CN116288268A - 一种种植基台及其表面处理工艺 - Google Patents
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Abstract
本发明涉及牙科种植修复技术领域，更尤其涉及一种新型种植基台及其表面处理工艺。通过原子层沉积技术在钛基台材料表面制备出预定厚度的纳米TiO2涂层，整个操作相当简便，易于操作。本申请得到的种植基台牙龈美学更佳，无需紫外光功能化的条件，便能减少与种植体周炎相关的致病菌在钛合金基台材料表面的黏附，提高愈合基台或修复基台材料本身的抗菌性能，还可减少钛合金基台材料的金属离子析出导致的生物毒性并增强种植基台的生物相容性，很好地提升了软组织的整合能力，进一步地还降低了钛合金基台材料的腐蚀倾向减缓其腐蚀速度。
Description
技术领域
本发明涉及牙科种植修复技术领域，尤其涉及一种新型种植基台及其表面处理工艺。
背景技术
随着经济的飞速发展和公众生活水平的提高，人们对口腔健康的需求越来越高，缺牙患者对牙齿的修复要求不仅限于功能的恢复，还需具备美观和便捷的特点。种植修复因其固位好、咀嚼效率高和美观舒适，成为缺牙患者常见的修复方式。基台是种植修复系统的重要组成部分，起着连接种植体和上部修复体的作用。由于其表面胶原纤维平行于基台、基底膜不连续和半桥粒部分缺失，使得周围组织附着薄弱，易受细菌侵袭；周围组织血供差，抵抗细菌感染的能力差，易引起种植体周炎。同时，钛基台的抗腐蚀能力在低氧的口腔环境中受到削弱，尤其是在有少量氟化物存在的情况下，钛颗粒易被巨噬细胞、牙龈成纤维细胞和成骨细胞等吞噬，影响细胞的代谢循环，具有一定的细胞毒性作用。此外，钛基台存在牙龈透灰的风险，严重影响种植修复的美学效果。因此，亟需开发一种兼顾良好的生物相容性、一定的抗菌性能、有效的抗腐蚀性能和优异的美学性能的种植基台。
国内外学者通过物理、化学和涂层等方法在基台材料表面修饰活性物质尝试提高材料表面的抗菌性能或软组织整合能力，但是目前的工艺难以兼顾这两种作用，且难以保证其长期有效性。研究报道经阴极极化将多西环素涂敷于基台表面，可降低材料表面的细菌黏附，但这种涂层可引起细菌的耐药性；经微波辅助法将银涂层修饰于基台表面，可降低材料表面的细菌黏附，但这种涂层可能会对细胞产生毒性作用。因此，还需要探索出一种既可提高材料表面抗菌性能和软组织整合能力，又不产生副作用的基台表面处理工艺，如能提升基台的牙龈美学更佳。其中，纳米二氧化钛(Titanium dioxide，TiO2)是一种抗菌谱广、生物相容性好和化学性质稳定的无机抗菌剂。有研究报道称通过阳极氧化法在基台表面制备氧化膜可提高材料表面的抗菌性能或软组织整合能力，但是也有研究持不同的意见，这是由于阳极氧化这一方法存在厚度可控性差、氧化膜重复率低等问题。
原子层沉积技术(Atomic layer deposition，ALD)是一种可以将物质以单原子膜形式一层一层逐层镀在基材表面的方法，具有可重复性高、厚度可控性高(埃米级)和涂层结合强度好等特点，在生物材料的改性方面具有巨大的应用潜力。现有技术有报道称，经ALD在牙科义齿基托材料(钴铬合金或甲基丙烯酸树脂)表面制备纳米TiO2涂层，但该纳米TiO2涂层依赖于TiO2的光催化性质，仅在紫外光照射下可降低细菌表面的黏附数量。
发明内容
为此，需要提供一种既能兼顾增强种植基台材料表面抗菌性能、提升基台的牙龈美学、提高软组织整合能力，又无副作用的种植基台的表面处理工艺，以解决现有技术中种植基台表面修饰的涂层具有耐药性或是对口腔细胞具有毒性的技术问题。
为实现上述目的，第一方面，本发明提供了一种种植基台的表面处理工艺，采用原子层沉积工艺，包括以下步骤：
提供衬底：将预设好的种植基台支架、种植基台螺丝孔通道封闭塞，修复基台或者愈合基台依序组装好并悬空固定设置于原子层沉积反应仓内，所述修复基台包括相适配的种植体连接区、第一穿龈区和修复体连接区，所述愈合基台包括第二穿龈区，将所述第一穿龈区和修复体连接区的连接组件或所述第二穿龈区暴露于原子层沉积反应仓内；
抽真空：打开真空泵，使反应仓保持真空状态；
加热：设置原子层沉积设备反应参数，使反应仓加热到165℃～350℃的一个或多个温度；
注入前驱体：将前驱体引入所述原子层沉积设备的管道中，所述前驱体包括钛前驱体和氧前驱体；
锚定初始涂层：将所述钛前驱体以脉冲方式进入反应仓内后并暴露一定时长以在所述愈合基台或所述修复基台上锚定初始涂层；
第一次吹扫：通入高纯惰性气体吹扫所述反应仓内来自所述形成锚定初始涂层步骤的任何未消耗的所述钛前驱体和/或前一次的反应副产物；
形成纳米TiO2涂层：将所述氧前驱体以脉冲方式进入反应仓内后并暴露一定时长以与所述初始涂层反应形成所述纳米TiO2涂层；
第二次吹扫：通入高纯惰性气体吹扫所述反应仓内来自所述形成纳米TiO2涂层步骤的任何未消耗的所述氧前驱体和/或所述形成纳米TiO2涂层步骤的反应副产物；
重复自所述锚定初始涂层步骤至所述第二次吹扫步骤500～5000次以使所述纳米TiO2涂层达到预定厚度。
修复基台与愈合基台的区别主要是在于：(1)应用时间不同；(2)形状不同；(3)所起的作用是不同。修复基台是在种植体完成愈合后，进行牙冠修复时所应用到的中间连接体，可以起到支撑和保留的作用。修复基台一般是通过螺丝固位，连接到种植体内部形成一定的支柱，然后在修复基台上面进行牙冠的修复。这是一种比较传统的修复方法，有一体成型基台和分体式修复基台。愈合基台是在牙龈愈合过程中放入后引导牙龈恢复形成一定的袖口，形成良好的组织牙周界面，形成界面或形状后，再进行修复基台的应用，可以有效的进行牙齿的修复，避免出现食物嵌塞等现象存在。修复基台与愈合基台两者的应用关系是先用愈合基台进行牙龈的成型后，再进行修复基台的应用和对症的牙冠修复。
在本发明中，将组装好的种植基台支架、种植基台螺丝孔通道封闭塞，愈合基台或者修复基台形成的组件在原子层沉积反应仓内悬空固定住是非常重要的处理，能够保证修复基台的第一穿龈区和修复体连接区或愈合基台的第二穿龈区在原子层沉积反应仓内被充分暴露，进而在后续原子层沉积反应中获得更佳的效果。本发明中无需通过将衬底移动或旋转到反应仓内的不同部分使包括钛前驱体和氧前驱体反应物暴露于衬底，并且每个部分通过惰性气幕分隔，即空间ALD反应器或辊对辊ALD反应器。
另外，在原子层沉积期间，还应保证前驱体浓度一致，因此若气瓶中的前驱体(包括氧前驱体和钛前驱体)余量不足时，需及时更换，新气瓶安装后需要使原子层沉积设备预启动一段时间，保证输气管道内前驱体质量的稳定性。
将自锚定初始涂层步骤至第二次吹扫步骤视为一个循环，根据实际需要重复上述循环以使纳米TiO2涂层达到预定厚度。在本申请某些实施方式中，优选地，重复自所述锚定初始涂层步骤至所述第二次吹扫步骤1000～3000次。
在本申请某些实施方式中，所述愈合基台或修复基台为钛合金材质。
根据本申请的某些实施方式，所述愈合基台或修复基台在所述提供衬底步骤前还经抛光、清洗和干燥预处理，所述清洗为依次采用丙酮、无水乙醇和去离子水清洗，所述干燥为先用无水无油压缩空气吹干再置于种植基台烘干支架上，采用真空干燥机进行干燥。
根据本申请的一些实施方式，所述钛前驱体选自高纯四氯化钛或高纯四(二甲氨基)钛，所述氧前驱体选自去离子水或臭氧。其中，高纯的四氯化钛的去离子水是目前使用最广泛的前驱体，可适应的温度区间大，为100～600℃，同时结晶速度恒定；高纯四(二甲氨基)钛属于有机钛，在反应过程中生成的副产物不对会原子层沉积系统产生腐蚀作用。臭氧作为氧前驱体能够提供更多的氧活性位点，从而提高纳米TiO2涂层的制备效率。
第二方面，发明人提供了一种种植基台，其上覆有预定厚度的纳米TiO2涂层，所述预定厚度的纳米TiO2涂层由本发明第一方面的处理工艺处理得到。
根据本申请的一些优选的实施方式，所述预定厚度为50nm～150nm。涂层厚度在此范围内，无需紫外光功能化的条件，便能减少与种植体周炎相关的致病菌在钛合金基台材料表面的黏附，还可减少钛合金基台材料的金属离子析出并提高生物安全性，进一步地还降低了钛合金基台材料的腐蚀倾向减缓其腐蚀速度。
根据本申请的一些更优选的实施方式，所述预定厚度为100nm。发明人意外地发现，当纳米TiO2涂层厚度为100nm时，在实现上述功效以外，种植基台颜色还由原来的银灰色转变为黄色调。黄色调种植基台有助于种植修复获得更佳的牙龈美学效果。同时，黄色调的基台还可减少在口扫过程中因基台的金属色引起的反光，从而提高口扫的精确性。进一步地，当纳米TiO2涂层厚度为150nm时，种植基台涂层颜色由原来的银灰色转变为紫色调。在本发明更优选的实施方式中，纳米TiO2涂层呈现黄色调。
根据本申请的一些更优选的实施方式，所述纳米TiO2涂层对种植体周炎相关的致病菌抗菌率大于50％。
区别于现有技术，上述技术方案通过原子层沉积技术在钛基台材料表面制备出预定厚度的纳米TiO2涂层，整个操作相当简便，易于操作。本申请得到的种植基台牙龈美学更佳，无需紫外光功能化的条件，便能减少与种植体周炎相关的致病菌在钛合金基台材料表面的黏附，提高愈合基台或修复基台材料本身的抗菌性能，还可减少钛合金基台材料的金属离子析出导致的生物毒性并增强种植基台的生物相容性，很好地提升了软组织的整合能力，进一步地还降低了钛合金基台材料的腐蚀倾向减缓其腐蚀速度。
附图说明
图1为本发明具体实施方式中的种植基台烘干支架示意图；
图2为本发明具体实施方式中的种植基台支架示意图；
图3为本发明具体实施方式中的种植基台螺丝孔通道封闭塞示意图；
图4为本发明具体实施方式中的将组装好的种植基台支架、修复基台和预设的种植基台螺丝孔通道封闭塞组件整体悬空固定设置于反应仓内的状态示意图；
图5为本发明具体实施方式中的将组装好的种植基台支架、愈合基台和预设的种植基台螺丝孔通道封闭塞组件整体悬空固定设置于反应仓内的状态示意图；
图6为本发明具体实施方式中表面未制备纳米TiO2涂层的钛合金基台材料(TC4)组和表面制备了100nm的纳米TiO2涂层的钛合金基台材料(TiO2-100nm)组的表面牙龈卟啉单胞菌、金黄色葡萄球菌和变形链球菌黏附量的统计图；
图7为本发明具体实施方式中TC4组和TiO2-100nm组的表面牙龈卟啉单胞菌、金黄色葡萄球菌和变形链球菌活力的统计图；
图8为本发明具体实施方式中TC4组和TiO2-100nm组的表面黏附牙龈卟啉单胞菌的电镜图；
图9为本发明具体实施方式中TC4组和TiO2-100nm组的表面黏附金黄色葡萄球菌的电镜图；
图10为本发明具体实施方式中TC4组和TiO2-100nm组的表面黏附变形链球菌的电镜图；
图11为本发明具体实施方式中阴性对照(Control)组、TC4组和TiO2-100nm组与人牙龈成纤维细胞共培养24h、48h和72h后，细胞的CCK-8检测结果统计图；
图12为本发明具体实施方式中Control组、TC4组和TiO2-100nm组与牙龈成纤维细胞共培养24h、48h和72h后，细胞死亡类型统计图；
图13为本发明具体实施方式中TC4组和TiO2-100nm组在中性和酸性人工唾液中浸泡1w、4w和7w的浸泡腐蚀结果统计图；
图14为本发明具体实施方式中TC4组和TiO2-100nm组的电化学阻抗谱拟合结果统计图；
图15为本发明具体实施方式中TC4组和TiO2-100nm组动电位极化曲线腐蚀参数结果统计图。
具体实施方式
为详细说明技术方案的技术内容、构造特征、所实现目的及效果，以下结合具体实施例并配合附图详予说明。
在本文中提及“实施例”意味着，结合实施例描述的特定特征、结构或特性可以包含在本申请的至少一个实施例中。在说明书中各个位置出现的“实施例”一词并不一定指代相同的实施例，亦不特别限定其与其它实施例之间的独立性或关联性。原则上，在本申请中，只要不存在技术矛盾或冲突，各实施例中所提到的各项技术特征均可以以任意方式进行组合，以形成相应的可实施的技术方案。
除非另有定义，本文所使用的技术术语的含义与本申请所属技术领域的技术人员通常理解的含义相同；本文中对相关术语的使用只是为了描述具体的实施例，而不是旨在限制本申请。
在本申请的描述中，用语“和/或”是一种用于描述对象之间逻辑关系的表述，表示可以存在三种关系，例如A和/或B，表示：存在A，存在B，以及同时存在A和B这三种情况。另外，本文中字符“/”一般表示前后关联对象是一种“或”的逻辑关系。
在本申请中，诸如“第一”和“第二”之类的用语仅仅用来将一个实体或者操作与另一个实体或操作区分开来，而不一定要求或者暗示这些实体或操作之间存在任何实际的数量、主次或顺序等关系。
在没有更多限制的情况下，在本申请中，语句中所使用的“包括”、“包含”、“具有”或者其他类似的表述，意在涵盖非排他性的包含，这些表述并不排除在包括所述要素的过程、方法或者产品中还可以存在另外的要素，从而使得包括一系列要素的过程、方法或者产品中不仅可以包括那些限定的要素，而且还可以包括没有明确列出的其他要素，或者还包括为这种过程、方法或者产品所固有的要素。
与《审查指南》中的理解相同，在本申请中，“大于”、“小于”、“超过”等表述理解为不包括本数；“以上”、“以下”、“以内”等表述理解为包括本数。此外，在本申请实施例的描述中“多个”的含义是两个以上(包括两个)，与之类似的与“多”相关的表述亦做此类理解，例如“多组”、“多次”等，除非另有明确具体的限定。
在本申请实施例的描述中，所使用的与空间相关的表述，诸如“中心”“纵向”“横向”“长度”“宽度”“厚度”“上”“下”“前”“后”“左”“右”“竖直”“水平”“垂直”“顶”“底”“内”“外”“顺时针”“逆时针”“轴向”“径向”“周向”等，所指示的方位或位置关系是基于具体实施例或附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本申请的具体实施例或便于读者理解，而不是指示或暗示所指的装置或部件必须具有特定的位置、特定的方位、或以特定的方位构造或操作，因此不能理解为对本申请实施例的限制。
除非另有明确的规定或限定，在本申请实施例的描述中，所使用的“安装”“相连”“连接”“固定”“设置”等用语应做广义理解。例如，所述“连接”可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或成一体设置；其可以是机械连接，也可以是电连接，也可以是通信连接；其可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连；其可以是两个元件内部的连通或两个元件的相互作用关系。对于本申请所属技术领域的技术人员而言，可以根据具体情况理解上述用语在本申请实施例中的具体含义。
本申请实施例使用芬兰BENEQ公司的原子层沉积系统(TFS200)。
本实施例中采用的惰性气体为氩气。
实施例1
本发明提供了一种种植基台及其表面处理工艺。
本实施中种植基台为钛合金材质，为降低基台材料表面的细菌黏附型，以多西环素涂敷得到的涂层可能引起细菌的耐药性，而经微波辅助法将银涂层修饰于基台表面虽可降低材料表面的细菌黏附，但这种涂层可能会对细胞产生毒性。在其表面附上一层广谱抗菌的纳米TiO2涂层，能够实现兼顾抗菌、生物相容性和化学稳定性的优点，但传统采用的阳极氧化法在种植基台表面制备氧化膜的做法存在厚度可控性差、氧化膜重复率低等问题。在上述基础研究的前提下，发明人提出了通过原子层沉积法(ALD)在钛合金基台上形成纳米TiO2涂层的工艺，具体处理工艺包括如下步骤：
请参阅图1到图5所示的本实施例种植基台处理工艺相关的示意图。
1、将切削成形的种植基台经碳化硅砂纸抛光后，经丙酮、无水乙醇和去离子水清洗，再经无水无油压缩空气吹干后，置于种植基台烘干支架上，悬空置于真空干燥机中干燥。
2、设计种植基台支架和种植基台螺丝孔通道封闭塞，将修复基台或者愈合基台与种植基台支架和种植基台螺丝孔通道封闭塞组装悬空置于ALD反应仓内，使修复基台的第一穿龈区和修复体连接区或愈合基台的第二穿龈区暴露并固定基台于反应仓内。
3、设置原子层沉积设备温度为165℃～350℃；采用高纯度的四氯化钛作为钛前驱体，采用去离子水作为氧前驱体；在原子层沉积期间，应使ALD反应设备的输气管道内充满前驱体，且保证前驱体浓度一致，因此若气瓶中的前驱体余量不足时，需注意及时更换，新气瓶安装后需要使原子层沉积设备预启动一段时间，以保证输气管道内前驱体质量的稳定性。
4、将输气管道内的钛前驱体四氯化钛加热至40℃，以脉冲方式进入反应仓内后并暴露0.2s；反应仓内通入高纯的氩气进行吹扫，持续时间为10s，除去反应生成的副产物或未反应的钛前驱体；将输气管道内氧前驱体加热至40℃，以脉冲方式进入反应仓内后并暴露0.15s；反应仓内再一次通入高纯的氩气，持续时间为10s。如此完成一个循环，即在基台材料表面沉积了一层纳米TiO2涂层。
根据步骤1～4的方法，在ALD反应设备上设置循环周期数为1000次，在钛合金基台表面制备出厚度为50nm的纳米TiO2涂层，得到经处理后的种植基台。
经过观察发现，本实施例得到的种植基台颜色由原来的银灰色转变为蓝色调。无需紫外光功能化的条件，即可减少与种植体周炎相关的致病菌在钛合金基台材料表面的黏附；钛合金基台材料的金属离子析出减少且生物安全性有所提高；降低了钛合金基台材料的腐蚀倾向并减缓其腐蚀速度，提升了钛合金基台的抗腐蚀性能。
实施例2
本实施例提供另一种种植基台及其表面处理工艺
本实施例与实施例1的步骤1～4的操作方法相同，此外，在ALD反应设备上设置循环周期数为2000次，在钛合金基台表面制备出厚度为100nm的纳米TiO2涂层，得到经处理后的种植基台。
本实施例得到种植基台颜色由原来的银灰色转变为黄色调，有助于种植修复获得更佳的牙龈美学效果，同时黄色调的基台可减少在口扫过程中因基台的金属色引起的反光，从而提高口扫的精确性；无需紫外光功能化的条件，即可减少与种植体周炎相关的致病菌在钛合金基台材料表面的黏附；钛合金基台材料的金属离子析出减少且生物安全性有所提高；降低了钛合金基台材料的腐蚀倾向并减缓其腐蚀速度，提升了钛合金基台的抗腐蚀性能。
实施例3
本实施例提供另一种种植基台及其表面处理工艺
本实施例与实施例1的步骤1～4的操作方法相同，此外，在ALD反应设备上设置循环周期数为3000次，在钛合金基台表面制备出厚度为150nm的纳米TiO2涂层，得到经处理后的种植基台。
本实施例得到种植基台颜色由原来的银灰色转变为紫色调；无需紫外光功能化的条件，即可减少与种植体周炎相关的致病菌在钛合金基台材料表面的黏附；钛合金基台材料的金属离子析出减少且生物安全性有所提高；降低了钛合金基台材料的腐蚀倾向并减缓其腐蚀速度，提升了钛合金基台的抗腐蚀性能。
实施例4
以实施例2制备得到的种植基台(TiO2-100nm)和未涂布纳米TiO2涂层的钛合金基台(TC4)表面对牙龈卟啉单胞菌(Porphyromonas gingivalis，P.gingivalis)、金黄色葡萄球菌(Staphylococcus aureus，S.aureus)和变形链球菌(Streptococcus mutans，S.mutans)进行抗菌性能的评价。这三种菌均由福建省口腔疾病研究重点实验室提供，其中牙龈卟啉单胞菌P.gingivalis菌株的保藏编号为ATCC 33277；金黄色葡萄球菌S.aureus菌株的保藏编号为ATCC 25293；变形链球菌S.mutans菌株的保藏编号为ATCC 25175。抗菌性能的评价的具体方法为：
1、将-80℃保存的甘油冰冻牙龈卟啉单胞菌P.gingivalis、金黄色葡萄球菌S.aureus和变形链球菌S.mutans菌株室温下溶解后，分别取10μL菌液滴至相应的琼脂平板上进行平板划线分离培养。接着，挑取细菌单菌落进行纯化平板划线培养后，进行相应的液体培养基接种培养。期间，对复苏的细菌进行革兰染色涂片镜检，倒置显微镜下观察形态，验证菌液的纯度，明确无杂菌污染。
2、牙龈卟啉单胞菌P.gingivalis、金黄色葡萄球菌S.aureus和变形链球菌S.mutans菌株分别复苏、传代后，镜检为纯培养，取处于对数生长期的菌悬液离心(5min，4000r/min)，弃上清，用磷酸盐缓冲液(Phosphate buffer saline，PBS)重悬后离心，此操作重复进行两次。悬浮菌体于PBS中，使用酶标仪对各菌液的浓度进行调节，调节菌液浓度光密度至一定值，含菌量约为1×108CFU/mL。
3、超净工作台下，将灭菌后的各组试件置于24孔板底部，受试面朝上。取处于对数生长期的各菌液，每孔加入1.0mL液体培养基和100μL菌液，于37℃培养箱中共培养24h。
4、采用CFU计数法检测各组试件(n＝6)表面细菌黏附量。细菌悬液与试件共培养24h后，用微量加样器吸弃培养液，用1mL PBS液轻柔漂洗各组试件三次，去除试件表面未黏附细菌。将试件置于装有1mL PBS的离心管中，标明分组，vortex振荡器振荡1min，使黏附于试件表面的细菌分散于PBS液中，梯度稀释后取20μL涂于固体琼脂培养板上。S.aureus于有氧培养后的24h进行菌落计数，S.mutans于有氧培养后的48h进行菌落计数，P.gingivalis于厌氧培养后的5～7d进行菌落计数，分析比较各组间的菌落数差异以评估材料表面细菌黏附程度。
5、采用XTT试剂盒进行分析各组试件(n＝6)表面细菌生物膜的活细菌存在与辅酶II相关的脱氢酶的产生，以评价改性前后钛合金基台材料表面黏附的细菌活力。细菌悬液与试件共培养24h后，用微量加样器吸弃培养液，用1mL PBS液轻柔漂洗各组试件三次，去除试件表面未黏附细菌。将各试件转移到新的孔板中，每孔加入600μL XTT反应液(500μL液体培养基+100μLXTT试剂)，于培养箱中避光孵育1h。以仅加入液体培养基和XTT试剂(体积比为5:1)作为空白对照组。分别收集各孔XTT反应液于EP管中，4000r/min下高速离心5min，取上清液120μL置于96孔培养板中，酶标仪在450nm波长处检测每孔的OD值，以各组每孔测得的OD值分别减去空白组的OD值为每孔的实际OD值。
6、采用SEM观察细菌的分布、形态。细菌悬液与试件共培养24h后，用微量加样器吸弃培养液，用1mL PBS液轻柔漂洗各组试件三次，去除试件表面未黏附细菌。收集试件，置于5mL离心管内，加入2.5％的戊二醛溶液固定液加满离心管，使试件完全浸没在固定液中，放置于4℃冰箱中固定24h。轻轻倒掉固定液，用PBS液轻轻漂洗样品三次，每次15min；用1％的锇酸溶液固定样品1～2h；小心取出锇酸废液，用PBS液轻轻漂洗样品三次，每次15min；用梯度浓度(包括30％、50％、70％、80％、90％和95％六种浓度)的乙醇溶液对样品进行脱水处理，每种浓度处理15min，再用100％的乙醇处理两次，每次20min。用等体积比的乙醇与醋酸异戊酯的混合液处理样品30min，再用纯醋酸异戊酯处理样品，放置过夜后临界点干燥。采用真空蒸键金膜技术对试件表面喷金后，SEM观察试件表面细菌形态和分布。
结果如图6、图7、图8、图9和图10所示。相比于TC4组，TiO2-100nm组表面P.gingivalis、S.aureus和S.mutans的黏附量下降了至少50％(图6)；P.gingivalis、S.aureus和S.mutans的活力下降了至少50％(图7)。TC4组的P.gingivalis、S.aureus和S.mutans黏附数量比TiO2-100nm组多，对于P.gingivalis，TC4组细菌堆积，相互连接聚集成片，SEM高倍镜下(×10.00K)见试件基底表面基本被细菌菌体覆盖，TiO2-100nm组细菌黏附较少，多呈分散排列，细菌形态未见明显改变(图8)；对于S.aureus，TC4组部分细菌呈“葡萄状”聚集分布，细菌多呈圆球状、形态饱满且包膜完整，而TiO2-100nm组细菌黏附数量均明显减少，细菌形态未观察到明显变化(图9)；对于S.mutans，TC4组表面细菌黏附较多，细菌堆积、呈链状重叠交错排列，细菌形态饱满、包膜完整、表面光滑，而TiO2-100nm组细菌黏附量减少，细菌呈链状分散排列，细菌形态未见明显改变(图10)。
材料表面黏附细菌的数量和活力的下降与钛合金基台材料表面性质的改善紧密相关。经ALD制备纳米TiO2涂层后，材料表面较深且较大的沟壑、孔隙被覆盖，粗糙度呈减小趋势，疏水性升高，从而减小了提供细菌黏附的表面积，降低了细菌免受剪切力作用的能力，减少细菌在材料表面的生长和繁殖。再者，因ALD是一种纳米涂层制备技术，钛合金基台材料经ALD制备纳米TiO2涂层后表面存在致密排列的纳米粒子，这种表面纳米结构的增加，可以通过减少细菌对材料的锚定点和增加纤维连接蛋白的吸附，降低细菌的黏附与增殖。此外，钛合金基台材料表面经ALD制备纳米TiO2涂层为锐钛矿相，相比与对照组的钛合金材料表面自发形成的一层无定形的TiO2薄膜，锐钛矿相已被证实具有抗菌活性，能够减少细菌的黏附和生长。
实施例5
以实施例2制备得到的种植基台(TiO2-100nm)和未涂布纳米TiO2涂层的钛合金基台(TC4)进行生物相容性检测，具体方法为：
1、细胞毒性检测
(1)将TC4和TiO2-100nm组试件分别置于5mL无菌离心管中，每管1片试件作为1个样本，每组36个样本即36管。根据游标卡尺测量得到的数据，计算试件的表面积为2.199cm2。参考ISO 10993-5:2009和ISO 10993-12:2012标准，按照试件表面积与浸提液体积之比为3cm2:1mL，加入733μL完全细胞培养液(含10％胎牛血清(Fetal bovine serum，FBS)、100U/mL青霉素和0.1mg/mL链霉素的DMEM培养液，静置于37℃恒温条件下浸提72h，同时将同一批次相同体积的完全细胞培养液放置在相同条件下作为阴性对照(Control)组。
(2)收集对数生长期的第4～5代人牙龈成纤维细胞(从人牙龈组织采集、分离、培养、冻存所得)，使用完全细胞培养液制备成细胞密度为4.0×104个细胞/mL的细胞悬液，并以100μL/孔(即4.0×103个细胞/孔)的密度将细胞接种于96孔培养板，每块板接种18个孔，共接种3块板，每块培养板边缘一圈孔打入100μL PBS溶液防止中央孔液体挥发，置于CO2培养箱中培养24h，使细胞完全贴壁。
(3)待细胞完全贴壁后，吸除旧培养液，用制备好的浸提液进行置换，Control组为同期放置的完全细胞培养液，每组6个复孔，每孔100μL，并设置6孔的空白对照组，空白对照组为不含细胞的完全细胞培养液。每块板均有实验组、阴性对照组和空白对照组，置换后3块板继续置于CO2培养箱中培养，分别培养24、48和72h。
2、细胞凋亡检测
(1)收集对数生长期的第4～5代人牙龈成纤维细胞(从人牙龈组织采集、分离、培养、冻存所得)，使用完全细胞培养液制备成细胞密度为4.0×104个细胞/mL的细胞悬液，并以2.5mL/孔(即1.0×105个细胞/孔)的密度将细胞接种于6孔培养板，每组6个复孔，共接种18个孔，置于CO2培养箱(37℃，5％CO2，95％饱和湿度)中培养24h，使细胞完全贴壁。
(2)待细胞完全贴壁后，吸除旧培养液，TiO2-100nm和TC4组分别上述制备好的浸提液进行置换，Control组为同期放置的完全细胞培养液，每组6个复孔，每孔2.5mL，继续置于CO2培养箱中培养72h。
(3)细胞培养72h后，每孔细胞加入200μL胰蛋白酶进行消化，每孔细胞分别收集细胞悬液并进行计数，消化过程中动作轻柔。按照Annexin V-FITC/PI试剂盒的要求，用4℃预冷的PBS溶液清洗细胞2次后，加入4℃预冷的1X结合缓冲液(1X Binding Buffer：事先将试剂盒中的10X Binding Buffer与蒸馏水进行稀释得到)轻柔重悬细胞，调整细胞浓度为1.0×106个细胞/mL，吸取100μL细胞悬液(含1.0×105个细胞)至1.5mLEP管，每孔吸取4管(分别为1个空白管、2个单染管和1个双染管)。之后于避光条件下在双染管中加入5μL AnnexinV-FITC试剂和5μL PI试剂，2个单染管分别加入5μL Annexin V-FITC试剂和5μL PI试剂，空白管中不加任何试剂。轻轻混匀后，室温条件下避光孵育15min后，于每个EP管内加入400μL预冷的1X Binding Buffer轻轻混匀，于1h内用流式细胞仪(Flow cytometry，FCM)进行检测。
结果如图11、图12所示，各组OD值均随培养时间的延长而增加，TC4组与TiO2-100nm组的浸提液培养人牙龈成纤维细胞24、48和72h后的细胞相对增殖率均大于90％，根据ISO 10993-5:2009标准可认为纳米TiO2涂层无潜在的细胞毒性。此外，TC4组与TiO2-100nm组的细胞相对增殖率随培养时间的延长而略微下降，培养48h后，TC4组的OD值低于Control组，差异具有统计学意义；培养72h后，TC4组的OD值低于Control组及TiO2-100nm组，差异同样具有统计学意义。再者，Calcein-AM/PI细胞活死染色结果同样显示，随着培养时间的延长，各组活细胞数目均明显增加而死细胞数目仅轻微增加；此外与Control组相比，TC4组与TiO2-100nm组均展现出相对良好的增殖活性。TC4组的早期凋亡率和晚期凋亡/坏死率均高于TiO2-100nm组及Control组，差异具有统计学意义；TiO2-100nm组的早期凋亡率和晚期凋亡/坏死率与Control组之间无统计学差异。其中，经ALD制备的纳米TiO2涂层所具备的屏障作用可引起钛基台材料金属离子析出减少，是导致TiO2-100nm组相对TC4组细胞增殖率增高、细胞凋亡/坏死率降低的原因之一。
实施例6
以实施例2制备得到的种植基台(TiO2-100nm)和未涂布纳米TiO2涂层的钛合金基台(TC4)进行抗腐蚀性能检测，具体方法为：
1、浸泡腐蚀测试
(1)将试件根据人工唾液pH值分为中性(pH＝6.8±0.2)、酸性(乳酸调节pH＝2.3±0.2)2组后，再根据试件表面有无涂布纳米TiO2涂层、3个浸提时间点(1w、4w、7w)分为6个亚组(共12组，每组6片)分别置于无菌离心管中，据ISO-10271-2011，每管加入2.199mL的人工唾液(试件表面积/培养液体积＝1cm2/1mL)，严密封口，静置于37.4℃恒温箱中持续浸提1w、4w、7w。设置同样体积的中性和酸性人工唾液空白对照组6组，每组各6管，同样于37℃恒温箱中分别静置1w、4w、7w。所得浸提液共108管(共18组，每组6管)，用于ICP-MS检测。
(2)制备待测样品：将制得的浸提液用一级水定容至3mL，盖上管盖，封口膜封口，防止液体蒸发，检测前放置于4℃冰箱待用；标准样品的配制：上机测量前精确吸取1.000mL标准溶液，以纯水稀释定容至100mL容量瓶中，得浓度为10.0mg/L标准中间液，再准确吸取标准中间液用纯水定容，得浓度为0，1，5，10，20，50，100，200μg/L的标准样品溶液；开机，抽真空，检查管线并开启氩气；点火，调谐；标准曲线测定：仪器达最佳真空状态后，点火，稳定后用调谐液调整仪器各项指标，时仪器灵敏度、氧化物、双电荷、分辨率等指标达到测定要求后，编辑方法，选择合适的干扰方程，按照试件的成分表选定待测定的金属元素：Ti、Al、V，绘制标准曲线，计算回归方程；测定样品：将样品顺序置于自动上样机的样品架上，依次上样，每份样品进样3次，取均值，采集数据给出各种待测元素的测定浓度结果(单位：μg/L)；关机。
2、电化学腐蚀测试
以人工唾液(pH＝6.8、2.3)为腐蚀介质，铂片电极为辅助电极，饱和甘汞电极为参比电极，待测试件为工作电极，建立三电极反应体系，在37℃条件下采用Autolab电化学工作站进行电化学测试。进行电化学阻抗谱测试时设定测试频率范围为10-2～105Hz，激励信号为振幅10mV的正弦波，通过Zsimpwin软件建立等效电路并对数据进行分析拟合；进行动电位极化曲线测试时先将试件浸泡在人工唾液(pH＝6.8、2.3)中测量开路电位，待开路电位稳定后以10mV/s的扫描速率从开路电位-0.15V扫描至开路电位+4V。
结果如图13、图14和图15所示，TC4组与TiO2-100nm组在pH＝2.3的浸提液中的离子析出浓度均大于pH＝6.8的浸提液中的析出浓度；不同时间点的离子析出总浓度从高到低为：TC4(pH＝2.3)>TiO2-100nm(pH＝2.3)>TC4(pH＝6.8)>TiO2-100nm(pH＝6.8)，提示钛基台材料和纳米TiO2涂层在酸性条件下的抗腐蚀性均有所下降，这是由于pH值的降低加速了H+的还原过程，促进表面氧化膜的溶解并延缓其生成，导致离子析出浓度增加此外，TiO2-100nm组在两种pH人工唾液中的离子析出浓度均低于TC4组，表明纳米TiO2涂层可起到屏障作用，减少钛基台材料的离子析出，增强其抗腐蚀能力。此外，钛基台材料表面通过ALD制备纳米TiO2涂层后粗糙度呈减小趋势，在一定程度上降低了其与腐蚀介质的接触面积以及表面的氧浓度差，从而增强了钛基台材料的抗腐蚀性。
与TC4组相比，TiO2-100nm组在两种pH人工唾液中的Rfilm及Rct均有所增大(P均<0.05)，提示在钛基台材料表面通过ALD制备的纳米TiO2涂层可提升钛基台材料的抗腐蚀性，而随着pH的降低，TC4组和TiO2-100nm的Rfilm及Rct均有所减小(P均<0.05)，表明酸性条件下材料的抗腐蚀性能有所下降。与TC4组相比，TiO2-100nm组的Ecorr变正，Icorr减小，Rp增大，提示纳米TiO2涂层较钛基台材料更不易发生腐蚀且腐蚀速率较慢；此外，TC4组与TiO2-100nm组在pH＝2.3的人工唾液中的Ecorr变负，Icorr增大，Rp减小，表明酸性条件下纳米TiO2涂层及钛基台材料的抗腐蚀性能均有所下降。这是由于经ALD制备的纳米TiO2涂层比钛合金基台材料表面的天然氧化膜更加致密，抗腐蚀力更强。
综上，本发明提供的技术方案可在种植基台表面制备出不同厚度的纳米TiO2涂层，以硅片作为陪片间接测定涂层厚度为25～250nm，基台表面的纳米TiO2涂层呈现出不同的颜色，涂层颜色均匀、光泽度好和可重复性高等；随着纳米TiO2涂层厚度的增加，基台的抗腐蚀性能提高，有利于基台抵抗口腔复杂环境的电化学腐蚀和微生物腐蚀；经原子层沉积技术制备的纳米TiO2涂层能够使基台获得良好的抗菌性能，有利于减少种植体周炎的发生；经原子层沉积技术制备的纳米TiO2涂层降低了铝和钒等具有一定细胞毒性的离子的析出，提高了基台的生物安全性。
需要说明的是，尽管在本文中已经对上述各实施例进行了描述，但并非因此限制本发明的专利保护范围。因此，基于本发明的创新理念，对本文所述实施例进行的变更和修改，或利用本发明说明书及附图内容所作的等效结构或等效流程变换，直接或间接地将以上技术方案运用在其他相关的技术领域，均包括在本发明的专利保护范围之内。
Claims (10)
1.一种种植基台的表面处理工艺，采用原子层沉积工艺，其特征在于，包括以下步骤：
提供衬底：将预设好的种植基台支架、种植基台螺丝孔通道封闭塞，修复基台或者愈合基台依序组装好并悬空固定设置于原子层沉积反应仓内，所述修复基台包括相适配的种植体连接区、第一穿龈区和修复体连接区，所述愈合基台包括第二穿龈区，将所述第一穿龈区和修复体连接区的连接组件或所述第二穿龈区暴露于原子层沉积反应仓内；
抽真空：打开真空泵，使反应仓保持真空状态；
加热：设置原子层沉积设备反应参数，使反应仓加热到165℃～350℃的一个或多个温度；
注入前驱体：将前驱体引入所述原子层沉积设备的管道中，所述前驱体包括钛前驱体和氧前驱体；
锚定初始涂层：将所述钛前驱体以脉冲方式进入反应仓内后并暴露一定时长以在所述愈合基台或所述修复基台上锚定初始涂层；
第一次吹扫：通入高纯惰性气体吹扫所述反应仓内来自所述形成锚定初始涂层步骤的任何未消耗的所述钛前驱体和/或前一次的反应副产物；
形成纳米TiO2涂层：将所述氧前驱体以脉冲方式进入反应仓内后并暴露一定时长以与所述初始涂层反应形成所述纳米TiO2涂层；
第二次吹扫：通入高纯惰性气体吹扫所述反应仓内来自所述形成纳米TiO2涂层步骤的任何未消耗的所述氧前驱体和/或所述形成纳米TiO2涂层步骤的反应副产物；
重复自所述锚定初始涂层步骤至所述第二次吹扫步骤500～5000次以使所述纳米TiO2涂层达到预定厚度。
2.根据权利要求1所述的表面处理工艺，其特征在于，重复自所述锚定初始涂层步骤至所述第二次吹扫步骤1000～3000次。
3.根据权利要求1所述的表面处理工艺，其特征在于，所述愈合基台或修复基台为钛合金材质。
4.根据权利要求1所述的表面处理工艺，其特征在于，所述愈合基台或修复基台在所述提供衬底步骤前还经抛光、清洗和干燥预处理，所述清洗为依次采用丙酮、无水乙醇和去离子水清洗，所述干燥为先用压缩空气吹干再置于种植基台烘干支架上，采用真空干燥机进行干燥。
5.根据权利要求1所述的表面处理工艺，其特征在于，所述钛前驱体选自高纯四氯化钛或高纯四(二甲氨基)钛，所述氧前驱体选自去离子水或臭氧。
6.一种种植基台，其上覆有预定厚度的纳米TiO2涂层，其特征在于，所述预定厚度的纳米TiO2涂层由权利要求1至5中任一项所述表面处理工艺处理得到。
7.根据权利要求6所述的种植基台，其特征在于，所述预定厚度为50nm～150nm。
8.根据权利要求7所述的种植基台，其特征在于，所述预定厚度为100nm。
9.根据权利要求6所述的种植基台，其特征在于，所述纳米TiO2涂层呈现黄色调。
10.根据权利要求6所述的种植基台，其特征在于，所述纳米TiO2涂层抗菌率大于50％。
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Citations (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN101978472A (zh) * | 2008-01-18 | 2011-02-16 | 纳米表面技术有限责任公司 | 纳米膜保护和释放基质 |
| US20150118649A1 (en) * | 2013-10-25 | 2015-04-30 | National Taiwan University | Surface treatment method for implant |
| RU2554819C1 (ru) * | 2014-04-16 | 2015-06-27 | Общество с ограниченной ответственностью "КОНМЕТ" | Способ получения биоактивного покрытия на имплантируемом в костную ткань человека титановом имплантате |
| CN107815665A (zh) * | 2016-09-14 | 2018-03-20 | 中国科学院上海硅酸盐研究所 | 一种二氧化钛薄膜及其制备方法和应用 |
| CN113440653A (zh) * | 2021-07-01 | 2021-09-28 | 山西医科大学口腔医院 | 一种促进骨结合的钛基种植体及其制备方法和应用 |
-
2023
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Patent Citations (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN101978472A (zh) * | 2008-01-18 | 2011-02-16 | 纳米表面技术有限责任公司 | 纳米膜保护和释放基质 |
| US20150118649A1 (en) * | 2013-10-25 | 2015-04-30 | National Taiwan University | Surface treatment method for implant |
| RU2554819C1 (ru) * | 2014-04-16 | 2015-06-27 | Общество с ограниченной ответственностью "КОНМЕТ" | Способ получения биоактивного покрытия на имплантируемом в костную ткань человека титановом имплантате |
| CN107815665A (zh) * | 2016-09-14 | 2018-03-20 | 中国科学院上海硅酸盐研究所 | 一种二氧化钛薄膜及其制备方法和应用 |
| CN113440653A (zh) * | 2021-07-01 | 2021-09-28 | 山西医科大学口腔医院 | 一种促进骨结合的钛基种植体及其制备方法和应用 |
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