CN115931086A - 一种质量流量计的标定系统及标定方法 - Google Patents
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- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 32
- 239000012530 fluid Substances 0.000 claims abstract description 169
- 238000001514 detection method Methods 0.000 claims abstract description 62
- 239000003638 chemical reducing agent Substances 0.000 claims description 26
- 238000007789 sealing Methods 0.000 claims description 17
- 238000003860 storage Methods 0.000 claims description 9
- 238000004891 communication Methods 0.000 claims description 7
- 230000008569 process Effects 0.000 abstract description 12
- 238000011144 upstream manufacturing Methods 0.000 abstract description 11
- 239000000463 material Substances 0.000 description 5
- 238000013459 approach Methods 0.000 description 3
- 239000000306 component Substances 0.000 description 3
- 230000009123 feedback regulation Effects 0.000 description 3
- 238000011160 research Methods 0.000 description 3
- 230000008859 change Effects 0.000 description 2
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 230000007613 environmental effect Effects 0.000 description 2
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 2
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 2
- 238000004377 microelectronic Methods 0.000 description 2
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 2
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 2
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 2
- 238000004064 recycling Methods 0.000 description 2
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 2
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 2
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 description 1
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N acrylic acid group Chemical group C(C=C)(=O)O NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000009286 beneficial effect Effects 0.000 description 1
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 1
- 239000008358 core component Substances 0.000 description 1
- 238000013461 design Methods 0.000 description 1
- 238000011161 development Methods 0.000 description 1
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 1
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 1
- 239000003814 drug Substances 0.000 description 1
- 238000000407 epitaxy Methods 0.000 description 1
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 1
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 1
- 239000000835 fiber Substances 0.000 description 1
- 238000001595 flow curve Methods 0.000 description 1
- 238000004817 gas chromatography Methods 0.000 description 1
- 238000005468 ion implantation Methods 0.000 description 1
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 1
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 1
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 1
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 1
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 1
- 239000003208 petroleum Substances 0.000 description 1
- 229920003229 poly(methyl methacrylate) Polymers 0.000 description 1
- 239000004926 polymethyl methacrylate Substances 0.000 description 1
- 230000001105 regulatory effect Effects 0.000 description 1
- 238000004904 shortening Methods 0.000 description 1
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 1
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 1
- 239000010959 steel Substances 0.000 description 1
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 1
- 238000001771 vacuum deposition Methods 0.000 description 1
- 238000012795 verification Methods 0.000 description 1
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Abstract
本发明的提供一种质量流量计的标定系统,包括流体通路、标准流量计、压力控制器、质量流量控制器和主控单元,标准流量计和压力控制器依次连接在用于接入待标定质量流量计的待标定位上游,质量流量控制器连接在待标定位下游,主控单元用于向将目标流量发送给质量流量控制器;质量流量控制器用于将流体通路中的流量调节为目标流量;压力控制器用于在进行流量调节的同时将流体通路中的压力调节为第一预设压力;主控单元还用于在标准流量计的流量检测值稳定后,将流量检测值输入至待标定质量流量计中。本发明提供的标定系统提高了标定过程中流体压力的稳定性,进而提高了质量流量计的标定精度及效率。本发明还提供一种质量流量计的标定方法。
Description
技术领域
本发明涉及半导体工艺设备领域,具体地,涉及一种质量流量计的标定系统以及一种通过该标定系统实现的质量流量计的标定方法。
背景技术
质量流量计作为测试流体质量的核心部件,在半导体微电子工业、特种材料研制、化学工业、石油工业、医药、环保和真空行业、芯片等多种领域的科研和生产中有着重要的作用,其典型应用场景包括:微电子工艺(如扩散、氧化、外延、CVD、溅射、离子注入、刻蚀等)、真空镀膜、光纤熔炼、混气配气系统、毛细管测量、气相色谱仪等分析仪器等。
图1为一种典型的气体质量流量计的结构示意图,其主要由进气接头1、通道2、电路板3、传感器4、分流器5、出气接头6、外罩等部件组成,由于质量流量计没有电磁阀的控制,其标定过程十分复杂,尤其对于小流量(量程小于1L)的质量流量计,往往需要标定人员进行1至2天的标定工作才能完成标定,并且小流量质量流量计的精度验证过程也非常缓慢,严重制约了质量流量计的生产效率及产品品质。尽管在理论设计中质量流量计可具有超高的精度,但现有技术中缺少与之对应的超高精度的标定系统,难以高效地标定出真正具有高精度的小流量质量流量计。
因此,如何提供一套精度及标定效率更高的小流量质量流量计标定系统,成为本领域亟待解决的技术问题。
发明内容
本发明旨在提供一种质量流量计的标定系统和一种通过该标定系统实现的质量流量计的标定方法,能够提高质量流量计的标定精度和标定效率。
为实现上述目的,作为本发明的一个方面,提供一种质量流量计的标定系统,所述标定系统包括流体通路、标准流量计、压力控制器、质量流量控制器和主控单元,所述流体通路上具有用于接入待标定质量流量计的待标定位,所述标准流量计和所述压力控制器依次连接在所述流体通路的入口与所述待标定位之间,所述质量流量控制器连接在所述待标定位与所述流体通路的出口之间,所述主控单元与所述质量流量控制器通信连接,还用于与所述待标定质量流量计通信连接;
所述主控单元用于向将目标流量发送给所述质量流量控制器;
所述质量流量控制器用于将所述流体通路中的流量调节为所述目标流量;
所述压力控制器用于在所述质量流量控制器进行流量调节的同时,将所述流体通路中的压力调节为第一预设压力;
所述标准流量计用于检测所述流体通路中的流量;
所述主控单元还用于在所述标准流量计的流量检测值满足预设稳定条件后,将所述标准流量计的流量检测值输入至所述待标定质量流量计中。
可选地,所述主控单元还与所述标准流量计通信连接,所述主控单元还用于确定所述目标流量与所述标准流量计的流量检测值之间的流量差值,并根据所述流量差值调节所述质量流量控制器,直至所述标准流量计的流量检测值达到所述目标流量,并满足所述预设稳定条件。
可选地,所述预设稳定条件为:所述流量检测值在预设时间内的最大值与最小值之间的差值小于第一预设阈值。
可选地,所述标定系统还包括减压器和压力计,所述减压器和所述压力计依次连接在所述流体通路的入口与所述标准流量计之间,所述减压器将从所述流体通路的入口通入的流体的压力降低至第二预设压力,所述压力计用于检测所述流体通路中的压力,其中,所述第二预设压力大于所述第一预设压力。
可选地,所述标定系统还包括储气罐,所述储气罐连接在所述压力计与所述标准流量计之间,用于降低所述流体通路中压力的波动。
可选地,所述标定系统还包括截止阀,所述截止阀连接在所述压力计与所述储气罐之间,用于开通或关断所述流体通路。
可选地,所述减压器、所述压力计、所述截止阀、所述储气罐、所述标准流量计、所述压力控制器、所述待标定质量流量计和所述质量流量控制器之间均通过连接管连接,所述连接管构成所述流体通路,所述连接管的外径为3mm至3.175mm。
可选地,所述标定系统还包括密封罩,所述流体通路设置在所述密封罩中。
作为本发明的第二个方面,提供一种质量流量计的标定方法,所述标定方法通过前面所述的标定系统实现,所述标定方法包括:
将待标定质量流量计安装至所述待标定位,向所述流体通路通入流体;
所述主控单元将目标流量发送给所述质量流量控制器;
所述质量流量控制器将所述流体通路中的流量调节为所述目标流量,同时所述压力控制器将所述流体通路中的压力调节为第一预设压力;
在所述标准流量计的流量检测值满足预设稳定条件后,所述主控单元将所述标准流量计的流量检测值输入至所述待标定质量流量计中。
可选地,所述在所述标准流量计的流量检测值满足预设稳定条件后,所述主控单元将所述标准流量计的流量检测值输入至所述待标定质量流量计中,包括:
确定所述目标流量与所述标准流量计的流量检测值之间的流量差值;
根据所述差值调节所述质量流量控制器,直至所述标准流量计的流量检测值达到所述目标流量,并满足所述预设稳定条件。
可选地,所述主控单元将多个所述目标流量依次发送给所述质量流量控制器,每次所述标准流量计的流量检测值达到一所述目标流量且满足所述预设稳定条件后,将所述标准流量计的流量检测值输入至所述待标定质量流量计中。
在本发明提供的质量流量计的标定系统及标定方法中,主控单元在控制质量流量控制器进行流量调节的同时,控制压力控制器将待标定质量流量计入流端的流体压力保持为第一预设压力,从而提高了待标定质量流量计中流体压力的稳定性,进而提高了质量流量计的标定精度。
并且,在调节减压器或改变目标流量后,压力控制器能够快速将质量流量计上游的流体压力调节至第一预设压力,从而缩短了流体压力达到稳定所需的时间,提高了质量流量计的标定效率。进而提高了质量流量计的标定效率,提高了机台产能及经济效益,有助于将质量流量计推向更广泛的应用行业,例如,对质量严格要求的芯片制程行业。
此外,质量流量控制器的开度改变时,会影响待标定位的流体压力,即,影响上游压力控制器处的流体压力,而压力控制器检测到流体压力发生改变时,也将对自身阀门的开度进行反馈调节,使待标定位的流体压力恢复至第一预设压力,在此过程中,也会影响待标定位及其下游质量流量控制器处的流体流量,从而实现质量流量控制器与压力控制器之间的互反馈调节,进一步提高了流体通路中流体压力及流体流量的稳定性和精确性,以及质量流量计的标定效率。
附图说明
附图是用来提供对本发明的进一步理解,并且构成说明书的一部分,与下面的具体实施方式一起用于解释本发明,但并不构成对本发明的限制。在附图中:
图1是一种气体质量流量计的结构示意图;
图2是本发明实施例提供的质量流量计的标定系统的结构示意图;
图3是本发明实施例提供的质量流量计的标定方法的流程示意图。
附图标记说明:
1:减压器 2:压力计
3:截止阀 4:储气罐
5:Molbloc装置 6:MOLBOX装置
7:压力控制器 8:待标定质量流量计
9:质量流量控制器 10:主控单元
11:密封罩
具体实施方式
以下结合附图对本发明的具体实施方式进行详细说明。应当理解的是,此处所描述的具体实施方式仅用于说明和解释本发明,并不用于限制本发明。
本发明的发明人经研究后发现,现有的质量流量计标定系统标定小流量质量流量计的标定精度、标定效率低,其主要原因在于待标定质量流量计的满量程较小,对流体流量、流体压力的波动较为敏感,标定系统的流体通路受外界环境的影响相对较大,导致标定系统控制流量精度及稳定性较差。并且,在每次调节流体通路中流体的流量、压力后,流体的流量、压力达到稳定所需的时间相对较长,导致标定小流量质量流量计的标定效率较低。
为解决上述技术问题,作为本发明的一个方面,提供一种质量流量计的标定系统,如图2所示,该标定系统包括流体通路(即图2中多个装置依次连接组成的横向延伸的管路)、标准流量计(包括Molbloc装置5和MOLBOX装置6)、压力控制器7、质量流量控制器(MFC)9和主控单元10,流体通路上具有用于接入待标定质量流量计8的待标定位,标准流量计和压力控制器7依次连接在流体通路的入口与待标定位之间,质量流量控制器9连接在待标定位与流体通路的出口之间,主控单元10与质量流量控制器9通信连接,还用于与待标定质量流量计8通信连接;
主控单元10用于将目标流量发送给质量流量控制器9;
质量流量控制器9用于将流体通路中的流量调节为目标流量;
压力控制器7用于在质量流量控制器9进行流量调节的同时,将流体通路中的压力调节为第一预设压力;
标准流量计用于检测流体通路中的流量;
主控单元10还用于在标准流量计的流量检测值满足预设稳定条件后,将标准流量计的流量检测值输入至待标定质量流量计8中。
需要说明的是,压力控制器7内部具有阀门、压力传感器等部件,其能够根据检测到的下游压力(即待标定位入流端的流体压力)自动调节其内部阀门的开度,从而对自身允许通过的流体流速进行调节,进而使下游流体压力接近压力控制器7接收的目标压力(即第一预设压力,例如由主控单元10发送或者由操作人员直接在压力控制器7上设置),并持续进行反馈调节,将下游的流体压力保持在目标压力(第一预设压力)。
本发明实施例对流体通路上连接的其他装置不做具体限定,例如,可选地,如图2所示,流体通路的入口一端也可设置有质量流量计标定系统中常见的进气组件,其包括依次连接在入口下游的减压器1和压力计2,减压器1和压力计2依次连接在流体通路的入口与标准流量计之间,减压器1用于将从流体通路的入口通入的流体的压力降低至第二预设压力,压力计2用于检测流体通路中的压力,其中,第二预设压力大于第一预设压力。
需要说明的是,减压器1一般由工作人员手动调节,在标定质量流量计时,工作人员先打开减压器1使流体(如气体)进入流体通路,再根据压力计2显示的流体压力判断下游的流体压力是否达到要求(稳定在第二预设压力附近),并在下游的流体压力为合适值时,(打开截止阀3)使流体进入下游并流入待标定的质量流量计,开始进行标定。该手动调节的减压器1调节流体压力的精度低,且在调节减压器1后,下游的流体压力常会波动很长一段时间,仅通过减压器1控制流体压力,将严重影响小流量质量流量计的标定精度。
在本发明中,标定系统包括设置在待标定质量流量计8上游的压力控制器7和设置在待标定质量流量计8下游的质量流量控制器9,在对待标定质量流量计8进行标定时,主控单元10在控制质量流量控制器9进行流量调节的同时,压力控制器7将待标定质量流量计8入流端的流体压力保持为第一预设压力,从而提高了待标定质量流量计8中流体压力的稳定性,进而提高了质量流量计的标定精度。
并且,在调节减压器1或改变目标流量后(即流体通路中的流体流量发生较大改变时),压力控制器7能够快速将质量流量计上游的流体压力调节至第一预设压力,从而缩短了流体压力达到稳定所需的时间,提高了质量流量计的标定效率。
此外,质量流量控制器9的开度改变(具体为质量流量控制器9中的电磁阀开度改变)时,会影响待标定位的流体压力,即,影响上游压力控制器7处的流体压力,而压力控制器7检测到流体压力发生改变时,也将对自身阀门的开度进行反馈调节,使待标定位的流体压力恢复至第一预设压力,在此过程中,也会影响待标定位及其下游质量流量控制器9处的流体流量,从而实现质量流量控制器9与压力控制器7之间的互反馈调节。通过压力-流量联动控制最终使待标流量计8前端的流体压力稳定,进一步提高了流体通路中流体压力及流体流量的稳定性和精确性,并缩短了流体通路中流体压力及流体流量达到稳定所需的时间,提高了质量流量计的标定效率。
本发明实施例对压力控制器7对应的第一预设压力的数值不做具体限定,例如,标定质量流量计时常使用待标定质量流量计的中间压力标定,在待标定质量流量计8的中间压力为0.3MPA的情况下,作为本发明的一种可选实施方式,第一预设压力可以为0.3MPA。
为进一步提高质量流量计的标定效率,作为本发明的一种优选实施方式,主控单元10还与标准流量计通信连接,主控单元10还用于确定目标流量与标准流量计的流量检测值之间的流量差值,并根据该流量差值调节质量流量控制器9,直至标准流量计的流量检测值达到目标流量,并满足预设稳定条件。
在本发明实施例中,主控单元10在每次改变目标流量(即选定下一标定点)时,先根据当前的标定点控制控制质量流量控制器9直接将开度调节为与目标流量对应的开度(质量流量控制器9自身存在误差,实际流量需以标准流量计检测结果为准),再根据标准流量计的流量检测值对质量流量控制器9的开度进行微调,直至标准流量计的流量检测值稳定在目标流量,提高了待标位的待标质量流量计8中的实际流体流量接近流量标定点的速率,从而提高了质量流量计的标定效率。
本发明实施例对预设稳定条件以及判断流量检测值是否达到目标流量的标准不做具体限定,例如,预设稳定条件可以为:流量检测值在预设时间内的最大值与最小值之间的差值小于第一预设阈值,即,流量检测值在预设时间内的波动幅度足够小(小于第一预设阈值),则认为此时的流量检测值已达到稳定状态。判定流量检测值达到目标流量的标准可以为:流量检测值与目标流量点之间的差值小于第二预设阈值,即,流量检测值足够接近流量标定点(差值小于第二预设阈值),则认为此时的流量检测值已达到目标流量(流量标定点)。其中,第一预设阈值、预设时间以及第二预设阈值的数值可根据实际情况选取。
在本发明实施例中,标准流量计是标定质量流量计的关键部件,在标定过程中,主控单元10在流体流量稳定后读取标准流量计的流量检测值,并将该流量检测值写入待标定质量流量计8的CPU(central processing unit,中央处理器)内,待标定质量流量计8的CPU将每次由主控单元10接收到的流量检测值与其内部的流量传感器检测流量得到的模拟信号建立联系,从而在标定完成后,根据多个模拟信号与对应的流量检测值得到二者之间的关系式,进而在后续的使用过程中基于该关系式,根据流量传感器检测得到的模拟信号计算流量大小,以实现流量检测功能。
具体地,小流量(小于1L)气体质量流量计的标定过程中,通常选取5个流量标定点进行标定,分别为待标定质量流量计满量程的3.5%、35%、60%、80%、100%。以满量程3.5%的流量标定点为例,首先主控单元10计算待标定质量流量计满量程的3.5%对应的流量标定点流量数值(即目标流量),并根据流量标定点的流量数值设定质量流量控制器9(质量流量控制器)的开度,再根据标准流量计的流量检测值对质量流量控制器9的开度进行微调,在标准流量计的流量检测值稳定在目标流量后,主控单元10将流量检测值写入待标定质量流量计8的CPU内,接着以同样的方式对满量程的35%、60%、80%、100%对应的5%的流量进行标定。
本发明实施例对标准流量计的结构不做具体限定,只要该标准流量计能够精确地检测其内部通过的流体流量即可,例如,作为本发明的一种可选实施方式,如图2所示,标准流量计可以包括Molbloc/Molbox流量检验仪,其具体包括用于检测流体流量的Molbloc装置5和用于根据Molbloc装置5检测得到的信号确定流量检测值的MOLBOX装置6,其中,Molbloc装置5连接在待标定位与其上游的装置之间,主控单元10与MOLBOX装置6连接,并由MOLBOX装置6读取流量检测值。
为进一步提高待标定质量流量计8中流体压力的稳定性,作为本发明的一种优选实施方式,如图2所示,标定系统还包括储气罐4,储气罐4连接在压力计2与流体标准流量计之间,用于降低流体通路中流体压力的波动。
在本发明实施例中,压力控制器7的上游还设置有储气罐4,从而能够降低上游流体压力改变时(例如,在工作人员手动通过减压器1调节流体压力时)对压力控制器7、标准流量计以及待标定位的待标定质量流量计8中流体的波动影响,进一步提高待标定质量流量计8中流体压力的稳定性。
为进一步提高待标定质量流量计8中流体压力的稳定性,优选地,如图2所示,标定系统还包括截止阀3,截止阀3连接在压力计2与储气罐4之间,用于开通或关断流体通路。在标定开始前,截止阀3保持为关断状态,在工作人员手动通过减压器1调节流体压力至第二预设压力后,再开启截止阀3,使压力为第二预设压力的流体流向下游,从而进一步提高了待标定质量流量计8中流体压力的稳定性。
本发明的发明人在研究中还发现,现有的质量流量计标定系统标定精度低的另一原因在于流体通路上连接在装置之间的管道的管径不适合小流量质量流量计,在现有技术中,装置之间管道的管径与正常量程的质量流量计匹配(外径为6mm至1/4英寸(即6.35mm)),而该管径对小流量质量流量计过大,导致对小流量质量流量计进行标定时管路中流体流场不稳定,标定精度低。
为解决该技术问题,进一步提高质量流量计的标定精度,作为本发明的一种优选实施方式,压力计2、截止阀3、储气罐4、标准流量计、压力控制器7、待标定质量流量计8和质量流量控制器9之间均通过连接管连接,且该连接管的外径为3mm至3.175mm(即1/8英寸)。
本发明实施例对连接管的材质不做具体限定,例如,为延长连接管的使用寿命,作为本发明的一种优选实施方式,连接管可以为不锈钢管。发明人经实验验证,在小流量下采用外径为3mm至3.175mm的连接管,相比于现有技术中6mm至6.35mm的钢管,流体流量的稳定性及标定精度均有显著的提高。
本发明的发明人在研究中还发现,现有的质量流量计标定系统标定精度低的另一原因在于,小流量质量流量计的量程较小,因此在小流量质量流量计的标定过程中,流体温度对流体压力的干扰作用尤为明显,而现有的质量流量计标定系统忽略了流体温度的变化。
为解决该技术问题,进一步提高质量流量计的标定精度,作为本发明的一种优选实施方式,如图2所示,标定系统还包括密封罩11,流体通路设置在密封罩11中,从而将流体通路及其上连接的装置与外界隔离,为流体通路及其上连接的装置提供稳定的环境,避免外界的温度变化对流体通路中的流体流场产生扰动影响。
为提高标定系统的环保性,优选地,流体通路的入口与出口均与回流管路系统连接,以通过回流管路系统实现流体循环利用。例如,当流体为气体时,如图2所示,流体通路的入口用于由回流管路系统进气,流体通路的出口用于向回流管路系统回气,回流管路系统再将接收的气体重新通入流体通路的入口,实现气体循环利用。
在流体通路与回流管路系统连接的情况下,为减少密封罩11的占地面积,优选地,密封罩11仅密封流体通路。即,流体通路的入口与出口分别通过密封罩上的孔洞与密封罩11外的回流管路系统连接,主控单元10和标准流量计的MOLBOX装置6均设置在密封罩11外,且主控单元10与压力控制器7、质量流量控制器9之间,以及标准流量计的MOLBOX装置6与Molbloc装置5之间均通过穿过密封罩11的线缆连接,并且,这些线缆以及流体通路的入口与出口与密封罩11之间的连接位置均进行密封处理,以保证密封罩11的密封效果。
本发明实施例对密封罩的材质不做具体限定,只要密封罩能够将内外气体隔开,并降低外界温度对内部环境的影响即可。例如,作为本发明的一种优选实施方式,密封罩的材质为聚甲基丙烯酸甲酯(即,亚克力材质)。
作为本发明的第二个方面,提供一种质量流量计的标定方法,该标定方法通过本发明实施例提供的标定系统实现,该标定方法包括:
步骤S1、将待标定质量流量计8安装至待标定位,向流体通路通入流体;
步骤S2、主控单元10将目标流量发送给质量流量控制器9;
步骤S3、质量流量控制器9将流体通路中的流量调节为目标流量,同时压力控制器7将流体通路中的压力调节为第一预设压力(即图3中的设定压力控制器压力、设定质量流量控制器流量);
步骤S4、在标准流量计的流量检测值满足预设稳定条件后,主控单元将标准流量计的流量检测值输入至待标定质量流量计8中。
在本发明提供的质量流量计的标定方法中,主控单元10在控制质量流量控制器9进行流量调节的同时,控制压力控制器7将待标定质量流量计8入流端的流体压力保持为第一预设压力,从而提高了待标定质量流量计8中流体压力的稳定性,进而提高了质量流量计的标定精度。
并且,在调节减压器1或改变目标流量后(即流体通路中的流体流量发生较大改变时),压力控制器7能够快速将质量流量计上游的流体压力调节至第一预设压力,从而缩短了流体压力达到稳定所需的时间,提高了质量流量计的标定效率。
此外,质量流量控制器9的开度改变时,会影响待标定位的流体压力,即,影响上游压力控制器7处的流体压力,而压力控制器7检测到流体压力发生改变时,也将对自身阀门的开度进行反馈调节,使待标定位的流体压力恢复至第一预设压力,在此过程中,也会影响待标定位及其下游质量流量控制器9处的流体流量,从而实现质量流量控制器9与压力控制器7之间的互反馈调节,进一步提高了流体通路中流体压力及流体流量的稳定性和精确性,以及质量流量计的标定效率。
为进一步提高质量流量计的标定效率,作为本发明的一种优选实施方式,在标准流量计的流量检测值满足预设稳定条件后,主控单元将标准流量计的流量检测值输入至待标定质量流量计中的步骤S4包括:
确定目标流量与标准流量计的流量检测值(具体为MOLBOX装置6显示的流量值)之间的流量差值;
根据差值调节质量流量控制器9,直至标准流量计的流量检测值达到目标流量,并满足预设稳定条件。
在本发明实施例中,主控单元10质量流量控制器9,主控单元10在每次改变目标流量(即选定下一标定点)时,先根据当前的标定点控制控制质量流量控制器9直接将开度调节为与目标流量对应的开度(质量流量控制器9自身存在误差,实际流量需以标准流量计检测结果为准),再根据标准流量计的流量检测值对质量流量控制器9的开度进行微调,直至标准流量计的流量检测值稳定在目标流量,提高了待标位的待标质量流量计8中的实际流体流量接近流量标定点的速率,从而提高了质量流量计的标定效率。
为便于待标定质量流量计得到流量曲线,需选定多个流量标定点进行多次标定。具体地,主控单元10将多个目标流量依次发送给质量流量控制器9,每次标准流量计的流量检测值达到一目标流量且满足预设稳定条件后,将标准流量计的流量检测值输入至待标定质量流量计8中。
可选地,小流量(小于1L)气体质量流量计可选取5个流量标定点进行标定,分别为待标定质量流量计满量程的3.5%、35%、60%、80%、100%。
为进一步提高待标定质量流量计8中流体压力的稳定性,优选地,标定系统还包括减压器1、压力计2和截止阀3,在标定开始前,截止阀3保持为关断状态。如图3所示,该标定方法包括:
在步骤S3前(连接组装管路后),减压器1调节流体通路的入口处的流体的压力至压力计2的示数为第二预设压力(即调节减压器1的设定压力至第二预设压力),开启截止阀3。
使压力为第二预设压力的流体流向下游,从而进一步提高了待标定质量流量计8中流体压力的稳定性。
在本发明实施例中,工作人员在标定开始前手动通过减压器1调节流体压力至第二预设压力后,再开启截止阀3,使压力为第二预设压力的流体流向下游,从而进一步提高了待标定质量流量计8中流体压力的稳定性。
可以理解的是,以上实施方式仅仅是为了说明本发明的原理而采用的示例性实施方式,然而本发明并不局限于此。对于本领域内的普通技术人员而言,在不脱离本发明的精神和实质的情况下,可以做出各种变型和改进,这些变型和改进也视为本发明的保护范围。
Claims (11)
1.一种质量流量计的标定系统,其特征在于,所述标定系统包括流体通路、标准流量计、压力控制器、质量流量控制器和主控单元,所述流体通路上具有用于接入待标定质量流量计的待标定位,所述标准流量计和所述压力控制器依次连接在所述流体通路的入口与所述待标定位之间,所述质量流量控制器连接在所述待标定位与所述流体通路的出口之间,所述主控单元与所述质量流量控制器通信连接,还用于与所述待标定质量流量计通信连接;
所述主控单元用于向将目标流量发送给所述质量流量控制器;
所述质量流量控制器用于将所述流体通路中的流量调节为所述目标流量;
所述压力控制器用于在所述质量流量控制器进行流量调节的同时,将所述流体通路中的压力调节为第一预设压力;
所述标准流量计用于检测所述流体通路中的流量;
所述主控单元还用于在所述标准流量计的流量检测值满足预设稳定条件后,将所述标准流量计的流量检测值输入至所述待标定质量流量计中。
2.根据权利要求1所述的标定系统,其特征在于,所述主控单元还与所述标准流量计通信连接,所述主控单元还用于确定所述目标流量与所述标准流量计的流量检测值之间的流量差值,并根据所述流量差值调节所述质量流量控制器,直至所述标准流量计的流量检测值达到所述目标流量,并满足所述预设稳定条件。
3.根据权利要求1所述的标定系统,其特征在于,所述预设稳定条件为:所述流量检测值在预设时间内的最大值与最小值之间的差值小于第一预设阈值。
4.根据权利要求1所述的标定系统,其特征在于,所述标定系统还包括减压器和压力计,所述减压器和所述压力计依次连接在所述流体通路的入口与所述标准流量计之间,所述减压器将从所述流体通路的入口通入的流体的压力降低至第二预设压力,所述压力计用于检测所述流体通路中的压力,其中,所述第二预设压力大于所述第一预设压力。
5.根据权利要求4所述的标定系统,其特征在于,所述标定系统还包括储气罐,所述储气罐连接在所述压力计与所述标准流量计之间,用于降低所述流体通路中压力的波动。
6.根据权利要求5所述的标定系统,其特征在于,所述标定系统还包括截止阀,所述截止阀连接在所述压力计与所述储气罐之间,用于开通或关断所述流体通路。
7.根据权利要求6所述的标定系统,其特征在于,所述减压器、所述压力计、所述截止阀、所述储气罐、所述标准流量计、所述压力控制器、所述待标定质量流量计和所述质量流量控制器之间均通过连接管连接,所述连接管构成所述流体通路,所述连接管的外径为3mm至3.175mm。
8.根据权利要求1至7中任意一项所述的标定系统,其特征在于,所述标定系统还包括密封罩,所述流体通路设置在所述密封罩中。
9.一种质量流量计的标定方法,其特征在于,所述标定方法通过权利要求1至8中任意一项所述的标定系统实现,所述标定方法包括:
将待标定质量流量计安装至所述待标定位,向所述流体通路通入流体;
所述主控单元将目标流量发送给所述质量流量控制器;
所述质量流量控制器将所述流体通路中的流量调节为所述目标流量,同时所述压力控制器将所述流体通路中的压力调节为第一预设压力;
在所述标准流量计的流量检测值满足预设稳定条件后,所述主控单元将所述标准流量计的流量检测值输入至所述待标定质量流量计中。
10.根据权利要求9所述的标定方法,其特征在于,所述在所述标准流量计的流量检测值满足预设稳定条件后,所述主控单元将所述标准流量计的流量检测值输入至所述待标定质量流量计中,包括:
确定所述目标流量与所述标准流量计的流量检测值之间的流量差值;
根据所述差值调节所述质量流量控制器,直至所述标准流量计的流量检测值达到所述目标流量,并满足所述预设稳定条件。
11.根据权利要求10所述的标定方法,其特征在于,所述主控单元将多个所述目标流量依次发送给所述质量流量控制器,每次所述标准流量计的流量检测值达到一所述目标流量且满足所述预设稳定条件后,将所述标准流量计的流量检测值输入至所述待标定质量流量计中。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
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---|---|---|---|
CN202110879677.7A CN115931086A (zh) | 2021-08-02 | 2021-08-02 | 一种质量流量计的标定系统及标定方法 |
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Publication Number | Publication Date |
---|---|
CN115931086A true CN115931086A (zh) | 2023-04-07 |
Family
ID=86549276
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---|---|---|---|
CN202110879677.7A Pending CN115931086A (zh) | 2021-08-02 | 2021-08-02 | 一种质量流量计的标定系统及标定方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
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CN (1) | CN115931086A (zh) |
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