CN116088281A - 一种曝光机的光纤导光uvled光源机构 - Google Patents

一种曝光机的光纤导光uvled光源机构 Download PDF

Info

Publication number
CN116088281A
CN116088281A CN202310241166.1A CN202310241166A CN116088281A CN 116088281 A CN116088281 A CN 116088281A CN 202310241166 A CN202310241166 A CN 202310241166A CN 116088281 A CN116088281 A CN 116088281A
Authority
CN
China
Prior art keywords
light source
optical fiber
source mechanism
exposure machine
uvled
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
CN202310241166.1A
Other languages
English (en)
Other versions
CN116088281B (zh
Inventor
王�华
陈志特
甘泉
黄海浩
范继辉
冯明瑞
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Guangdong Keshi Optical Technology Co ltd
Original Assignee
Guangdong Keshi Optical Technology Co ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Guangdong Keshi Optical Technology Co ltd filed Critical Guangdong Keshi Optical Technology Co ltd
Priority to CN202310241166.1A priority Critical patent/CN116088281B/zh
Publication of CN116088281A publication Critical patent/CN116088281A/zh
Application granted granted Critical
Publication of CN116088281B publication Critical patent/CN116088281B/zh
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/20—Exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/2022—Multi-step exposure, e.g. hybrid; backside exposure; blanket exposure, e.g. for image reversal; edge exposure, e.g. for edge bead removal; corrective exposure
    • G03F7/2032—Simultaneous exposure of the front side and the backside
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/70216—Mask projection systems
    • G03F7/70316—Details of optical elements, e.g. of Bragg reflectors, extreme ultraviolet [EUV] multilayer or bilayer mirrors or diffractive optical elements
    • H—ELECTRICITY
    • H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K3/00—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
    • H05K3/02—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits in which the conductive material is applied to the surface of the insulating support and is thereafter removed from such areas of the surface which are not intended for current conducting or shielding
    • H05K3/06—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits in which the conductive material is applied to the surface of the insulating support and is thereafter removed from such areas of the surface which are not intended for current conducting or shielding the conductive material being removed chemically or electrolytically, e.g. by photo-etch process

Abstract

本发明公开了一种曝光机的光纤导光UVLED光源机构，属曝光机技术领域，光源机构由UVLED灯珠、紫外光耦合器、光纤组成光源，紫外光耦合器将UVLED灯珠和光纤的输入端连接在一起，UVLED灯珠通过紫外光耦合器由光纤将光传导到PCB板上面，对PCB板进行曝光；其中，在UVLED灯珠处布置有散热装置，散热装置外接冷却系统，光纤的输出端有固定套，固定套安装在固定板上，固定板位于PCB板的两面，实现对PCB板的双面曝光，采用光纤导光，光传导距离长、光损失少，可以任意弯折达到曝光面，曝光均匀，保证质量。

Description

一种曝光机的光纤导光UVLED光源机构
技术领域
本发明涉及一种双面PCB板曝光机光源改造，特别是一种光纤导光UVLED光源机构，属曝光机技术领域。
背景技术
曝光机光源机构由汞灯改造为UVLED灯成为大家的共识，已经获得了良好的节能效果和超长的使用寿命，但目前这种改造仅仅限于简单地光源替换，导致了对于侧面设置的光源机构在替换后的光路需要多次的调整才能照到PCB板，不仅光路损失严重，而且改造成本较高，特别是对于双面曝光的设备来说，反射到电路板上的光源强度不均匀，导致曝光效果不佳，中国专利公开号CN104483813A《一种曝光机光源改造方法及UVLED光源机构》就给出了这样一种技术方案，侧面安装的UVLED光源发出的光需要经过复眼透镜、平面光镜、曲面反射镜的光学整形、折射、方向调整、反射，最后才照射到PCB板的上下面，不仅采用的光学镜种类繁多，而且光路长损耗大，设备多且占用空间大，效果并不理想。
发明内容
针对现有技术存在的问题，本发明目的就是要发明一种结构简单，光路损失少，照射到PCB板光照均匀的光源机构。
为实现以上目的，本发明采用通过将光纤与UVLED光源耦合，发挥光纤的传输距离长、损失少，可任意弯折布置输出端位置，以达到均匀曝光，获得良好的曝光效果。
本发明具体技术方案是：一种曝光机的光纤导光UVLED光源机构，其特征在于：光源机构为外挂式箱体，设置在曝光机的外侧面，由UVLED灯珠、紫外光耦合器、光纤组成光源，紫外光耦合器将UVLED灯珠和光纤的输入端连接在一起，UVLED灯珠通过紫外光耦合器由光纤将光传导到PCB板上面，对PCB板进行曝光；其中，在UVLED灯珠处布置有散热装置，散热装置外接冷却系统，光纤的输出端有固定套，固定套安装在固定板上，固定板分别位于PCB板的两面，实现对PCB板的双面曝光。
所述的散热装置为双层套件结构，内层嵌入固定在外层的沉孔内，外层开有阵列式灯座圆孔用于插接UVLED灯珠，内层开有正对灯座圆孔的圆柱孔或正方孔或正六边形蜂窝孔用于插接紫外光耦合器，内层的圆孔直径或多边形内切圆直径大于外层的圆孔直径，外层避开上层灯座圆孔制作有冷却水孔。
所述的散热装置的材料为铝合金，在外侧设有散热片。
所述的UVLED灯珠灯座为圆柱形，紫外光耦合器外部为圆柱形或正方形或正六边形。
所述的光纤的输入端和输出端包层和光纤芯的直径沿光轴保持相同或逐渐变大，变大锥度不超过3°。
所述的固定套为台阶轴套，台阶轴套的内面为圆柱孔或圆锥孔，配合光纤的圆柱面或锥面，台阶轴套的外面为圆柱面，固定板开有和台阶轴套外圆配合的固定孔，台阶轴套通过螺丝固定安装在固定板上。
所述的固定板的固定孔呈错位排布，保证光照均匀性。
所述的固定板和曝光机内部PCB板两侧的机架固定连接。
所述的冷却系统为液态冷却系统或气态冷却系统。
本发明产生积极效果是：在对已有曝光机的光源机构进行改造时，对曝光机内部在PCB板的上下方只需增加安装固定板即可，改造方便、简单，成本低；采用光纤导光，光传导距离长、光损失少，可以任意弯折达到曝光面，曝光均匀，保证质量。
说明书附图
图1：本发明的光源机构的结构示意简图。
图2：本发明的散热装置的结构示意爆炸图。
图3：本发明的固定板的结构示意图。
图4：本发明的台阶轴套的结构示意图。
图中，1、散热装置的外层，101、灯座圆孔，102、水孔，103、散热片，2、散热装置的内层，201、六边形蜂窝孔，3、紫外光耦合器，4、UVLED灯珠，5、光纤，6、台阶轴套，601、内锥面孔，7、固定板，701、轴套孔，8、水嘴，9、PCB板。
具体实施方式
在本发明实施例描述中,术语“上”、“下”、“左”、“右”、“前”、“后”及“外侧”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本发明而不是要求本发明必须以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本发明的限制。
本发明的光源机构为外挂箱体，可以对已有曝光机的光源进行改造，将光源机构放置在外部即可。
如图1所示光源机构的结构连接示意简图，为了表达清楚，光源机构的箱体外壳图中没有绘制，图中只选择了3X3排列的9个灯珠共两组，实际使用时根据需要曝光的面积设定UVLED灯珠的数量，由于为了看清楚，只接了部分光纤示意，螺栓、螺钉等连接属于公知常识和常用技术，在图中没有绘制，本光源机构属于曝光机的外挂装置，曝光机的结构也没有绘制，固定板7放置在曝光机内部的机架上，外接冷却系统属已知技术，因此也没做绘制。图中，内层2嵌入外层1内，UVLED灯珠4安装在外层1上，紫外光耦合器3安装在内层2上，UVLED灯珠4正对紫外光耦合器3的里侧，光纤5的小头连接紫外光耦合器3的外侧，并从紫外光耦合器3外侧用紧定螺钉固定光纤5，光纤5的大头套在台阶轴套6上，台阶轴套6通过螺栓固定在固定板7上，固定板7通过螺栓固定连接曝光机内PCB板9上下两侧的机架上，外层1的水孔上安装有水嘴102，水孔102通过水嘴8外接冷却系统。
如图2所示，散热装置的外层1为长方形，内侧带两个分隔的正方形沉孔，在外层1上开有排列的灯座圆孔101，在散热装置的外层1的左右侧面有散热片103，避开灯座圆孔101开有纵向的水孔102，内层2为正方形，在内层2上开有和外层1的灯座圆孔101对应的正六边形蜂窝孔201，六边形蜂窝孔201的内切圆直径大于外层圆孔101直径，内层2嵌入在外层1内侧的沉孔内，并由紧定螺钉从外层1的上外壁将内层2固定，UVLED灯珠4插入灯座圆孔101，紫外光耦合器3插入六边形蜂窝孔201内，并固定在外层1和内层2上。
如图3所示，固定板7上开有错位排布的轴套孔701，数量根据需要曝光的PCB板9的面积确定。
如图4所示，台阶轴套6的内孔是内锥面601，和光纤5的大头锥面配合，并将光纤5的大头紧紧固定在一端。
工作时，开启冷却系统，打开UVLED灯珠4，UVLED灯珠发出的紫外光经紫外光耦合器3进入光纤5输入端，通过光纤5导光到PCB板9的曝光面，进行曝光。

Claims (8)

1.一种曝光机的光纤导光UVLED光源机构，其特征在于：光源机构为外挂式箱体，设置在曝光机的外侧面，由UVLED灯珠、紫外光耦合器、光纤组成光源，紫外光耦合器将UVLED灯珠和光纤的输入端连接在一起，UVLED灯珠通过紫外光耦合器由光纤将光传导到PCB板上面，对PCB板进行曝光；其中，在UVLED灯珠处布置有散热装置，散热装置外接冷却系统，光纤的输出端有固定套，固定套安装在固定板上，固定板分别位于PCB板的两面，实现对PCB板的双面曝光。
2.如权利要求1所述的一种曝光机的光纤导光UVLED光源机构，其特征在于：所述的散热装置为双层套件结构，内层嵌入固定在外层的沉孔内，外层开有阵列式灯座圆孔用于插接UVLED灯珠，内层开有正对灯座圆孔的圆柱孔或正方孔或正六边形蜂窝孔用于插接紫外光耦合器，内层的圆孔直径或多边形内切圆直径大于外层的圆孔直径，外层避开上层灯座圆孔制作有冷却水孔。
3.如权利要求1或2所述的一种曝光机的光纤导光UVLED光源机构，其特征在于：所述的散热装置的材料为铝合金，在外侧设有散热片。
4.如权利要求1或2所述的一种曝光机的光纤导光UVLED光源机构，其特征在于：所述的UVLED灯珠灯座为圆柱形，紫外光耦合器外部为圆柱形或正方形或正六边形。
5.如权利要求1所述的一种曝光机的光纤导光UVLED光源机构，其特征在于：所述的光纤的输入端和输出端包层和光纤芯的直径沿光轴保持相同或逐渐变大，变大锥度不超过3°。
6.如权利要求1所述的一种曝光机的光纤导光UVLED光源机构，其特征在于：所述的固定套为台阶轴套，台阶轴套的内面为圆柱孔或圆锥孔，配合光纤的圆柱面或锥面，台阶轴套的外面为圆柱面，台阶轴套通过螺丝固定安装在固定板的固定孔内。
7.如权利要求1或6所述的一种曝光机的光纤导光UVLED光源机构，其特征在于：所述的固定板的固定孔呈错位排布，固定板连接在曝光机内部PCB板两侧的机架。
8.如权利要求1所述的一种曝光机的光纤导光UVLED光源机构，其特征在于：所述的冷却系统为液态冷却系统或气态冷却系统。
CN202310241166.1A 2023-03-11 2023-03-11 一种曝光机的光纤导光uvled光源机构 Active CN116088281B (zh)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN202310241166.1A CN116088281B (zh) 2023-03-11 2023-03-11 一种曝光机的光纤导光uvled光源机构

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN202310241166.1A CN116088281B (zh) 2023-03-11 2023-03-11 一种曝光机的光纤导光uvled光源机构

Publications (2)

Publication Number Publication Date
CN116088281A true CN116088281A (zh) 2023-05-09
CN116088281B CN116088281B (zh) 2023-10-10

Family

ID=86214233

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN202310241166.1A Active CN116088281B (zh) 2023-03-11 2023-03-11 一种曝光机的光纤导光uvled光源机构

Country Status (1)

Country Link
CN (1) CN116088281B (zh)

Citations (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20030091277A1 (en) * 2001-11-15 2003-05-15 Wenhui Mei Flattened laser scanning system
CN101285911A (zh) * 2007-04-12 2008-10-15 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司 使用光纤对光敏材料进行图案化的无掩模方法与结构
CN104483813A (zh) * 2014-12-01 2015-04-01 东莞科视自动化科技有限公司 一种曝光机光源改造方法及uvled光源机构
CN106019859A (zh) * 2016-07-22 2016-10-12 合肥芯碁微电子装备有限公司 一种用于激光直写曝光机的高功率紫外半导体激光器
KR20170029917A (ko) * 2015-09-08 2017-03-16 주식회사 필옵틱스 자외선 led 광원을 이용한 근접 노광 장치
CN209070304U (zh) * 2018-09-30 2019-07-05 中山新诺科技股份有限公司 一种双面无掩模光刻系统
CN209656948U (zh) * 2019-04-03 2019-11-19 武汉荆楚上品科技有限公司 一种光纤耦合器
KR102264491B1 (ko) * 2020-11-10 2021-06-15 김명진 포토레지스트 노광용 광원장치

Patent Citations (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20030091277A1 (en) * 2001-11-15 2003-05-15 Wenhui Mei Flattened laser scanning system
CN101285911A (zh) * 2007-04-12 2008-10-15 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司 使用光纤对光敏材料进行图案化的无掩模方法与结构
CN104483813A (zh) * 2014-12-01 2015-04-01 东莞科视自动化科技有限公司 一种曝光机光源改造方法及uvled光源机构
KR20170029917A (ko) * 2015-09-08 2017-03-16 주식회사 필옵틱스 자외선 led 광원을 이용한 근접 노광 장치
CN106019859A (zh) * 2016-07-22 2016-10-12 合肥芯碁微电子装备有限公司 一种用于激光直写曝光机的高功率紫外半导体激光器
CN209070304U (zh) * 2018-09-30 2019-07-05 中山新诺科技股份有限公司 一种双面无掩模光刻系统
CN209656948U (zh) * 2019-04-03 2019-11-19 武汉荆楚上品科技有限公司 一种光纤耦合器
KR102264491B1 (ko) * 2020-11-10 2021-06-15 김명진 포토레지스트 노광용 광원장치

Also Published As

Publication number Publication date
CN116088281B (zh) 2023-10-10

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US5436805A (en) Thermally insulated distributed light network from a central light source
CN110687687B (zh) 一种激光光斑匀化装置
US4727380A (en) Photosensitive printing apparatus
CN105377784A (zh) 用于固化光纤的复合椭圆反射器
US7802910B2 (en) Light guide exposure device
JP2948248B2 (ja) 合成光フアイバーのための伝送源
CN116088281B (zh) 一种曝光机的光纤导光uvled光源机构
WO2012128547A2 (ko) Ｌｅｄ 램프
CN216837697U (zh) 一种风冷式led光源光纤固化炉
CN100454044C (zh) 光源匀光光纤低损传导投光装置
CN210140531U (zh) 一种光缆生产六芯固化炉
CN209656948U (zh) 一种光纤耦合器
KR20080013083A (ko) 자외선 엘이디를 이용한 자외선 잉크 경화장치
CN206439738U (zh) 一种led光导昼间行驶灯
CN201487678U (zh) Uv快速固化设备
CN220146690U (zh) 一种紫外线固化机
CN203329200U (zh) 高能窄谱治疗仪
CN201014334Y (zh) 光源匀光光纤低损传导投光装置
CN216202729U (zh) 黑板灯
CN211655311U (zh) 一种激光器
CN216718902U (zh) 一种曝光机应用模组
CN116697294B (zh) 一种异形车灯光导组件和车辆
CN220523945U (zh) 一种光固化3d打印机光源的装置
CN215910327U (zh) 一种生化检测仪器光源均光装置和生化检测仪器
CN219871848U (zh) 一种光波导结构

Legal Events

Date Code Title Description
PB01 Publication
PB01 Publication
SE01 Entry into force of request for substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
GR01 Patent grant
GR01 Patent grant