CN116061091A - 研磨液喷洒装置、化学机械抛光设备及研磨方法 - Google Patents

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CN116061091A CN202111268855.9A CN202111268855A CN116061091A CN 116061091 A CN116061091 A CN 116061091A CN 202111268855 A CN202111268855 A CN 202111268855A CN 116061091 A CN116061091 A CN 116061091A
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Abstract

本公开提供了一种研磨液喷洒装置、化学机械抛光设备及研磨方法，该装置包括研磨液手臂；研磨液手臂包括多个第一喷嘴；多个第一喷嘴用于在第一时段喷洒研磨液和在第二时段喷洒冲洗液。该装置通过设置多个第一喷嘴能够使得研磨液从多点流出，研磨液与冲洗液共用多个第一喷嘴能够在有限的面积设置更多的研磨液喷洒点，与相关技术中单点流出研磨液的研磨液喷洒装置相比，研磨液的分散速度更快，有利于提高研磨效率。

Description

研磨液喷洒装置、化学机械抛光设备及研磨方法
技术领域
本公开涉及化学机械抛光领域，尤其涉及一种研磨液喷洒装置、化学机械抛光设备及研磨方法。
背景技术
随着半导体制程工艺的发展，化学机械抛光技术(Chemical MechanicalPolishing，CMP)得到了广泛的应用。
晶圆在研磨过程中主要是靠与研磨液接触时发生化学作用进行研磨，研磨液在研磨垫上的分布情况会对晶圆形貌造成影响。在CMP工艺制程中，研磨液通常单点流到研磨垫上面，再通过研磨垫调整清扫和旋转将研磨液分散，研磨液的分散速度通常较慢，抛光效率低。
发明内容
本公开实施例提供了一种研磨液喷洒装置、化学机械抛光设备及研磨方法，能够提高研磨液分散速度。
为此，本公开实施例提供了如下技术方案：
第一方面，本公开实施例提供了一种研磨液喷洒装置，包括研磨液手臂；
所述研磨液手臂包括多个第一喷嘴；
多个所述第一喷嘴用于在第一时段喷洒研磨液和在第二时段喷洒冲洗液。
可选地，还包括供液管路；
所述供液管路包括第一管路和第二管路；
所述第一管路包括第一进液口和第一出液口，所述第一进液口用于输入研磨液，所述第一出液口与多个所述第一喷嘴连通，以使多个所述第一喷嘴喷洒研磨液；
所述第二管路包括第二进液口和第二出液口，所述第二进液口用于输入冲洗液，所述第二出液口与多个所述第一喷嘴连通，以使多个所述第一喷嘴喷洒冲洗液。
可选地，所述研磨液手臂还包括第二喷嘴；
所述第一管路还包括第三出液口，所述第三出液口与所述第二喷嘴连通。
可选地，所述供液管路还包括三通阀；
所述三通阀包括第三进液口、第四进液口和第四出液口；
所述第三进液口与所述第一出液口连通，所述第四进液口与所述第二出液口连通，所述第四出液口与多个所述第一喷嘴连通；
在所述第一时段，所述第三进液口与所述第四出液口导通，所述第四进液口与所述第四出液口关断；
在所述第二时段，所述第四进液口与所述第四出液口导通，所述第三进液口与所述第四出液口关断。
可选地，所述研磨液手臂内具有第一通道，多个所述第一喷嘴连通所述第一通道，所述研磨液手臂上设有第一通道接口，所述第一通道接口分别连通所述第一出液口和所述第二出液口。
可选地，所述研磨液手臂内具有第二通道，所述第二喷嘴连通所述第二通道，所述研磨液手臂上设有第二通道接口，所述第二通道接口连通所述第三出液口。
可选地，所述研磨液喷洒装置还包括底座；
所述研磨液手臂设置在所述底座的上方，所述研磨液手臂的一端与所述底座转动连接。
可选地，所述第二喷嘴的数量为一个，一个所述第二喷嘴设置在所述研磨液手臂远离所述底座的一端。
可选地，多个所述第一喷嘴沿所述研磨液手臂的长度方向排列设置。
可选地，相邻的两个所述第一喷嘴之间的间距相同。
可选地，沿着远离所述底座的方向，相邻的两个所述第一喷嘴之间的间距逐渐增大。
可选地，多个所述第一喷嘴的喷射方向互相平行。
第二方面，本公开实施例提供了一种化学机械抛光设备，包括研磨盘以及上述任一实施例所述的研磨液喷洒装置；
所述研磨液手臂设置在所述研磨盘的上方，所述研磨液手臂用于向所述研磨盘喷洒研磨液或冲洗液。
可选地，所述研磨盘包括研磨垫和研磨台；
所述研磨垫设置在所述研磨台上；
所述研磨台用于通过转动带动所述研磨垫转动。
可选地，所述研磨盘还包括调节器；
所述调节器用于清扫所述研磨垫。
可选地，所述研磨盘还包括研磨头；
所述研磨头设置在所述研磨垫上，用于固定待研磨产品。
可选地，所述研磨台的转速为30-70转/分钟。
第三方面，本公开实施例提供了一种研磨方法，采用上述任一实施例所述的研磨液喷洒装置喷洒研磨液。
本公开实施例中提供的一个或多个技术方案，具有如下优点：
本公开实施例提供的研磨液喷洒装置通过设置多个第一喷嘴能够使得研磨液从多点流出，研磨液与冲洗液共用多个第一喷嘴能够在有限的面积设置更多的研磨液喷洒点，与相关技术中单点流出研磨液的研磨液喷洒装置相比，研磨液的分散速度更快，有利于提高研磨效率。
附图说明
图1示出了一相关技术的研磨液喷洒装置的示意图；
图2示出了图1所示的研磨液喷洒装置使用时的研磨液分布示意图；
图3示出了本公开一实施例的研磨液喷洒装置的示意图；
图4示出了本公开一实施例的研磨液手臂的示意图；
图5示出了本公开另一实施例的研磨液手臂的示意图；
图6示出了图3所示的研磨液喷洒装置使用时的研磨液分布示意图；
图7示出了本公开一实施例的供液管路的示意图；
图8示出了本公开一实施例的化学机械抛光设备的示意图。
附图标记：
1：第一研磨液手臂；12：研磨液喷嘴；13：第一研磨垫；14：第一喷洒面；
2：供液管路；21：第一管路；211：第一进液口:212：第一出液口；213：第三出液口；22：第二管路；221：第二进液口；222：第二出液口；
3：研磨液手臂；31：第一喷嘴；32：第二喷嘴；33：第二喷洒面；34：第一通道:341：第一通道接口:35：第二通道:351：第二通道接口；
4：三通阀；41：第三进液口；42：第四进液口；43：第四出液口；44：转换阀门；
5：底座；
6：研磨垫；
7：调节器；71：调节臂；72：调节垫；73：调节器底座；
8：研磨头。
具体实施方式
为使本公开的目的、技术方案和优点更加清楚明了，下面结合具体实施方式并参照附图，对本公开进一步详细说明。应该理解，这些描述只是示例性的，而并非要限制本公开的范围。此外，在以下说明中，省略了对公知结构和技术的描述，以避免不必要地混淆本公开的概念。
本公开，所描述的实施例是本公开一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本公开中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本公开保护的范围。
在本公开的描述中，需要说明的是，术语“第一”、“第二”、“第三”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性。
此外，下面所描述的本公开不同实施方式中所涉及的技术特征只要彼此之间未构成冲突就可以相互结合。
图1示出了一相关技术的研磨液喷洒装置的示意图。如图1所示，该研磨液喷洒装置包括第一供液管路和第一研磨液手臂1。第一研磨液手臂1上设有一个研磨液喷嘴12。通过该研磨液喷洒装置向第一研磨垫13喷洒研磨液时，如图2所示，研磨液在第一研磨垫13上呈线形喷洒，第一喷洒面14的面积较小，通常需要通过第一研磨垫13的旋转和研磨垫调整清扫使得研磨液在第一研磨垫13的表面均匀分布，再进行后续研磨，研磨液分散过程通常需要花费大量的时间。同时，研磨垫调整清扫会对研磨垫造成磨损，进而使得研磨垫的使用寿命变短。
图3示出了本公开一实施例的研磨液喷洒装置的示意图。如图3所示，本公开实施例提供了一种研磨液喷洒装置。该研磨液喷洒装置包括研磨液手臂3。该研磨液手臂3包括多个第一喷嘴31。多个第一喷嘴31用于在第一时段喷洒研磨液和在第二时段喷洒冲洗液。
本公开实施例提供的研磨液喷洒装置中，通过设置研磨液手臂3上的第一喷嘴31用于喷出研磨液，将研磨液从相关技术中的单点流出转变为线性流出，使研磨液在研磨垫6上形成环面，增大了研磨液在研磨垫6上的第二喷洒面的面积，有利于研磨液的快速分散，同时有助于减少研磨垫6调整清扫，进而使得研磨垫6的使用寿命变长。第一喷嘴31还用于喷洒冲洗液，执行冲洗工艺。
研磨液喷洒装置还包括底座5。研磨液手臂3设置在底座5的上方，研磨液手臂3的一端与底座5转动连接。第二喷嘴32的数量为一个，一个第二喷嘴32设置在研磨液手臂3远离底座5的一端。本公开实施例提供的研磨液喷洒装置还包括供液管路2。供液管路2用于向研磨液手臂3提供作业液体。在一些实施例中，供液管路2通过底座5固定。一些实施例中，供液管路2包括第一管路21和第二管路22。第一管路21用于向研磨液手臂3输送研磨液。第一管路21包括第一进液口211和第一出液口212，第一进液口211用于输入研磨液，第一出液口212与多个第一喷嘴31连通，以使多个第一喷嘴31喷洒研磨液。使用时，研磨液喷洒装置通过第一管路21导入研磨液并通过第一喷嘴31喷出。在一些实施例中，研磨液的流速为200ml/min～400ml/min，该流速有利于研磨液在研磨垫6表面均匀分布。在一些实施例中，多个第一喷嘴31的研磨液流速相同。在另一些实施例中，沿着远离底座5的方向，第一喷嘴31的研磨液的流速逐渐减小。在第一时段，研磨液手臂3的位置固定不变，研磨垫6转动，研磨液手臂3远离底座5的一端的第一喷嘴31相对于研磨垫6的移动距离大于研磨液手臂3靠近底座5的一端的第一喷嘴31相对于研磨垫6的移动距离，通过减小远离底座5的第一喷嘴31的研磨液流速有利于研磨液在研磨垫6表面均匀喷洒，进而有助于加快研磨液的分散速度。
第二管路22用于向研磨液手臂3输送冲洗液。第二管路22包括第二进液口221和第二出液口222，第二进液口221用于输入冲洗液，第二出液口222与多个第一喷嘴31连通，以使第一喷嘴31喷洒冲洗液。使用时，研磨液喷洒装置通过第二管路22导入冲洗液并通过第一喷嘴31喷出。本公开实施例提供的研磨液喷洒装置通过设置研磨液和冲洗液共用的多个第一喷嘴31能够在研磨液手臂3表面有限的面积上设置更多的研磨液或冲洗液喷出点，有利于减小第一喷嘴31的分布面积。
多个第一喷嘴31沿研磨液手臂3的长度方向排列设置。多个第一喷嘴31沿研磨液手臂3的长度方向可以是单排布置，也可以是至少布置为两排。多个第一喷嘴31沿研磨液手臂3的长度方向布置为至少两排时，相邻两排的第一喷嘴31可以是相错设置。示例性实施例中，同一排中相邻的两个第一喷嘴31之间的间距相同。另外的示例性实施例中，沿着远离底座5的方向，相邻的两个第一喷嘴31之间的间距逐渐增大。在第一时段，研磨液手臂3的位置固定不变，研磨垫6转动，研磨液手臂3远离底座5的一端的第一喷嘴31相对于研磨垫6的移动距离小于研磨液手臂3靠近底座5的一端的第一喷嘴31相对于研磨垫6的移动距离，通过增大远离底座5的相邻的两个第一喷嘴31之间的间距有利于研磨液在研磨垫6表面均匀喷洒，进而有助于加快研磨液的分散速度。任意两个第一喷嘴31的喷射方向相差不超过30度。在一些实施例中，多个第一喷嘴31的喷射方向互相平行。第一喷嘴31用于向研磨垫6喷洒研磨液或冲洗液。在一些实施例中，冲洗液为去离子水。
图4示出了本公开一实施例的研磨液手臂的示意图。如图4所示，在一些实施例中，研磨液手臂3内具有第一通道34，多个第一喷嘴31连通第一通道34，研磨液手臂3上设有第一通道接口341，第一通道接口341设置在第一通道34的一端，第一通道接口341分别连通第一出液口212和所述第二出液口222。研磨液手臂3内具有第二通道35，第二喷嘴32连通所述第二通道35，研磨液手臂3上设有第二通道接口351，第二通道接口351连通第三出液口213。喷洒研磨液时，第一管路21通过第一通道接口341将研磨液输入第一通道34内，第一通道34内的研磨液经由第一喷嘴31喷洒，实现在研磨垫上布液。冲洗时，第二管路22通过第二通道接口351将冲洗液输入第二通道35内，第二通道35内的冲洗液经由第二喷嘴32喷射，实现冲洗。
图5出了本公开一实施例的研磨液手臂的示意图，如图5所示，在一些实施例中，研磨液手臂3内具有第一通道34，多个第一喷嘴31连通第一通道34，第一通道34的中部设有第一通道接口341，第一通道接口341分别连通第一出液口212和所述第二出液口222。
喷洒研磨液时，第一管路21通过第一通道接口341将研磨液输入第一通道34内，第一通道34内的研磨液经由第一喷嘴31喷洒，实现在研磨垫上布液。冲洗时，第二管路22通过第二通道接口351将冲洗液输入第二通道35内，第二通道35内的冲洗液经由第二喷嘴32喷射，实现冲洗。
如图4所示，本公开实施例提供的研磨液喷洒装置在使用时，研磨液在研磨垫6上的第二喷洒面的面积大于相关技术中的研磨液在第一研磨垫6上的第一喷洒面的面积。随着研磨垫6的旋转，研磨液能够快速分布到研磨垫6整个表面，有助于节约研磨时间，提高生产效率。待研磨产品从中心到边缘能够更均匀地与研磨液接触，有助于更好地控制研磨，同时能有助于减少研磨垫6调整清扫，增加研磨垫6的使用寿命。待研磨产品为晶圆时，研磨液能够更快、更均匀地与晶圆表面接触，使得晶圆形貌更稳定。在研磨结束之后，通过第一喷嘴31喷洒冲洗液，从而清洗晶圆表面残留的研磨液。
在一些实施例中，研磨液手臂3还包括第二喷嘴32。在一些实施例中，第二喷嘴32的喷射方向与第一喷嘴31的喷射方向相同。第一管路21还包括第三出液口213，第三出液口213与第二喷嘴32连通，以使第二喷嘴32喷洒研磨液。在化学机械抛光工艺制程中，喷洒研磨液时，第一管路21同时供应研磨液给第一喷嘴31和第二喷嘴32，使尽可能多的喷嘴参与研磨液的喷洒，增加喷洒面积，提高布液速度。在冲洗过程中，停止第一管路21供液，由第二管路22供液冲洗液，冲洗液由第一喷嘴31喷出，进行清洗。相关技术中，研磨液手臂3通常包括一个研磨液喷嘴和多个冲洗液喷嘴，本公开实施例提供的研磨液喷洒装置能够通过更改相关技术中研磨液喷洒装置的供液管路设计即可实现，无需重新设计研磨液手臂通用性较好。
供液管路2还包括三通阀4。三通阀4包括第三进液口41、第四进液口42和第四出液口43。第三进液口41与第一出液口212连通，第四进液口42与第二出液口222连通，第四出液口43与多个第一喷嘴31连通。在一些实施例中，三通阀4为三通电磁阀，三通电磁阀用于控制第四出液口43与第三进液口41或第四进液口42连通。在一些实施例中，第一出液口212位于第一管路21的中部。喷洒研磨液时，三通阀4的第三进液口41与第四出液口43导通，第一管路21通过三通阀4将研磨液输入第一通道34内，第一通道34内的研磨液经由第一喷嘴31喷洒，实现在研磨垫上布液。冲洗时，第四进液口42与第四出液口43导通，第二管路22通过三通阀4将冲洗液输入第二通道35内，第二通道35内的冲洗液经由第二喷嘴32喷射，实现冲洗。使用时，在第一时段，第三进液口与第四出液口导通，第四进液口与第四出液口关断。在第二时段，第四进液口与第四出液口导通，第三进液口与第四出液口关断。
图6示出了本公开一实施例的供液管路2的示意图。如图6所示，在一些实施例中，三通阀4设有转换阀门44，第四出液口43通过转换阀门44与第三进液口41或第四进液口42连通。使用时，先通过转动转换阀门44将第四出液口43与第三进液口41连通，同时，第四出液口43与第四进液口42断开，通过液泵将研磨液输入第一管路21，研磨液流经三通阀4从第一喷嘴31流出，第一喷嘴31的喷射方向朝向研磨垫61，随着研磨垫61的转动，研磨液在研磨垫61表面的第二喷洒面33呈圆环状。随着研磨垫61的转动，喷洒到研磨垫61表面的研磨液均匀分布在研磨垫61表面，待研磨产品与研磨液均匀接触。研磨完成后，转动转换阀门44将第四出液口43与第四进液口42连通，同时第四出液口43与第三进液口41断开，通过液泵将冲洗液输入第二管路22，冲洗液流经三通阀4从第一喷嘴31流出对经过研磨的产品进行冲洗，该装置结构简单，实用性强。
图7示出了本公开一实施例的化学机械抛光设备的示意图。如图7所示，本公开实施例提供了一种化学机械抛光设备，包括研磨盘6以及上述任一实施例的研磨液喷洒装置。化学机械抛光设备用于研磨晶圆。研磨液手臂3设置在研磨盘6的上方，研磨液手臂3用于向研磨盘6喷洒研磨液或冲洗液。在一些实施例中，研磨盘6的俯视图为圆形，研磨盘6的直径大于晶圆的直径。研磨盘6包括研磨垫61和研磨台。研磨垫61支撑在研磨台上。在一些实施例中，研磨垫61和研磨台的直径相同。研磨垫61与研磨台可拆卸连接。在一些事实例中，研磨垫61为硬垫或软垫。在另一些实施例中研磨垫61由硬垫和软垫的堆叠制成。
在一些实施例中，研磨台由马达带动转动。研磨台通过转动带动研磨垫61转动。使用时，研磨台的转速为30-70转/分钟，该转速有助于研磨液在研磨垫61上均匀分布。
研磨盘还包括调节器7。调节器7用于清扫研磨垫61。在一些实施例中，调节器7包括调节臂71、调节垫72和调节器底座73。调节臂71的一端与调节器底座73转动连接，另一端与调节垫72连接。使用时调节臂71通过转动带动调节垫72清扫研磨垫61。
研磨盘还包括研磨头8。研磨头8设置在研磨垫61上，用于固定晶圆。
本公开实施例提供的化学机械抛光设备在使用时，研磨液在研磨垫61上的第二喷洒面33的面积大于相关技术中的研磨液在第一研磨垫61上的第一喷洒面14的面积。随着研磨垫61的旋转，研磨液能够快速分布到研磨垫61整个表面，有助于节约研磨时间，提高生产效率。待研磨产品从中心到边缘能够更均匀地与研磨液接触，有助于更好地控制研磨，同时能有助于减少研磨垫61调整清扫，增加研磨垫61的使用寿命。待研磨产品为晶圆时，研磨液能够更快、更均匀地与晶圆表面接触，使得晶圆形貌更稳定。在研磨结束之后，通过第一喷嘴31喷洒冲洗液，从而清洗晶圆表面残留的研磨液。
本公开实施例提供了一种研磨方法，该方法可以采用上述任一实施例所述的研磨液喷洒装置实现喷洒研磨液。上述装置实施例可以用来理解本公开实施例的方法，下述关于方法的实施例也可用于理解本公开实施例的研磨液喷洒装置。
本公开实施例的研磨方法包括：研磨时，将研磨液输送至研磨液手臂3，由研磨液手臂3上的多个第一喷嘴31喷洒研磨液。冲洗时，将冲洗液输送至研磨液手臂3，由研磨液手臂3上的多个第一喷嘴31喷洒冲洗液，进行冲洗。该研磨液手臂3包括多个第一喷嘴31。多个第一喷嘴31即可用于喷洒研磨液，又可以用于喷洒冲洗液。
喷洒研磨液时，三通阀4的第三进液口41与第四出液口43导通，第一管路21通过三通阀4将研磨液输入第一通道34内，第一通道34内的研磨液经由第一喷嘴31喷洒，实现在研磨垫上布液。冲洗时，第四进液口42与第四出液口43导通，第二管路22通过三通阀4将冲洗液输入第二通道35内，第二通道35内的冲洗液经由第二喷嘴32喷射，实现冲洗。研磨时，马达带动研磨台转动，研磨台的转速为30-70转/分钟，研磨台带动研磨垫61转动。随着研磨垫61的转动，喷洒到研磨垫61表面的研磨液在研磨垫61表面分散开，调节臂71绕调节器底座73转动，调节臂71通过转动带动调节垫72清扫研磨垫61，研磨液均匀分散到研磨垫61表面，待研磨圆晶与研磨液均匀接触。研磨头8限制晶圆的位置并控制晶圆进行研磨。
研磨完成后，转动转换阀门44将第四出液口43与第四进液口42连通，同时第四出液口43与第三进液口41断开，通过泵将冲洗液输入第二管路22，冲洗液流经三通阀4从第一喷嘴31流出对经过研磨的晶圆进行冲洗。
本公开实施例提供的研磨液喷洒方法，通过研磨液手臂3上的第一喷嘴31将研磨液从相关技术中的单点流出转变为线性流出，使研磨液在研磨垫6上形成环面，增大了研磨液在研磨垫6上的第二喷洒面的面积，有利于研磨液的快速分散，同时有助于减少研磨垫6调整清扫，进而使得研磨垫6的使用寿命变长，研磨液均匀分散使得圆晶与研磨液均匀接触，有助于后续研磨过程中控制圆晶形貌。
应当理解的是，本公开的上述具体实施方式仅仅用于示例性说明或解释本公开的原理，而不构成对本公开的限制。因此，在不偏离本公开的精神和范围的情况下所做的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本公开的保护范围之内。此外，本公开所附权利要求旨在涵盖落入所附权利要求范围和边界、或者这种范围和边界的等同形式内的全部变化和修改例。

Claims (18)

1.一种研磨液喷洒装置，其特征在于，包括研磨液手臂；
所述研磨液手臂包括多个第一喷嘴；
多个所述第一喷嘴用于在第一时段喷洒研磨液和在第二时段喷洒冲洗液。
2.根据权利要求1所述的研磨液喷洒装置，其中，还包括供液管路；
所述供液管路包括第一管路和第二管路；
所述第一管路包括第一进液口和第一出液口，所述第一进液口用于输入研磨液，所述第一出液口与多个所述第一喷嘴连通，以使多个所述第一喷嘴喷洒研磨液；
所述第二管路包括第二进液口和第二出液口，所述第二进液口用于输入冲洗液，所述第二出液口与多个所述第一喷嘴连通，以使多个所述第一喷嘴喷洒冲洗液。
3.根据权利要求2所述的研磨液喷洒装置，其中，所述研磨液手臂还包括第二喷嘴；
所述第一管路还包括第三出液口，所述第三出液口与所述第二喷嘴连通。
4.根据权利要求2所述的研磨液喷洒装置，其中，所述供液管路还包括三通阀；
所述三通阀包括第三进液口、第四进液口和第四出液口；
所述第三进液口与所述第一出液口连通，所述第四进液口与所述第二出液口连通，所述第四出液口与多个所述第一喷嘴连通；
在所述第一时段，所述第三进液口与所述第四出液口导通，所述第四进液口与所述第四出液口关断；
在所述第二时段，所述第四进液口与所述第四出液口导通，所述第三进液口与所述第四出液口关断。
5.根据权利要求2所述的研磨液喷洒装置，其中，所述研磨液手臂内具有第一通道，多个所述第一喷嘴连通所述第一通道，所述研磨液手臂上设有第一通道接口，所述第一通道接口分别连通所述第一出液口和所述第二出液口。
6.根据权利要求3所述的研磨液喷洒装置，其中，所述研磨液手臂内具有第二通道，所述第二喷嘴连通所述第二通道，所述研磨液手臂上设有第二通道接口，所述第二通道接口连通所述第三出液口。
7.根据权利要求3所述的研磨液喷洒装置，其中，所述研磨液喷洒装置还包括底座；
所述研磨液手臂设置在所述底座的上方，所述研磨液手臂的一端与所述底座转动连接。
8.根据权利要求7所述的研磨液喷洒装置，其中，所述第二喷嘴的数量为一个，一个所述第二喷嘴设置在所述研磨液手臂远离所述底座的一端。
9.根据权利要求7所述的研磨液喷洒装置，其中，多个所述第一喷嘴沿所述研磨液手臂的长度方向排列设置。
10.根据权利要求9所述的研磨液喷洒装置，其中，相邻的两个所述第一喷嘴之间的间距相同。
11.根据权利要求10所述的研磨液喷洒装置，其中，沿着远离所述底座的方向，相邻的两个所述第一喷嘴之间的间距逐渐增大。
12.根据权利要求1-11任一项所述的研磨液喷洒装置，其中，多个所述第一喷嘴的喷射方向互相平行。
13.一种化学机械抛光设备，其特征在于，包括研磨盘以及权利要求1-12任一项所述的研磨液喷洒装置；
所述研磨液手臂设置在所述研磨盘的上方，所述研磨液手臂用于向所述研磨盘喷洒研磨液或冲洗液。
14.根据权利要求13所述的化学机械抛光设备，其中，所述研磨盘包括研磨垫和研磨台；
所述研磨垫设置在所述研磨台上；
所述研磨台用于通过转动带动所述研磨垫转动。
15.根据权利要求14所述的化学机械抛光设备，其中，所述研磨盘还包括调节器；
所述调节器用于清扫所述研磨垫。
16.根据权利要求14所述的化学机械抛光设备，其中，所述研磨盘还包括研磨头；
所述研磨头设置在所述研磨垫上，用于固定待研磨产品。
17.根据权利要求14-16中任一项所述的化学机械抛光设备，其中，所述研磨台的转速为30-70转/分钟。
18.一种研磨方法，其采用权利要求1-12任一项所述的研磨液喷洒装置喷洒研磨液。
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