作关系的说明图，其中，虚线的空箭头代表第二探测头运动的方向，文字“不动”代表第二探测头无需运动。
图4是用于说明确定位点在基板上的位置的说明图。
图5是多个在线膜厚测试装置在沉积室上布置的示意图，其中，在线膜厚测试装置仅以方块示意地示出。
其中，附图标记说明如下：
X长度方向 45滑块
Y宽度方向 46固定块
Z高度方向 200沉积室
100在线膜厚测试装置 200a顶壁
1固定架 W1第一透窗
2测高装置 W2第二透窗
21第一探测头 200b前壁
211第一轴线 200c左壁
3膜厚测试仪 DP沉积位置
31第二探测头 300传动辊轮
311第二轴线 400入口
4运动装置 500出口
41电机 600基板
42联轴器 P点位
43丝杠 600a基板头缘
44导轨 600b基板侧缘
600c基板拐角点
具体实施方式
附图示出本公开的实施例，且将理解的是，所公开的实施例仅仅是本公开的示例，本公开可以以各种形式实施，因此，本文公开的具体细节不应被解释为限制，而是仅作为权利要求的基础且作为表示性的基础用于教导本领域普通技术人员以各种方式实施本公开。
[在线膜厚测试装置]
参照图1至图3，根据本公开的在线膜厚测试装置100用于安装在气相运输沉积的沉积室200上。
沉积室200内安装在高度方向Z上对齐、在长度方向X上间隔排列的多个传动辊轮300，沉积室200在长度方向X的两端设有入口400和出口500，沉积室200被加热以维持气相运输沉积所要求的沉积室200内的沉积温度，沉积室200内部连通于供给载气和镀膜材料的蒸汽的供料源(未示出)，沉积室200内部连通于流通式地维持沉积室200内部真空度的抽真空装置(未示出)，多个传动辊轮300用于承载从入口400进入的多个基板600并将多个基板600在长度方向X上彼此间隔地向出口500运送基板600，在出口500和入口400之间的沉积位置DP经由通入沉积室200的由载气运输的镀膜材料的蒸汽在到达该位置的对应基板600进行沉积镀膜，沉积室200的顶壁200a在与沉积位置DP紧邻的下游设置有第一透窗W1和第二透窗W2；
在线膜厚测试装置100包括固定架1、测高装置2、膜厚测试仪3以及运动装置4。
固定架1安装在沉积室200的顶壁200a上并位于第一透窗W1和第二透窗W2之间。
测高装置2固定安装在固定架1上，测高装置2具有第一探测头21，第一探测头21在高度方向Z上对准第一透窗W1，测高装置2用于测量沉积完成后基板600的镀膜的点位P所处的高度Zp。
膜厚测试仪3具有第二探测头31，第二探测头31在高度方向Z上对准第二透窗W2，第二探测头31沿第二轴线311竖直向下出射光并接收沿第二轴线311竖直反射的光，第二探测头31的第二轴线311与第一探测头21的第一轴线211处于高度方向Z和长度方向X构成的平面内且彼此平行，膜厚测试仪3用于测量沉积完成后基板600的镀膜的点位P所处的膜厚，膜厚测试仪3内置有标准测距Zb。
运动装置4安装在固定架1上，运动装置4连接于膜厚测试仪3以控制膜厚测试仪3在高度方向Z上下竖直运动以使在沉积完成后基板600的镀膜的点位P随着对应传动辊轮300的传输到达第二探测头31的正下方时第二探测31也处于与到达第二探测头31的正下方的点位P相距标准测距Zb的高度、进而第二探测头31进行镀膜的膜厚测量。
在操作时，
运动装置4与测高装置2、膜厚测试仪3和多个传动辊轮300通信连接，运动装置4接收测高装置2测得的沉积完成后基板600的镀膜的点位P所处的高度Zp、膜厚测试仪3的内置的标准测距Zb以及多个传动辊轮300沿长度方向X运输基板600的速度，
基于第一探测头21的第一轴线211和第二探测头31的第二轴线311之间的沿长度方向X的间距ΔX、多个传动辊轮300沿长度方向X运输基板600的速度、测高装置2测量沉积完成后基板600的镀膜的点位P的时间点t0，运动装置4确定在沉积完成后基板600的镀膜的点位P随着对应传动辊轮300的传输到达第二探测头31的正下方时所需的时长Δt，
基于第二探测头31相对第一探测头21的运动前位置Z0与标准测距Zb的关系确定运动装置4是否驱动膜厚测试仪3在高度方向Z上上下运动，
如果第二探测头31相对第一探测头21的运动前位置Z0使第二探测头31处于标准测距Zb处，则运动装置4无需驱动膜厚测试仪3在高度方向Z上上下运动，第二探测头31仅需要等待该时长Δt以在沉积完成后基板600的镀膜的点位P到达第二探测头31的正下方时第二探测头31进行该点位P的镀膜的膜厚测量；
如果第二探测头31相对第一探测头21的运动前位置Z0使第二探测头31不处于标准测距Zb处，则运动装置4确定需要驱动膜厚测试仪3在高度方向Z上上下运动以使第二探测头31从相对第一探测头21的运动前位置Z0在该时长Δt内运动到达标准测距Zb所处的高度处，从而在沉积完成后基板600的镀膜的点位P随着对应传动辊轮300的传输的同时运动装置4驱动膜厚测试仪3连同第二探测头31一起在高度方向Z上上下运动，当在沉积完成后基板600的镀膜的点位P到达第二探测头31的正下方时被运动装置4驱动的膜厚测试仪3的第二探测31也到达标准测距Zb所处的高度处，此时第二探测头31进行该点位P的镀膜的膜厚测量。
在本公开的在线膜厚测试装置100中，由于在线膜厚测试装置100设置在沉积室200的顶壁200a上，能够提高测量的气相运输沉积的镀膜的膜厚的反馈的时效性；由于在线膜厚测试装置100与气相运输沉积的沉积位置DP紧邻，在基板600刚镀膜完之后，就紧接着进行镀膜的膜厚的测量，更进一步提高了测量的气相运输沉积的镀膜的膜厚的反馈的时效性。尤其是在沉积室200内的传动辊轮300不停止运输基板600、基板600热变形和传动辊轮300因镀膜材料沉积导致直径增加的情况下，在这种情况下实时地确定沉积室200刚沉积完的基板600上的镀膜的膜厚将会使得测量的气相运输沉积的镀膜的膜厚的反馈的时效性更为增强。
在本公开的在线膜厚测试装置100中，通过测高装置2测量沉积完成后基板600的镀膜的点位P所处的高度Zp，基于膜厚测试仪3的内置的标准测距Zb，能够确定测高装置2的第一探测头21测得的沉积完成后基板600的镀膜的点位P所处的高度Zp与膜厚测试仪3的内置的标准测距Zb之间的在高度方向Z上的偏差，再通过第二探测头31相对第一探测头21的运动前位置Z0与该偏差进行比较，就能确定运动装置4是否驱动膜厚测试仪3在高度方向Z上上下运动，通过运动装置4控制膜厚测试仪3在高度方向Z上下竖直运动以使在沉积完成后基板600的镀膜的点位P随着对应传动辊轮300的传输到达第二探测头31的正下方时第二探测31也处于与到达第二探测头31的正下方的点位P相距标准测距Zb的高度、进而第二探测头31进行镀膜的膜厚测量，实现了气相运输沉积中基板600上的镀膜的膜厚在线测试(即在沉积室200处测试)，由此使得第二探测头31进行镀膜的膜厚测量是在与到达第二探测头31的正下方的点位P相距标准测距Zb的高度处进行，这就避免了背景技术中膜厚测试仪的探测头固定不动的情况下无论是基板热变形还是传动辊轮因沉积镀膜材料使得传动辊轮的直径增加对探测头到基板上的镀膜之间的距离的影响，使得膜厚测试仪3第二探测头31沿第二轴线311竖直向下的出射光并接收的从第二探测头31的正下方的点位P沿第二轴线311竖直反射的光得到的光谱不会出现偏差，从而保证了通过光谱构建得到的镀膜的膜厚的准确性，实现了镀膜的膜厚的有效测量。
在本公开的在线膜厚测试装置100中，当膜厚测试仪3沿长度方向X的同一直线(因为膜厚测试仪3的第二探测头31的第二轴线311位置固定而且通常在传动辊轮300运输基板600过程中基板600在宽度方向Y上的姿态固定)，测得多个点位P的膜厚时，通过在同一直线上的膜厚的分布情况可以作为反馈基板600在该同一直线上的热变形情况和传动辊轮300因镀膜材料沉积导致直径增加的情况组合影响的间接依据，以为后期的沉积温度控制以及传动辊轮300的防沉积、清理或其它处理等提供依据。
在一示例中，测高装置2的第一探测头21为镜面反射型测距传感器。例如，测高装置2的第一探测头21为基恩士LK-G152传感器。
在一示例中，膜厚测试仪3的第二探测头31为在高度方向Z上出射和反射激光同轴的传感器。例如，第二探测头31为FILMETRICS膜厚测量仪。
在一示例中，运动装置4采用丝杠螺母滑块传动连接膜厚测试仪3。采用丝杠螺母滑块传动能够提高运动装置4驱动测点定位装置2和膜厚测试仪3在高度方向Z上下竖直运动的位移精度。
如图1和图2所示，在一示例中，运动装置4包括电机41、联轴器42、丝杠43、导轨44、滑块45、固定块46。电机41安装在固定架1上。联轴器42将电机41和丝杠43接接以使电机41驱动丝杠43旋转。丝杠43沿高度方向Z竖直向下延伸。导轨44安装在固定架1上并沿宽度方向Y位于丝杠43的两侧滑块45与导轨44滑动配合且经由螺母(未示出)连接于丝杠43以使丝杠43的旋转转换为滑块45沿导轨44的竖直上下平移，固定块46固定于滑块45并固定连接膜厚测试仪3。
在一示例中，参照图1和图4，沉积室200的入口400处的左壁200c的内表面作为长度方向X的位置参考点，基于左壁200c的内表面与第一探测头21的第一轴线211的距离X1、多个传动辊轮300沿长度方向X运输基板600的速度，可以确定基板头缘600a从左壁200c的内表面进入后到达第一探测头21的第一轴线211的第一时间，进一步基于多个传动辊轮300沿长度方向X运输基板600的速度和测高装置2测量沉积完成后基板600的镀膜的点位P的第二时间点，通过第一时间点和第二时间点确定的时间差和多个传动辊轮300沿长度方向X运输基板600的速度，可以确定点位P在基板600上相对基板头缘600a的位置Xp。沉积室200的前壁200b的内表面作为宽度方向Y的位置参考点，基于第一探测头21的第一轴线211与前壁200b的内表面的距离Y1和确定基板600与前壁200b的内表面的距离Y2，可以确定点位P在基板600上相对基板侧缘600b的位置Yp，也就是说以基板600的图4的右下方的基板拐角点600c作为基板600的局部坐标的原点。
如图5所示，在线膜厚测试装置100为多个，多个线膜厚测试装置100沿宽度方向Y间隔地排列在第一透窗W1和第二透窗W2之间。如前所述，各在线膜厚测试装置100测得位于沿长度方向X延伸的同一直线上的多个点位P的膜厚的分布情况，而多个在线膜厚测试装置100测得沿Y方向分布的分别位于多条直线上点位P的膜厚的分布情况，由此实现对单个基板600上的全区域的膜厚测量，进而能够进行整体膜厚的均匀性在线实时分析以及甚至对前述的基板600的热变形情况和传动辊轮300因镀膜材料沉积导致直径增加的情况组合影响进行实时分析。
如图5所示，第一透窗W1和第二透窗W2均为单个的沿宽度方向Y延伸的透窗。
在VTD中，沉积室200被加热可以从沉积室200的外部进行加热。载气可以是氮气、氖气、氩气或氪气。镀膜材料可以为不限于CdTe、CIGS或PSCs类型。基板600可以为玻璃，进一步地可为钢化玻璃。在一示例中，沉积室200内的传动辊轮300均为加热辊轮。在一示例中，抽真空装置(未示出)经由沉积室200的出口500连通于沉积室200的内部。
[在线膜厚测试方法]
在线膜厚测试装置100安装在气相运输沉积的沉积室200上。
沉积室200内安装在高度方向Z上对齐、在长度方向X上间隔排列的多个传动辊轮300，沉积室200在长度方向X的两端设有入口400和出口500，沉积室200被加热以维持气相运输沉积所要求的沉积室200内的沉积温度，沉积室200内部连通于供给载气和镀膜材料的蒸汽的供料源(未示出)，沉积室200内部连通于流通式地维持沉积室200内部真空度的抽真空装置(未示出)，多个传动辊轮300用于承载从入口400进入的多个基板600并将多个基板600在长度方向X上彼此间隔地向出口500运送基板600，在从出口500到入口400之间的沉积位置DP经由通入沉积室200的由载气运输的镀膜材料的蒸汽在到达该位置的对应基板600进行沉积镀膜，沉积室200的顶壁200a在与沉积位置DP紧邻的下游设置有第一透窗W1和第二透窗W2。
在线膜厚测试装置100的各种特征、效果操作的说明参见前述，在此不再赘述。根据本公开的在线膜厚测试方法因采用线膜厚测试装置100所具有的效果参见前述，在此不再赘述。
采用上面详细的说明描述多个示范性实施例，但本文不意欲限制到明确公开的组合。因此，除非另有说明，本文所公开的各种特征可以组合在一起而形成出于简明目的而未示出的多个另外组合。
Claims (10)
1.一种在线膜厚测试装置，其特征在于，
在线膜厚测试装置(100)用于安装在气相运输沉积的沉积室(200)上；
沉积室(200)内安装在高度方向(Z)上对齐、在长度方向(X)上间隔排列的多个传动辊轮(300)，沉积室(200)在长度方向(X)的两端设有入口(400)和出口(500)，沉积室(200)被加热以维持气相运输沉积所要求的沉积室(200)内的沉积温度，沉积室(200)内部连通于供给载气和镀膜材料的蒸汽的供料源，沉积室(200)内部连通于流通式地维持沉积室(200)内部真空度的抽真空装置，多个传动辊轮(300)用于承载从入口(400)进入的多个基板(600)并将多个基板(600)在长度方向(X)上彼此间隔地向出口(500)运送基板(600)，在出口(500)和入口(400)之间的沉积位置(DP)经由通入沉积室(200)的由载气运输的镀膜材料的蒸汽在到达该位置的对应基板(600)进行沉积镀膜，沉积室(200)的顶壁(200a)在与沉积位置(DP)紧邻的下游设置有第一透窗(W1)和第二透窗(W2)；
在线膜厚测试装置(100)包括固定架(1)、测高装置(2)、膜厚测试仪(3)以及运动装置(4)，
固定架(1)安装在沉积室(200)的顶壁(200a)上并位于第一透窗(W1)和第二透窗(W2)之间，
测高装置(2)固定安装在固定架(1)上，测高装置(2)具有第一探测头(21)，第一探测头(21)在高度方向(Z)上对准第一透窗(W1)，测高装置(2)用于测量沉积完成后基板(600)的镀膜的点位(P)所处的高度(Zp)；
膜厚测试仪(3)具有第二探测头(31)，第二探测头(31)在高度方向(Z)上对准第二透窗(W2)，第二探测头(31)沿第二轴线(311)竖直向下出射光并接收沿第二轴线(311)竖直反射的光，第二探测头(31)的第二轴线(311)与第一探测头(21)的第一轴线(211)处于高度方向(Z)和长度方向(X)构成的平面内且彼此平行，膜厚测试仪(3)用于测量沉积完成后基板(600)的镀膜的点位(P)所处的膜厚，膜厚测试仪(3)内置有标准测距(Zb)；
运动装置(4)安装在固定架(1)上，运动装置(4)连接于膜厚测试仪(3)以控制膜厚测试仪(3)在高度方向(Z)上下竖直运动以使在沉积完成后基板(600)的镀膜的点位(P)随着对应传动辊轮(300)的传输到达第二探测头(31)的正下方时第二探测(31)也处于与到达第二探测头(31)的正下方的点位(P)相距标准测距(Zb)的高度、进而第二探测头(31)进行镀膜的膜厚测量。
2.根据权利要求1所述的在线膜厚测试装置，其特征在于，
测高装置(2)的第一探测头(21)为镜面反射型测距传感器。
3.根据权利要求2所述的在线膜厚测试装置，其特征在于，
测高装置(2)的第一探测头(21)为基恩士LK-G152传感器。
4.根据权利要求1所述的在线膜厚测试装置，其特征在于，
膜厚测试仪(3)的第二探测头(31)为在高度方向(Z)上出射和反射激光同轴的传感器。
5.根据权利要求4所述的在线膜厚测试装置，其特征在于，
第二探测头(31)为FILMETRICS膜厚测量仪。
6.根据权利要求1所述的在线膜厚测试装置，其特征在于，
运动装置(4)采用丝杠螺母滑块传动连接膜厚测试仪(3)。
7.根据权利要求1所述的在线膜厚测试装置，其特征在于，
在线膜厚测试装置(100)为多个，多个线膜厚测试装置(100)沿宽度方向(Y)间隔地排列在第一透窗(W1)和第二透窗(W2)之间。
8.根据权利要求1所述的在线膜厚测试装置，其特征在于，
第一透窗(W1)和第二透窗(W2)均为单个的沿宽度方向(Y)延伸的透窗。
9.根据权利要求1所述的在线膜厚测试装置，其特征在于，
沉积室(200)的前壁(200b)的内表面作为宽度方向(Y)的位置参考点；
沉积室(200)的入口(400)处的左壁(200c)的内表面作为长度方向(X)的位置参考点。
10.一种在线膜厚测试方法，其特征在于，采用权利要求1-9中任一项所述的在线膜厚测试装置(100)；
在线膜厚测试装置(100)安装在气相运输沉积的沉积室(200)上；
沉积室(200)内安装在高度方向(Z)上对齐、在长度方向(X)上间隔排列的多个传动辊轮(300)，沉积室(200)在长度方向(X)的两端设有入口(400)和出口(500)，沉积室(200)被加热以维持气相运输沉积所要求的沉积室(200)内的沉积温度，沉积室(200)内部连通于供给载气和镀膜材料的蒸汽的供料源，沉积室(200)内部连通于流通式地维持沉积室(200)内部真空度的抽真空装置，多个传动辊轮(300)用于承载从入口(400)进入的多个基板(600)并将多个基板(600)在长度方向(X)上彼此间隔地向出口(500)运送基板(600)，在出口(500)和入口(400)之间的沉积位置(DP)经由通入沉积室(200)的由载气运输的镀膜材料的蒸汽在到达该位置的对应基板(600)进行沉积镀膜，沉积室(200)的顶壁(200a)在与沉积位置(DP)紧邻的下游设置有第一透窗(W1)和第二透窗(W2)。
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