CN116264178A - 基板处理设备和方法 - Google Patents

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Abstract

提供了一种基板处理设备和一种基板处理方法，所述方法包括：在使处理液通过联接到储罐的壳体的循环管线而在所述壳体中循环时，用安装在所述循环管线中的加热器单元加热所述处理液，以调整所述处理液的温度；通过由所述加热器单元将所述处理液加热到比所述处理液中含有的水的温度高的温度来蒸发所述壳体中的所述处理液中的水，以调整所述处理液中含有的化学液的浓度；以及将温度和浓度受控制的所述处理液供应到基板以处理所述基板，其中通过将气体供应到流过所述循环管线的所述处理液中来加速从所述壳体中储存的所述处理液中蒸发水。

Description

基板处理设备和方法
技术领域
本发明涉及一种基板处理方法和一种基板处理设备，并且更特别地，涉及一种用于通过将温度和浓度受调整的处理液供应到基板来处理基板的基板处理设备。
背景技术
半导体工艺包括清洁在基板上的薄膜、异物、颗粒等的工艺。这些工艺通过将基板放置在旋转头上以使得图案侧面向上或面向下、在使旋转头旋转的同时将处理液供应到基板并然后干燥晶圆来执行。
最近，使用高温液体诸如磷酸水性溶液作为处理液。例如，磷酸水性溶液包括磷酸和水。液体供应单元具有供应储罐、液体供应管线和喷嘴。供应储罐被调整为使得磷酸水性溶液的温度和磷酸浓度满足工艺条件。例如，供应到基板的磷酸水性溶液的温度可以是约150℃至180℃，并且在磷酸水性溶液中的磷酸的浓度可以是约85％至95％。具有所调整的浓度和温度的磷酸水性溶液通过液体供应管线从供应储罐供应到喷嘴。
图1是示意性地示出供应储罐900的示例的图示。参考图1，供应储罐900具有壳体920和循环管线940。另外，壳体920连接有液体入口管线960、废液排放管线950和排气管线970，液体通过该液体入口管线从外部供应到壳体920，该废液排放管线用于排放壳体920中的废液，并且该排气管线用于排放在壳体920中蒸发的水蒸气。
泵942和加热器944安装在循环管线940中。在壳体920中的磷酸水性溶液在沿循环管线940流动时由加热器944加热。磷酸水性溶液的温度通过由加热器944加热来调整到设定温度。另外，磷酸水性溶液中的磷酸的浓度通过由加热器944加热以蒸发水来进行调整。
磷酸水性溶液中的水的蒸发主要是在壳体920内执行。由于储存在壳体920中的磷酸水性溶液被加热到比水的沸点高的温度，因此水从磷酸水性溶液的水表面蒸发，并且当壳体920中的压力因水的蒸发而增大时，水蒸气通过排气管线970排放。
然而，如上所述，虽然水的蒸发仅在磷酸水性溶液的水表面处进行，但要5将磷酸水性溶液中的磷酸的浓度调整到设定浓度需要花费较长时间。
发明内容
本发明致力于提供一种能够在通过将调整温度和浓度的处理液供应到基板来处理基板时提高基板处理效率的基板处理设备和方法。
0本发明还致力于提供一种能够减少调整处理液的浓度在其中通过水的蒸发来调整的供应贮槽结构中的处理液的浓度所需的时间的基板处理设备和方法。
本发明的目的不限于此，并且本领域的普通技术人员将从以下描述中清楚地理解未提及的其他目的。
本发明的一个示例性实施例提供了一种用于基板处理设备，所述设备包括：5杯部，在所述杯部中提供处理空间；支撑单元，所述支撑单元用于在所述处理
空间中支撑基板和旋转所述基板；喷嘴，所述喷嘴用于将处理液供应到所述基板；以及液体供应单元，所述液体供应单元用于将所述处理液供应到所述喷嘴。
所述液体供应单元包括用于储存所述处理液的储罐，并且所述储罐包括：壳体，
所述壳体具有用于在其中储存所述处理液的空间；循环管线，所述循环管线联0接到所述壳体以使所述处理液在所述壳体中循环；加热器单元，所述加热器单元安装在所述循环管线中以加热所述处理液；以及第一气体供应管线，所述第一气体供应管线连接到所述循环管线以将第一气体供应到所述循环管线中。
根据示例性实施例，所述第一气体供应管线可在所述加热器单元的下游连接到所述循环管线。
5根据示例性实施例，所述循环管线可包括：第一管线，所述第一管线的纵
向方向设置在竖直方向上；第二管线，所述第二管线从所述第一管线延伸并连接到所述壳体，以便设置在所述第一管线的上游；以及第三管线，所述第三管线从所述第一管线延伸并联接到所述壳体，以便设置在所述第一管线的下游，并且所述第一气体供应管线可连接到所述第三管线。
根据示例性实施例，所述循环管线可具有位置比所述壳体中的所述处理液的液位低的出口。
根据示例性实施例，所述第一气体可在加热状态下供应到所述循环管线中。
根据示例性实施例，所述第一气体可以与由在所述循环管线中的所述加热器单元加热的所述处理液的温度相同的温度供应到所述循环管线中。
根据示例性实施例，所述第一气体可在室温状态下供应到所述循环管线中。
根据示例性实施例，所述液体供应单元还可包括第二气体供应管线，所述第二气体供应管线联接到所述壳体，以便将第二气体供应到所述壳体中。
根据示例性实施例，所述第二气体供应管线可被提供用于将所述第二气体供应到比所述壳体中储存的所述处理液的液位高的位置。
根据示例性实施例，所述第二气体可以是低湿度气体。
根据示例性实施例，所述处理液可包括化学液和水，并且所述加热器单元可将所述处理液加热到高于水的沸点的温度。
根据示例性实施例，所述处理液可以是磷酸水性溶液。
本发明的另一个示例性实施例提供了一种用于基板处理设备，所述设备包括：杯部，在所述杯部中提供处理空间；支撑单元，所述支撑单元用于在所述处理空间中支撑基板和旋转所述基板；喷嘴，所述喷嘴用于将处理液供应到所述基板；以及液体供应单元，所述液体供应单元用于将浓度和温度受控制的处理液供应到喷嘴，其中所述处理液包括化学液和水，并且所述液体供应单元包括：壳体，所述壳体具有用于在其中储存所述处理液的空间；循环管线，所述循环管线联接到所述壳体以使所述处理液在所述壳体中循环，并且包括位置比所述壳体中的所述处理液的液位低的出口；加热器单元，所述加热器单元安装在所述循环管线中并用于将所述处理液加热到比所述水的沸点高的温度；以及气体供应管线，所述气体供应管线直接连接到所述循环管线以将气体供应到所述循环管线中。
根据示例性实施例，所述气体供应管线可在所述加热器单元的下游连接到所述循环管线。
根据示例性实施例，用于加热所述第一气体的加热器可安装在所述气体供应管线中。
本发明的又一个示例性实施例提供了一种基板处理方法，所述方法包括：在使处理液通过联接到储罐的壳体的循环管线而在所述壳体中循环时，用安装在所述循环管线中的加热器单元加热所述处理液，以调整所述处理液的温度；通过由所述加热器单元将所述处理液加热到比所述处理液中含有的水的温度高的温度来蒸发所述壳体中的所述处理液中的水，以调整所述处理液中含有的化学液的浓度；以及将温度和浓度受控制的所述处理液供应到基板以处理所述基板，其中通过将气体供应到流过所述循环管线的所述处理液中来加速从所述壳体中储存的所述处理液中蒸发水。
根据示例性实施例，流过所述循环管线的所述处理液和所述气体可排放到比所述壳体中储存的所述处理液的液位低的位置。
根据示例性实施例，所述气体可在加热状态下供应到所述循环管线中。
根据示例性实施例，所述气体可以与由所述加热器单元加热的所述处理液的温度相同的温度供应到所述循环管线中。
根据示例性实施例，所述处理液可以是磷酸水性溶液。
根据本发明的示例性实施例，当通过将温度和浓度受控制的处理液供应到基板来处理基板时，可提高基板处理效率。
根据本发明的示例性实施例，可缩短调整处理液的浓度在其中通过水的蒸发来调整的供应贮槽结构中的处理液的浓度所需的时间。
本发明的效果不限于前述效果，并且本领域技术人员可从本说明书和附图清楚地理解未提及的效果。
附图说明
图1是示意性地示出一般的液体供应单元的结构的图示。
图2是示意性地示出根据本发明的示例性实施例的基板处理设备的顶平面图。
图3是示意性地示出图2的液体处理室的示例性实施例的图示。
图4是示意性地示出根据本发明的示例性实施例的液体供应单元的示例的图示。
图5是示意性地示出图4的加热器单元的示例的图示。
图6是示意性地示出图4的液体供应单元中的磷酸水性溶液和气体的流的图示。
图7是示意性地示出图4的液体供应单元的另一个示例性实施例的图示。
图8是示意性地示出图7的液体供应单元中的磷酸水性溶液和气体的流的图示。
图9和图10分别是示意性地示出液体供应单元和液体处理室的联接状态的图示。
具体实施方式
在下文中，将参考附图更详细地描述本发明的示例性实施例。可以各种形式修改本发明的示例性实施例，并且本发明的范围不应被解释为限于以下示例性实施例。提供本示例性实施例以向本领域普通技术人员更完整地解释本发明。因此，附图中的元件的形状被放大以强调更清晰的描述。
图2是示意性地示出根据本发明的示例性实施例的基板处理设备的顶平面图。
参考图2，基板处理设备包括转位模块10、处理模块20和控制器30。根据示例性实施例，转位模块10和处理模块20沿一个方向设置。在下文中，设置转位模块10和处理模块20的方向被称为第一方向92，并且当从上方观察时，垂直于第一方向92的方向被称为第二方向94，并且垂直于第一方向92和第二方向94两者的方向被称为第三方向96。
转位模块10将基板W从容纳基板W的容器80传送到处理模块20，并且使已经在处理模块20中完全处理的基板W容纳在容器80中。转位模块10的纵向方向设置在第二方向94上。转位模块10包括装载端口12和转位框架14。基于转位框架14，装载端口12位于与处理模块20相反的侧处。容纳基板W的容器80放置在装载端口12上。可设置多个装载端口12，并且该多个装载端口12可设置在第二方向94上。
作为容器80，可使用气密容器，诸如前开式晶圆传送盒(FOUP)。容器80可通过运输装置(未示出)(诸如高处传送装置、高处输送器或自动引导载具)或由操作员放置在装载端口12上。
对转位框架14设置转位机器人120。在转位框架14内设置导轨140，该导轨的纵向是第二方向94，并且转位机器人120可设置为可在导轨140上移动。转位机器人120包括手122，基板W放置在该手上，并且手122可设置为可前后移动，可基于第三方向96作为轴线进行旋转，并且可在第三方向96上移动。多个手322被设置为在竖直方向上间隔开，并且手322可彼此独立地前后移动。
处理模块20包括缓冲单元200、传送室300和处理室400。缓冲单元200提供供装载到处理模块20的基板W和从处理模块20卸载的基板W临时停留的空间。处理室400通过将液体供应到基板W上来执行对基板W进行液体处理的处理工艺。传送室300在缓冲单元200与液体处理室400之间传送基板W。
传送室300可被设置成使得纵向方向是第一方向92。缓冲单元200可设置在转位模块10与传送室300之间。提供多个液体处理室400，并且该多个液体处理室可设置在传送室300的侧部上。液体处理室400和传送室300可设置在第二方向94上。缓冲单元220可位于传送室300的一端处。
根据示例，液体处理室400可设置在传送室300的两侧处。在传送装置300的两侧中的每一侧处，液体处理室400可在第一方向92和第三方向96上以A×B(A和B中的每一者是1或大于1的自然数)的阵列提供。
传送室300具有传送机器人320。具有在第一方向92上的纵向方向的导轨340设置在传送室300中，并且传送机器人320可设置为可在导轨340上移动。传送机器人320包括手322，基板W放置在该手上，并且手322可设置为可前后移动，可基于第三方向96作为轴线进行旋转，并且可在第三方向96上移动。多个手322被设置为在竖直方向上间隔开，并且手322可彼此独立地前后移动。
缓冲单元200包括多个缓冲器220，基板W放置在该缓冲器上。缓冲器220可设置为在第三方向96上彼此间隔开。缓冲单元200的前面和后面是开放的。前面是面对转位模块10的表面，而后面是面对传送室300的表面。转位机器人120可通过前面接近缓冲单元200，并且传送机器人320可通过后面接近缓冲单元200。
图3是示意性地示出图2的液体处理室400的示例性实施例的图示。参考图3，液体处理室400包括壳体410、杯部420、支撑单元440、喷嘴单元460、提升单元480、供应单元和控制器。
壳体410设置为大致长方体形状。杯部420、支撑单元440和液体供应单元460设置在壳体410中。
杯部420具有带有开放顶部的处理空间，并且在处理空间中对基板W进行液体处理。支撑单元440在处理空间中支撑基板W。液体供应单元460将液体供应到由支撑单元440支撑的基板W上。液体可以多种类型提供，并且可按顺序供应到基板W上。提升单元480调整杯部420与支撑单元440之间的相对高度。
根据一个示例，杯部420包括多个回收容器422、424和426。回收容器422、424和426中的每一者具有回收空间来回收用于处理基板的液体。回收容器422、424和426中的每一者以包围支撑单元440的环形形状设置。当液体处理工艺在进行中时，通过基板W的旋转分散的处理液可通过稍后描述的相应回收容器422、424和426的入口422a、424a和426a引入到回收空间中。根据一个示例，杯部420包括第一回收容器422、第二回收容器424和第三回收容器426。第一回收容器422被设置为包围支撑单元440，第二回收容器424被设置为包围第一回收容器422，并且第三回收容器426被设置为包围第二回收容器424。第二入口424a可位于第一入口422a上方，液体通过第二入口424a引入第二回收容器424中，液体通过第一入口422a引入第一回收容器422中，并且第三入口426a可位于第二入口424a上方，液体通过第三入口426a引入第三回收容器426中。
支撑单元440包括支撑板442和驱动轴444。支撑板442的上表面可设置为大体圆形形状，并且可具有大于基板W直径的直径。支撑基板W的后表面的支撑销442a设置到支撑板442的中心部分，并且支撑销442a的上端设置为从支撑板442突出，使得基板W与支撑板442间隔开预定距离。吸盘销442b设置到支撑板442的边缘。吸盘销442b设置为从支撑板442向上突出，并且支撑基板W的外侧部，使得在基板W旋转时，基板W不会从支撑单元440分离。驱动轴444由驱动器446驱动，连接到基板W的底表面的中心，并使支撑板442基于其中心轴线旋转。
喷嘴单元460具有第一喷嘴462和第二喷嘴464。第一喷嘴462将处理液供应到基板W上。处理液可以是温度高于室温的液体。根据一个示例，处理液可以是磷酸水性溶液。磷酸水性溶液可以是磷酸和水的混合物。任选地，磷酸水性溶液还可含有其他物质。例如，其他材料可以是硅。第二喷嘴464将水供应到基板W上。水可以是纯水或去离子水。
第一喷嘴462和第二喷嘴464分别被支撑在不同臂461上，并且这些臂461可独立地移动。任选地，第一喷嘴462和第二喷嘴464可安装在相同的臂上并同时地移动。
任选地，除了第一喷嘴462和第二喷嘴464之外，液体供应单元还可包括一个或多个喷嘴。附加喷嘴可向基板供应不同类型的处理液。例如，其他类型的处理液可以是用于去除基板上的异物的酸溶液或碱溶液。此外，另一类型的处理液可以是具有比水的表面张力低的表面张力的醇。例如，该醇可以是异丙醇。
提升单元480使杯部420在竖直方向上移动。通过杯部420的竖直移动，杯部420与基板W之间的相对高度发生改变。因此，由于用于回收处理液的回收容器422、424和426根据供应到基板的液体的类型改变，所以液体可被分离和收集。与上述不同，杯部420固定地安装，并且提升单元480可在竖直方向上移动支撑单元440。
液体供应单元1000将处理液供应到第一喷嘴462。在下文中，其中处理液是磷酸水性溶液的情况将作为示例进行描述。
图4是示意性地示出根据本发明的示例性实施例的液体供应单元的示例的图示。参考图4，液体供应单元1000包括供应储罐1200。供应储罐1200包括壳体1220和循环管线1240。
壳体1220设置为长方体或圆柱体形状。壳体1220具有储存磷酸水性溶液的空间。
入口管线1420和出口管线1440连接到壳体1220。阀(未示出)安装在入口管线1420和出口管线1440中的每一者中。磷酸水性溶液通过入口管线1420引入到壳体1220中。磷酸水性溶液可以低于用于基板处理的设定温度的温度下通过入口管线1420引入到壳体1220中。另外，磷酸水性溶液可以低于用于基板处理的磷酸的设定浓度的浓度通过入口管线1420引入到壳体1220中。任选地，磷酸水性溶液可以磷酸水性溶液被控制到设定温度和设定浓度的状态通过入口管线1420引入到壳体1220中，并且温度和浓度受调整的处理液通过出口管线1440从壳体1220供应到外部。入口管线1420和出口管线1440中的每一者可通过壳体1220的上壁联接到壳体1220。
废液管线1460连接到壳体1220。阀(未示出)安装在废液管线1460中。当磷酸水性溶液在重复使用达一定次数或一定时间之后被丢弃时，在壳体1220中的磷酸水性溶液通过废液管线1460排放到壳体1220的外部。
磷酸补给管线1482和水补给管线1484可连接到壳体1220。在磷酸补给管线1482和水补给管线1484中安装有阀(未示出)。磷酸补给管线1482可将磷酸补给到被引入到壳体1220中的磷酸水性溶液中，并且水补给管线1484可将水补给到被引入到壳体1220中的磷酸水性溶液中。磷酸和水的补给可基于由设置在壳体1220中的液位测量传感器1222测量的磷酸水性溶液的液位来进行。任选地，在重复使用磷酸水性溶液达一定次数或一定时段并将磷酸水性溶液从壳体1220排放之后，可补给磷酸和水。当磷酸水性溶液中含有硅酮时，还可连接硅酮补给管线148。
通气管线1490连接到壳体1220。通气管线1490将从储存在壳体1220中的磷酸水性溶液蒸发的水蒸气排放到壳体1220的外部。通气管线1490联接到壳体1220的上表面。通气管线1490具有比其他管线小的直径。当壳体1220的内部压力大于或等于预定压力时，在壳体1220中的气体可通过通气管线1490排放。
在上述示例中，废液管线1460和出口管线1440中的每一者被示出为连接到壳体1220。然而，与此不同，废液管线1460和出口管线1440可连接到循环管线1240。
循环管线1240连接到壳体1220。根据示例，循环管线1240的一端用作入口1240a并联接到壳体1220的底表面。循环管线1240的另一端用作出口1240b并浸没在壳体1220中的磷酸水溶液中。任选地，循环管线1240的另一端可位于高于储存在壳体1220中的磷酸水溶液的液位的位置。
泵单元1500和加热器单元1600安装在循环管线1240上。泵单元1500提供促使壳体1220中的磷酸水性溶液在循环管线1240中流动的流动压力。加热器单元1600加热在循环管线1240中流动的磷酸水性溶液。根据示例，加热单元1600被控制以将磷酸水性溶液加热到设定温度。设定温度可以是约150℃至180℃。
图5是示意性地示出加热器单元1600的图示。
参考图5，加热器单元1600包括主体1620和加热器1640。加热器1640位于主体1620内部。主体1620设置有第一端口1622和第二端口1624。磷酸水性溶液通过第一端口1622流入加热器单元1600并通过第二端口1624从加热器单元1600排放到外部。主体1620中形成有供磷酸水性溶液流经的流动路径1660。流动路径1660连接到第一端口1622和第二端口1624。根据示例，流动路径1660可包括流入路径1662、出口路径1664和连接路径。第一端口1622位于流入路径1662的一端处，并且第二端口1624位于出口路径1664的一端处。连接路径1666连接流入路径1662和出口路径1664。流入路径1662和出口路径1664可设置成彼此面对。流入路径1662和出口路径1664可彼此平行定位并彼此间隔开预定距离。加热器1640可位于由流入路径1662、出口路径1664和连接路径1666包围的空间中。加热器单元1600的结构不限于此并可进行各种改变。
循环管线1240包括第一管线1242、第二管线1244和第三管线1246。第一管线1242位于壳体1220外部。根据示例，第一线1242可位于基本上竖直的方向上。设置在加热器单元1600中的流动路径1660可设置为第一管线1242的一部分。第二管线1244包括循环管线1240的入口1240a。第二管线1244从第一线1242的下端延伸并联接到壳体1220的下表面。第三管线1246包括循环管线1240的出口1240b。第三管线1246从第一线1242的上端延伸并穿过壳体1220的上表面联接到壳体1220。第三管线1246中的出口1240b可浸没在储存于壳体1220中的磷酸水性溶液中。阀V1可安装在第二管线1244中，并且阀V2可安装在第三管线1246中。
根据示例，加热器单元1600可安装在第一管线1242中，并且泵单元1500可安装在第二管线1244中。
供应储罐1200设置有气体供应管线1800。气阀V3安装在气体供应管线1800上。在一个示例中，气体供应管线1800联接到循环管线1240。气体供应管线1800将气体引入到流过循环管线1240的处理液中。气体促进壳体1220内的磷酸水性溶液中包含的水的蒸发。
气体供应管线1800可在加热器单元1600下游连接到循环管线1240。气体供应管线1800可连接到第三管线1246。气体可以是空气。替代地，可使用惰性气体诸如氮气作为气体。加热器可安装在气体供应管线1800中。气体可在由加热器加热的同时被供应到循环管线1240。这可以使得当气体与循环管线1240中的磷酸水性溶液混合时磷酸水性溶液的温度下降最小化。根据示例，可由循环管线1240中的加热器将气体加热到与由加热器单元1600加热的磷酸水性溶液的温度相同的温度。这防止当气体与循环管线1240中的磷酸水性溶液混合时磷酸水性溶液的温度降低。
在图4中，已经描述了气体供应管线1800连接到第一管线1242。然而，替代地，气体供应管线1800可安装在第一管线1242和第三管线1246连接的点处。在这种情况下，气体供应管线1800可在朝向第三管线1246的方向上连接。
另外，虽然未示出，但是也可在供应贮槽1200中设置用于测量磷酸水性溶液中的磷酸的浓度的浓度计和用于测量磷酸水性溶液的温度的温度计。浓度计和温度计可安装在壳体1220或循环管线1240中。
安装在液体供应单元1000中的阀V1、V2和V3由控制器1900控制。
图6是示意性地示出其中在图4的供应贮槽中调整温度和磷酸的浓度的状态的图示。在图6中，由实线指示的箭头示出磷酸水性溶液的流动路径，并且由虚线指示的箭头示出气体的流动路径。
磷酸水性溶液最初通过入口管线1420供应到壳体1220中。最初供应的磷酸水性溶液的温度可低于用于该工艺的工艺温度。例如，磷酸水性溶液的工艺温度可以是约150℃至180℃，并且最初供应到壳体1220中的磷酸水性溶液可以是处于室温。另外，在磷酸水性溶液中的磷酸的处理浓度可以是约85％至95％，并且最初供应到壳体1220中的磷酸水性溶液中的磷酸的浓度可以是约70％至80％。
供应到壳体1220中的磷酸水性溶液通过循环管线1240循环并由加热器单元1600加热到工艺温度。然后，在安装在气体供应管线1800中的气阀V3打开时，气体被引入到通过循环管线1240循环的磷酸水性溶液中。由于循环管线1240的出口1240b位于比储存在壳体1220中的磷酸水性溶液的水面1224低的位置，因此与气体混合的磷酸水性溶液被排放到储存在壳体1220中的磷酸水性溶液中。
由于在壳体1220中的磷酸水性溶液高于水的沸点，因此水从磷酸水性溶液蒸发，并且随着水蒸发，磷酸水性溶液中的磷酸的浓度增大。一般而言，在壳体1220内的水蒸发发生在磷酸水性溶液的水表面1224上。然而，根据图4的示例性实施例，由于在从循环管线1240排放的磷酸水性溶液中混入气泡，因此在储存于壳体1220中的磷酸水性溶液内也发生水蒸发。因此，控制磷酸水性溶液中的磷酸的浓度所需的时间缩短。
另外，当气体供应管线1800安装成穿过壳体1220并浸没在磷酸水性溶液中时，为了防止磷酸水性溶液从壳体1220泄漏，其中连接有气体供应管线1800和壳体1220的结构很复杂。然而，在本示例性实施例中，由于气体供应喷嘴1800从壳体1220外部直接连接到循环管线1240，因此联接结构简单。
当壳体1220中的压力因水的蒸发而增大时，在壳体1220的上部区域中的水蒸气和气体通过通气管线1400排放。在供应储罐1200中调整磷酸水性溶液的温度和浓度后，磷酸水性溶液就通过出口管线1440供应到基板。
当壳体1220中的磷酸水性溶液的液位1224低于设定值时，可通过磷酸补给管线1482和水补给管线1484补给磷酸或水。
图7是示意性地示出图4的液体供应单元的另一个示例性实施例的图示。在下文中，将主要是描述与图4的示例性实施例不同的部分。
液体供应单元2000包括第一气体供应管线1810和第二气体供应管线1820。第一气体供应管线1810对应于图4的示例性实施例中描述的气体供应管线1800。第二气体供应管线1820连接到壳体1220。第二气体供应管线1820联接到壳体1200的上壁并将第二气体供应到高于壳体1200中的磷酸水性溶液的水表面1224的位置。作为第二气体，使用低湿度气体。例如，第二气体可以是干燥空气。第二气体可在室温下供应。任选地，第二气体可在加热状态下供应。例如，可以与由加热器单元加热的磷酸水性溶液相同的温度供应第二气体。
随着水从磷酸水性溶液蒸发，壳体1220中的湿度增加。这防止水从磷酸水性溶液持续地蒸发。在本示例性实施例中，如图8所示，在磷酸水性溶液通过循环管线1240循环时，第二气体从第二气体供应管线1820持续地供应到壳体1220中。由此，壳体1220中的湿度降低，从而促进磷酸水性溶液中的水的蒸发。
图9和图10分别是示意性地示出液体供应单元和液体处理室的联接状态的图示。
如图9所示，连接到供应储罐1200的壳体1220的入口管线1420可直接地联接到液体处理室400。在这种情况下，在液体处理室400中用于基板处理的处理液被直接地回收到供应储罐1200的壳体1220中。而且，出口管线1440可直接地联接到液体处理室400的喷嘴。在这种情况下，在供应储罐1200中温度和浓度受控制的磷酸水性溶液被直接地供应到液体处理室400的喷嘴。
而且，如图10所述，在液体处理室400中用于基板处理的处理液可直接地回收到回收储罐5001，并且然后通过入口管线1420从回收储罐5001流动到供应储罐1200。另外，在供应储罐1200中温度和浓度受控制的磷酸水性溶液可通过出口管线1440供应到缓冲储罐5002，并且然后磷酸水性溶液可从缓冲储罐5002供应到喷嘴。回收储罐5001和缓冲储罐5002中的任一者或回收储罐5001和缓冲储罐5002两者可设置为与供应储罐1200的结构相同或相似的结构。
在上述示例中，已经描述了在供应储罐1200中储存的处理液是磷酸水性溶液。然而，与此不同，在供应储罐1200中储存的处理液可以是另一类型的包含水的处理液，并且其浓度通过水的蒸发来控制。
前述详细描述示出了本发明。另外，以上描述示出并描述了本发明的示例性实施例，并且本发明可在各种其他组合、修改和环境中使用。就是说，在本文公开的本发明的概念的范围内(该范围等效于书面公开)和/或在本领域的技术或知识的范围内，改变或修改是可能的。前述示例性实施例描述了用于实施本发明的技术精神的最佳状态，并且本发明的具体的应用领域和用途所需的各种改变是可能的。因此，本发明的上述详细描述不旨在将本发明限于所公开的示例性实施例。另外，所附权利要求书应当被解释为包括其他示例性实施例。

Claims (20)

1.一种基板处理设备，所述设备包括：
杯部，在所述杯部中提供处理空间；
支撑单元，所述支撑单元用于在所述处理空间中支撑基板和旋转所述基板；
喷嘴，所述喷嘴用于将处理液供应到所述基板；以及
液体供应单元，所述液体供应单元用于将所述处理液供应到所述喷嘴，
其中所述液体供应单元包括用于储存所述处理液的储罐，并且
所述储罐包括：
壳体，所述壳体具有用于在其中储存所述处理液的空间；
循环管线，所述循环管线联接到所述壳体以使所述处理液在所述壳体中循环；
加热器单元，所述加热器单元安装在所述循环管线中以加热所述处理液；以及
第一气体供应管线，所述第一气体供应管线连接到所述循环管线以将第一气体供应到所述循环管线中。
2.如权利要求1所述的设备，其中所述第一气体供应管线在所述加热器单元的下游连接到所述循环管线。
3.如权利要求2所述的设备，其中所述循环管线包括：
第一管线，所述第一管线的纵向方向设置在竖直方向上；
第二管线，所述第二管线从所述第一管线延伸并连接到所述壳体，以便设置在所述第一管线的上游；以及
第三管线，所述第三管线从所述第一管线延伸并联接到所述壳体，以便设置在所述第一管线的下游，并且
所述第一气体供应管线连接到所述第三管线。
4.如权利要求1所述的设备，其中所述循环管线具有位置比所述壳体中的所述处理液的液位低的出口。
5.如权利要求1所述的设备，其中所述第一气体在加热状态下供应到所述循环管线中。
6.如权利要求5所述的设备，其中所述第一气体以与由所述循环管线中的所述加热器单元加热的所述处理液的温度相同的温度供应到所述循环管线中。
7.如权利要求2所述的设备，其中所述第一气体在室温状态下供应到所述循环管线中。
8.如权利要求1所述的设备，其中所述液体供应单元还包括第二气体供应管线，所述第二气体供应管线联接到所述壳体，以便将第二气体供应到所述壳体中。
9.如权利要求8所述的设备，其中所述第二气体供应管线被提供用于将所述第二气体供应到比所述壳体中储存的所述处理液的液位高的位置。
10.如权利要求9所述的设备，其中所述第二气体是低湿度气体。
11.如权利要求1至10中任一项所述的设备，其中所述处理液包括化学液和水，并且
所述加热器单元将所述处理液加热到高于水的沸点的温度。
12.如权利要求11所述的设备，其中所述处理液是磷酸水性溶液。
13.一种基板处理设备，所述设备包括：
杯部，在所述杯部中提供处理空间；
支撑单元，所述支撑单元用于在所述处理空间中支撑基板和旋转所述基板；
喷嘴，所述喷嘴用于将处理液供应到所述基板；以及
液体供应单元，所述液体供应单元用于将浓度和温度受控制的处理液供应到喷嘴，
其中所述处理液包括化学液和水，并且
所述液体供应单元包括：
壳体，所述壳体具有用于在其中储存所述处理液的空间；
循环管线，所述循环管线联接到所述壳体以使所述处理液在所述壳体中循环，并且包括位置比所述壳体中的所述处理液的液位低的出口；
加热器单元，所述加热器单元安装在所述循环管线中并用于将所述处理液加热到比所述水的沸点高的温度；以及
气体供应管线，所述气体供应管线直接连接到所述循环管线以将气体供应到所述循环管线中。
14.如权利要求13所述的设备，其中所述气体供应管线在所述加热器单元的下游连接到所述循环管线。
15.如权利要求13所述的设备，其中用于加热所述第一气体的加热器安装在所述气体供应管线中。
16.一种基板处理方法，所述方法包括：
在使处理液通过联接到储罐的壳体的循环管线而在所述壳体中循环时，用安装在所述循环管线中的加热器单元加热所述处理液，以调整所述处理液的温度；
通过由所述加热器单元将所述处理液加热到比所述处理液中含有的水的温度高的温度来蒸发所述壳体中的所述处理液中的水，以调整所述处理液中含有的化学液的浓度；以及
将温度和浓度受控制的所述处理液供应到基板以处理所述基板，
其中通过将气体供应到流过所述循环管线的所述处理液中来加速从所述壳体中储存的所述处理液中蒸发水。
17.如权利要求16所述的方法，其中流过所述循环管线的所述处理液和所述气体排放到比所述壳体中储存的所述处理液的液位低的位置。
18.如权利要求17所述的方法，其中所述气体在加热状态下供应到所述循环管线中。
19.如权利要求17所述的方法，其中所述气体以与由所述加热器单元加热的所述处理液的温度相同的温度供应到所述循环管线中。
20.如权利要求16至19中任一项所述的方法，其中所述处理液是磷酸水性溶液。
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