CN116150609A - 一种荧光多波峰位置查找系统及方法 - Google Patents

Abstract

本发明公开了荧光多波峰位置查找方法及系统，包括如下步骤：根据预设条件检测当前试剂卡，按预设顺序输出荧光强度值，定义为数组A；从处理后的数组A中获取多个荧光强度点，以构建荧光强度散点图；从荧光散点图中获取满足第一预设条件的荧光强度点，定义每个荧光强度点所对应的序号值为位置数组B；计算处理后的数组A中满足第一预设条件的每个荧光强度点的斜率绝对值，定义斜率绝对值为数组D；根据第二预设条件对位置数组B进行初筛后，根据第三预设条件进行二次筛选，以获取二次筛选后的位置数组B；根据二次筛选后的位置数组B和数组D，确定荧光波峰位置。该方法有效提高了荧光多波峰位置查找准确率和效率。该系统具有相同的有益效果。

Description

一种荧光多波峰位置查找系统及方法

技术领域

本发明涉及生化分析技术领域，特别是涉及一种荧光多波峰位置查找系统及方法。

背景技术

荧光免疫检测技术具有专一性强、灵敏度高、实用性好等优点，可被用于检测含量很低的生物活性化合物，如蛋白质(酶、接受体、抗体)、激素、药物及微生物等。荧光免疫分析仪进行荧光免疫检测的工作过程是：试剂卡通过检测区，LED光源产生激发荧光，并聚集在试剂卡的目标检测物上，目标检测物受激发后产生荧光，由分析仪检测获取，从而获得的荧光强度数据曲线，曲线中会出现与所含的目标物相对应的波峰。所述波峰的出现位置取决于成分的种类，波峰的大小(即其高度或面积)取决于与所述波峰相对应的成分的量或浓度。

现有技术中确定波峰大小以及准确查找波峰的方式一般是通过预设波峰范围，采用预设波峰范围的方法，同样存在一些缺陷，当有多个波峰需要查找时，需要预设多个波峰的范围，但是由于每台仪器的装配误差以及本身试剂条上的T线和C线批次差异，存在波峰可能不在预设范围内的情况，此种情况下会造成波峰位置的错误查找以及计算错误，从而导致结果错误。

因此，提供一种无需预设波峰范围即可确定波峰位置的荧光多波峰位置查找方法及系统是本领域技术人员亟待解决的问题。

发明内容

本发明的目的在于提供一种荧光多波峰位置查找方法及系统，该方法结构简单，安全、有效、可靠且操作简便，无需预设波峰范围即可确定波峰位置，从而避免因波峰不在预设范围导致的计算结果错误。

基于以上目的，本发明提供的技术方案如下：

一种荧光多波峰位置查找方法，包括如下步骤：

根据预设条件对当前试剂卡进行检测，按预设顺序输出荧光强度值，定义为数组A；

从处理后的数组A中获取多个荧光强度点，以构建对应的荧光强度散点图；

从所述荧光散点图中获取满足第一预设条件的荧光强度点，定义每个荧光强度点所对应的序号值为位置数组B；

计算所述处理后的数组A中满足第一预设条件的每个荧光强度点的斜率绝对值，定义所述斜率绝对值为数组D；

在根据第二预设条件对所述位置数组B进行初筛后，根据第三预设条件进行二次筛选，以获取二次筛选后的位置数组B；

根据所述二次筛选后的位置数组B和所述数组D，确定荧光波峰位置。

优选地，所述处理后的数组A中的处理过程具体为平滑滤波，包括如下步骤：

将所述数组A分为上边界数据、下边界数据和非边界数据；

根据对应的预设公式分别对所述上边界数据、所述下边界数据和所述非边界数据进行平滑滤波处理，整合后得到所述处理后的数组A。

优选地，所述从处理后的数组A中获取多个荧光强度点，以构建对应的荧光强度散点图，包括如下步骤：

以所述处理后的数据A中的数组序号为横坐标、平滑后的荧光强度值为纵坐标，构建标准坐标系；

根据所述处理后的数据A，在所述标准坐标系中标识出多个所述荧光强度点，得到对应的荧光强度散点图。

优选地，所述从所述荧光散点图中获取满足第一预设条件的荧光强度点，包括如下步骤：

在所述荧光散点图中选取一个荧光强度点，在所述处理后的数组A中判断在该点之前的若干个荧光强度点的所述荧光强度值是否为连续递增，且判断在该点之后的所述若干个荧光强度点的荧光强度值是否为连续递减，若上述判断结果均为是，则该点满足第一预设条件；

根据上述步骤，遍历所述荧光散点图中的荧光强度点，以获取所述满足第一预设条件的荧光强度点。

优选地，所述计算所述处理后的数组A中满足第一预设条件的每个荧光强度点的斜率绝对值，包括如下步骤：

在满足第一预设条件的荧光强度点中选取一个荧光强度点j，并在所述处理后的数组A获取点j的荧光强度值；

在满足第一预设条件的荧光强度点中选取在点j之前且与点j相邻的点k，并在所述处理后的数组A获取点k的荧光强度值；

计算所述点k的荧光强度值与所述点j的荧光强度值之间的差值绝对值，定义为点j的斜率绝对值；

根据上述步骤，遍历所述处理后的数组A中满足第一预设条件的每个荧光强度点，以获取满足第一预设条件的每个荧光强度点的斜率绝对值。

优选地，所述根据第二预设条件对所述位置数组B进行初筛，包括如下步骤：

在所述位置数组中选取一个序号值；

在所述数组D中，判断在该序号值所对应的斜率绝对值之前的若干个序号值所对应的斜率绝对值是否为连续递减，判断该序号值所对应的斜率绝对值之后的若干个所述序号值所对应的斜率绝对值是否为连续递增，若上述判断结果均为是，则保留该序号值；

根据上述步骤，遍历所述位置数组B，以获取初筛后的位置数组。

优选地，所述根据第三预设条件进行二次筛选，以获取二次筛选后的位置数组B，包括如下步骤：

根据荧光波峰附近点斜率变化规则，设定斜率阈值；

在所述初筛后的位置数组中选取荧光波峰附近点的序号值所对应的斜率绝对值，判断所述荧光波峰附近点的序号值所对应的斜率绝对值是否小于所述斜率阈值，若是，则剔除所述荧光波峰附近点的序号值；

根据上述步骤，遍历所述初筛后的位置数组，以获取二次筛选后的位置数组B；

所述荧光波峰附近点具体为：所述初筛后的位置数组中的波峰点之前两个相邻的序号值和波峰点之后的两个相邻的序号值。

优选地，在所述从所述荧光散点图中获取满足第一预设条件的荧光强度点，定义每个荧光强度点所对应的序号值为位置数组B之后，还包括如下步骤：

判断所述满足第一预设条件的荧光强度点的数量等于预设数量，则中断后续步骤，并将所述位置数组B中序号值所对应的荧光强度点定义为荧光波峰点；

根据所述荧光波峰点，确定所述荧光波峰位置；

其中，所述预设数量的取值根据所述当前试剂卡确定。

优选地，在根据上述步骤，遍历所述位置数组B，以获取初筛后的位置数组之后，还包括如下步骤：

判断所述初筛后的位置数组的序号值数量等于预设数量，则中断后续步骤，并将所述初筛后的位置数组中序号值所对应的荧光强度点定义为荧光波峰点；

根据所述荧光波峰点，确定所述荧光波峰位置；

其中，所述预设数量的取值根据所述当前试剂卡确定。

一种荧光多波峰位置查找系统，包括：

检测模块，用于根据预设条件对当前试剂卡进行检测，按预设顺序输出荧光强度值，定义为数组A；

构建模块，用于从处理后的数组A中获取多个荧光强度点，以构建对应的荧光强度散点图；

获取模块，用于从所述荧光散点图中获取满足第一预设条件的荧光强度点，定义每个荧光强度点所对应的序号值为位置数组B；

计算模块，用于计算所述处理后的数组A中满足第一预设条件的每个荧光强度点的斜率绝对值，定义所述斜率绝对值为数组D；

筛选模块，用于在根据第二预设条件对所述位置数组B进行初筛后，根据第三预设条件进行二次筛选，以获取二次筛选后的位置数组B；

波峰位置模块，用于根据所述二次筛选后的位置数组B和所述数组D，确定荧光波峰位置。

本发明所提供的荧光多波峰位置查找方法，是通过预设检测条件使用荧光免疫分析仪对当前试剂卡进行检测，按序输出荧光强度值，将所输出的荧光强度值定义为数组A；对数组A进行处理后，从中获取多个荧光强度点，以此为基础构建对应的荧光强度散点图；从荧光强度散点图中按照第一预设条件筛选出满足条件的荧光强度点，定义每个荧光强度点所对应的序号值为位置数组B；计算处理后的数组A中满足第一预设条件的每个荧光强度点的斜率绝对值，定义斜率绝对值为数组D；通过第二预设条件对数组B进行初筛，初筛完后，通过第三预设条件进行二次筛选，从而获取二次筛选后的位置数组B；根据二次筛选后的位置数组B和数组D，确定应该波峰位置。

本发明所提供的荧光多波峰位置查找方法，是通过荧光免疫分析仪采集初始荧光强度值，并记为数组A；对数组A进行处理后构建对应的荧光强度散点图；从荧光散点图中找出满足第一预设条件的荧光强度点，作为准波峰，并将所对应的序号值定义为位置数组B；计算处理后的数组A中满足第一预设条件的每个荧光强度点的斜率绝对值，定义斜率绝对值为数组D；在位置数组B中，找出一些不是真正波峰的点，需要对这些点进行剔除，，位置数组B中的点需满足第二预设条件，才能作为备选波峰；通过第二预设条件初筛后的位置数组B中还可能存在不是真波峰的点，通过设置第三预设条件筛选出真波峰；结合二次筛选后的位置数组B即真波峰的序号值与斜率绝对值，确定荧光波峰位置。相比于现有技术，本发明无需预设波峰范围，通过荧光强度点的斜率绝对值以及两次筛选过滤后的序号值，确定真实波峰位置，避免了波峰不在预设范围内可能导致查找、计算结果错误的不良后果，有效提高了荧光多波峰位置查找准确率和效率。

本发明还提供了一种荧光多波峰位置查找系统，由于与该方法解决相同的技术问题，属于相同的技术构思，理应具有相同的有益效果，在此不再赘述。

附图说明

为了更清楚地说明本申请实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本申请的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。

图1为本发明实施例提供的一种荧光多波峰位置查找方法流程图；

图2为本发明实施例提供的处理数组A的流程图；

图3为本发明实施例提供的步骤S2的流程图；

图4为本发明实施例提供的步骤S3的流程图；

图5为本发明实施例提供的步骤S4的流程图；

图6为本发明实施例提供的步骤S5中的初筛方法的流程图；

图7为本发明实施例提供的步骤S5中的二次筛选方法的流程图；

图8为本发明实施例提供的一种荧光多波峰位置查找系统结构示意图。

具体实施方式

下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例,本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。

本发明实施例采用递进的方式撰写。

本发明实施例提供了一种荧光多波峰位置查找方法及系统。主要解决现有技术中，波峰可能不在预设范围内导致波峰位置查找错误及计算结果错误的技术问题。

如图1所示，一种荧光多波峰位置查找方法，包括如下步骤：

S1.根据预设条件对当前试剂卡进行检测，按预设顺序输出荧光强度值，定义为数组A；

S2.从处理后的数组A中获取多个荧光强度点，以构建对应的荧光强度散点图；

S3.从荧光散点图中获取满足第一预设条件的荧光强度点，定义每个荧光强度点所对应的序号值为位置数组B；

S4.计算处理后的数组A中满足第一预设条件的每个荧光强度点的斜率绝对值，定义斜率绝对值为数组D；

S5.在根据第二预设条件对位置数组B进行初筛后，根据第三预设条件进行二次筛选，以获取二次筛选后的位置数组B；

S6.根据二次筛选后的位置数组B和数组D，确定荧光波峰位置。

步骤S1中，采用现有荧光免疫分析仪以设定的采样频率F、总采样时间T的预设条件，对当前试剂卡进行检测，按序输出荧光强度值，从而得到F×T(记为n)个荧光强度值，记为数组A；

步骤S2中，对数组A进行预处理，处理完成后，从中获取n个荧光强度点，以此为基础构建对应的荧光强度散点图；

步骤S3中，通过设置第一预设条件，从荧光散点图中筛选出满足第一预设条件的荧光强度点(即为准波峰)，定义每个荧光强度点所对应的序号值为位置数组B；

步骤S4中，计算处理后的数组A中满足第一预设条件的每个荧光强度点的斜率绝对值，通过斜率绝对值集合圈定波峰范围；

步骤S5中，对准波峰通过第二预设条件初筛后，通过第三预设条件进行二次筛选，从而筛选出真波峰对应的序列值；

步骤S6中，通过真波峰对应的序列值中代表真波峰在斜率绝对值中所在的位置；

在本实施例中，二次筛选后的位置数组B”中的数则代表真波峰在数组D(荧光强度值)中所在的位置。

如图2所示，优选地，处理后的数组A中的处理过程具体为平滑滤波，包括如下步骤：

A1.将数组A分为上边界数据、下边界数据和非边界数据；

A2.根据对应的预设公式分别对上边界数据、下边界数据和非边界数据进行平滑滤波处理，整合后得到处理后的数组A。

步骤A1至步骤A2中，对数组A进行平滑滤波处理，具体采用9点平滑处理法，方式如下：

平滑滤波处理分上边界数据处理(i<5)、下边界数据处理(i>n-5)处理和非边界数据处理。

上边界数据处理：

下边界数据处理：

非边界数据处理：

将计算得出的上边界数据、下边界数据和非边界数据整合得到处理后的数组A。

如图3所示，优选地，步骤S2，包括如下步骤：

B1.以处理后的数据A中的数组序号为横坐标、平滑后的荧光强度值为纵坐标，构建标准坐标系；

B2.根据处理后的数据A，在标准坐标系中标识出多个荧光强度点，得到对应的荧光强度散点图。

步骤B1至B2中，平滑处理后的数组记为A’，在以数组序号i为横坐标、平滑后的荧光强度值为纵坐标的标准坐标系上得到n个荧光强度点，得到对应的荧光强度散点图；此处的序号n与数组A中的序号位置一一对应。

如图4所示，优选地，步骤S3中，包括如下步骤：

C1.在荧光散点图中选取一个荧光强度点，在处理后的数组A中判断在该点之前的若干个荧光强度点的荧光强度值是否为连续递增，且判断在该点之后的若干个荧光强度点的荧光强度值是否为连续递减，若上述判断结果均为是，则该点满足第一预设条件；

C2.根据步骤C1，遍历荧光散点图中的荧光强度点，以获取满足第一预设条件的荧光强度点。

步骤C1与步骤C2，是从荧光散点图中选出代表准波峰的荧光强度点。

步骤C1中，在荧光散点图中选取一个荧光强度点，在处理后的数组A中找到该点位置，判断在该点之前的若干个荧光强度点的荧光强度值是否为连续递增，判断该点之后的若干个荧光强度点是否为连续递减，若上述判断结果均为是，则该点满足第一预设条件，即该点为准波峰点；

步骤C2中，按照步骤C1的方式，遍历荧光散点图中的荧光强度点，从中选出满足第一预设条件的荧光强度点，即准波峰的点。

步骤C1的具体实施方式为：在平滑处理后的数组A’中，判断A′_i之前的6个荧光强度点的荧光强度值是否为连续递增，即A′_i-6＜A″_ii-5＜A′_i-4＜A′_i-3＜A′_i-2＜A′_i-1≤A′_i，且判断之后的6个荧光强度点的是否为连续递减，即A′_i≥A′_i+1＞A′_i+2＞A′_i+3＞A′_i+4＞A′_i+5＞A′_i+6；其中，上述的6个只是举例，也可以5个、7个，或其他个数。

如图5所示，优选地，步骤S4，包括如下步骤：

D1.在满足第一预设条件的荧光强度点中选取一个荧光强度点j，并在处理后的数组A获取点j的荧光强度值；

D2.在满足第一预设条件的荧光强度点中选取在点j之前且与点j相邻的点k，并在处理后的数组A获取点k的荧光强度值；

D3.计算点k的荧光强度值与点j的荧光强度值之间的差值绝对值，定义为点j的斜率绝对值；

D4.根据上述步骤，遍历处理后的数组A中满足第一预设条件的每个荧光强度点，以获取满足第一预设条件的每个荧光强度点的斜率绝对值。

步骤S4具体是计算荧光强度点的斜率绝对值，是通过选定其中一点与该点相邻的另一点，计算两点之间的差值绝对值，作为斜率绝对值。

步骤D1至步骤D3的具体为：在平滑处理后的数组A’中，选定一点j记为A_j′，在满足第一预设条件的荧光强度点中选取在点j之前且与点j相邻的点k，k＝j-1，记为A_j′_-1，根据公式|D_j||A_j′1A_j′_-1|，可计算获取点j的斜率绝对值；

步骤D4中，按照上述方式，遍历平滑处理后的数组A’中满足第一预设条件的每个荧光强度点，从而获取满足第一预设条件的每个荧光强度点的斜率绝对值，定义为数组D；

如图6所示，优选地，步骤S5中的初筛方法，包括如下步骤：

E1.在位置数组中选取一个序号值；

E2.在数组D中，判断在该序号值所对应的斜率绝对值之前的若干个序号值所对应的斜率绝对值是否为连续递减，判断该序号值所对应的斜率绝对值之后的若干个序号值所对应的斜率绝对值是否为连续递增，若上述判断结果均为是，则保留该序号值；

E3.根据上述步骤，遍历位置数组B，以获取初筛后的位置数组。

步骤E1至步骤E3，是对准波峰的进一步筛选，将位置数组中不是真正波峰的点进行初筛剔除；

步骤E1至步骤E2中，在位置数组中选取一个序号值，根据该序号值在数组D中，确定所对应的斜率绝对值；判断该点斜率绝对值之前的斜率绝对值是否为连续递减，判断该点斜率绝对值之后的斜率绝对值是否为连续递增，若上述判断结果均为是，则保留满足第二预设条件的序号值；

步骤E3中，按照步骤E1至E2的方式，遍历位置数组B，从而计算得到初筛后的位置数组B’；

步骤E1至步骤E2的具体实施方式为：在数组D中，判断

之前的6个序号值对应的斜率绝对值是否为连续递减，即/>

且判断之后的6个序号值对应的斜率绝对值是否为连续递增，即

其中，上述6个只是举例，也可以5个、7个，或其他个数。

需要说明的是，此处的序号j与前面的序号i存在区别。序号i对应于原始数组A、平滑处理后的数组A’，他们中的数据个数都是n；而序号j则是以筛选剔除后的数据重新组成的数组B’中的序号，数组B’中数据个数少于n。同样的，数组B’中的每个数据均对应于二个序号，一个是原始序号i，一个是新的序号j。

如图7所示，优选地，步骤S5中二次筛选方法，包括如下步骤：

F1.根据荧光波峰附近点斜率变化规则，设定斜率阈值；；

F2.在初筛后的位置数组中选取荧光波峰附近点的序号值所对应的斜率绝对值，判断荧光波峰附近点的序号值所对应的斜率绝对值是否小于斜率阈值，若是，则剔除荧光波峰附近点的序号值；

F3.根据上述步骤，遍历初筛后的位置数组，以获取二次筛选后的位置数组B；

荧光波峰附近点具体为：初筛后的位置数组中的波峰点之前两个相邻的序号值和波峰点之后的两个相邻的序号值。

步骤F1至步骤F3，是根据第三预设条件对初筛后的位置数组B’进行二次筛选，从而得到代表真波峰的二次筛选后的位置数组B”。

步骤F1至步骤F2中，根据荧光波峰附近点斜率变化较大的规则，设定斜率阈值M1和M2，在初筛后的位置数组B’中选取荧光波峰附近点的序号值所对应的斜率绝对值，判断荧光波峰附近点的序号值所对应的斜率绝对值是否小于斜率阈值，即

或/>

或

且/>

，若上述三个条件任一满足，则剔除荧光波峰附近点的序号值；

步骤F3中，按照步骤F1至F2的方式，遍历初筛后的位置数组B’，从而计算得到二次筛选后的位置数组B”。

需要说明的是，设定斜率阈值的方式具体为：多个不同的训练样本采用如上步骤S1至步骤S5中初筛部分的方式，可以获得多个位置数组B′_n(其中n≥5，即训练样本的个数不小于5个)；由于这多个训练样本的真实波峰是已知的(可以通过人工判断确定)，即B′_j的序号是已知的；

那么根据以上步骤S4中的斜率计算方法，对已知序号B′_j的前后预定间隔的点计算其斜率，比如波峰位置往前第2个数据

或者波峰位置往后第2个数据/>

或者波峰位置往前第1个数据/>

以及波峰位置往后第1个数据/>

就可以获得n个

或者n个/>

或者n个/>

及n个/>

那么M1即为n个/>

中的最大值、或者n个/>

中的最大值；M2则为n个/>

中的最大值及n个

中的最大值中更大的那个。

优选地，在步骤S3之后，还包括如下步骤：

判断满足第一预设条件的荧光强度点的数量等于预设数量，则中断后续步骤，并将位置数组B中序号值所对应的荧光强度点定义为荧光波峰点；

根据荧光波峰点，确定荧光波峰位置；

其中，预设数量的取值根据当前试剂卡确定。

优选地，在E3之后，还包括如下步骤：

判断初筛后的位置数组的序号值数量等于预设数量，则中断后续步骤，并将初筛后的位置数组中序号值所对应的荧光强度点定义为荧光波峰点；

根据荧光波峰点，确定荧光波峰位置；

其中，预设数量的取值根据当前试剂卡确定。

需要说明的是，在步骤S3和步骤E3之后，均还可设置中断步骤，该中断步骤相同，即在获取位置数组B和初筛后的位置数组B’之后，若发现其中的数据数量等于预设数量，则中断后续步骤，将位置数组B中的序号值对应的荧光强度点和初筛后的位置数组B’中的序号值对应的荧光强度点作为荧光波峰点，根据荧光波峰点确定荧光波峰位置。

在本实施例中，在步骤S3和步骤E3之后，都需要增加一个最终步骤作为补充：如果经过本步骤筛选后，剩下的数据总数量不超过N，则不再进行后续步骤的判定，直接以剩下的数据作为波峰。

N的值根据当前检测使用的试剂卡来确定：比如单卡(单个指标的测定)，N＝2，包含一个T峰，一个C峰；比如二联卡(同时测定二个指标)，N＝3，包含二个T峰，一个C峰，二个测定指标共用一个C线；以此类推，三联卡N＝4，三个测定指标共用一个C线。即N等于当前试剂卡的T线和C线的总数。

如图8所示，一种荧光多波峰位置查找系统，包括：

检测模块，用于根据预设条件对当前试剂卡进行检测，按预设顺序输出荧光强度值，定义为数组A；

构建模块，用于从处理后的数组A中获取多个荧光强度点，以构建对应的荧光强度散点图；

获取模块，用于从荧光散点图中获取满足第一预设条件的荧光强度点，定义每个荧光强度点所对应的序号值为位置数组B；

计算模块，用于计算处理后的数组A中满足第一预设条件的每个荧光强度点的斜率绝对值，定义斜率绝对值为数组D；

筛选模块，用于在根据第二预设条件对位置数组B进行初筛后，根据第三预设条件进行二次筛选，以获取二次筛选后的位置数组B；

波峰位置模块，用于根据二次筛选后的位置数组B和数组D，确定荧光波峰位置。

本发明还公开了一种荧光多波峰位置查找系统，该系统设置有检测模块、构建模块、获取模块、计算模块、筛选模块和波峰位置模块；工作过程中，检测模块(荧光免疫分析仪)，根据已预设的条件对当前试剂卡进行检测，按预设顺序输出荧光强度值，定义为数组A，并将数组A发送至构建模块；构建模块，从处理后的数组A中获取多个荧光强度点，以此来构建对应的荧光散点图，并将荧光散点图发送至获取模块，且将处理后的数组A发送至计算模块；获取模块从荧光散点图中获取满足第一预设条件的荧光强度点，定义每个荧光强度点所对应的序号值为位置数组B，并将位置数组B发送至筛选模块；计算模块，计算处理后的数组A中满足第一预设条件的每个荧光强度点的斜率绝对值，定义斜率绝对值为数组D，并将数组D发送至波峰位置模块；筛选模块，根据第二预设条件对位置数组B进行初筛后，根据第三预设条件进行二次筛选，从而获取二次筛选后的位置数组B”，并将二次筛选后的位置数组B”发送至波峰位置模块；波峰位置模块根据二次筛选后的位置数组B”和数组D，确定荧光波峰位置。

在本申请所提供的实施例中，应该理解到，所揭露的方法和装置，可以通过其它的方式实现。以上所描述的装置实施例仅仅是示意性的，例如，模块的划分，仅仅为一种逻辑功能划分，实际实现时可以有另外的划分方式，如：多个模块或组件可以结合，或可以集成到另一个系统，或一些特征可以忽略，或不执行。另外，所显示或讨论的各组成部分相互之间的耦合、或直接耦合、或通信连接可以是通过一些接口，设备或模块的间接耦合或通信连接，可以是电性的、机械的或其它形式的。

另外，在本发明各实施例中的各功能模块可以全部集成在一个处理器中，也可以是各模块分别单独作为一个器件，也可以两个或两个以上模块集成在一个器件中；本发明各实施例中的各功能模块既可以采用硬件的形式实现，也可以采用硬件加软件功能单元的形式实现。

本领域普通技术人员可以理解：实现上述方法实施例的全部或部分步骤可以通过程序指令及相关的硬件来完成，前述的程序指令可以存储于计算机可读取存储介质中，该程序指令在执行时，执行包括上述方法实施例的步骤；而前述的存储介质包括：移动存储设备、只读存储器(Read Only Memory，ROM)、磁碟或者光盘等各种可以存储程序代码的介质。

应当理解，本申请中如若使用了“系统”、“装置”、“单元”和/或“模块”，仅是用于区分不同级别的不同组件、元件、部件、部分或装配的一种方法。然而，如果其他词语可实现相同的目的，则可通过其他表达来替换该词语。

如本申请和权利要求书中所示，除非上下文明确提示例外情形，“一”、“一个”、“一种”和/或“该”等词并非特指单数，也可包括复数。一般说来，术语“包括”与“包含”仅提示包括已明确标识的步骤和元素，而这些步骤和元素不构成一个排它性的罗列，方法或者设备也可能包含其它的步骤或元素。由语句“包括一个……”限定的要素，并不排除在包括要素的过程、方法、商品或者设备中还存在另外的相同要素。

其中，在本申请实施例的描述中，除非另有说明，“/”表示或的意思，例如，A/B可以表示A或B；本文中的“和/或”仅仅是一种描述关联对象的关联关系，表示可以存在三种关系，例如，A和/或B，可以表示：单独存在A，同时存在A和B，单独存在B这三种情况。另外，在本申请实施例的描述中，“多个”是指两个或多于两个。

以下，术语“第一”、“第二”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此，限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括一个或者更多个该特征。

本申请中如若使用了流程图，则该流程图是用来说明根据本申请的实施例的系统所执行的操作。应当理解的是，前面或后面操作不一定按照顺序来精确地执行。相反，可以按照倒序或同时处理各个步骤。同时，也可以将其他操作添加到这些过程中，或从这些过程移除某一步或数步操作。

以上对本发明所提供的一种荧光多波峰位置查找方法及系统进行了详细介绍。对所公开的实施例的上述说明，使本领域专业技术人员能够实现或使用本发明。对这些实施例的多种修改对本领域的专业技术人员来说将是显而易见的，本文中所定义的一般原理可以在不脱离本发明的精神或范围的情况下，在其它实施例中实现。因此，本发明将不会被限制于本文所示的这些实施例，而是要符合与本文所公开的原理和新颖特点相一致的最宽的范围。

Claims (10)

1.一种荧光多波峰位置查找方法，其特征在于，包括如下步骤：

根据预设条件对当前试剂卡进行检测，按预设顺序输出荧光强度值，定义为数组A；

从处理后的数组A中获取多个荧光强度点，以构建对应的荧光强度散点图；

从所述荧光散点图中获取满足第一预设条件的荧光强度点，定义每个荧光强度点所对应的序号值为位置数组B；

计算所述处理后的数组A中满足第一预设条件的每个荧光强度点的斜率绝对值，定义所述斜率绝对值为数组D；

在根据第二预设条件对所述位置数组B进行初筛后，根据第三预设条件进行二次筛选，以获取二次筛选后的位置数组B；

根据所述二次筛选后的位置数组B和所述数组D，确定荧光波峰位置。

2.如权利要求1所述的荧光多波峰位置查找方法，其特征在于，所述处理后的数组A中的处理过程具体为平滑滤波，包括如下步骤：

将所述数组A分为上边界数据、下边界数据和非边界数据；

根据对应的预设公式分别对所述上边界数据、所述下边界数据和所述非边界数据进行平滑滤波处理，整合后得到所述处理后的数组A。

3.如权利要求2所述的荧光多波峰位置查找方法，其特征在于，所述从处理后的数组A中获取多个荧光强度点，以构建对应的荧光强度散点图，包括如下步骤：

以所述处理后的数据A中的数组序号为横坐标、平滑后的荧光强度值为纵坐标，构建标准坐标系；

根据所述处理后的数据A，在所述标准坐标系中标识出多个所述荧光强度点，得到对应的荧光强度散点图。

4.如权利要求1所述的荧光多波峰位置查找方法，其特征在于，所述从所述荧光散点图中获取满足第一预设条件的荧光强度点，包括如下步骤：

在所述荧光散点图中选取一个荧光强度点，在所述处理后的数组A中判断在该点之前的若干个荧光强度点的所述荧光强度值是否为连续递增，且判断在该点之后的所述若干个荧光强度点的荧光强度值是否为连续递减，若上述判断结果均为是，则该点满足第一预设条件；

根据上述步骤，遍历所述荧光散点图中的荧光强度点，以获取所述满足第一预设条件的荧光强度点。

5.如权利要求1所述的荧光多波峰位置查找方法，其特征在于，所述计算所述处理后的数组A中满足第一预设条件的每个荧光强度点的斜率绝对值，包括如下步骤：

在满足第一预设条件的荧光强度点中选取一个荧光强度点j，并在所述处理后的数组A获取点j的荧光强度值；

在满足第一预设条件的荧光强度点中选取在点j之前且与点j相邻的点k，并在所述处理后的数组A获取点k的荧光强度值；

计算所述点k的荧光强度值与所述点j的荧光强度值之间的差值绝对值，定义为点j的斜率绝对值；

根据上述步骤，遍历所述处理后的数组A中满足第一预设条件的每个荧光强度点，以获取满足第一预设条件的每个荧光强度点的斜率绝对值。

6.如权利要求1所述的荧光多波峰位置查找方法，其特征在于，所述根据第二预设条件对所述位置数组B进行初筛，包括如下步骤：

在所述位置数组中选取一个序号值；

在所述数组D中，判断在该序号值所对应的斜率绝对值之前的若干个序号值所对应的斜率绝对值是否为连续递减，判断该序号值所对应的斜率绝对值之后的若干个所述序号值所对应的斜率绝对值是否为连续递增，若上述判断结果均为是，则保留该序号值；

根据上述步骤，遍历所述位置数组B，以获取初筛后的位置数组。

7.如权利要求6所述的荧光多波峰位置查找方法，其特征在于，所述根据第三预设条件进行二次筛选，以获取二次筛选后的位置数组B，包括如下步骤：

根据荧光波峰附近点斜率变化规则，设定斜率阈值；

在所述初筛后的位置数组中选取荧光波峰附近点的序号值所对应的斜率绝对值，判断所述荧光波峰附近点的序号值所对应的斜率绝对值是否小于所述斜率阈值，若是，则剔除所述荧光波峰附近点的序号值；

根据上述步骤，遍历所述初筛后的位置数组，以获取二次筛选后的位置数组B；

所述荧光波峰附近点具体为：所述初筛后的位置数组中的波峰点之前两个相邻的序号值和波峰点之后的两个相邻的序号值。

8.如权利要求1所述的荧光多波峰位置查找方法，其特征在于，在所述从所述荧光散点图中获取满足第一预设条件的荧光强度点，定义每个荧光强度点所对应的序号值为位置数组B之后，还包括如下步骤：

判断所述满足第一预设条件的荧光强度点的数量等于预设数量，则中断后续步骤，并将所述位置数组B中序号值所对应的荧光强度点定义为荧光波峰点；

根据所述荧光波峰点，确定所述荧光波峰位置；

其中，所述预设数量的取值根据所述当前试剂卡确定。

9.如权利要求6所述的荧光多波峰位置查找方法，其特征在于，在根据上述步骤，遍历所述位置数组B，以获取初筛后的位置数组之后，还包括如下步骤：

判断所述初筛后的位置数组的序号值数量等于预设数量，则中断后续步骤，并将所述初筛后的位置数组中序号值所对应的荧光强度点定义为荧光波峰点；

根据所述荧光波峰点，确定所述荧光波峰位置；

其中，所述预设数量的取值根据所述当前试剂卡确定。

10.一种荧光多波峰位置查找系统，其特征在于，包括：：

检测模块，用于根据预设条件对当前试剂卡进行检测，按预设顺序输出荧光强度值，定义为数组A；

构建模块，用于从处理后的数组A中获取多个荧光强度点，以构建对应的荧光强度散点图；

获取模块，用于从所述荧光散点图中获取满足第一预设条件的荧光强度点，定义每个荧光强度点所对应的序号值为位置数组B；

计算模块，用于计算所述处理后的数组A中满足第一预设条件的每个荧光强度点的斜率绝对值，定义所述斜率绝对值为数组D；

筛选模块，用于在根据第二预设条件对所述位置数组B进行初筛后，根据第三预设条件进行二次筛选，以获取二次筛选后的位置数组B；

波峰位置模块，用于根据所述二次筛选后的位置数组B和所述数组D，确定荧光波峰位置。

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