CN116185223A - 触控基板及制作方法、显示装置 - Google Patents

Abstract

本发明公开了一种触控基板及制作方法、显示装置，该触控基板上设有金属线栅偏振片和触控电极层，金属线栅偏振片具有多条相互平行且间隔开的金属线栅，金属线栅偏振片的透光轴与金属线栅的延伸方向相互垂直，触控电极层包括多个呈阵列分布的触控电极块，金属线栅与触控电极块电性连接并用于给对应的触控电极块传输触控信号。通过在触控基板上设置金属线栅偏振片和多个触控电极块，金属线栅偏振片的金属线栅与触控电极块电性连接，金属线栅偏振片的金属线栅复用做触控信号线并用于给对应的触控电极块传输触控信号，使得金属线栅偏振片可以同时替代普通偏光片和触控信号线，简化触控基板的制作工艺，并减小制作成本，而且也可以减小显示装置的厚度。

Description

触控基板及制作方法、显示装置

技术领域

本发明涉及触控技术领域，特别是涉及一种触控基板及制作方法、显示装置。

背景技术

随着智能交互技术的不断进步，触控显示面板已经逐渐遍及人们的生活中，触控的操作模式极大地提高了人们操作电子设备的便利性，也为人们带来了一种电子设备交互的全新方式。同时，人们在追求宽视角时，也希望有效保护个人隐私而不被别人窥视，因此，需要液晶显示装置能够具备宽视角和窄视角相互切换的功能。为了使得液晶显示装置既具备良好的宽窄视角切换的功能，又具备触控显示功能，人们设计了多种的显示架构。例如，在正常的液晶显示装置的架构上增加调光盒来实现宽视角和窄视角的显示切换功能，且在调光盒的基板内侧设置触控电极或在调光盒的基板外侧设置触控电极，从而既能实现触控功能，又能实现宽视角和窄视角的相互切换。

现有的触控显示装置中，通常需要设置多块偏光片，才能实现正常的显示功能，而且触控电极也需要额外设置一层金属，以用于制作触控信号线，这不仅增加了光罩数量和制作成本，也导致显示装置的集成度较差，产品比较厚重。

发明内容

为了克服现有技术中存在的缺点和不足，本发明的目的在于提供一种触控基板及制作方法、显示装置，以解决现有技术中触控显示装置厚度较厚的问题。

本发明的目的通过下述技术方案实现：

本发明提供一种触控基板，所述触控基板上设有金属线栅偏振片以及与所述金属线栅偏振片位于不同层的触控电极层，所述金属线栅偏振片具有多条相互平行且间隔开的金属线栅，所述金属线栅偏振片的透光轴与所述金属线栅的延伸方向相互垂直，所述触控电极层包括多个呈阵列分布的触控电极块，所述金属线栅与所述触控电极块电性连接并用于给对应的所述触控电极块传输触控信号。

进一步地，每个所述触控电极块至少与一条所述金属线栅电性连接，每条所述金属线栅与对应的一个所述触控电极块电性连接。

进一步地，所述金属线栅偏振片与所述触控电极层之间设有绝缘层，所述绝缘层中设有多个接触孔，所述金属线栅通过所述接触孔与对应的所述触控电极块电性接触。

进一步地，所述触控电极层采用透明金属材料制成，所述触控电极块为面状电极。

进一步地，所述触控电极层采用金属材料制成，所述触控电极块为网格状电极。

进一步地，所述触控基板为彩膜基板、阵列基板以及视角控制基板的至少一种。

本申请还提供一种触控基板的制作方法，所述制作方法用于制作如上所述的触控基板，所述制作方法包括：

提供一透明衬底，在所述透明衬底上依次覆盖金属层和光阻层；

对所述光阻层进行图案化处理；

以所述光阻层为阻挡，对所述金属层进行蚀刻处理，使所述金属层形成多条相互平行且间隔开的金属线栅，多条所述金属线栅共同组成金属线栅偏振片；

去除所述光阻层。

本申请还提供一种触控基板的制作方法，所述制作方法用于制作如上所述的触控基板，所述制作方法包括：

提供一透明衬底，在所述透明衬底上覆盖金属层；

提供一栅格刀头，通过所述栅格刀头对所述金属层进行切割，使所述金属层形成多条相互平行且间隔开的金属线栅，多条所述金属线栅共同组成金属线栅偏振片。

本申请还提供一种显示装置，包括显示盒以及与所述显示盒层叠设置的调光盒；

所述调光盒包括如上所述的触控基板、与所述触控基板相对设置的对置基板以及设于所述触控基板与所述对置基板之间的第一液晶层，所述触控基板在朝向所述第一液晶层的一侧设有第一视角控制电极，所述对置基板在朝向所述第一液晶层的一侧设有与所述第一视角控制电极配合的第二视角控制电极；

所述对置基板上还设有第一偏光片，所述第一偏光片的透光轴与所述金属线栅偏振片的透光轴相互平行。

进一步地，所述显示盒包括彩膜基板、与所述彩膜基板相对设置的阵列基板以及设于所述彩膜基板和所述阵列基板之间的第二液晶层，所述显示盒远离所述调光盒的一侧设有第二偏光片，所述第二偏光片的透光轴与位于所述调光盒和所述显示盒的偏光片的透光轴相垂直。

本发明有益效果在于：通过在触控基板上设置金属线栅偏振片和多个触控电极块，金属线栅偏振片的金属线栅与触控电极块电性连接，金属线栅偏振片的金属线栅复用做触控信号线并用于给对应的触控电极块传输触控信号，使得金属线栅偏振片既具有偏振作用，又具有传输触控信号的作用，从而通过金属线栅偏振片同时替代普通偏光片和触控信号线，简化触控基板的制作工艺，并减小制作成本，而且也可以减小显示装置的厚度。

附图说明

图1是本发明实施例一中触控基板的平面结构示意图；

图2是本发明实施例一中调光盒的截面示意图；

图3a-3e是本发明实施例一中触控基板制作过程的结构示意图之一；

图4a-4c是本发明实施例一中触控基板制作过程的结构示意图之二；

图5是本发明实施例一中显示装置在初始状态时的截面示意图；

图6是本发明实施例一中显示装置在宽视角时的信号波形图之一；

图7是本发明实施例一中显示装置在宽视角时的结构示意图之一；

图8是本发明实施例一中显示装置在宽视角时的信号波形图之二；

图9是本发明实施例一中显示装置在宽视角时的结构示意图之二；

图10是本发明实施例一中显示装置在窄视角时的信号波形图；

图11是本发明实施例一中显示装置在窄视角时的结构示意图；

图12是本发明实施例二中触控基板的平面结构示意图；

图13是本发明中显示装置的平面结构示意图之一；

图14是本发明中显示装置的平面结构示意图之二。

具体实施方式

为更进一步阐述本发明为达成预定发明目的所采取的技术手段及功效，以下结合附图及较佳实施例，对依据本发明提出的触控基板及制作方法、显示装置的具体实施方式、结构、特征及其功效，详细说明如下：

[实施例一]

图1是本发明实施例一中触控基板的平面结构示意图。图2是本发明实施例一中调光盒的截面示意图。

如图1至图2所示，本发明实施例一提供的一种触控基板11，该触控基板11上设有金属线栅偏振片以及与金属线栅偏振片位于不同层的触控电极层。

其中，金属线栅偏振片具有多条相互平行且间隔开的金属线栅111，金属线栅偏振片具有一种特殊的偏光特性，透射与金属线栅111延伸方向垂直的偏振光，反射与金属线栅111延伸方向平行的偏振光，即金属线栅偏振片的透光轴与金属线栅111的延伸方向相互垂直，金属线栅偏振片的反光轴与金属线栅111的延伸方向相互平行，但是，可以通过选用不同的材料来降低金属线栅偏振片的反射率，例如选用反射率较低的金属材料。

触控电极层包括多个呈阵列分布的触控电极块112，金属线栅111与触控电极块112电性连接并用于给对应的触控电极块112传输触控信号，即本申请中触控基板11为自感式触控基板。当然，在其他实施例中，触控基板11也可以采用互感式触控基板，互感式触控基板具有触控驱动电极和触控感应电极，因此，还需要额外设置一层触控电极层，以制作另一种触控电极。

本申请中通过在触控基板11上设置金属线栅偏振片和多个触控电极块112，金属线栅偏振片的金属线栅111与触控电极块112电性连接，金属线栅偏振片的金属线栅111复用做触控信号线并用于给对应的触控电极块112传输触控信号，使得金属线栅偏振片既具有偏振作用，又具有传输触控信号的作用，从而通过金属线栅偏振片同时替代普通偏光片和触控信号线，简化触控基板的制作工艺，并减小制作成本，而且也可以减小显示装置的厚度。

进一步地，每个触控电极块112至少与一条金属线栅111电性连接，每条金属线栅111与对应的一个触控电极块112电性连接。图1中仅示出每个触控电极块112与一条金属线栅111电性连接，而位于相邻两个触控电极块112之间的金属线栅111无需与触控电极块112电性连接，即不用复用做触控信号线。当然，在其他实施例中，由于金属线栅111比较细，每个触控电极块112还可以与多条金属线栅111电性连接，例如每个触控电极块112还可以与三条或四条金属线栅111电性连接，从而可以降低触控信号线的阻抗。其中，与触控电极块112电性连接的金属线栅111的末端与触控芯片电性连接，例如可以通过柔性线路板(FPC)将金属线栅111的末端与触控芯片电性连接，柔性线路板在触控基板11的绑定区与金属线栅111的末端电性连接，柔性线路板另一端与触控芯片电性连接。

进一步地，如图2所示，金属线栅偏振片与触控电极层之间设有绝缘层101，绝缘层101中设有多个接触孔102，金属线栅111通过接触孔102与对应的触控电极块112电性接触。具体地，金属线栅偏振片与触控基板11的表面相接触，绝缘层101覆盖于金属线栅偏振片远离触控基板11的一侧，触控电极层设于绝缘层101远离金属线栅偏振片的一侧。

本实施例中，如图1所示，触控电极块112为面状电极，触控电极层采用透明金属材料制成，例如为氧化铟锡(ITO)或氧化铟锌(IZO)等。由于触控电极块112是面状电极，采用透明金属材料制成才可以避免影响显示装置的透光率。

进一步地，触控基板11可以为彩膜基板、阵列基板以及视角控制基板的至少一种。例如，触控基板11为彩膜基板时，触控基板11上还需要设置黑矩阵和色阻层；触控基板11为阵列基板时，触控基板11上还需要设置扫描线、数据线、薄膜晶体管以及像素电极等；触控基板11为视角控制基板时，触控基板11上还需要设置视角控制电极。

图3a-3e是本发明实施例一中触控基板制作过程的结构示意图之一。如图3a-3e所示，本实施例中还提供一种触控基板的制作方法，该制作方法用于制作如上所述的触控基板11，该制作方法包括：

如图3a所示，提供一透明衬底1，在透明衬底1上依次覆盖金属层2和光阻层3。其中，透明衬底1可以由玻璃、石英、硅、丙烯酸或聚碳酸酯等材料制成。金属层2例如采用金属氧化物(例如氧化钼)，从而降低金属线栅偏振片的反光率，当然，金属线栅偏振片需要较高的反光率时，金属层2可以采用金属铝或银。

如图3b-3c所示，对光阻层3进行图案化处理。具体地，提供一具有图案化的掩模板4，以掩模板4为遮挡对光阻层3进行曝光处理。掩模板4具有透光区域和阻光区域，其中，阻光区域对应于金属线栅111。然后，对光阻层3进行显影处理，去除被曝光区域的光阻材料，使光阻层3在形成与金属线栅111对应的图案化结构。

如图3d所示，以光阻层3为阻挡，对金属层2进行蚀刻处理，使金属层2形成多条相互平行且间隔开的金属线栅111，多条金属线栅111共同组成金属线栅偏振片。

如图3e所示，然后，去除光阻层3，以漏出金属线栅111。

金属线栅偏振片制作完成后，再在金属线栅偏振片上覆盖绝缘层101，并对绝缘层101进行打孔处理，以在绝缘层101中形成多个接触孔102，对应的金属线栅111从接触孔102中露出。然后，在绝缘层101上覆盖触控电极层，并对触控电极层进行蚀刻，使触控电极层形成多个呈阵列分布的触控电极块112。至于绝缘层101和触控电极层的制作过程可以参考现有技术，图中并未示出。

图4a-4c是本发明实施例一中触控基板制作过程的结构示意图之二。如图4a-4c所示，本实施例中还提供另一种触控基板的制作方法，该制作方法用于制作如上所述的触控基板11，该制作方法包括：

如图4a所示，提供一透明衬底1，在透明衬底1上覆盖金属层2。其中，透明衬底1可以由玻璃、石英、硅、丙烯酸或聚碳酸酯等材料制成。金属层2例如采用金属氧化物(例如氧化钼)，从而降低金属线栅偏振片的反光率，当然，金属线栅偏振片需要较高的反光率时，金属层2可以采用金属铝或银。

如图4b-4c所示，提供一栅格刀头5，通过栅格刀头5对金属层2进行切割，使金属层2形成多条相互平行且间隔开的金属线栅111，多条金属线栅111共同组成金属线栅偏振片。其中，栅格刀头5为高精度栅格刀头，栅格刀头5上具有多个微型刀齿，微型刀齿之间的间隙对应与金属线栅111。通过栅格刀头5对金属层2进行切割，从而可以大大简化制作工艺，提高生产效率。

图5是本发明实施例一中显示装置在初始状态时的截面示意图。图6是本发明实施例一中显示装置在宽视角时的信号波形图之一。图7是本发明实施例一中显示装置在宽视角时的结构示意图之一。图8是本发明实施例一中显示装置在宽视角时的信号波形图之二。图9是本发明实施例一中显示装置在宽视角时的结构示意图之二。图10是本发明实施例一中显示装置在窄视角时的信号波形图。图11是本发明实施例一中显示装置在窄视角时的结构示意图。

如图5所示，本实施例中还提供一种显示装置，包括相互层叠设置的调光盒10和显示盒20。本实施例中，显示盒20以及层叠于显示盒20出光侧的调光盒10，即调光盒10设于显示盒20远离背光模组40的一侧，调光盒10用于控制显示装置的宽窄视角切换，显示盒20用于控制显示装置显示正常的画面。当然，在其他实施例中，调光盒10也可以层叠于显示盒20的入光侧，即调光盒10设于显示盒20朝向背光模组40的一侧。

调光盒10包括如上所述的触控基板11、与触控基板11相对设置的对置基板12以及设于触控基板11与对置基板12之间的第一液晶层13。即本实施例中，触控基板11作为视角控制基板。触控基板11在朝向第一液晶层13的一侧设有第一视角控制电极113，对置基板12在朝向第一液晶层13的一侧设有与第一视角控制电极113配合的第二视角控制电极121。其中，第一视角控制电极113设置于触控电极层朝向第一液晶层13的一侧，第一视角控制电极113与触控电极层还设有绝缘层，以将第一视角控制电极113和触控电极层绝缘间隔开。通过向第一视角控制电极113和第二视角控制电极121上施加不同的视角驱动信号，使第一视角控制电极113和第二视角控制电极121之间形成不同强度的垂直电场，以控制第一液晶层13中的液晶分子在竖直方向上偏转不同的角度，从而使调光盒10实现宽视角模式和窄视角模式的切换。

进一步地，对置基板12上还设有第一偏光片31，第一偏光片31的透光轴与金属线栅偏振片的透光轴相互平行。由于触控基板11上具有金属线栅偏振片，金属线栅偏振片的金属线栅111不仅能够用做触控信号线并用于给对应的触控电极块112传输触控信号，金属线栅偏振片还具有偏振作用，因此，触控基板11上无需额外设置偏光片，简化显示装置的制作工艺，并减小制作成本，也可以减小显示装置的厚度。

本实施例中，第一液晶层13为正性液晶分子，即介电各向异性为正的液晶分子。第一液晶层13的相位延迟优选800nm，可选范围为500nm-1600nm。如图2和图5所示，在初始状态的时候，第一液晶层13呈平躺姿态，即第一液晶层13中的正性液晶分子平行于触控基板11与对置基板12进行配向，靠近触控基板11一侧的正性液晶分子与靠近对置基板12一侧的正性液晶分子的配向方向平行或反向平行。当然，第一液晶层13还具有一定预倾角，预倾角为0-7°，例如4.5°，即正性液晶分子在初始时与触控基板11和对置基板12形成有较小的夹角，在进行视角切换时，可以加快液晶分子在竖直方向上偏转的响应速度，即可以加快宽窄视角切换的响应速度。

本实施例中，显示盒20优选为液晶盒。当然，在其他实施例中，显示盒20也可以为自发光显示器(例如OLED显示器、Micro LED显示器)，但调光盒10必须设置于显示盒20的上方。

如图5所示，显示盒20包括彩膜基板21、与彩膜基板21相对设置的阵列基板22以及设于彩膜基板21和阵列基板22之间的第二液晶层23。第二液晶层23优选采用正性液晶分子，即介电各向异性为正的液晶分子。如图5所示，初始状态的时候，第二液晶层23中的正性液晶分子平行于彩膜基板21和阵列基板22进行配向，靠近彩膜基板21一侧的正性液晶分子与靠近阵列基板22一侧的正性液晶分子的配向方向平行或反向平行。当然，在其他实施例中，第二液晶层23也可采用负性液晶分子，第二液晶层23中的负性液晶分子可垂直于彩膜基板21和阵列基板22进行配向，即等效于VA显示模式的配向方式。

显示盒20远离调光盒10的一侧设有第二偏光片32，第二偏光片32的透光轴与位于调光盒10和显示盒20的偏光片的透光轴相垂直。本实施例中，第一偏光片31位于调光盒10与显示盒20之间，第一偏光片31的透光轴与第二偏光片32的透光轴相垂直。

彩膜基板21上设有呈阵列排布的色阻层212以及将色阻层212间隔开的黑矩阵211，色阻212包括红(R)、绿(G)、蓝(B)三色的色阻材料，并对应形成红(R)、绿(G)、蓝(B)三色的子像素，黑矩阵211设于每个子像素的边缘并呈网格状结构。

阵列基板22在朝向第二液晶层23的一侧上由多条扫描线(图未示)和多条数据线(图未示)相互绝缘交叉限定形成多个像素单元，每个像素单元内设有像素电极222和薄膜晶体管(图未示)，像素电极222通过薄膜晶体管与邻近薄膜晶体管的数据线电性连接。其中，薄膜晶体管包括栅极、有源层、漏极以及源极，栅极与扫描线位于同一层并电性连接，栅极与有源层通过绝缘层隔离开，源极与数据线电性连接，漏极与像素电极222通过接触孔电性连接。

如图5所示，本实施例中，阵列基板22朝向第二液晶层23的一侧还设有公共电极221，公共电极221与像素电极222位于不同层并通过绝缘层绝缘隔离。公共电极221可位于像素电极222上方或下方(图5中所示为公共电极221位于像素电极222的下方)。优选地，公共电极221为整面设置的面状电极，像素电极222为在每个像素单元内整块设置的块状电极或者具有多个电极条的狭缝电极，以形成边缘场开关模式(Fringe Field Switching，FFS)。当然，在其他实施例中，像素电极222与公共电极221可位于同一层，但是两者相互绝缘隔离开，像素电极222和公共电极221各自均可包括多个电极条，像素电极222的电极条和公共电极221的电极条相互交替排列，以形成面内切换模式(In-Plane Switching，IPS)；或者，在其他实施例中，阵列基板22在朝向第二液晶层23的一侧设有像素电极222，彩膜基板21在朝向第二液晶层23的一侧设有公共电极221，以形成TN模式或VA模式。

其中，触控基板11、对置基板12、彩膜基板21以及阵列基板22可以用玻璃、丙烯酸和聚碳酸酯等材料制成。第一视角控制电极113、第二视角控制电极121、公共电极221以及像素电极222的材料可以为氧化铟锡(ITO)或氧化铟锌(IZO)等。

本实施例中的显示装置还包括背光模组40，背光模组40位于显示盒20的下方，用于给显示装置提供背光源。当然，如果显示盒20采用自发光显示器，则显示装置无需额外设置背光源。

背光模组40包括背光源41和防窥层43，防窥层43用于缩小光线射出角度的范围。背光源41和防窥层43之间还设有增亮膜42，增亮膜42增加背光模组40的亮度。其中，防窥层43相当一个微型的百叶窗结构，可以阻挡入射角度较大的光线，使入射角度较小的光线穿过，使穿过防窥层43的光线的角度范围变小。防窥层43包括多个平行设置的多个光阻墙和位于相邻两个光阻墙之间的透光孔，光阻墙的两侧设有吸光材料。当然，背光源41也可以是采用集光式背光源，从而无需设置防窥层43，但是集光式背光源较常规的背光源更加昂贵。

背光模组40可以是侧入式背光模组，也可以是直下式背光模组。优选地，背光模组40采用准直背光(CBL，collimated backlight)模式，可对光线起到收光的作用，保证显示效果。

如图6至图9所示，在宽视角模式时，向第一视角控制电极113施加公共电信号Vcom，其中公共电信号Vcom为直流公共电压信号，向第二视角控制电极121均施加第一电信号V1。第一电信号V1与公共电信号Vcom之间的压差小于第一预设值(例如小于0.8V)。优选地，如图6所示，第一视角控制电极113和第二视角控制电极121均施加0V直流电压。第一视角控制电极113与第二视角控制电极121之间基本不会形成垂直电场，第一液晶层13中的正性液晶分子基本不会发生偏转，并保持初始的平躺状态(图7)，此时调光盒10呈现宽视角显示。

当然，第一电信号V1与公共电信号Vcom之间的压差也可大于第二预设值(例如大于5.0V)，如图8所示，例如第一视角控制电极113施加0V直流电压，第二视角控制电极121施加5.0V交流电压，其中，第二预设值远远大于第一预设值，第一视角控制电极113与第二视角控制电极121之间会形成较强的垂直电场(图9中的E2)，第一液晶层13中的正性液晶分子发生很大偏转并垂直于触控基板11和对置基板12，如图9所示，此时调光盒10也会呈现宽视角显示。

如图10和图11所示，在窄视角模式时，向第一视角控制电极113施加公共电信号Vcom，向第一视角控制电极113施加第二电信号V2，第二电信号V2与公共电信号Vcom之间的压差大于第三预设值(例如大于1.5V)以及小于第四预设值(例如小于4.0V)，其中，第一预设值＜第三预设值＜第四预设值＜第二预设值。此时，第一视角控制电极113与第一视角控制电极113之间会形成较强的垂直电场(图11中的E3)，第一液晶层13中的正性液晶分子发生较大偏转，并呈倾斜状态，大视角下亮度变暗，此时调光盒10呈现窄视角显示。

宽视角模式和窄视角模式时，向像素电极222施加对应的灰阶电压，像素电极222与公共电极221之间形成压差并产生水平电场(图7、图9以及图11中E1)，使正性液晶分子在水平方向上朝着平行于水平电场的方向偏转，灰阶电压包括0～255级灰阶电压，像素电极222施加不同的灰阶电压时，像素单元呈现不同的亮度，从而显示不同的画面，以实现显示装置在宽视角和窄视角下的正常显示。

[实施例二]

图12是本发明实施例二中触控基板的平面结构示意图。如图12所示，本发明实施例二提供的触控基板及制作方法、显示装置与实施例一(图1至图11)中的触控基板及制作方法、显示装置基本相同，不同之处在于，在本实施例中，触控电极块112为网格状电极，触控电极层采用金属材料制成，即触控电极层为整面的网格状结构，但是在相邻两个触控电极块112之间断开。其中，触控电极层优选地采用铜、铝等阻抗较小的金属，从而降低触控电极块112的阻抗，但是，由于铜、铝等阻抗较小的金属为非透明状态，因此，需要将触控电极块112做成网格状结构，从而保证显示装置的透光率。而且，网格状结构的触控电极层还可以降低显示装置的反光率，从而可以抵消一部分金属线栅偏振片的反光。

本领域的技术人员应当理解的是，本实施例的其余结构以及工作原理均与实施例一相同，这里不再赘述。

图13与图14为本发明中显示装置的平面结构示意图，请参图13和图14，该显示装置设有视角切换按键60，用于供用户向该显示装置发出视角切换请求。视角切换按键60可以是实体按键(如图13所示)，也可以为软件控制或者应用程序(APP)来实现切换功能(如图14所示，例如通过滑动条来设定宽窄视角)。当用户需要在宽视角模式和窄视角模式之间切换时，可以通过操作视角切换按键60向该显示装置发出视角切换请求，最终由驱动芯片50控制施加在第一视角控制电极113、第二视角控制电极121上的电信号，该显示装置即可以实现宽视角模式和窄视角模式之间的切换，切换为宽视角模式时，其驱动方法采用宽视角模式对应的驱动方法，切换为窄视角模式时，其驱动方法采用窄视角模式对应的驱动方法。因此本发明实施例的显示装置具有较强的操作灵活性和方便性，达到集娱乐视频与隐私保密于一体的多功能显示装置。

在本文中，所涉及的上、下、左、右、前、后等方位词是以附图中的结构位于图中的位置以及结构相互之间的位置来定义的，只是为了表达技术方案的清楚及方便。应当理解，所述方位词的使用不应限制本申请请求保护的范围。还应当理解，本文中使用的术语“第一”和“第二”等，仅用于名称上的区分，并不用于限制数量和顺序。

以上所述，仅是本发明的较佳实施例而已，并非对本发明做任何形式上的限定，虽然本发明已以较佳实施例揭露如上，然而并非用以限定本发明，任何熟悉本专业的技术人员，在不脱离本发明技术方案范围内，当可利用上述揭示的技术内容作出些许更动或修饰，为等同变化的等效实施例，但凡是未脱离本发明技术方案内容，依据本发明的技术实质对以上实施例所作的任何简单修改、等同变化与修饰，均仍属于本发明技术方案的保护范围之内。

Claims (10)

1.一种触控基板，其特征在于，所述触控基板(11)上设有金属线栅偏振片以及与所述金属线栅偏振片位于不同层的触控电极层，所述金属线栅偏振片具有多条相互平行且间隔开的金属线栅(111)，所述金属线栅偏振片的透光轴与所述金属线栅(111)的延伸方向相互垂直，所述触控电极层包括多个呈阵列分布的触控电极块(112)，所述金属线栅(111)与所述触控电极块(112)电性连接并用于给对应的所述触控电极块(112)传输触控信号。

2.根据权利要求1所述的触控基板，其特征在于，每个所述触控电极块(112)至少与一条所述金属线栅(111)电性连接，每条所述金属线栅(111)与对应的一个所述触控电极块(112)电性连接。

3.根据权利要求1所述的触控基板，其特征在于，所述金属线栅偏振片与所述触控电极层之间设有绝缘层(101)，所述绝缘层(101)中设有多个接触孔(102)，所述金属线栅(111)通过所述接触孔(102)与对应的所述触控电极块(112)电性接触。

4.根据权利要求1所述的触控基板，其特征在于，所述触控电极层采用透明金属材料制成，所述触控电极块(112)为面状电极。

5.根据权利要求1所述的触控基板，其特征在于，所述触控电极层采用金属材料制成，所述触控电极块(112)为网格状电极。

6.根据权利要求1所述的触控基板，其特征在于，所述触控基板(11)为彩膜基板、阵列基板以及视角控制基板的至少一种。

7.一种触控基板的制作方法，其特征在于，所述制作方法用于制作如权利要求1-6任一项所述的触控基板(11)，所述制作方法包括：

提供一透明衬底(1)，在所述透明衬底(1)上依次覆盖金属层(2)和光阻层(3)；

对所述光阻层(3)进行图案化处理；

以所述光阻层(3)为阻挡，对所述金属层(2)进行蚀刻处理，使所述金属层(2)形成多条相互平行且间隔开的金属线栅(111)，多条所述金属线栅(111)共同组成金属线栅偏振片；

去除所述光阻层(3)。

8.一种触控基板的制作方法，其特征在于，所述制作方法用于制作如权利要求1-6任一项所述的触控基板(11)，所述制作方法包括：

提供一透明衬底(1)，在所述透明衬底(1)上覆盖金属层(2)；

提供一栅格刀头(5)，通过所述栅格刀头(5)对所述金属层(2)进行切割，使所述金属层(2)形成多条相互平行且间隔开的金属线栅(111)，多条所述金属线栅(111)共同组成金属线栅偏振片。

9.一种显示装置，其特征在于，包括显示盒(20)以及与所述显示盒(20)层叠设置的调光盒(10)；

所述调光盒(10)包括如权利要求1-6任一项所述的触控基板(11)、与所述触控基板(11)相对设置的对置基板(12)以及设于所述触控基板(11)与所述对置基板(12)之间的第一液晶层(13)，所述触控基板(11)在朝向所述第一液晶层(13)的一侧设有第一视角控制电极(113)，所述对置基板(12)在朝向所述第一液晶层(13)的一侧设有与所述第一视角控制电极(113)配合的第二视角控制电极(121)；

所述对置基板(12)上还设有第一偏光片(31)，所述第一偏光片(31)的透光轴与所述金属线栅偏振片的透光轴相互平行。

10.根据权利要求9所述的显示装置，其特征在于，所述显示盒(20)包括彩膜基板(21)、与所述彩膜基板(21)相对设置的阵列基板(22)以及设于所述彩膜基板(21)和所述阵列基板(22)之间的第二液晶层(23)，所述显示盒(20)远离所述调光盒(10)的一侧设有第二偏光片(32)，所述第二偏光片(32)的透光轴与位于所述调光盒(10)和所述显示盒(20)的偏光片的透光轴相垂直。

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