CN116528615A - 显示面板及其制备方法、显示设备 - Google Patents

Abstract

本申请提供一种显示面板及其制备方法、显示设备。该显示面板包括基板和设置在基板一侧的像素限定层，像素限定层包括多个像素开口；多个发光器件，分别对应的设置于每个像素开口内，每个发光器件包括在基板上依次叠置的阳极、发光功能层和阴极，阴极在基板上的正投影与发光功能层在基板上的正投影部分重叠，采用阴极图形化的方式，将像素开口内的发光功能层一部分覆盖阴极，其余部分不覆盖阴极，使得阴极未覆盖的区域可以直接发光，从而形成朗伯体发光，解决了显示面板在大视角下亮度衰减较多的问题，降低了大视角下的亮度衰减，从而提高了显示面板的显示品质。

Description

显示面板及其制备方法、显示设备

技术领域

本申请涉及显示技术领域，具体地，涉及一种显示面板及其制备方法、显示设备。

背景技术

在有机发光二极管(Organic Light-Emitting Diode，OLED)技术领域中，器件结构一般包括底发光器件和顶发光器件。为了提高出光色纯度以及提高器件的发光效率，大多数器件采用顶发光器件，顶发光器件能够利用微腔效应，增强某一波长上的光，从而实现提高器件发光效率的目的，但是会导致显示面板在正视角下亮度较大，侧视角下亮度衰减加快，因此，显示面板存在大视角下亮度衰减的问题。

发明内容

有鉴于此，本申请提供一种显示面板及其制备方法、显示设备，以解决显示面板大视角下亮度衰减的问题。

本申请第一方面提供一种显示面板，该显示面板包括基板，设置在基板一侧的像素限定层，像素限定层包括多个像素开口；多个发光器件，分别对应的设置于每个像素开口内，每个发光器件包括在基板上依次叠置的阳极、发光功能层和阴极，阴极在基板上的正投影与发光功能层在基板上的正投影部分重叠。

在本申请第一方面的一个具体实施例中，像素开口设置有阴极图案化层，阴极图案化层用于在阴极图形化过程中抑制阴极的生成，使得阴极在基板上的正投影与发光功能层在基板上的正投影部分重叠。

在本申请第一方面的一个具体实施例中，像素开口还设置有导电层，导电层设置在发光功能层远离基板的一侧，导电层用于搭接阴极。

在本申请第一方面的一个具体实施例中，阴极图案化层设置在导电层远离基板的一侧，阴极图案化层与阴极相接触，阴极图案化层在基板上的正投影与发光功能层在基板上的正投影部分重叠。

在本申请第一方面的一个具体实施例中，阴极图案化层在第一方向的横截面积与像素开口在第一方向的横截面积的比值为50％，第一方向与基板的延伸方向平行。

在本申请第一方面的一个具体实施例中，在像素开口内，阴极在第一方向的横截面积等于阴极图案化层在第一方向的横截面积。

在本申请第一方面的一个具体实施例中，阴极图案化层的材料包括阴极图案化材料。

在本申请第一方面的一个具体实施例中，像素限定层的可见光透过率大于等于80％。

本申请第二方面提供一种显示面板的制备方法，该制备方法包括提供一基板；在基板的一侧制备像素限定层，像素限定层包括多个像素开口；在每个像素开口内制备发光器件，发光器件包括在基板上依次叠置的阳极、发光功能层和阴极，阴极在基板上的正投影与发光功能层在基板上的正投影部分重叠。

本申请第三方面提供一种显示设备，该显示设备包括第一方面提及的显示面板。

在本申请实施例提供的显示面板中，阴极在基板上的正投影与发光功能层在基板上的正投影部分重叠，采用阴极图形化的方式，将像素开口内的发光功能层一部分覆盖阴极，其余部分不覆盖阴极，使得阴极未覆盖的区域可以直接发光，从而形成朗伯体发光，解决了显示面板在大视角下亮度衰减较多的问题，降低了大视角下的亮度衰减，从而提高了显示面板的显示品质。

附图说明

图1为本申请一个实施例中提供的显示面板的平面结构示意图。

图2为图1所示的显示面板沿切割线AA′的剖面结构示意图。

图3为本申请一实施例提供的像素开口的结构示意图。

图4为本申请一实施例提供的发光器件和像素限定层的截面示意图。

图5为本申请一实施例提供的发光单元的结构示意图。

图6为本申请另一实施例提供的发光器件和像素限定层的截面示意图。

图7为本申请又一实施例提供的发光器件和像素限定层的截面示意图。

图8为本申请又一实施例提供的发光器件和像素限定层的截面示意图。

图9为本申请另一实施例提供的像素开口的结构示意图。

图10为本申请一实施例提供的一种显示面板的制备方法的流程示意图。

图11为本申请一实施例提供的掩膜版的结构示意图。

图12所示为本申请一实施例提供的显示设备的结构示意图。

具体实施方式

下面将结合本申请实施例中的附图，对本申请实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅是本申请一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本申请中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本申请保护的范围。

对于顶发光型OLED，其具有微腔效应，可以提升OLED的发光效率与色纯度，因而顶发光型OLED得到广泛的应用。

其中，微腔效应的基本原理为：在一个像素开口区域内，具有依次叠制的阳极层、发光功能层和阴极层，当发光功能层受到激发后，可以将发射的光线分为两部分，第一部分光线会通过阴极层折射出去，第二部分光线会入射至阳极层表面，然后被阳极层反射后通过发光功能层入射至阴极层面向发光功能层的一侧表面，再经过阴极层的折射发射出去。当折射出去的第一部分光线和折射出去的第二部分光线相遇时，由于这两部分光线均是由发光功能层发射，所以具有相同的属性，使得这两部分光线在折射出去后发生干涉，从而形成了微腔效应。由于这两部分光线属于同源的光线，所以这两部分光线在通过阳极经反射之后，对光线具有增强作用，进而形成的微腔效应会增强发光器件的发光效率。

除此之外，微腔效应与多种因素有关，包括发光功能层的折射率，发光功能层的厚度和阳极层的反射率等因素。其中，在发光功能层和阳极层的材质不变(即发光功能层的折射率不变，阳极层的反射率不变)时，发光功能层的厚度(即阳极层与阴极层之间的间距)便成为影响微腔效应的主要因素。

微腔效应在一定程度上增强了发光强度，因此，通过光的干涉现象，可以增强特定波长光线的光强，而减弱其他波长光线的光强，使得发光功能层发射的光线经阴极层的折射后光谱范围减小，进而使得发射光线的色度更纯。但是，利用微腔效应增强某一波长上的光以提高器件效率，会导致正视角下亮度较大，侧视角下亮度衰减加快，造成大视角下亮度衰减的问题。

有鉴于此，本申请提供一种显示面板及制备方法、显示设备，以解决现有的显示面板存在大视角下亮度衰减的问题。

图1为本申请一个实施例中提供的显示面板的平面结构示意图。图2为图1所示的显示面板沿切割线AA′的剖面结构示意图。图3为本申请一实施例提供的像素开口的结构示意图。图4为本申请一实施例提供的发光器件和像素限定层的截面示意图。如图1所示，正常显示区可以包括以矩阵方式排布的多个像素单元P，每个像素单元P包括三个子像素，如红色子像素、蓝色子像素和绿色子像素。结合图1至图4所示，本申请实施例提供的显示面板包括：基板10和设置在基板10一侧的像素限定层13，像素限定层13可在基板10上限定出一个或者多个像素单元P，限定出的像素单元P的数量可以根据实际需要进行设置。像素限定层13包括多个像素开口12，每个像素开口12内设置有发光器件11，像素限定层13为环状结构，像素限定层13用于分隔各个发光器件11，每个发光器件11包括在基板10上依次叠置的阳极111、发光功能层113和阴极112。其中，阳极111和阴极112在垂直于基板10的方向(即图2中的Y方向)上相对设置。发光功能层113位于阳极111和阴极112之间。发光功能层113包括发光材料。阴极112在基板10上的正投影与发光功能层113在基板10上的正投影部分重叠。

结合图2至图4所示，在像素开口12内一部分发光功能层113覆盖阴极112，其余部分的发光功能层113不覆盖阴极112。当设置在像素限定层13上的像素开口12有多个时，多个像素开口12各自对应的阴极112覆盖面积可以相同，也可以不同，只要阴极112不是全面覆盖整个像素开口12即可。

继续参考图3所示，像素开口12在基板10上的正投影形状为第一矩形，阴极112在基板10上的正投影形状为第二矩形，发光功能层113在基板10上的正投影形状为第三矩形。阴极112对应的第二矩形面积与发光功能层113对应的第三矩形面积的比值可以是预设比例值，预设比例值的范围可以是10％至90％，也可以是其他比例值，本申请对此不做具体限定。

继续参考图4所示，在像素开口12内，阴极112覆盖的发光功能层113对应发光区域1，阴极112未覆盖的位置对应发光区域2。OLED器件为顶发光器件，当点亮发光时，一部分光线通过发光区域1发光时，由于发光区域1覆盖有金属电极(即阴极112)，会存在多束光干涉，此时发光区域1的微腔效应会在一定程度上提高出光效率，另一部分光线通过发光区域2直接发光，此时发光为朗伯体发光，在大视角下亮度衰减较小，能够改善大视角下亮度衰减的问题。

示例性地，像素限定层13的厚度为0.1um至100um。像素限定层13在同一横截面的厚度可以相同或者不同，在本申请实施例中，像素限定层13在同一横截面的厚度相同。像素限定层13在Y方向上的截面形状包括梯形或者四边形，在本申请实施例中，像素限定层13在Y方向上的截面形状为梯形。像素限定层13的材料可包括：树脂、聚酰亚胺、有机硅或者二氧化硅。

示例性地，设置在像素限定层13上的像素开口12可以有多个，多个像素开口12可以是阵列排布，本申请对像素开口12的数量和排布方式不做具体限定。

示例性地，发光器件11可以为子像素，用于发射不同颜色的光。相邻的多个子像素构成一个像素单元P。例如，相邻的3个子像素构成一个像素单元P，该3个子像素分别为红色子像素、绿色子像素和蓝色子像素。又例如，相邻的4个子像素构成一个像素单元P，该4个子像素分别为红色子像素、绿色子像素、蓝色子像素和白色子像素。像素单元P中子像素的形状可以是矩形状、菱形、五边形或六边形等，可以采用水平并列、竖直并列、正方形(Square)或钻石形(Diamond)等方式排列。像素单元P中子像素的数量、颜色和排布方式可以根据实际需要合理设置。发光器件11可以通过使用蒸镀掩膜版蒸镀形成。

其中，发光器件11可以是用于发射红光的红光发光单元，也可以是用于发射绿光的绿光发光单元，还可以是用于发射蓝光的蓝光发光单元。

示例性地，发光功能层113包括红色发光功能层、绿色发光功能层和蓝色发光功能层。发光功能层113的发光材料可以为红色发光材料，从而使得发光功能层113为红色发光功能层。可以理解的是，根据实际需求，发光功能层113也可以是其他颜色的发光功能层。发光器件11的发光颜色需求不同，发光功能层113的发光材料也不同。发光材料可以是有机材料，也可以是无机材料，本申请对此不做具体限制。

示例性地，阳极111以矩阵形式排列于基板10之上，且阳极111均匀分布于基板10之上。阳极111之间形成有间隔。阳极111的形状可包括：长方形、正方形、菱形、椭圆形。在本申请实施例中，阳极111的截面形状为长方形。在实际应用中，阳极111还可以根据实际生产需要制备成其它任意形状。阳极111的材料可包括高功函的透明导电材料或者半透明导电材料，例如：铟锡氧(ITO)、铟锌氧(IZO)、二氧化锡(SnO2)、氧化锌(ZnO)等氧化物透明导电材料或者上述材料的任意组合。

示例性地，阴极112的材料可以采用镁(Mg)、银(Ag)、铝(Al)、铝-锂(Al-Li)、钙(Ca)、镁-铟(Mg-In)、镁-银(Mg-Ag)等金属或合金以及上述材料之间的任意组合。

示例性地，基板10可以为玻璃基板或硅基板等刚性基板，也可以为不锈钢(Stainless Use Steel，SUS)或者柔性聚酰亚胺(Polyimide，PI)等柔性基板。此外，本申请实施例中的显示面板可以为不可弯折的刚性显示面板，也可以为可弯折的柔性显示面板。

在本申请一实施例中，结合图2和图4所示，像素开口12还设置有导电层9，导电层9设置在发光功能层113远离基板10的一侧，导电层9用于搭接阴极112，实现阳极111和阴极112搭接导电。

图5为本申请一实施例提供的发光单元的结构示意图。如图5所示，发光器件11还可以包括以下的一种或多种结构。发光器件11在基板10的层叠方向上(即Z方向)，包括：阳极111、空穴注入层(Hole Injection Layer，HIL)116、空穴传输层(Hole Tranport Layer，HTL)115、电子阻挡层(Electron Block Layer，EBL)114、发光层(Emission layer，EML)113、空穴阻挡层(Hole Block Layer，HBL)117、电子传输层(Electron Transport Layer，ETL)118、电子注入层(Electron Inject Layer，EIL)119、阴极层(Cathode)112和导电层9。

在本申请实施例提供的显示面板中，阴极112在基板10上的正投影与发光功能层113在基板10上的正投影部分重叠，采用阴极图形化的方式，将像素开口12内的发光功能层113一部分覆盖阴极112，其余部分不覆盖阴极112，使得阴极112未覆盖的区域可以直接发光，从而形成朗伯体发光，解决了显示面板在大视角下亮度衰减较多的问题，降低了大视角下的亮度衰减，从而提高了显示面板的显示品质。

图6为本申请另一实施例提供的发光器件和像素限定层的截面示意图。如图6所示，像素开口12设置有阴极图案化层8，阴极图案化层8用于在阴极图形化过程中抑制阴极112的生成，使得阴极112在基板10上的正投影与发光功能层113在基板10上的正投影部分重叠。

在本申请实施例提供的显示面板中，通过将阴极112覆盖像素开口12内的一部分发光功能层113，另一部分发光功能层113覆盖阴极图案化层8，将阴极图案化层8配置为阻挡结构，以便在阴极图形化过程中，使得阴极112很难附着在阴极图案化层8所在区域，从而在显示面板显示场景下，阴极图案化层8对应的发光区域2，能够不受阴极112的遮挡，光线可以直接发射出去，确保在大视角下显示面板亮度衰减较小。

在本申请实施例中，继续参考图6所示，阴极图案化层8设置在导电层9远离基板10的一侧，导电层9位于阴极图案化层8与发光功能层113之间，阴极图案化层8与阴极112相接触，阴极图案化层8在基板10上的正投影与发光功能层113在基板10上的正投影部分重叠，阴极图案化层8在基板10延伸方向上的横截面积与像素开口12在基板10延伸方向上的横截面积的比值可以是10％至90％中的任一数值，也可以是其他数值，可以根据实际应用需求设定阴极图案化层8的面积占比，实际应用需求比如是保证出光视角，或者保证发光效率，本申请对此不做具体限定。

示例性地，阴极图案化层8的材料包括阴极图案化材料(Cathode PatterningMaterial，CPM)。还可以理解，CPM材料是一种仅对阴极112材料选择性沉积的材料，则在有CPM材料的地方阴极112将很难附着。

示例性地，导电层9的材料可以是横向导电率比较高的有机材料，也可以是厚度比较薄的金属电极材料。当导电层9的材料为金属电极材料时，导电层9的厚度可以是1至5nm，当然导电层9的厚度也可以是更小的数值，本申请对此不做具体限定，只要导电层9可以导电即可。

在一些实施例中，可以先蒸镀有机材料的导电层9，然后采用精细金属掩膜版(Fine Metal Mask，FMM)蒸镀阴极图案化层8，最后采用通用金属掩膜版(Common MetalMask，CMM)蒸镀整面阴极112，由于阴极图案化层8的材料对阴极112材料排斥，则阴极112很难附着在阴极图案化层8。

在一些实施例中，可以先蒸镀金属电极材料的导电层9，然后采用FMM蒸镀阴极112。

在本申请实施例提供的显示面板中，阴极图案化层8设置在导电层9远离基板10的一侧，阴极图案化层8与阴极112相接触，阴极图案化层8采用阴极图案化材料，使得阴极112无法蒸镀到CPM材料上，从而实现阴极图形化的目的，达到了改善大视角下亮度衰减的效果。

图7为本申请又一实施例提供的发光器件和像素限定层的截面示意图。如图7所示，在像素开口12内，阴极图案化层8在第一方向的横截面积与像素开口12在第一方向的横截面积的比值为50％，阴极112在第一方向的横截面积与像素开口12在第一方向的横截面积的比值为30％，未覆盖区域(即导电层9露出区域)在第一方向的横截面积与像素开口12在第一方向的横截面积的比值为20％，其中，第一方向与基板10的延伸方向平行，导电层9露出区域可以发光。阴极112对应发光区域1，阴极图案化层8和未覆盖区域共同对应发光区域2，发光区域1由于覆盖金属电极(即阴极112)，一部分光线通过发光区域1时，会存在多束光干涉，此时发光区域1内的微腔效应会在一定程度上提高出光效率，另一部分光线通过发光区域2直接发光，此时发光为朗伯体发光，在大视角下亮度衰减较小，能够改善大视角下亮度衰减的问题。

应当可以理解，阴极图案化层8的横截面积占比值、未覆盖区域的横截面积占比值、阴极112的横截面积占比值可以根据实际需求设定，只要阴极112不完全覆盖整个发光功能层113即可。

在本申请实施例提供的显示面板中，将阴极图案化层8在第一方向的横截面积与像素开口12在第一方向的横截面积的比值设定为50％，能够保证光线通过阴极图案化层8直接发光，有效解决了显示面板屏幕大视角下亮度衰减的问题，保持了屏幕亮度的稳定性，更延长了显示面板的使用寿命。

图8为本申请又一实施例提供的发光器件和像素限定层的截面示意图。图9为本申请另一实施例提供的像素开口的结构示意图。结合图8和图9所示，在像素开口12内，阴极图案化层8在第一方向的横截面积与像素开口12在第一方向的横截面积的比值为50％，阴极112在第一方向的横截面积与像素开口12在第一方向的横截面积的比值为50％，阴极112在第一方向的横截面积等于阴极图案化层8在第一方向的横截面积。

在本申请实施例提供的显示面板中，像素开口12内的阴极112在第一方向的横截面积等于阴极图案化层8在第一方向的横截面积，能够保证一部分光线通过阴极图案化层8直接发光，有效解决了显示面板屏幕大视角下亮度衰减的问题，保持了屏幕亮度的稳定性，更延长了显示面板的使用寿命，同时也能保证另一部分光线由于阴极112的反射作用，产生微腔效应，在一定程度上增强了发光强度。

在本申请实施例中，继续参考图6至8，像素限定层13的纵截面形状为梯形，两个梯形限定出像素开口12。其中，像素限定层13的可见光透过率设置为大于等于80％，即两个梯形的透过率大于等于80％，侧视角的光线可以直接通过两个梯形投射出去，大视角的光线增多，相当于增大了整体的像素开口12，改善大视角下出光，进一步提高显示面板的显示效果。

在本申请实施例中，显示面板的发光器件11为顶发光器件。针对顶发光器件，顶发射方式是朝着基板10的相反方向发出光，与底发射不同，它采用的是顶部发射，本申请实施例提供的显示面板，利用金属电极图形化的方案，在像素开口12内，阴极112只覆盖一部分发光功能层113，其余部分阴极112不覆盖，既减少了由于微腔效应导致的视角问题，相对于底发光器件，又能在一定程度上提高器件整体的发光效率。

图10为本申请一实施例提供的一种显示面板的制备方法的流程示意图。如图10所示，该制备方法包括如下步骤。

步骤1000，提供一基板。

步骤1001，在基板的一侧制备像素限定层。

其中，像素限定层包括多个像素开口。

步骤1002，在每个像素开口内制备发光器件。

其中，发光器件包括在基板上依次叠置的阳极、发光功能层和阴极，阴极在基板上的正投影与发光功能层在基板上的正投影部分重叠。

在一些实施例中，在阵列基板上制备平坦化层和阳极层，而后在阵列基板和阳极层上制备像素限定层，像素限定层可以限定出多个像素开口，在每个像素开口内制备发光器件时，可以先蒸镀金属电极材料的导电层，再采用FMM在像素开口内蒸镀一部分的阴极，实现只遮挡部分像素面积，也可以先蒸镀有机材料的导电层，再采用FMM蒸镀CPM材料，形成阴极图案化层，再采用CMM蒸镀整面阴极，CPM材料采用FMM蒸镀，使得阴极无法蒸镀到CPM材料上，实现阴极图形化方案。

图11为本申请一实施例提供的掩膜版的结构示意图。如图11所示，当像素在基板上整齐规则排列时，比如RGB排列方式，金属掩膜版14可以采用slit张网方式，通过支撑条的支撑方式，实现对像素单元的遮挡，即图11中的阴极112覆盖一部分的发光功能层，由于该方式无需精细金属掩膜版进行遮挡，所以能够实现减小张网难度及生产成本的目的。

在本申请实施例提供的显示面板的制备方法中，通过阴极图形化的手段，在像素开口内蒸镀一部分阴极，其余部分阴极不覆盖，使得一部分光线可以通过未覆盖阴极的区域直接发光，从而形成朗伯体发光，此时在大视角下亮度衰减较小，改善大视角下亮度衰减的问题，从而进一步提高显示面板性能。

图12所示为本申请一实施例提供的显示设备的结构示意图。如图12所示，本申请一实施例还提供了一种显示设备1200。可以理解的是，显示面板10可以应用于显示设备1200上，该显示设备1200例如可以是移动终端、平板电脑、电脑显示器、电视机、可穿戴设备或信息查询机等任何具有显示功能的产品或部件。该显示设备1200包括如本申请任意实施例中的显示面板10，其技术原理和产生的效果类似，这里不再赘述。

根据本申请任一实施例提供的显示设备与本申请实施例所提供的显示面板属于同一发明构思，具有相应的膜层结构和有益效果。未在显示设备的实施例中详尽描述的细节，可参见显示面板的实施例部分，此处不再赘述。

以上结合具体实施例描述了本申请的基本原理，但是，需要指出的是，在本申请中提及的优点、优势、效果等仅是示例而非限制，不能认为这些优点、优势、效果等是本申请的各个实施例必须具备的。另外，上述公开的具体细节仅是为了示例的作用和便于理解的作用，而非限制，上述细节并不限制本申请为必须采用上述具体的细节来实现。

本申请中涉及的器件、装置、设备、系统的方框图仅作为例示性的例子并且不意图要求或暗示必须按照方框图示出的方式进行连接、布置、配置。如本领域技术人员将认识到的，可以按任意方式连接、布置、配置这些器件、装置、设备、系统。诸如“包括”、“包含”、“具有”等等的词语是开放性词汇，指“包括但不限于”，且可与其互换使用。这里所使用的词汇“或”和“和”指词汇“和/或”，且可与其互换使用，除非上下文明确指示不是如此。这里所使用的词汇“诸如”指词组“诸如但不限于”，且可与其互换使用。

还需要指出的是，在本申请的装置、设备和方法中，各部件或各步骤是可以分解和/或重新组合的。这些分解和/或重新组合应视为本申请的等效方案。

提供所公开的方面的以上描述以使本领域的任何技术人员能够做出或者使用本申请。对这些方面的各种修改对于本领域技术人员而言是非常显而易见的，并且在此定义的一般原理可以应用于其他方面而不脱离本申请的范围。因此，本申请不意图被限制到在此示出的方面，而是按照与在此公开的原理和新颖的特征一致的最宽范围。为了例示和描述的目的已经给出了以上描述。此外，此描述不意图将本申请的实施例限制到在此公开的形式。尽管以上已经讨论了多个示例方面和实施例，但是本领域技术人员将认识到其某些变型、修改、改变、添加和子组合。

Claims (10)

1.一种显示面板，其特征在于，包括：

基板；

设置在所述基板一侧的像素限定层，所述像素限定层包括多个像素开口；

多个发光器件，分别对应的设置于每个所述像素开口内，每个所述发光器件包括在所述基板上依次叠置的阳极、发光功能层和阴极，所述阴极在所述基板上的正投影与所述发光功能层在所述基板上的正投影部分重叠。

2.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述像素开口设置有阴极图案化层，所述阴极图案化层用于在阴极图形化过程中抑制所述阴极的生成，使得所述阴极在所述基板上的正投影与所述发光功能层在所述基板上的正投影部分重叠。

3.根据权利要求2所述的显示面板，其特征在于，所述像素开口还设置有导电层，所述导电层设置在所述发光功能层远离所述基板的一侧，所述导电层用于搭接所述阴极。

4.根据权利要求3所述的显示面板，其特征在于，所述阴极图案化层设置在所述导电层远离所述基板的一侧，所述阴极图案化层与所述阴极相接触，所述阴极图案化层在所述基板上的正投影与所述发光功能层在所述基板上的正投影部分重叠。

5.根据权利要求4所述的显示面板，其特征在于，所述阴极图案化层在第一方向的横截面积与所述像素开口在所述第一方向的横截面积的比值为50％，所述第一方向与所述基板的延伸方向平行。

6.根据权利要求5所述的显示面板，其特征在于，在所述像素开口内，所述阴极在所述第一方向的横截面积等于所述阴极图案化层在所述第一方向的横截面积。

7.根据权利要求2至6任一项所述的显示面板，其特征在于，所述阴极图案化层的材料包括阴极图案化材料。

8.根据权利要求1至6任一项所述的显示面板，其特征在于，所述像素限定层的可见光透过率大于等于80％。

9.一种显示面板的制备方法，其特征在于，包括：

提供一基板；

在所述基板的一侧制备像素限定层，所述像素限定层包括多个像素开口；

在每个所述像素开口内制备发光器件，所述发光器件包括在所述基板上依次叠置的阳极、发光功能层和阴极，所述阴极在所述基板上的正投影与所述发光功能层在所述基板上的正投影部分重叠。

10.一种显示设备，其特征在于，包括权利要求1至8中任一项所述的显示面板。