CN116075347A - 用于评估系统惰性的方法 - Google Patents

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Abstract

本公开涉及用于评估系统惰性(诸如LC或其他流体系统的惰性)的方法。一些方法涉及测试，其中在将包括阳性(例如，金属反应部分)对照的样品注射到系统中之前已经移除柱。一些方法可以包括:(1)将样品重复注射到系统中，该系统包括：流体路径，其中流体路径的内表面限定润湿表面，并且其中流体流动路径的润湿表面的至少一部分涂覆有惰性涂层，其中惰性涂层对于样品中的至少一种分析物是惰性的；(2)检测与阳性对照相关联的值；以及(3)分析与检测到的阳性对照相关联的值以确定系统惰性。

Description

用于评估系统惰性的方法
相关申请的交叉引用
本申请要求于2020年9月16日提交并且标题为“用于评估系统惰性的系统(Systems for the Evaluation of System Inertness)”的美国临时专利申请第63/079,156号的优先权和权益。本申请也要求于2020年9月16日提交并且标题为“系统惰性的评估(Evaluation of System Inertness)”的美国临时专利申请第63/079,160号的优先权和权益。这两个申请的内容全文以引用方式并入本文。
技术领域
本公开涉及用于评估系统惰性的系统。更具体地，本技术涉及用于评估诸如惰性液相色谱系统之类的系统是否适当地运行并且是否惰性的系统。
背景技术
液相色谱(LC)是一种分析分离技术，其能够基于混合物的化合物与固定相之间的差异相互作用(定义为主要相互作用)来分离化学物质的混合物，该主要相互作用是混合物、设计的固定相与来自具体选择的流动相/环境条件的调节之间的预期相互作用。这些相互作用取决于许多受控变量，例如流动相组成、温度和流速。因为给定分离的分析品质因数取决于大量变量，这些变量直接影响主要化学相互作用的范围和程度，所以小心地通过仔细制备流动相、适当恒温控制设备和使用可重复制造的色谱柱，在一致的设定点操作。
发明内容
一般而言，本技术涉及用于评估系统(例如色谱系统或流体系统)以确定特定应用的适用性的方法。特别地，本技术可以利用一个或多个系统(例如样品注射器、熔块和各种其他部件)来评估LC系统的惰性。例如，当评估系统惰性时，系统可以仅使用阳性对照(表面相互作用探针)。可以用色谱柱或不用色谱柱进行一组连续注射。除了阳性对照之外，阴性对照(非相互作用探针)可在单次注射并且与其他检测器诸如荧光、紫外/可见(UV/Vis)吸收或MS一起的情况下使用，诸如通过具有独特光谱特性的阳性和阴性对照分子的光学检测。阳性对照和阴性对照也可以在单次注射和没有色谱柱的情况下使用，诸如使用具有不同激发和发射光谱带的分子的荧光检测。从本技术的系统收集的信息可被分析者用于确定系统是否适合于特定分离，例如确定当分离金属敏感性分析物时系统是否对金属相互作用是惰性的。
在一个方面，本技术涉及一种用于评估系统惰性的方法。该方法包括将样品重复注射到系统中(例如，两次或更多次、三次或更多次、5次或更多次、六次或更多次、10次或更多次等)，其中样品包括阳性对照，系统包括流体路径，其中流体路径的内表面限定润湿表面，并且其中流体路径的润湿表面的至少一部分涂覆有惰性涂层，并且其中惰性涂层对于样品中的至少一种分析物是惰性的。该方法还包括检测与阳性对照相关联的值；以及分析与检测到的阳性对照相关联的值以确定系统惰性。
上述方面可以包括以下特征中的一个或多个特征。在一些实施方案中，阳性对照包含金属敏感或金属螯合分子。在某些实施方案中，样品由阳性对照组成或基本上由阳性对照组成，并且系统不具有色谱柱。在某些实施方案中，样品还包括阴性对照。在包括阴性对照的实施方案中，该方法可以进一步包括检测与阴性对照相关联的值并且通过将检测到的阳性对照的量与阴性对照的量进行比较来确定系统惰性。在一些实施方案中，阳性对照和阴性对照在结构上类似。该方法的一些实施方案还可以包括：用检测器检测阴性对照，其中与检测到的阳性对照相关联的值是峰面积值，其中分析与检测到的阳性对照相关联的值以确定系统惰性包括将检测到的阳性对照的峰面积值与检测到的阴性对照的峰面积值进行比较以确定峰面积值的比率，然后将检测到的阳性对照与检测阴性对照的峰面积值的所确定比率与参考值进行比较。
在另一个方面，本技术涉及一种用于评估系统惰性的方法。本技术这一方面的方法包括：将样品注射到系统中，其中该样品包括阳性对照；用检测器检测阳性对照；并且分析与检测到的阳性对照相关联的值以确定系统惰性。该方法的系统包括样品注射器，该样品注射器具有用于注射样品的样品注射针；样品贮存器容器，该样品贮存器容器与样品注射器流体连通；位于样品注射器的下游的检测器；以及流体导管，该流体导管连接样品注射器、样品贮存器容器和检测器。流体导管、样品注射器、样品贮存器容器和检测器的内表面形成具有润湿表面的流体流动路径。流体流动路径的润湿表面的至少一部分涂覆有惰性涂层，并且其中惰性涂层对样品中的至少一种分析物是惰性的。
上述方面可以包括以下特征中的一个或多个特征。在一些实施方案中，阳性对照包含金属敏感或金属螯合分子。在某些实施方案中，样品由阳性对照组成或基本上由阳性对照组成，并且系统不具有色谱柱。在某些实施方案中，样品还包括阴性对照。在包括阴性对照的实施方案中，该方法还可包括检测阴性对照并通过将检测到的阳性对照与阴性对照的量进行比较来确定系统惰性。在一些实施方案中，阳性对照和阴性对照在结构上类似。在一些实施方案中，系统的检测器包括荧光检测器、UV/Vis吸收检测器或质谱仪中的至少一者。该方法的一些实施方案还可以包括：用检测器检测阴性对照，其中与检测到的阳性对照相关联的值是峰面积值，其中分析与检测到的阳性对照相关联的值以确定系统惰性包括将检测到的阳性对照的峰面积值与检测到的阴性对照的峰面积值进行比较以确定峰面积值的比率，然后将检测到的阳性对照与检测阴性对照的峰面积值的所确定比率与参考值进行比较。在一些实施方案中，通过将检测到的阳性对照与阴性对照的量进行比较来确定系统惰性包括计算阳性对照与阴性对照之间的峰形差异。在某些实施方案中，峰形差异的30％或更小的差异表明合适的惰性。该方面的方法的一些实施方案的特征在于多次注射样品(例如，两次或更多次、三次或更多次、四次或更多次、至少五次、五次或更多次、六次或更多次、十次或更多次等)。样品可仅包括阳性对照，或在一些实施方案中包括阳性对照和阴性对照两者。在某些实施方案中，系统内的惰性涂层包括硅氧烷部分。在一些实施方案中，系统内的惰性涂层是烷基甲硅烷基涂层。
本公开的上述方面和特征提供了优于现有技术的多种优点。在一些实施方案中，存在与用于评估系统惰性的系统相关的许多益处。本公开通过评估诸如惰性液相色谱系统之类的系统是否适当地运行并且是否是惰性的来表征系统。该信息可以防止时间和费用的资源浪费，因为系统对于特定应用的适用性的知识将消除或大大减少注定要给出不良质量结果的实验。
在一些示例中，本公开包括在给定时间隔离和测试系统的部件。在给定时间可能仅需要测试LC系统的一部分。例如，当替换LC系统的部件(例如，样品注射器或其他部件)时，可以评估该部件。仅评估系统的一部分(例如，仅评估系统的部件)对于对系统进行故障诊断以及流动路径的部件是否是惰性可能是有用或有利的。
在一些示例中，不使用色谱柱，并且使重复注射的适用性样品流经系统并到达检测器。如果检测器指示适用性样品的化合物正在增加，则可以指示该系统不是惰性的。例如，可能存在暴露的金属，并且样品缓慢地钝化暴露的金属，使得在每次注射之后检测到增加量的适用性样品。
附图说明
通过以下结合附图所作的详细描述，将更充分地理解本技术，在附图中：
图1是根据本公开的例示性实施方案的包括色谱柱和各种其他部件的色谱系统的示意图。
图2A是示出根据本公开的例示性实施方案的评估系统适用性的方法的流程图。
图2B是示出根据本公开的另一例示性实施方案的评估系统适用性的方法的流程图。
图2C是示出根据本公开的又一例示性实施方案的评估系统适用性的方法的流程图。
图3是根据本公开的一个例示性实施方案的一个代表性示例，展示使用一种金属敏感化合物并且不依赖于色谱法的惰性表面的评估测试。
图4显示使用具有涂覆的流动路径的部件的系统的ATP注射测试。总共5次不同注射的结果显示在图4中。
图5显示使用具有未涂覆的流动路径的部件的系统的ATP注射测试。总共5次不同注射的结果显示在图5中。
图6显示使用具有部分涂覆/惰性表面的UHPLC(即，图608，部分配置有混合表面技术(HST))与完全涂覆/惰性表面的UHPLC(即，图602，且配置有HST)重复注射AMPcP和咖啡因如何通过增加的峰面积相对标准偏差以及绝对回收率的降低而容易地识别暴露的金属表面。
图7A是显示在配备有PEEK(无金属)的色谱系统上的咖啡因峰和AMPcP峰的色谱图。
图7B显示用于比较图7A中提供的AMPcP和咖啡因峰形的峰比较工具。
图8A是显示在配备有乙烯桥连杂化物涂覆的色谱表面(惰性材料覆盖金属表面)的色谱系统上的咖啡因峰和AMPcP峰的色谱图。
图8B显示用于比较图8A中提供的AMPcP和咖啡因峰形的峰比较工具。
图9A是显示在配备有故意降解的亚乙基桥杂化物涂覆的色谱表面的色谱系统上的咖啡因峰和AMPcP峰的色谱图(由于预期的涂层降解导致的金属暴露)。
图9B显示用于比较图9A中提供的AMPcP和咖啡因峰形的峰比较工具。
具体实施方式
一般而言，本公开涉及用于评估系统惰性的系统。更具体地，本技术涉及用于评估诸如惰性液相色谱系统之类的系统是否适当地运行并且是否惰性的系统。
系统惰性的测试可以包括测试系统的健康，包括作为维护步骤。可以排定用于测试LC系统的特定时间，例如，在设定的时间量、设定的使用次数之后，或在使用特定化合物之后。在给定时间可能仅需要测试LC系统的一部分。例如，仅评估系统的一部分可用于对系统进行故障诊断。
所测试的内容也可以变化。同时测量多个性能特性的评估测试是期望的。这是通过使用化合物混合物采用各种色谱方法实现的。例如，单个实验可以组合色谱方法以同时评估梯度递送和暴露的金属表面。
LC分离的品质因数取决于许多难以控制的变量，其中“次级相互作用”是降低性能的常见来源。一个示例是在固定相二氧化硅颗粒中发现的控制不良的金属含量。颗粒中金属的不受控制的存在导致可变的次级相互作用，其可降低分析分离的质量和再现性。次级相互作用的附加来源包括色谱柱中的各种金属部件和LC流动路径部件(例如柱管、熔块、注射器针和管材)。为了减弱涉及系统表面(例如，LC流动路径部件的表面)的不期望的相互作用，分析者已经严重依赖于钝化或调节硬件表面，并且甚至通过使用离子对试剂、化学衍生和螯合剂作为流动相添加剂等等来改变分析方法。
提出的解决次级相互作用的有害作用的另一种方法涉及使用LC部件，其防止分析物与金属表面接触。这些技术包括聚醚醚酮(PEEK)或其它非金属部件、PEEK衬里的钢部件和金属部件，它们已经在表面上进行了化学改性或涂覆。经涂覆的表面的示例是使用基于气相沉积的有机硅和羧基硅烷组合物的表面技术的经涂覆的表面。Lauber等人公布的专利申请(US 20190086371A)更详细地描述这种新兴技术，并且全文以引用方式并入本文。基于此类技术的LC系统通常被描述为惰性LC。
存在可以单独或组合采用的许多方法以解决次级相互作用的存在及其对给定色谱分离质量的影响。需要一种系统来评估该系统是否是惰性的。因此，惰性LC系统表征方法对于评估惰性表面的适当运作是必要的，特别是当分析已知显示高度金属相互作用的化合物时。本文描述了用于惰性LC系统(例如色谱系统/装置)的系统适用性测试的技术。首先将关于图1讨论系统/装置和使系统/装置惰性化的涂层。
图1是可用于分离样品中的分析物诸如肽化合物的色谱系统/装置100的代表性示意图。系统100包括若干部件，该若干部件包括：流体管理器系统105(例如，控制流动通过系统的流动相)；管材110(其也可被微加工流体导管替换或与微加工流体导管配套使用)；流体连接器115；熔块120；色谱柱125；样品注射器135，该样品注射器包括用于将样品插入或注入流动相中的针(未示出)；用于在注射之前盛装样品的小瓶、或样品容器130；以及检测器150，诸如质谱仪。色谱柱125可以是反相柱。色谱系统/装置100的部件的内表面形成具有润湿表面的流体流动路径。流体流动路径的部件可具有至少20、至少25、至少30、至少35或至少40的长度与直径比率。流体流动路径可包括电喷针的润湿表面(未示出)。
样品贮存器130可含有具有阳性对照的样品。在一些示例中，具有阳性对照的样品还包括阴性对照。阳性对照和阴性对照的比率可根据系统(例如，系统100)和/或将进行以评估系统是否恰当运行和是否惰性的测试而变化。例如，阳性对照与阴性对照的比率可以是1:1摩尔比。在一些示例中，阳性对照或阴性对照可以变化(例如，1:2、1:3、1:4、1:5、2:1、3:1、4:1、5:1)。可以对系统流经样品后的样品的摩尔比的变化进行评估。
润湿表面的至少一部分可以具有涂层，诸如烷基甲硅烷基涂层。涂层可调整润湿表面的疏水性。涂层可通过气相沉积来施加。因此，本公开的方法和装置可包括流动系统的耐高压材料(例如，不锈钢)以及流体流动路径的润湿表面，该表面提供适当的疏水性，因此对样品的有害相互作用或不期望的化学效应可被最小化。
在一些示例中，流动路径的涂层相对于分析物诸如金属敏感化合物(例如，肽)是非结合性的。因此，分析物诸如肽化合物不与流动路径的涂层结合。
涂层可在整个系统中由从流体管理器系统105一直延伸到检测器150的管材或流体导管110提供。涂层也可被施加到流体路径的部件的部分上。即，可选择涂覆一个或多个部件或部件的部分而不是整个流体路径。例如，可对柱125的内部部分及其熔块120和流体连接器115进行涂覆，而流动路径的其余部分可保持不被修改。此外，可以对可移除/可替换的部件进行涂覆。例如，可对容纳样品的小瓶130以及熔块120进行涂覆。
在一些示例中，系统100将需要在评估开始之前被清除/清洁以便在开始测试之前建立基线以确定适用性。确保系统100处于基线可以帮助证明没有污染物。其还可用于在系统100的制造完成之后验证系统100的制备过程。例如，在制造系统100之后，可以使用图2A的方法200。
流体系统的流动路径可至少部分地由管材的内表面限定。流体系统的流动路径还可被描述为至少部分地由微制造流体导管的内表面限定。并且流体系统的流动路径可至少部分地由柱的内表面或至少部分地由通过系统的通道(例如，通过熔块的通道)描述。流体系统的流动路径还至少部分地由样品注射针的内表面或从样品注射针的内表面延伸遍及柱的内表面描述。此外，流动路径可被描述为从设置在整个流体系统中的样品注射针的内表面上游并与其流体连通的样品容器(例如，小瓶)延伸到连接器/检测器的端口。
在经涂覆的或惰性流体系统的一些示例中，仅色谱柱的润湿表面和位于色谱柱上游的部件是涂覆有例如烷基甲硅烷基涂层，而位于柱下游的润湿表面未被涂覆。可经由气相沉积将涂层施加到润湿表面上。类似地，实验室器具或其他流体处理装置的“润湿表面”可受益于烷基甲硅烷基涂层。这些装置的“润湿表面”不仅包括流体流动路径，而且还包括位于流体流动路径内的元件。例如，固相萃取装置内的熔块和/或膜与流体样品接触。因此，不仅固相萃取装置内的内壁，而且任何熔块/膜都包括在“润湿表面”的范围内。术语“润湿表面”是指装置(例如，色谱柱、色谱注射系统、色谱流体处理系统、实验室器皿、固相提取装置、移液管顶端、离心管、烧杯、透析室等)内与流体(尤其是含有所关注分析物的流体)接触的所有表面。
在以沿着润湿表面或在润湿表面上的惰性涂层为特征的实施方案中，润湿表面的至少一部分涂覆有烷基甲硅烷基涂层。烷基甲硅烷基涂层对于样品中的分析物中的至少一种是惰性的。
在一些实施方案中，烷基甲硅烷基涂层是有机二氧化硅涂层。在某些实施方案中，烷基甲硅烷基涂层是形成润湿表面或涂覆润湿表面的杂化无机/有机材料。
涂层(例如烷基甲硅烷基涂层)可具有至少约15°的与水的接触角。在一些实施方案中，该涂层可具有小于或等于30°的接触角。接触角可小于或等于约115°。在一些实施方案中，涂层的接触角介于约15°至约90°之间，在一些实施方案中介于约15°至约105°之间，并且在一些实施方案中介于约15°至约115°之间。例如，涂层的接触角可为约0°、5°、10°、15°、20°、25°、30°、35°、40°、45°、50°、55°、60°、65°、70°、75°、80°、85°、90°、95°、100°、105°、110°或115°。
涂层(例如，烷基甲硅烷基涂层)的厚度可为至少约
Figure BDA0004124082210000081
例如，厚度可介于约
Figure BDA0004124082210000082
至约
Figure BDA0004124082210000083
之间。涂层的厚度可为约
Figure BDA0004124082210000084
Figure BDA0004124082210000085
Figure BDA0004124082210000086
或
Figure BDA0004124082210000087
涂层(例如，气相沉积的烷基甲硅烷基涂层)的厚度可通过肉眼进行光学检测。例如，较高的不透明度和着色指示较厚的涂层。当在全光谱光(诸如太阳光)下观察到涂覆的部件时，从薄到厚，颜色从黄色，变成紫色，变成蓝色，变成略微绿色，然后变回黄色。例如，当烷基甲硅烷基涂层的厚度为
Figure BDA0004124082210000091
时，涂层可呈现黄色并反射峰值波长在560nm和590nm之间的光。当烷基甲硅烷基涂层的厚度为
Figure BDA0004124082210000092
时，涂层可呈现紫色并反射峰值波长在400nm和450nm之间的光。当烷基甲硅烷基涂层的厚度为
Figure BDA0004124082210000093
时，涂层可呈现蓝色并反射峰值波长在450nm和490nm之间的光。参见例如Faucheu等人的Relating Gloss Loss to Topographical Features of a PVDF Coating(PVDF涂层的光泽度损失与地形特征的关系)，2004年10月6日公布；Bohlin、Erik的Surface and PorousStructure of Pigment Coatings(颜料涂层的表面和多孔结构)、Interactions withflexographic ink and effects of print quality(与柔性版油墨的相互作用及其对印刷质量的影响)，Dissertation，Karlstad University Studies，2013:49。
涂层可以是气相沉积的双(三氯甲硅烷基)乙烷、双(三甲氧基甲硅烷基)乙烷、双(三氯甲硅烷基)辛烷、双(三甲氧基甲硅烷基)辛烷、双(三甲氧基甲硅烷基)己烷或双(三氯甲硅烷基)己烷的产物。涂层包含由气相沉积的试剂赋予的硅氧烷部分。
在一些方面，润湿表面的至少一部分涂覆有多层相同或不同的烷基甲硅烷基，其中烷基甲硅烷基涂层的厚度与所进行的分层步骤的数量(例如，在润湿表面上的烷基甲硅烷基涂层的沉积层的数量)相关。
色谱装置可具有多个烷基甲硅烷基涂层。例如，第二烷基甲硅烷基涂层可与第一烷基甲硅烷基涂层直接接触。
在一个方面，涂层是正癸基三氯硅烷、(3-缩水甘油基氧基丙基)三甲氧基硅烷(GPTMS)、水解之后的(3-缩水甘油基氧基丙基)三甲氧基硅烷(GPTMS)、2-(3,4-环氧基环己基)乙基三甲氧基硅烷、三甲基氯硅烷、三甲基二甲基氨基硅烷、甲氧基-聚乙烯氧基(3)硅烷、丙基三氯硅烷、丙基三甲氧基硅烷、(十七氟-1,1,2,2-四氢癸基)三(二甲基氨基)硅烷、(十七氟-1,1,2,2-四氢癸基)三氯硅烷、(十七氟-1,1,2,2-四氢癸基)三甲氧基硅烷、乙烯基三氯硅烷、乙烯基三甲氧基硅烷、烯丙基三氯硅烷、2-[甲氧基(聚乙烯氧基)3丙基]三氯硅烷、2-[甲氧基(聚乙烯氧基)3丙基]三甲氧基硅烷或2-[甲氧基(聚乙烯氧基)3丙基]三(二甲基氨基)硅烷。
流动路径部件可由钛、诸如
Figure BDA0004124082210000101
(购自Best Stainless&Alloys,Houston,TX)的合金、不锈钢或其它金属制成。流动路径部件包括但不限于管材、微制造流体导管、柱熔块、柱入口管材、和样品注射针。可通过气相沉积用一种或多种所公开的烷基硅烷来涂覆流动路径部件。在一些示例中，将经涂覆的部件退火以改变它们的化学或物理性质。
对于由不锈钢或其他金属以外的其他材料制成的流动路径部件，流动路径部件可以经由气相沉积用所公开的一种或多种涂层来涂覆。特别地，可连接到注射针的样品小瓶可以被涂覆。
实验室器皿的润湿表面或实验室器皿的润湿表面的至少一些部分可经由气相沉积用一种或多种所公开的烷基甲硅烷基涂层涂覆。在一些示例中，气相沉积的涂层可使样品的吸附损失最小化。气相沉积的涂层可以是中性的(低离子性质)和亲水性的(表现出与水的接触角小于60°)。该涂层可用于减轻许多不同类型材料的问题，包括玻璃和聚合物组合物，例如聚丙烯或聚乙烯。
另选地，可商购获得的气相沉积涂层可用于所公开的系统、装置和方法中，包括但不限于
Figure BDA0004124082210000102
和
Figure BDA0004124082210000103
(两者可从宾夕法尼亚州贝尔丰特的SilcoTek公司(SilcoTekCorporation,Bellefonte,PA)商购获得)。该制造方法描述于2015年4月7日提交的名称为“热化学气相沉积涂覆的制品和过程(Thermal Chemical Vapor Deposition CoatedArticle and Process)”的美国申请序列号14/680,669中，该申请要求2014年4月8日提交的美国临时申请号61/976,789的优先权和权益。各专利申请的内容全文以引用方式并入本文。
在一个方面，烷基甲硅烷基涂层增强金属的腐蚀性能，例如在金属色谱柱中。根据密度和厚度，涂层充当屏障，从而防止水和腐蚀性分子与基体金属反应。提高疏水性和密度改善了腐蚀性能。
在一些实施方案中，用硅烷化试剂改性烷基甲硅烷基涂层以获得期望的表面性质。硅烷化试剂可以是非挥发性两性离子。非挥发性两性离子可以是磺基甜菜碱或羧基甜菜碱。在一些实施方案中，硅烷化试剂为酸性或碱性硅烷。硅烷化试剂可以引入聚环氧乙烷部分。
LC系统的其它部件也可包括本文所述的涂层，例如管材、熔块和/或连接器。LC系统可用于分离金属敏感性分析物，例如生物分子、蛋白质、聚糖、肽、寡核苷酸、杀虫剂、双膦酸、阴离子代谢物和两性离子(如氨基酸和神经递质)，该LC系统包括多个/不同的(例如，管材和熔块)涂覆的部件以最小化或消除沿着流体流动路径内的润湿表面的金属的存在。
实施方案可针对实验室器皿而不是色谱部件。例如，可以使用本文所述的方法来测试已经涂覆有烷基甲硅烷基涂层的烧杯、提取装置、移液管顶端、透析室、自动取样机小瓶或板中的一者或多者的适用性。
涂层提供一种如何使系统(诸如LC系统)适合使用的方法。涂覆的另一个可能的替代方案可以是使用液体溶剂(诸如例如硝酸)来钝化该系统。还可通过使用非金属表面(包括聚醚醚酮或类金刚石碳)使系统惰性化。涂层也可以是通过电荷气相沉积或原子层沉积而沉积的表面或组合物。在使系统惰性化之后，然后需要测试系统以确定该系统是否合适。本文描述了用于系统(诸如惰性LC系统)的系统适用性测试的技术。
图2A是示出根据本公开的例示性实施方案的评估系统适用性的方法200的流程图。该方法具有某些任选的步骤，如围绕特定步骤的虚线轮廓所指出的。方法200可以从隔离系统202的部件开始。可能期望在给定时间仅测试LC系统的一部分。在给定时间可能仅需要测试LC系统的一部分。当替换LC系统的部件(例如，样品注射器或其他非柱部件)时，可以评估该部件。仅评估系统的一部分(例如，仅评估系统的部件)可用于对系统进行故障诊断。例如，分析者知道系统正在提供不准确的结果，但可能不知道不准确结果的原因。通过测试单个部件，分析者可以确定什么部件不是惰性的并且负面地影响系统的结果。可被隔离并测试的部件包括实验室器皿或其它流体处理装置。实施方案可以涉及代替色谱部件的实验室器皿，诸如已经涂覆有烷基甲硅烷基涂层的烧杯、提取装置、移液管顶端、透析室、自动取样机小瓶或板。
如所指出的那样，隔离系统202的部件是可选的。在一些示例中，将需要评估整个系统/装置的适用性。适用性样品可以流动204经过系统，例如系统/装置100。适用性样品可含有一种化合物或若干种化合物。样品含有如本文所述的阳性对照。在样品流经该系统之后，可以使用色谱检测器来评估适用性样品并且因此评估流动路径的部件是否是惰性的。
在使适用性样品流动204期间或之后，方法200包括评估系统206。存在可以单独或组合采用的许多方法以解决次级相互作用的存在及其对给定分离质量的影响。惰性系统表征方法对于评价惰性表面的适当运作是必需的。
图2B是示出根据本公开的例示性实施方案的评估系统适用性的方法210的流程图。类似于方法200，方法210可以包括任选的步骤，其是任选的，如由围绕特定步骤的虚线轮廓所指出的。方法210包括隔离系统的部件212的任选的第一步骤。与方法200相反，方法210的样品包括阳性对照和阴性对照。方法210包括使含有阳性对照和阴性对照的样品流经系统(例如系统100)214。在一些实施方案中，系统适用性分析与注射与表面相互作用的敏感探针(阳性对照)和非相互作用探针(阴性对照)同时进行。在一些实施方案中，系统适用性分析通过重复注射与表面相互作用的敏感探针(阳性对照)和随后重复注射非相互作用探针(阴性对照)来进行。在一些实施方案中，首先重复注射非相互作用探针(阴性对照)，然后重复注射相互作用探针(阳性对照)。
方法210包括对系统216进行评估。在一些示例中，评估系统包括比较阳性对照和阴性对照的峰面积比以确认系统适用性。如果阳性对照与阴性对照的比率足够高，则认为该系统具有良好的系统健康并且适于进行分析。在一些示例中，足够高是大于0.5、0.6、0.7、0.8、0.9或小于1.1，其中1.0的比率指示分析物与系统流动路径相互作用没有损失。被认为足够高的比率可以基于所选择的阴性对照和阳性对照而变化。例如，与暴露的金属强烈相互作用的阳性对照(例如ATP或AMPcP)可以具有0.75或0.8的比率范围的下限。
在一些示例中，分析者可以调整系统以便以1.0的比率为目标，并且分析者可以基于分析者/系统的需要确定比率的可接受值的较低范围。通过将检测到的阳性对照与阴性对照的量进行比较来确定系统适用性包括确定系统对阳性对照的惰性和/或指示沿着系统的流动路径沉积的惰性涂层的完整性。
用于评估与光学或MS检测器耦接的惰性LC系统的适用性的技术之一涉及腺苷-5'-三磷酸(ATP)和腺苷的等摩尔溶液的色谱分离和检测。这两种化合物共有发色团并因此共有最大UV吸收波长259nm，以及在所述波长下显示相同的消光系数，在pH 7.0下E＝15400。这两种化合物之间的差异是一系列三个磷酸酯基团，已知它们与金属相互作用。因为ATP含有金属相互作用部分而腺苷不含金属相互作用部分，所以腺苷充当结构类似的阴性对照化合物。此外，阳性对照和阴性对照化合物(诸如ATP和腺苷)的疏水性的显著差异(Log P-5.5对-1.05)确保了它们在反相色谱分离中的解析。logP值相差大于一的两种化合物是期望的。腺苷5'-(α,β-亚甲基)二磷酸(AMPcP)是腺苷的另一配对(分别为Log P-4.8对-1.05)。
图2C是示出根据本公开的例示性实施方案的评估系统适用性的方法220的流程图。类似于方法200和方法210，方法220可以包括任选的步骤，这些任选的步骤是任选的，如围绕特定步骤的虚线轮廓所指出的。方法220包括任选的隔离系统的部件222的第一步骤。方法220的样品包括阳性对照。与方法210相反，方法220不包括阴性对照。方法220包括使含有阳性对照的样品重复流经系统(例如系统100)224。
方法220包括对系统进行评估226。在一些示例中，系统不包含色谱柱。当对重复注射进行测试时，观察跨注射的一致性是诊断性的。对于所检测的样品，运作良好的系统将显示跨注射的一致的结果。并且这些结果应该是可再现的。具有暴露的金属的系统将显示跨注射的变化。并且用于评估系统的注射次数可基于系统的部件以及样品的化合物而变化。在一些示例中，存在至少3次注射、3-50次注射或4-20次注射。
峰面积再现性、峰形和峰形再现性的比较允许表征液相色谱和色谱柱的表面惰性和在应用中使用的适用性。该比较将使用已知结合金属的一种或多种化合物来测量表面惰性和适用性。在一些示例中，ATP和腺苷之间的相对面积可用于评估系统中金属相互作用的程度，同时考虑非次级相互作用变化(例如注射体积)。此外，ATP化合物的峰形的评估可用于表征系统适用性。
在一些示例中，表征系统的方法包括向系统引入具有阳性对照和阴性对照的样品(例如，适用性样品)。阳性对照是与系统相互作用的敏感探针，而阴性对照基本上不与系统相互作用。在一些示例中，基本上不与系统相互作用的化合物可定义为不含金属相互作用部分的化合物或不含一个或多个强电负性部分(诸如pKa低于5的酸性残基)的分子。该方法还可包括检测阳性对照和阴性对照，并通过将检测到的阳性对照与阴性对照的量进行比较来确定系统适用性。
通过将检测到的阳性对照与阴性对照的量进行比较来确定系统适用性可以包括确定检测到的阳性对照与阴性对照的比率。如果阳性对照与阴性对照的比率足够高，则认为该系统具有良好的系统健康并且适于进行分析。在一些示例中，足够高是大于0.5、0.6、0.7、0.8、0.9或小于1.1，其中1.0的比率指示分析物与系统流动路径相互作用没有损失。在一些示例中，分析者可以调整系统以便以1.0的比率为目标，并且分析者可以基于分析者/系统的需要确定比率的可接受值的较低范围。通过将检测到的阳性对照与阴性对照的量进行比较来确定系统适用性包括确定系统对阳性对照的惰性和/或指示沿着系统的流动路径沉积的惰性涂层的完整性。
确定系统适用性可包括测试系统的一个部件，例如样品注射器。样品可能不利地影响其它部件。样品可具有腐蚀性或其它破坏性组分。为了保护系统的其它部件，可以仅测试系统的一部分。
检测阳性对照和阴性对照可以使用液相色谱-光学、液相色谱-质谱或液相色谱-光学-质谱的配置，其中光学表示UV/Vis吸光度或荧光检测器。适用性样品的流动也可以被分流。
表征系统可以是系统的先前确定的维护步骤。例如，可以在先前确定的使用次数或先前确定的时间量之后排定维护步骤。在其他实施方案中，表征系统可以在长的或极长的分离或运行(例如，一天或多天运行)之前发生，以确保在启动长程序之前的适用性。在某些实施方案中，表征系统可以在分离昂贵或珍贵的样品之前发生。在一些实施方案中，表征系统可在高度金属敏感样品或倾向于已知系统环境适用性问题的样品/应用的分离之前发生。
熔块吸附测试可以使用超高效液相色谱(UPHLC)系统，诸如配备有可调UV检测的ACQUITY系统(可从Waters Corporation,Milford,MA获得)进行。在一些示例中，系统配备有PEEK针、HST处理的样品回路(杂化表面技术(HST)，惰性涂覆的部件，可得自马萨诸塞州米尔福德市的沃特斯公司(Waters Corporation，Milford，MA))和PEEK管代替主动预加热器以从样品流动路径中除去任何金属，正在评估的熔块除外。熔块的一些示例性尺寸包括0.2微米级、4.6mm直径和1.5mm厚。系统可用于仅测试熔块，而不需要柱。熔块吸附实验可以使用80:20乙腈:水以0.5mL/min和30℃的烘箱温度进行。ATP和AMPcP(各为阳性对照探针)均可以在水中4.25μg/mL的浓度使用，并在260nm处监测。该方法可包括2.4微升注射，注射质量为约10纳克。
金属敏感化合物的第一吸附测试的5次注射的平均峰面积可用于在流动路径中不存在金属的情况下的基线性能。在给系统设基线之后，可将各种材料的熔块引入到流动路径中，且可再次收集金属敏感化合物的5次注射的平均峰面积作为代表性结果。基线值和实验值之间的差异可用于证明金属敏感化合物至各种熔块材料的吸附。在一些示例中，在该测试中采用的10ng注射量远低于测试表面的最大结合容量。连续注射循环可以产生可重复的样品损失，直到和超过第10次注射。
一个示例包括比较ATP与AMPcP的金属结合，其中进行5次10ng ATP注射，并与随后5次AMPcP注射的组进行比较。在用ATP和AMPcP测试之间，可以注射5次0.3％(v/v)氨(水溶液)以除去任何吸附的测试分析物。该测试的另一示例性用途是用于隔离和测试该系统的熔块部件。可以测试不同的熔块材料的适用性。另选地，可评估在不同的使用阶段的熔块材料(寿命/使用预期的开始；在一些使用/降解之后；在寿命/使用的预期终点)。
图3是根据本公开的一个例示性实施方案的一个代表性示例，展示使用一种金属敏感化合物并且不依赖于色谱法的惰性表面的评估测试。具体地，图3显示证明通过频带展宽测量来测量ATP的能力的代表性示例。
峰面积、峰形状和这些度量在重复注射期间的任何变化的比较使得分析者能够表征液相色谱的流动路径表面以减弱金属相互作用。在一些示例中，仅使用阳性对照探针并且进行一组连续注射，而没有在自动进样器与检测器之间直排的色谱柱。如果在跨重复注射观察到回收率、峰面积、峰高度、峰宽和/或峰对称性的最小变化，则证明系统适用于分析。
在一些示例中，不使用色谱柱，并且使重复注射的适用性样品流经系统并到达检测器。如果检测器指示适用性样品的化合物正在增加，则可以指示该系统不是惰性的。例如，可能存在暴露的金属，并且样品缓慢地钝化暴露的金属，使得在每次注射之后检测到增加量的适用性样品。
实施例1(如下所述并显示在图3中)证明仅通过实施频带展宽试验就能够表征利用ATP的惰性LC流动路径。使用惰性的PEEK 0-体积管接头代替柱。然后将测量的峰面积和峰对称性与在证实为惰性的LC系统上建立的参考值进行比较。
表1示出利用ATP的所述注射适用性测试(即，没有用于测试的柱)的最小规格。最小规格取决于仪器平台。例如，具有不同流动路径部分(由不同材料、不同长度的管材构成)的超高效液相色谱(UHPLC)的不同变体以及具有不同耦合检测器或配置(具有或不具有分流的LC-光学、LC-MS、LC-光学-MS，其中光学表示UV/Vis吸光度或荧光检测器)的平台可以提供不同结果。根本原因涉及从样品注射到检测引入到流动路径中的暴露的金属的量。随着暴露的金属增加，在测试探针的所得测量结果中存在相应变化。
表1：系统惰性的最小规格
Figure BDA0004124082210000161
如本文所述，最小规格取决于仪器平台，包括样品组分诸如阳性对照(例如，ATP或AMPcP)。在一些示例中，惰性系统规格的峰面积再现性和峰高度再现性可具有小于约5％、4％、3％、2.5％、2.4％、2.3％、2.2％、2.1％、2％、1.9％、1.8％、1.7％、1.6％、1.5％、1.4％、1.3％、1.2％、1.1％、1％、0.9％、0.8％、0.7％、0.6％、0.5％、0.4％、0.3％、0.2％、0.1％或任何中间数的RSD。在一些示例中，峰形可具有小于约5、4、3、2.5、2.4、2.3、2.2、2.1、2、1.9、1.8、1.7、1.6、1.5、1.4、1.3、1.2、1.1、1、0.9、0.8、0.7、0.6、0.5、0.4、0.3、0.2、0.1或任何中间数的在10％的不对称性。
考虑到腺苷和ATP易于通过UV吸光度和质谱检测来测量，上述评估方法非常适合于UV和MS。通常，需要分离或选择性形式的检测来比较单次运行中阳性对照和阴性对照两者的回收率。使用光学检测的一种形式的选择性检测可以通过具有独特光谱性质的阳性对照和阴性对照分子来实现。例如，阳性对照分子可具有独特的摩尔吸光系数和在280nm处的最大波长，而阴性对照分子可具有40nm红移的UV吸光度曲线。因此可以进行无柱注射，并且可以采用可调UV或PDA检测器来检测280对320nm处的吸光度。利用具有不同激发和发射光谱带的分子的选择性荧光检测代表了用于进行快速、无柱注射测试的又一个优选实施方案。
图4和图5显示利用腺苷-5'-三磷酸(ATP)的注射测试。图4显示利用具有涂覆的流动路径的部件的系统的ATP注射测试。与图4相反，图5显示利用具有未被涂覆的流动路径的部件的系统的ATP注射测试。在图5的示例中，生物流动路径使用未被涂覆的
Figure BDA0004124082210000171
(可从得克萨斯州休斯顿市的百斯特不锈钢合金(Best Stainless&Alloys,Houston,TX)获得)。图4和图5的测量结果包括面积和高度的相对标准偏差(RSD)以及降低的10％的不对称性。表2列出了可用于评估系统惰性的图4和5的测量结果。通过将图4的经涂覆的流动路径的测量结果与图5的生物流动路径的测量结果进行比较，图4的系统被评估为比图5的系统更惰性，这是由于降低的RSD以及10％的不对称性。
表2：ATP注射测试测量
Figure BDA0004124082210000172
尽管单个阳性对照探针(例如，在上述实施方案中为ATP)的使用可用作测试系统或其一部分的性能的方法的一部分，但使用阳性对照和阴性对照两者来测试系统的适用性可以是有利的。例如，在仅注射ATP且反应低于预期的情形下，人们将推测结果是由于金属相互作用还是由于系统的机械方面。为了将金属相互作用的影响与其它系统性能问题区分开，实施第二对照(即，阴性对照探针，不与金属相互作用的探针)。
图6显示AMPcP(阳性对照探针)和咖啡因(阴性对照探针)在乙烯桥接的HST LC系统上的代表性色谱图(顶部色谱图，602；AMPcP，604；咖啡因，606)与其中一部分被MP35N等效物交换的相同系统上的代表性色谱图(底部色谱图，608；AMPcP，614；咖啡因，612)的重叠图。即，图6显示了在乙烯桥接的HST LC系统上与部分惰性系统上的咖啡因(606、612)和AMPcP(604、614)的注射的重叠图，在部分惰性系统中一个部件(代表流动路径表面积的约40％)被MP35N部件(即，具有暴露的金属的部件)代替。系统配置包括使用0体积管接头来代替柱(即，没有柱)。将AMPcP和咖啡因的样品保持在10℃，并使用等度法以0.5μL/分钟的流速分析1μL注射。该方法以两分钟的运行时间实施。以特定顺序进行流动注射测量，从六次注射0.3％(v/v)氨(水溶液)开始，另外两分钟的平衡，三次空白注射，然后六次注射AMPcP，接着六次注射咖啡因。
图6显示用杂化表面技术(HST)部分配置(相对于完全配置)的UHPLC重复注射AMPcP和咖啡因如何通过增加的峰面积相对标准偏差以及绝对回收率的降低容易地鉴定暴露的金属表面。咖啡因的注射被研究作为系统适用性测量的一部分。咖啡因用作金属结合的阴性对照。咖啡因预计不与金属表面相互作用，因此可给出峰形和分散以及总体机械系统性能的仪器特定表示。
对于图6中描述的结果，实验方案包括最初注射0.3％氢氧化铵以清洁任何金属表面，随后多次注射AMPcP，最后多次注射咖啡因。条件包括80:20乙腈:水的流速为0.5mL/min。在六次重复注射0.3％氢氧化铵(水溶液)和用所述流动相和流速平衡两分钟后，分析AMPcP和咖啡因重复。
在该完全与部分惰性系统上运行的代表性咖啡因注射的比较(图6，顶部色谱图602与底部色谱图608比较)显示几乎相同的峰面积、峰高度、和峰形。对于完全惰性系统，峰面积、峰高度和面积RSD的平均值分别为16100μAU*秒、32000μAU和1.0％，以及对于部分惰性系统，峰面积、峰高度和面积RSD的平均值分别为16300μAU*秒、32800μAU和1.0％。在两个系统上获得的值存在良好的一致性，这证实咖啡因不经历任何显著的与金属的相互作用。另外，该信息确认两个LC配置被等效地组装并且适当地运作。能够区分系统惰性和机械性能是很重要的。将咖啡因添加到测试方案中允许这些观察结果被解耦。
与咖啡因结果(606和612)相反，AMPcP注射(604和614)证明当在完全与部分惰性系统上观察时是显著不同的。对于完全惰性系统，AMPcP峰面积和峰高度的平均值分别为18000μAU*秒和34400μAU，而对于部分惰性系统，相同值为12900μAU*秒和18100μAU。这对应于平均峰面积降低28％和平均峰高度降低47％。完全惰性系统上的AMPcP峰面积相对标准偏差为0.4％，而部分惰性系统上的相同测量值增加至4.3％。
上述数据证实用于确定系统惰性和系统性能的有效方法。上面收集的数据使用惰性系统，其中单个零件有意地变为金属零件。在一些示例中，该测试可用于确定流动路径中存在未知量的金属。重复性(或其缺乏)的观察结果可能是最能诊断金属问题的。此外，AMPcP和咖啡因之间的峰面积比可能证明是有效的。在图6中，完全惰性系统显示1.1的峰面积比(如预测的)，而部分惰性系统显示仅0.79的峰面积比，这表明一些金属敏感的AMPcP已经损失到流动路径中。
图7A、图8A和图9A提供三种不同系统的咖啡因对AMPcP峰的色谱图。用于获得图7A的峰的色谱系统配备有PEEK(惰性、不含金属的系统)。用于获得图8A的峰的色谱系统配备有乙烯桥接的杂化物涂覆的色谱表面(经由沉积在色谱表面上的有机二氧化硅涂层而成为惰性的金属系统)。用于获得图9A的峰的色谱系统配备有故意降解的乙烯桥接的杂化物色谱表面(由于涂层的降解而具有预期的金属暴露的系统)。图7A、图8A和图9A中使用的每个系统的系统配置包括使用0体积管接头代替柱(即，没有柱)。将AMPcP和咖啡因样品(AMPcP和咖啡因样品分别以4.25μg/mL在80:20的水:乙腈(v:v)中制备)保持在10℃，并使用等度法以0.5μL/min的流速分析1μL注射液。该方法以两分钟的运行时间实施。以特定顺序进行流动注射测量，从六次注射0.3％(v/v)氨(水溶液)开始，另外两分钟的平衡，三次空白注射，然后六次注射AMPcP，接着六次注射咖啡因。
图7A、图8A、和图9A的快速视觉比较说明如何使用系统适用性溶液(含AMPcP和咖啡因的等摩尔溶液)的实施方案来显示适用性(等摩尔阳性对照和阴性对照探针的峰形)与不适用性(咖啡因的峰形不同于AMPcP的峰形)相比基本上类似。
虽然重复性和峰面积比的数学计算对于确定系统惰性是有用的，但是探索了最后一种类型的数据处理，即比较获得的咖啡因和AMPcP色谱图、输出差图并且还量化迹线之间的百分比差的工具。峰观察器工具被设计成获取咖啡因和AMPcP的色谱图(即，图7A、图8A和图9A中所示的那些)并且在绘制跨越所收集的数据点的强度差异之前将它们的峰高度归一化(图7B、图8B和图9B)。将峰高度归一化以说明样品制备中的任何潜在差异。峰观察器工具因此识别两个色谱图之间的峰形和拖尾的有意义的差异。对于完全惰性系统，咖啡因和AMPcP峰的比较应给出总体低水平的差异，因为峰形将仅基于系统分散效应。然而，如果系统在流动路径中包含一些量的暴露的金属，则咖啡因峰形(702、702'和702')和AMPcP峰形(704、704'和704')的差异将被预测为更显著。使用原型峰观察器工具来处理示例流动注射测试的全PEEK流径(图7B)，与惰性乙烯桥接的涂覆表面(图8B)相比，并且确定19.88％和20.84％的差值。两者均为低水平差异(即，小于30％)且两者均在相同差异范围内(即，彼此在1％内)。同时，对于来自包括乙烯桥接的涂覆表面的色谱系统的流动注射结果，测定55.69％的％差值，其中单一部件已经通过暴露于pH 10和90℃条件的96L水溶液历经57天而被有意地和积极地降解(图9B)。具有强迫降解的LC部件的LC上的％差的显著增加证明峰可视化工具用于确定色谱流动路径内金属的存在的有用性。可以容易地实施该工具使得考虑这种类型的系统就绪测量是有吸引力的。
实施例
对于实施例的试剂和标准品，所有试剂均得自密理博-Sigma公司(马萨诸塞州柏林顿市(Millipore-Sigma(Burlington,MA))。LC-MS级乙腈得自霍尼韦尔公司(密歇根州马斯基根市)(Honeywell(Muskegon,MI))。使用Millipore Milli-Q系统制备去离子水。包括色谱柱的液相色谱系统已经通过上述有机二氧化硅的气相沉积进行处理以减弱金属相互作用。实施例1采用UV检测。
实施例1
利用UV检测腺苷-5'-三磷酸(ATP)而不用色谱法
实施例1(显示在图3中)是用于评估表面金属暴露的技术，其不涉及色谱分离并且依赖于单一金属敏感化合物的重复测量。
由ATP在水中的1mg/mL储备溶液制备由在50:50的水:乙腈中的5ng/μL ATP组成的测试样品。然后将该溶液稀释到单个样品小瓶中以产生测试样品。由于预期通过水解将ATP降解为ADP，推荐使用新鲜制备的测试样品。
方法细节见于表3中。在分析测试样品的至少5次注射之后，可以评估ATP的峰面积、再现性和峰形的结果。有效的金属相互作用减弱由跨注射一致的峰面积和峰形表明。
表3：实施例1的分离细节
Figure BDA0004124082210000211
实施例2
利用UV检测腺苷5'-(α,β-亚甲基)二磷酸(AMPcP)而不用色谱法
实施例2是用于评估表面金属暴露的技术，其不涉及色谱分离并且依赖于单一金属敏感化合物的重复测量。
由AMPcP在水中的1mg/mL储备溶液制备由在50:50的水:乙腈中的4.25ng/μLAMPcP组成的测试样品。然后将该溶液稀释到单个样品小瓶中以产生测试样品。
方法细节见于表4中。在分析测试样品的至少5次注射之后，可以评估AMPcP的峰面积、再现性和峰形的结果。有效的金属相互作用减弱由跨注射一致的峰面积和峰形表明。
表4：实施例2的分离细节
Figure BDA0004124082210000221
Figure BDA0004124082210000231
本公开的上述方面和特征提供了优于现有技术的多种优点。在一些实施方案中，存在与用于评估系统惰性的系统相关的许多益处。例如，本公开通过评估系统(诸如惰性液相色谱系统)是否适当地运行并且是否惰性来表征系统。这些实施方案和特征是可组合的。

Claims (24)

1.一种用于评估系统惰性的方法，所述方法包括：
将样品重复注射到系统中，其中所述样品包括阳性对照；所述系统包括：流体路径，其中所述流体路径的内表面限定润湿表面，并且其中所述流体流动路径的所述润湿表面的至少一部分涂覆有惰性涂层，并且其中所述惰性涂层对于所述样品中的至少一种分析物是惰性的；
检测与所述阳性对照相关联的值；以及
分析与所检测到的阳性对照相关联的所述值以确定系统惰性。
2.根据权利要求1所述的用于评估系统惰性的方法，其中所述阳性对照包括金属敏感或金属螯合分子。
3.根据权利要求1所述的用于评估系统惰性的方法，
其中所述样品由所述阳性对照组成或基本上由所述阳性对照组成，并且
其中所述系统没有色谱柱。
4.根据权利要求1所述的用于评估系统惰性的方法，其中所述样品还包括阴性对照。
5.根据权利要求4所述的用于评估系统惰性的方法，还包括检测与所述阴性对照相关联的值并通过将所检测到的阳性对照与阴性对照的量进行比较来确定系统惰性。
6.根据权利要求4所述的用于评估系统惰性的方法，其中所述阳性对照和所述阴性对照在结构上是类似的。
7.根据权利要求4所述的用于评估系统惰性的方法，所述方法进一步包括用所述检测器检测所述阴性对照，
其中与所检测到的阳性对照相关联的值是峰面积值，
其中分析与所检测到的阳性对照相关联的所述值以确定系统惰性包括将所检测到的阳性对照的所述峰面积值与所检测到的阴性对照的峰面积值进行比较以确定峰面积值的比率，并且
将所检测到的阳性对照的所述峰面积值与所检测到的阴性对照的所述峰面积值的所确定的比率与参考值进行比较。
8.根据权利要求7所述的用于评估系统惰性的方法，其中将所述样品重复注射到所述系统中包括将所述样品注射到所述系统中至少5次。
9.根据权利要求1所述的用于评估系统惰性的方法，其中将所述样品重复注射到所述系统中包括将所述样品注射到所述系统中至少5次。
10.一种用于评估系统惰性的方法，所述方法包括：
将样品注射到系统中，其中所述样品包括阳性对照；
所述系统包括：
样品注射器，所述样品注射器具有用于注射所述样品的样品注射针；
样品贮存器容器，所述样品贮存器容器与所述样品注射器流体连通；
位于所述样品注射器的下游的检测器；以及
流体导管，所述流体导管连接所述样品注射器、所述样品贮存器容器和所述检测器，
其中所述流体导管、所述样品注射器、所述样品贮存器容器和所述检测器的内表面形成具有润湿表面的流体流动路径，并且
其中所述流体流动路径的所述润湿表面的至少一部分涂覆有惰性涂层，并且其中所述惰性涂层对所述样品中的至少一种分析物是惰性的；
用所述检测器检测所述阳性对照；以及
分析与所检测到的阳性对照相关联的值以确定系统惰性。
11.根据权利要求10所述的用于评估系统惰性的方法，其中所述阳性对照包括金属敏感或金属螯合分子。
12.根据权利要求10所述的用于评估系统惰性的方法，
其中所述样品由所述阳性对照组成或基本上由所述阳性对照组成，并且
其中所述系统没有色谱柱。
13.根据权利要求10所述的用于评估系统惰性的方法，其中所述样品还包括阴性对照，并且其中注射所述样品包括注射所述阳性对照和所述阴性对照。
14.根据权利要求13所述的用于评估系统惰性的方法，其中所述阳性对照和所述阴性对照在结构上是类似的。
15.根据权利要求13所述的用于评估系统惰性的方法，其中所述检测器包括荧光检测器、UV/Vis吸光度检测器或质谱仪中的至少一者。
16.根据权利要求13所述的用于评估系统惰性的方法，还包括检测所述阴性对照并通过将所检测到的阳性对照与阴性对照的量进行比较来确定系统惰性。
17.根据权利要求13所述的用于评估系统惰性的方法，所述方法进一步包括用所述检测器检测所述阴性对照，
其中与所检测到的阳性对照相关联的值是峰面积值，
其中分析与所检测到的阳性对照相关联的所述值以确定系统惰性包括将所检测到的阳性对照的所述峰面积值与所检测到的阴性对照的峰面积值进行比较以确定峰面积值的比率，并且
将所检测到的阳性对照的所述峰面积值与所检测到的阴性对照的所述峰面积值的所确定的比率与参考值进行比较。
18.根据权利要求10所述的用于评估系统惰性的方法，其中注射所述样品包括将阴性对照和所述阳性对照注射到所述系统中，并且其中所述系统没有色谱柱。
19.根据权利要求18所述的用于评估系统惰性的方法，其中所述检测器包括荧光检测器、UV/Vis检测器或质谱仪中的至少一者。
20.根据权利要求10所述的用于评估系统惰性的方法，其中所述样品由所述阳性对照组成或基本上由所述阳性对照组成，所述方法还包括将所述样品多次注射到所述系统中。
21.根据权利要求10所述的用于评估系统惰性的方法，其中所述惰性涂层包含硅氧烷部分。
22.根据权利要求10所述的用于评估系统惰性的方法，其中所述惰性涂层是烷基甲硅烷基涂层。
23.根据权利要求10所述的用于评估系统惰性的方法，其中将所述样品注射到所述系统中包括将样品重复地注射到所述系统中。
24.根据权利要求10所述的用于评估系统惰性的方法，其中将所述样品重复注射到所述系统中包括将所述样品注射到所述系统中至少5次。
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