CN116445877A - 一种光纤镀膜夹具及使用方法 - Google Patents
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- 239000013307 optical fiber Substances 0.000 title claims abstract description 190
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 title claims abstract description 77
- 238000000576 coating method Methods 0.000 title claims abstract description 77
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 13
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 99
- 239000000835 fiber Substances 0.000 claims abstract description 33
- 238000004804 winding Methods 0.000 claims abstract description 25
- 239000010408 film Substances 0.000 abstract description 28
- 238000001659 ion-beam spectroscopy Methods 0.000 abstract description 28
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 abstract description 14
- 238000007747 plating Methods 0.000 abstract description 6
- 239000012788 optical film Substances 0.000 abstract description 4
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 8
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 7
- 238000010884 ion-beam technique Methods 0.000 description 6
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 4
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 4
- 239000000463 material Substances 0.000 description 4
- 239000011162 core material Substances 0.000 description 3
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 3
- 238000009501 film coating Methods 0.000 description 3
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 3
- 238000005452 bending Methods 0.000 description 2
- 238000002425 crystallisation Methods 0.000 description 2
- 230000008025 crystallization Effects 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 239000007888 film coating Substances 0.000 description 2
- 238000009434 installation Methods 0.000 description 2
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 2
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 2
- 238000012544 monitoring process Methods 0.000 description 2
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002390 adhesive tape Substances 0.000 description 1
- 230000009286 beneficial effect Effects 0.000 description 1
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 125000004122 cyclic group Chemical group 0.000 description 1
- 239000005350 fused silica glass Substances 0.000 description 1
- 230000005484 gravity Effects 0.000 description 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
- 238000001228 spectrum Methods 0.000 description 1
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 1
- 230000000087 stabilizing effect Effects 0.000 description 1
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 1
- 238000000427 thin-film deposition Methods 0.000 description 1
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-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/50—Substrate holders
- C23C14/505—Substrate holders for rotation of the substrates
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/221—Ion beam deposition
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/34—Sputtering
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/34—Sputtering
- C23C14/46—Sputtering by ion beam produced by an external ion source
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P40/00—Technologies relating to the processing of minerals
- Y02P40/50—Glass production, e.g. reusing waste heat during processing or shaping
- Y02P40/57—Improving the yield, e-g- reduction of reject rates
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- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
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Abstract
本申请涉及光纤镀膜技术领域,尤其是涉及一种光纤镀膜夹具及使用方法。一种光纤镀膜夹具包括基片固定板、导向底板和限位结构,所述基片固定板设有光纤固定孔,所述导向底板用于绕设光纤使光纤两端朝向相同,所述限位结构能够限定所述基片固定板和所述导向底板之间的距离,所述导向底板与所述基片固定板可拆卸连接。本申请能够使光纤可靠的缠绕固定,当基片固定盘高速旋转时,保护脆弱的光纤完成端面的镀膜;能使被缠绕的光纤在竖直设置的情况下,依然稳定高速旋转,镀膜质量得到保障,不因高速旋转而损坏光纤和破坏镀膜稳定性;使采用离子束溅射镀膜机为光纤镀膜的技术切实可行,有效实现采用离子束溅射技术在光纤端面镀制高精密光学薄膜的应用。
Description
技术领域
本申请涉及光纤镀膜技术领域,尤其是涉及一种光纤镀膜夹具及使用方法。
背景技术
光纤作为光波导的主要媒介,目前已经在各个领域广泛应用。光纤的纤芯材料为高纯度的熔融石英,我们可以在光纤端面上镀制各种类型的光学薄膜,通过在光纤端面沉积多层介质膜,可以实现各种不同的光谱要求。伴随着光纤的技术发展对光纤上的薄膜提出了越来越高的要求,在工业高功率半导体激光模块中最理想的要求是纤芯区域域绝对干净,达到零麻点和零刮痕,该区域是激光传输的核心区域,激光密度很高,容易因麻点和划痕等瑕疵导致光纤失效。现在常用的镀膜方式为电子枪蒸发离子束辅助沉积技术,该镀膜方式下工件盘以竖直方向为轴线沿水平方向旋转,较易装夹。电子枪蒸发离子束辅助沉积技术,采用热熔蒸发的方式沉积薄膜,过程中较易出现熔点喷溅、膜料污染等问题,获得的膜层结晶较为松散,容易形成麻点、空洞等膜层缺陷,已不能满足日益提高的高功率激光光纤的镀膜需求。
一种专为高精密光学薄膜开发的离子束溅射(IBS)薄膜沉积技术,成为高功率激光光纤镀膜的首选技术之一。离子束溅射(IBS)薄膜沉积技术,运用一个功率较大的射频溅射离子源产生高密度的高能离子束流轰击薄膜材料靶,利用能量置换的方式置换出靶中薄膜材料分子,置换出的薄膜材料分子携带离子束的轰击能量飞射到光纤端面结晶形成膜层。采用离子束溅射(IBS)薄膜沉积技术形成的膜层结晶非常致密,且麻点、空洞等膜层缺陷极少、具有良好的光学和机械性能,非常适合超高抗激光损伤阈值薄膜和激光低损耗薄膜的镀制。
但是采用离子束溅射(IBS)薄膜沉积技术较为成熟的镀膜机,其工件承载电机为高速旋转电机,其转速可最高可达2000rad/min,而且其承载待镀膜物的基片盘采用竖直方式旋转,在镀膜过程中很容易损坏脆弱的光纤。
原有的光纤镀膜夹具适合电子枪蒸发离子束辅助沉积技术镀膜机,利用重力固定待镀膜物或者用胶带粘住待镀膜物,只适用于低速的水平旋转工况,现有的夹具在高速旋转的情况下不能保护好脆弱的光纤,也不能保障镀膜面(光纤端面)垂直牢靠,不能保障光纤端面外区域能够被可靠遮挡从而防止膜层污染。
因此提供一种适用于离子束溅射(IBS)镀膜机,能够在竖直高速旋转状态下可靠保护脆弱光纤,可有效支撑采用离子束溅射(IBS)薄膜沉积技术在光纤端面完成高致密性、极少缺陷、光学和机械性能良好的优质薄膜镀制的镀膜夹具,是很有必要的。
发明内容
为了匹配高速旋转的镀膜设备,保障竖直旋转的光纤稳定均匀镀膜,本申请提供一种光纤镀膜夹具及使用方法。
第一方面,本申请提供一种光纤镀膜夹具,采用如下的技术方案。
一种光纤镀膜夹具,包括基片固定板、导向底板和限位结构,所述基片固定板设有光纤固定孔,所述导向底板用于绕设光纤使光纤两端朝向相同,所述限位结构能够限定所述基片固定板和所述导向底板之间的距离,所述导向底板与所述基片固定板可拆卸连接。
通过采用上述技术方案,光纤两端能够在同一平面内镀膜,光纤能够实现稳定固定,工件盘在以水平方向为轴线沿竖直方向高速旋转时能够保持光纤的稳定,保障光纤端部高质量成膜。
可选的,所述限位结构为中空的限位柱,所述导向底板上设有底板孔,所述基片固定板上设有限位固定孔,所述限位柱的内径大于所述限位固定孔的内径,所述限位柱的内径大于所述底板孔的内径。
通过采用上述技术方案,导向底板和基片固定板之间要保留一定的距离,以保障光纤具有足够的空间被固定,而不会产生损坏性的弯折。通过限位柱设置在导向底板和基片固定板之间,以限定限位柱和基片固定板之间的距离,再采用具有外螺纹的螺钉依次穿过导向底板和中空的限位柱,与基片固定板上具有内螺纹的限位固定孔螺纹连接。
作为一种实施例,采用中间直径大,两端直径小的连杆,两端具有外螺纹,一端与基片固定板上的限位固定孔螺纹连接,另一端穿过导向底板,与螺母螺纹连接,实现导向底板和基片固定板的连接固定。
可选的,所述导向底板为圆环状结构或者为开口的环状结构。
通过采用上述技术方案,圆环状是离子束溅射镀膜机有效的镀膜区域的形状范围,能够最大限度的利用离子束溅射镀膜机的镀膜技术进行高质量的镀膜。
作为一种实施例,具有开口的圆环状结构可以在缠绕光纤时,无需放开光纤一端,无需将光纤插入到导向底板的中间开口处,可以不放开光纤,直接将光纤通过开口处缠绕在导向底板上,能够更为方便的实现光纤缠绕。
可选的,所述导向底板远离所述基片固定板的一侧表面设有线槽。
通过采用上述技术方案,导向底板上缠绕多条光纤时,避免光纤滑动,设置多个线槽,能够保证特定的光纤能够限位在特定的位置,便于缠绕,便于定位。
可选的,还包括导向顶板,所述导向顶板设置在所述导向底板远离基片固定板的一端,所述导向顶板与所述基片固定板可拆卸连接。
通过采用上述技术方案,导向底板固定好光纤后,对于整个离子束溅射镀膜机来说,只能利用到固定了光纤的光纤固定孔的部分。还有剩余空间能够完成镀膜。增设导向顶板,又能在外圈设置另一圈光纤端部,更多的利用离子束溅射镀膜机的可镀膜区域。
可选的,所述光纤固定孔为四组,每组呈圆周阵列分布,圆周直径最大的和最小的两组所述光纤固定孔用于固定导向顶板缠绕的光纤。
通过采用上述技术方案,距离基片固定板较近的导向底板上的光纤固定在基片固定板上中间的两组光纤固定孔上,距离基片固定板较远的导向顶板上的光纤固定在基片固定板上最内侧和最外侧的两组光纤固定板上。从而防止导向顶板和导向底板的光纤出现交叉错位的情况,也能够避免漏接,避免光纤端部的遗漏。
可选的,导向顶板和导向底板之间设有支撑板,所述支撑板为环状结构,所述支撑板靠近所述导向底板的一侧表面设有底面凹槽,所述支撑板远离靠近所述导向顶板的一侧表面设有顶面凹槽。
通过采用上述技术方案,导向顶板和导向底板缠绕的光纤可能会有凸起,采用支撑板能够将凸起的光纤容纳在底面凹槽和顶面凹槽中,从而支撑起导向顶板和导向底板。避免缠绕在导向顶板和导向底板上的光纤被挤压或者断裂。
可选的,还包括导向顶板,所述导向底板为圆环形,所述导向顶板为圆环形,所述导向顶板的内径大于导向底板的外径。
通过采用上述技术方案,内圈的光纤固定孔的个数少,为了更多的缠绕光纤的条数,设置内圈和外圈分别缠绕,分别固定的形式,从而固定更多的光纤,能够更大限度的利用离子束溅射镀膜机的有效镀膜区域。
第二方面,本申请提供一种光纤镀膜夹具的使用方法,采用如下的技术方案。
一种光纤镀膜夹具的使用方法,包括以下步骤:
第一,缠绕光纤;
将光纤缠绕在导向底板上,光纤两端留出足够的固定长度;
第二,固定;
将导向底板和基片固定板固定在一起,使导向底板和基片固定板相对稳定;
第三,将缠绕好的光纤的两端固定在基片固定板上;
将所有的光纤端部伸出到基片固定板的同一面,固定光纤端部。
通过采用上述技术方案,将缠绕光纤的导向底盘固定在基片固定板上,通过缠绕光纤的方式使光纤两个端部位于基片固定板的同侧,又通过稳定固定的方式使夹具连同光纤整体能够在高速旋转的离子束溅射镀膜机中平稳均匀的镀膜。
可选的,将导向底板上外侧伸出的光纤端部固定在基片固定板的最外侧的光纤固定孔中,将导向底板上内侧伸出的光纤端部固定在基片固定板的最内侧的光纤固定孔中。
通过采用上述技术方案,光纤能够通过最近的位置安装在光纤固定孔中,避免光纤过度弯折对光纤造成损坏,同时也降低了安装难度,便于操作。
综上所述,本申请包括以下至少一种有益技术效果。
1.本申请能够使光纤可靠的缠绕固定,当基片固定盘高速旋转时,保护脆弱的光纤完成端面的镀膜。
2.本申请能使被缠绕的光纤在竖直设置的情况下,依然稳定高速旋转,镀膜质量得到保障,不因高速旋转而损坏光纤和破坏镀膜稳定性。
3.本申请实现了采用离子束溅射镀膜机为光纤镀膜的技术得以实现。有效实现了采用离子束溅射技术在光纤端面镀制高精密光学薄膜的应用。
附图说明
图1是本申请实施例一中光纤镀膜夹具的整体机构示意图。
图2是本申请实施例一中光纤镀膜夹具的爆炸图。
图3是本申请实施例二中光纤镀膜夹具的爆炸图。
图4是本申请实施例三中光纤镀膜夹具的基片固定板的结构示意图。
图5是本申请实施例四中光纤镀膜夹具的导向顶板的结构示意图。
图6是本申请实施例五中光纤镀膜夹具的整体机构示意图。
附图标记说明:1、基片固定板;11、光纤固定孔;12、限位柱;13、示位槽一;131、示位槽二;14、第二示位环;15、第一示位环;16、第三示位环;17、膜厚监控片;18、基片盘安装固定孔;19、限位固定孔;2、导向底板;21、底板外弧缘;22、线槽;23、底板孔;24、底板内弧缘;25、底板外孔;26、空管;27、底板内孔;28、中空部;3、支撑板;31、顶面凹槽;32、底面凹槽;33、连接孔;34、支撑内孔;35、支撑外孔;4、导向顶板;41、顶板外弧缘;42、顶板内孔;43、顶板孔;44、顶板内弧缘;45、顶板外孔;5、内六角螺钉。
具体实施方式
以下结合全部附图对本申请作进一步详细说明。
实施例一
本申请实施例一公开一种光纤镀膜夹具,用于离子束溅射镀膜机中,参照图1,光纤镀膜夹具包括基片固定板1、导向顶板4和导向底板2。基片固定板1、导向顶板4和导向底板2依次层叠设置,基片固定板1上设有光纤固定孔11,光纤一端伸入光纤固定孔11使光纤端面位于图中基片固定板1的下表面,光纤由光纤头固定。光纤另一端经由导向底板2外缘缠绕导向底板2,自导向底板2中部的中空部28(参照图2)穿下,重复将光纤缠绕在导向底板2数圈后,将光纤端部伸入基片固定板1上的另一个光纤固定孔11,使光纤两端朝向相同,从而完成一整根光纤的固定。然后依次在导向底板2上再缠绕多根光纤。再同理将光纤固定在导向顶板4上,将光纤端面固定在基片固定板1上。离子束溅射镀膜机工作过程中,基片固定板1如图1所示方向放置,启动基片电机后,基片固定板1绕垂直于基片固定板1所在平面的轴线旋转。缠绕完成后,基片固定板1上的光纤固定孔11都有光纤伸出,光纤端面在图1中的基片固定板1的下表面,即基片固定板1远离导向底板2的表面。基片固定板1上还设有膜厚监控片17,用来检测光纤端面的镀膜厚度。
参照图2,基片固定板1整体呈圆形,中部设有基片盘安装固定孔18,用于将基片固定板1安装在离子束溅射镀膜机中。基片固定板1上设有两个环形的结构,即第一示位环15和第二示位环14,第一示位环15和第二示位环14之间设有示位槽一13,第一示位环15和第二示位环14上均设有光纤固定孔11,第一示位环15设有两组环形阵列设置的光纤固定孔11,两组光纤固定孔11的数量相同;第二示位环14设有两组环形阵列设置的光纤固定孔11,两组光纤固定孔11的数量相同。每个光纤固定孔11穿透基片固定板1。第一示位环15上设有多个限位固定孔19,限位固定孔19设有内螺纹,每个基片固定板1上限位固定孔19处抵接有限位柱12,限位柱12是中空的圆管。一根中部被缠绕在导向底板2上的光纤的一端固定在第一示位环15上远离基片盘安装固定孔18的一组光纤固定孔11,光纤另一端固定在第二示位环14上靠近基片盘安装固定孔18的一组光纤固定孔11上。
导向底板2和导向顶板4结构相同,都是环形的盘状结构,导向底板2的非开口端是平整的,沿环状径向阵列设有多个线槽22。光纤缠绕在导向底板2上时,光纤被安置在线槽22中。
导向底板2的环状外缘为底板外弧缘21,底板外弧缘21是向外凸出的,凸出处向上方和下方都平滑过渡,即凸出处向靠近基片固定板1的方向逐渐平滑过渡,凸出处向远离基片固定板1的方向逐渐平滑过渡。导向底板2的环状内缘为底板内弧缘24,底板内弧缘24是向内突出的,凸出处向靠近基片固定板1的方向逐渐平滑过渡,凸出处向远离基片固定板1的方向逐渐平滑过渡。这样设置的好处在于,当光纤缠绕在导向底板2上时,能最大限度的保障光纤平缓缠绕不折弯,不会对光纤的内容结构造成损坏。
穿过导向底板2避开线槽22的位置设有底板孔23,底板孔23是通孔,底板孔23的内径小于限位柱12的外径。导向底板2上底板孔23远离导向底板2中心方向上设有底板外孔25,底板外孔25是通孔。
支撑板3是片状的环形结构,支撑板3的一面对应导向底板2的线槽22的位置设有底面凹槽32,由于导向底板2上的缠绕的光纤会突出导向底板2的平面,所以支撑板3为光纤留出空间,也能为支撑板3上的结构起到支撑的作用。支撑板3上设置有连接孔33,连接孔33是通孔。支撑板3上连接孔33靠近支撑板3中心方向上设有支撑外孔35,支撑板3上连接孔33远离支撑板3中心方向上设有支撑内孔34。支撑内孔34和支撑外孔35都是内螺纹孔。
导向顶板4和导向底板2结构相同,都是环形的盘状结构。只是导向顶板4和导向底板2的放置方向是相反的。导向顶板4和导向底板2的盘状开口方向相反。导向顶板4的非开口端是平整的,沿环状径向阵列设有多个线槽22。光纤缠绕在导向顶板4上时,光纤被安置在线槽22中。支撑板3的另一面对应导向顶板4的线槽22的位置设有顶面凹槽31,由于导向底板2上的缠绕的光纤会突出导向底板2的平面,所以支撑板3为光纤留出空间,也能为支撑板3上的结构起到支撑的作用。
导向顶板4的环状外缘为顶板外弧缘41,顶板外弧缘41是向外凸出的,凸出处向上方和下方都平滑过渡,即凸出处向靠近基片固定板1的方向逐渐平滑过渡,凸出处向远离基片固定板1的方向逐渐平滑过渡。导向顶板4的环状内缘为顶板内弧缘44,顶板内弧缘44是向内突出的,凸出处向靠近基片固定板1的方向逐渐平滑过渡,凸出处向远离基片固定板1的方向逐渐平滑过渡。这样设置的好处在于,当光纤缠绕在导向顶板4上时,能最大限度的保障光纤平缓缠绕不折弯,不会对光纤的内容结构造成损坏。
穿过导向顶板4避开线槽22的位置设有顶板孔43,顶板孔43是通孔,采用内六角螺钉5自导向顶板4上方依次穿过导向顶板4、支撑板3、导向底板2和限位柱12,与基片固定板1上的限位固定孔19螺纹连接。
导向顶板4上顶板孔43靠近导向顶板4板中心方向上设有顶板内孔42,顶板内孔42是通孔。
顶板内孔42和支撑内孔34的位置对应,底板外孔25和支撑外孔35的位置对应。用螺钉穿过顶板内孔42与支撑内孔34螺纹连接,用螺钉穿过底板外孔25与支撑外孔35连接。从而实现整个夹具对于光纤的镀膜夹持。
上述光纤镀膜夹具的使用方法包括以下几个步骤:
第一,缠绕光纤。
将光纤缠绕在导向底板2上,光纤两端留出足够的固定长度;将光纤缠绕在导向顶板4上,光纤两端留出足够的固定长度。
第二,固定夹具各部件。
将导向顶板4、支撑板3、导向底板2和基片固定板1一起固定,将导向底板2和支撑板3固定,将导向顶板4和支撑板3固定。
第三,将缠绕好的光纤两端固定在基片固定板1上。通过光纤头和压帽(图中未示出)将光纤固定在基片固定板1上。
将导向底板2上外侧伸出的光纤端部固定在第二示位环14的靠近基片盘安装固定孔18的一组光纤固定孔11,导向底板2上内侧伸出的光纤端部固定在第一示位环15的远离基片盘安装固定孔18的一组光纤固定孔11;将导向顶板4上外侧伸出的光纤端部固定在第二示位环14的远离基片盘安装固定孔18的一组光纤固定孔11,导向顶板4上内侧伸出的光纤端部固定在第一示位环15的靠近基片盘安装固定孔18的一组光纤固定孔11。这样安装是为了使距离基片固定板1较近的导向底板2上伸出的光纤能够安装在基片固定板1的中部,使距离基片固定板1较远的导向顶板4上外侧伸出的光纤能安装在基片固定板1中部的外侧,导向顶板4上内侧伸出的光纤能够安装在基片固定板1中部的内侧,使导向底板2和导向顶板4上的光纤尽量减少因固定在光纤固定孔11而导致的光纤弯曲甚至折损。第一示位环15和第二示位环14之间形成一个示位槽一13,示位槽一13能够清晰地显示第一示位环15和第二示位环14的位置,便于光纤固定时正确的位置连接,以免连错行。
本申请实施例一种光纤镀膜夹具的实施原理为:将光纤缠绕在一层,占据离子束溅射镀膜机一部分的有效镀膜区域,将光纤缠绕在另一层,占据离子束溅射镀膜机另一部分的有效镀膜区域。再将两层缠绕装置紧密的固定在一起,不影响竖直旋转,不会产生彼此错位,牢固稳定,适应离子束溅射镀膜机基片电机的高速旋转。
实施例二
参照图3,本实施例与实施例一的区别在于:本实施例不设置支撑板3,导向顶板4和导向底板2之间顶板孔43和底板孔23对应的位置设置有空管26,内六角螺钉5自导向顶板4上方依次穿过导向顶板4、空管26、导向底板2和限位柱12,与基片固定板1上的限位固定孔19螺纹连接。
导向顶板4还设有顶板外孔45,顶板外孔45具有内螺纹;导向底板2还设有底板内孔27,底板内孔27具有内螺纹。顶板内孔42和底板内孔27的位置相对应,顶板外孔45和底板外孔25的位置相对应。
本申请实施例一种光纤镀膜夹具的实施原理为:采用空管26支撑起导向顶板4和导向底板2之间的距离,保障缠绕起来的导向顶板4和导向底板2之间的光纤不被挤压。
实施例三
参照图4,本实施例与实施例一的区别在于:基片固定板1又增加设有第三示位环16,第三示位环16与第二示位环14之间形成示位槽二131。
同时增设另一个导向顶板4,能够实现光纤缠绕和固定。各导向顶板4和导向底板2上的顶板内孔42、顶板外孔45、底板内孔27和底板外孔25根据实际需要设置为通孔或内螺纹孔。
本申请实施例一种光纤镀膜夹具的实施原理为:较大型的离子束溅射镀膜机有效镀膜区域更大,设置更多的叠层,一次能够放置更多的光纤,一次能够给更多的光纤完成镀膜。
实施例四
参照图5,本实施例与实施例一的区别在于:导向顶板4和导向底板2都设置成半圆形的,也就是实施例一中的导向顶板4或者导向底板2沿图1中的水平方向切开,成为两个形状形同的部分,成为两个导向顶板4和两个导向底板2。在两个导向顶板4和两个导向底板2上再多开顶板孔43和底板孔23,以保证承重能够支撑,保障在高速旋转后,能够保持整体的牢固稳定。固定时,两个导向底板2分别固定,两个导向底板2分别固定,完成固定后,其外观与实施例一相同。这样设置能够保证在缠绕光纤时不必将光纤插入圆环形的导向顶板4或者导向底板2,而是可以直接缠绕,更为方便。
本申请实施例一种光纤镀膜夹具的实施原理为:采用半圆形的缠绕机构,开放式的结构,更便于光纤的快速缠绕。
实施例五
参照图6,不再分层设置导向顶板4和导向底板2,而是将导向顶板4的内径设置为大于导向底板2的外径,导向顶板4和导向底板2分别与基片固定板1连接,导向底板2与第一示位环15连接,导向顶板4与第二示位环14连接。一部分光纤缠绕在导向顶板4上,另一部分光纤缠绕在导向底板2上。缠绕在导向底板2上的光纤固定在第一示位环15上,缠绕在导向顶板4上的光纤固定在第二示位环14上。
以上均为本申请的较佳实施例,并非依此限制本申请的保护范围,故:凡依本申请的结构、形状、原理所做的等效变化,均应涵盖于本申请的保护范围之内。
Claims (10)
1.一种光纤镀膜夹具,其特征在于:包括基片固定板(1)、导向底板(2)和限位结构,所述基片固定板(1)设有光纤固定孔(11),所述导向底板(2)用于绕设光纤使光纤两端朝向相同,所述限位结构能够限定所述基片固定板(1)和所述导向底板(2)之间的距离,所述导向底板(2)与所述基片固定板(1)可拆卸连接。
2.根据权利要求1所述的一种光纤镀膜夹具,其特征在于:所述限位结构为中空的限位柱(12),所述导向底板(2)上设有底板孔(23),所述基片固定板(1)上设有限位固定孔(19),所述限位柱(12)的内径大于所述限位固定孔(19)的内径,所述限位柱(12)的内径大于所述底板孔(23)的内径。
3.根据权利要求1所述的一种光纤镀膜夹具,其特征在于:所述导向底板(2)为圆环状结构或者为开口的环状结构。
4.根据权利要求1所述的一种光纤镀膜夹具,其特征在于:所述导向底板(2)远离所述基片固定板(1)的一侧表面设有线槽(22)。
5.根据权利要求1所述的一种光纤镀膜夹具,其特征在于:还包括导向顶板(4),所述导向顶板(4)设置在所述导向底板(2)远离基片固定板(1)的一端,所述导向顶板(4)与所述基片固定板(1)可拆卸连接。
6.根据权利要求5所述的一种光纤镀膜夹具,其特征在于:所述光纤固定孔(11)为四组,每组呈圆周阵列分布,圆周直径最大的和最小的两组所述光纤固定孔(11)用于固定导向顶板(4)缠绕的光纤。
7.根据权利要求5所述的一种光纤镀膜夹具,其特征在于:导向顶板(4)和导向底板(2)之间设有支撑板(3),所述支撑板(3)为环状结构,所述支撑板(3)靠近所述导向底板(2)的一侧表面设有底面凹槽(32),所述支撑板(3)远离靠近所述导向顶板(4)的一侧表面设有顶面凹槽(31)。
8.根据权利要求1所述的一种光纤镀膜夹具,其特征在于:还包括导向顶板(4),所述导向底板(2)为圆环形,所述导向顶板(4)为圆环形,所述导向顶板(4)的内径大于导向底板(2)的外径。
9.如权利要求1-8任一项所述的光纤镀膜夹具的使用方法,其特征在于,包括以下步骤:
第一,缠绕光纤;
将光纤缠绕在导向底板(2)上,光纤两端留出足够的固定长度;
第二,固定;
将导向底板(2)和基片固定板(1)固定在一起,使导向底板(2)和基片固定板(1)相对稳定;
第三,将缠绕好的光纤的两端固定在基片固定板(1)上;
将所有的光纤端部伸出到基片固定板(1)的同一面,固定光纤端部。
10.根据权利要求9所述的一种光纤镀膜夹具的使用方法,其特征在于:将导向底板(2)上外侧伸出的光纤端部固定在基片固定板(1)的最外侧的光纤固定孔(11)中,将导向底板(2)上内侧伸出的光纤端部固定在基片固定板(1)的最内侧的光纤固定孔(11)中。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN202310339636.8A CN116445877B (zh) | 2023-03-31 | 2023-03-31 | 一种光纤镀膜夹具及使用方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN202310339636.8A CN116445877B (zh) | 2023-03-31 | 2023-03-31 | 一种光纤镀膜夹具及使用方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
CN116445877A true CN116445877A (zh) | 2023-07-18 |
CN116445877B CN116445877B (zh) | 2024-05-31 |
Family
ID=87124933
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
CN202310339636.8A Active CN116445877B (zh) | 2023-03-31 | 2023-03-31 | 一种光纤镀膜夹具及使用方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
CN (1) | CN116445877B (zh) |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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- 2023-03-31 CN CN202310339636.8A patent/CN116445877B/zh active Active
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Publication number | Publication date |
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CN116445877B (zh) | 2024-05-31 |
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