CN115868404A - 一种抑制发霉的植物种植系统及方法 - Google Patents

Abstract

本发明涉及一种抑制发霉的植物种植系统，所述系统包含用于容置植物水培生长的生长单元和用以向所述生长单元播种的播种单元，所述播种单元设置的出料口朝向所述生长单元容置植物生长的第一面以定向向所述生长单元分配种植资源，所述生长单元包含一由框架环绕在第一面边缘的容器，其中，所述生长单元包含至少一个连接种植基底一端以将所述种植基底平铺在高于所述第一面的框架上的张拉组件，所述种植基底配置为垫和/或膜。种植基底间隔生长过程中的植物与营养液，营养液自种植基底下方流入，避免了污染物通过营养液或水沾染植物的风险，也能够基于营养液和植物的间隔避免根际藻类的累加现象的发生。

Description

一种抑制发霉的植物种植系统及方法

技术领域

本发明涉及育种技术领域，尤其涉及一种抑制发霉的植物种植系统。

背景技术

在成熟商业化的植物培育过程中，往往采用机械设备，以分级式的方法培育植物，包含育种、移栽、开花、采收等环节。在育种环节中，常常采用固体或液体培养基定向促进植物种子或愈伤的快速生长，从而在保证植物正常生长的情况下增加植物的生长速度。

在植物组织培养工厂化生产育苗过程中，由于固体或液体培养基中存在大量的营养物质，即使是前期对培养基或设备进行了规范性的消毒杀菌操作，依然不可避免地在增殖和生根过程中会出现大量的细菌污染。污染影响组培苗或种子的正常生长和繁殖，需要经常更换外植体或种子。该过程一方面降低了当年的产出量；另一方面，增加时间和人工成本，同时可能会引起出苗日期延迟，错过造林季节，严重影响组培室的正常运转。而对于珍贵苗木和试验材料，由于消毒难度和繁育难度的增加，珍贵材料的细菌污染如不能去除会造成难以估量的损失。

基于上述原因，育种过程中发生污染前的预防方法和发生污染后的处理方法都变得尤为重要。

针对预防方法，公开号为CN106676055B的中国专利提供一种降低植物组织培养的培养基表面微生物污染的方法。所述方法包括采用天然热可逆凝胶，凝胶与水混合加热成溶胶，灌注到已经高压灭菌的固体培养基表面，冷却形成一薄凝胶层，由于凝胶层不添加营养成分，附着在凝胶层表面的微生物无法繁殖，从而有效防止培养基表面的微生物污染。该方法主要适用于固体的培养基中，且加工方法繁琐，极容易在分层凝胶时使营养物质溶于上层凝胶而导致隔绝污染层配置的失败。

针对处理方法，公开号为CN105815217A的中国专利提供热带木本植物组织培养工厂化育苗中细菌污染的处理方法，包括如下步骤：选择抗生素，过滤灭菌后加入到增殖培养基中配制培养基；在培养基中培养热带木本植物的增殖苗，植株生长状态相对良好，挑选可见细菌菌落相对较少的增殖苗进行试验；在超净工作台中，使用消毒好的尖头镊子夹取1～2cm的植株茎尖，然后转移到添加抗生素的增殖培养基中；按周期对热带木本植物的增殖苗进行多次继代培养。通过化学试剂的额外添加以消灭污染物，该方法具有针对性和灭杀的局限性，对于不属于该广谱范围内的污染物，化学试剂的添加无法高效灭杀或清楚污染物。

不论是预防还是处理，植物直接接触营养物质而为污染物提供生长的温床都是导致植物生长过程被污染的直接原因。

专利号为CN104772015A的中国专利公开了种室内化学污染物生态系统处理装置。该处理装置整体外观呈圆柱状，内部为分层结构。内部组成结构由下至上依次为营养液水箱、周向均布进风口、生物处理载体层、螺旋排列雾化喷嘴、活性炭吸附层、土壤植被层。并设置连接于营养液水箱至土壤植被层的营养液总管，营养液总管在雾化喷淋层分出雾化支管用于连接雾化喷嘴。该装置适用于固态种植的环境，通过表面的吸附层降低污染物对植物生长的污染。

然而，在实际生产中，工厂环境中的植物生长既要满足便捷的批量操作条件，又要增强植物种植资源的纯洁性。基于此，本发明提供一种抑制发霉的植物种植系统，该系统适用于水培或气培环境，并通过种植基底的定向设置使植物在保持营养吸收的情况下与供给成分(水或营养液)分离，从而避免污染物在植物组织(种子、外植体或其他组织部位)上生长和繁殖。

此外，一方面由于对本领域技术人员的理解存在差异；另一方面由于申请人做出本发明时研究了大量文献和专利，但篇幅所限并未详细罗列所有的细节与内容，然而这绝非本发明不具备这些现有技术的特征，相反本发明已经具备现有技术的所有特征，而且申请人保留在背景技术中增加相关现有技术之权利。

发明内容

室内植物栽培技术在现有技术中非常成熟，蔬菜、水果、花卉等商品植物都会依赖于温室或植物工厂的定向培育而实现高产高度的培育过程。已知的植物工厂或温室灌溉植物主要采用水培或气培的方式。在水培环境中，植物种子会被直接放置于营养液或清水中，以实现植物种子的初期催芽阶段。在气培环境中，植物种子被静置在一个生长容器并定期被喷洒养分和水的细雾。不论是水培还是雾培，由植物、养分和水构成的生长环境非常脆弱，极易收到外界污染而在植物体表生长藻类、细菌、真菌或其他影响植物生长的污染物。

本发明提供一种抑制发霉的植物种植系统，所述系统包含用于容置植物水培生长的生长单元和用以向所述生长单元播种的播种单元，所述播种单元设置的出料口朝向所述生长单元容置植物生长的第一面以定向向所述生长单元分配种植资源，所述生长单元包含一由框架环绕在第一面边缘的容器，其中，

所述生长单元包含至少一个连接种植基底一端以将所述种植基底平铺在高于所述第一面的框架上的张拉组件，所述种植基底配置为垫和/或膜，其中，

当所述出料口向所述生长单元提供种植资源时，所述张拉组件能够基于其设置的与所述框架连接的移动件沿所述框架延伸方向移动。

根据一种优选实施方式，所述种植基底设置为：背离营养液或水的所述第一面朝向所述出料口以承接所述种植资源，相对第一面的第二面设置于营养液或水的上方。

本技术方案的技术效果：

(1)设置一种植基底，种植基底的两面分别对应生长过程中的植物与营养液。种植基底间隔生长过程中的植物与营养液，营养液自种植基底下方流入，避免了污染物通过营养液或水沾染植物的风险，也能够基于营养液和植物的间隔避免根际藻类的累加现象的发生。一般情况下，污染物会积累在种植基底下方的营养液中，而面对这种污染发生的情况，仅需要更换营养液而不会影响植物生长，尤其地，针对2-10μm的霉菌，种植基底能够透过100nm左右的糖分或其他小于2μm的直径的营养物质，并将霉菌隔离在下方，避免霉菌附着在植物的根系上。

(2)本技术方案中设置的张拉组件能够配合播种单元的工作状态牵拉种植基底，即当开始播种时张拉组件牵拉种植基底移动一个种植单位的距离。通过张拉组件配合播种单元的播种规律，使得该种植系统能够实现自动种植的目标，同时，由于张拉组件的位移具有固定的移动距离，使得种植资源的栽培距离能够符合其生长所需要求。

(3)设置于种植基底上的种植资源不会浸入营养液或水中而位于开放的大气中，因此，种植资源能够受温室环境中通风、温度及静电场等环境因素的影响而避免在种植资源表面发生污染。

根据一种优选实施方式，所述张拉组件设置有分别与种植基底两端连接的定位轴和移动轴，其中，所述定位轴设置于播种单元一侧，所述移动轴能够沿框架往复运动以完成平铺种植基底或回归起始位的指令。

本技术方案中的张拉组件的移动距离、移动次数和移动速度均能够通过对移动轴的移动数据的设置而调整。定位轴用于将种植基底一端固定在播种单元的下方，使得部分种植基底始终能够承载自出料口中掉落的种植资源。移动轴沿框架移动向远离播种单元的方向移动时，种植基底始终保持紧绷的状态，使得种植资源能够在种植基底上始终保持在其掉落的位置。

根据一种优选实施方式，至少一个所述容器构成的所述生长单元在所述系统中的至少两个层中层叠设置，其中，每一层的所述生长单元的一侧对应设置有至少一个播种单元。

多个由框架环绕在第一面边缘的容器并列、组合，并构成一个平层的生长单元。生长单元外边缘部分或全部设置有框架，框架和框架间能够通过卡合、插入等方式彼此连接，使得每一层的生长单元在高度方向上重叠。植物工厂或温室环境下，容器夹在两个框架之间。优选地，框架基于功能分为外边框和高度边框。外边框围绕容器边缘设置。高度边框垂直于外边框设置。此时，移动轴的位移方向为第一方向，如图2所示。

根据一种优选实施方式，所述容器包含分隔的用于容置水或营养液的洞，其中，所述种植基底位于所述洞上。为了保证种植间距，播种单元的出料口能够设置为分隔的多个出料口，使得自每个出料口掉落的种植资源能够间隔符合彼此生长要求的距离。同时，为了保证种植资源彼此间在生长过程中的间距，容器设置有对应的洞。容器的洞用于承载水或营养液。种植资源基于营养或水分的需求，生长趋势也会以承载有水或营养液的洞为中心进行生长，不会在生长过程中使自身的主根、侧根、茎秆等组织向其他方向生长而抢夺其他区域的种植资源的生长资源。

根据一种优选实施方式，所述生长单元设置有至少两个容器，所述容器沿所述张拉组件的连接种植基底的一端的延伸方向并列，以使得所述种植基底能够覆盖所述容器。基于该设计，每个容器中的营养液/水的供给量能够具有差异。同时，每个容器在每一层生长单元中可被替换，即，自播种单元一侧的推力能够将容器推离至远离播种单元的一侧，而后脱出框架。在对应的种植资源的生长位置重新放置盛装新的营养液/水的容器即可。该过程不需要变动种植资源，使得扒附在种植基底上的植物的根不会因移动而发生损毁，在种植资源进入新的生长期时，仅需要更换其下方的容器即可为其提供其所需的营养物质。

根据一种优选实施方式，所述播种单元设置有两端分别设置为进料口和出料口的缓冲通道，其中，所述缓存通道相对种植基底呈α倾斜角度，以使得自所述进料口进入缓存通道的种植资源能够基于自身重力自所述出料口掉落至所述种植基底的第一面上。播种单元设置于生长单元的一侧。播种单元基于斜坡道设置使得种植资源能够基于自身重力而掉落至生长单元的种植基底上。一般来讲，斜坡及保证种植资源能够掉落，又能够为种植资源掉落提供缓冲功能，防止其掉落时损伤自身，尤其是当种植资源为外植体时。

根据一种优选实施方式，所述种植基底配置为：孔径为1.5nm～10nm的透水膜。基于该设置，较大的颗粒特别是细菌、病毒和藻类单细胞不能通过种植基底。通过种植基底的通透率设置，使得种植资源既能够获得水和营养，又能够避免大颗粒污染物通过液体向植物渗透。

根据一种优选实施方式，所述移动轴配置为：与所述种植基底暂时地连接，以允许种植基底更替。当一批次的种植资源生长至可收割时，其扒附的种植基底需要更换，以进行下一批种植资源的播种和培育。当人工或自动切割改种植基底时，种植基底需要与移动轴断连。移动轴与新的种植基底的一端连接。

本发明提供一种抑制发霉的植物种植方法。所述方法包含以下步骤：

当播种单元开启工作而向生长单元提供种植资源时，基于每一次播种单元提供的对应数量/重量的种植资源，所述生长单元的张拉组件按照能够牵拉用于容置种植资源的种植基底的方式沿所述生长单元边缘的框架向远离所述播种单元的方向移动一个距离单位α；

当所述张拉组件移动至最远端时，所述播种单元基于所述张拉组件的停止移动而停止提供种植资源；

向位于种植基底下方的容器中注入水或液体营养液。

附图说明

图1是本发明提供的一种实施方式的3D结构图；

图2是本发明提供的一种实施方式的侧视图；

图3是本发明提供的一种种植基底的结构图；

图4是本发明提供的另一种实施方式的3D结构图；

图5是本发明提供的种植基底的孔径密度分布图。

附图标记列表

100：播种单元；110：进料口；120：缓冲通道；130：出料口；200：生长单元；210：框架；220：容器；221：洞；230：张拉组件；231：定位轴；232：移动轴；240：种植基底；241：植物生长区域；2411：低密度孔径；2412：高密度孔径；300：第一面；400：第二面；500：第一方向。

具体实施方式

下面结合附图进行详细说明。

本发明提供一种抑制发霉的植物种植系统，所述系统包含用于容置植物水培生长的生长单元200和用以向所述生长单元200播种的播种单元100，所述播种单元100设置的出料口130朝向所述生长单元200容置植物生长的第一面300以定向向所述生长单元200分配种植资源，所述生长单元200包含一由框架210环绕在第一面300边缘的容器220，其中，所述生长单元200包含至少一个连接种植基底240一端以将所述种植基底240平铺在高于所述第一面300的框架210上的张拉组件230，所述种植基底240配置为垫和/或膜，其中，当所述出料口130向所述生长单元200提供种植资源时，所述张拉组件230能够基于其设置的与所述框架210连接的移动件沿所述框架210延伸方向移动。优选地，生长单元200包含周边框架210。周边框架210为一容置容器220的立体架。基于容器220的框架210彼此连接的不稳定性，周边框架210为一设置为多层的架子，架子包含高度方向上的支撑柱和于每一层设置的容置板。容置板与支撑柱的连接。容器220能够放置在容置板上。容器220沿第一方向500的边长设置有框架210。框架210能够使并列的容器220彼此间基于卡扣或其他连接关卡而彼此连接。框架210还能够使容器220在高度方向上重叠。优选地，框架210沿第一方向500设置轨道，移动件为滚轮。滚轮设置在轨道内。滚轮基于外源控制能够沿轨道移动。如图1所示，第一方向500为容置板的长边延伸方向。

根据一种优选实施方式，容器220设置为正方形。容器220为一高度在1～30cm范围内的浅底盒。容器220内部盛装营养液或水。种植基底240能够设置在容器220上方。种植基底240能够与营养液/水面贴附。种植基底240能够与营养液/水面间隔。

根据一种优选实施方式，所述张拉组件230设置有分别与种植基底240两端连接的定位轴和移动轴，其中，所述定位轴设置于播种单元100一侧，所述移动轴能够沿框架210往复运动以完成平铺种植基底240或回归起始位的指令。基于外源输入的指令，移动轴能够生成不同移动模式。优选地，定位轴为一旋转滚轴，种植基底240缠绕在定位轴上。移动轴为不可旋转的可平移的轴。移动轴在拉扯种植基底240时，定位轴旋转而释放种植基底240。优选地，定位轴和移动轴彼此间配合，在移动轴以a速度移动时，定位轴以b速度旋转，使得种植基底240保持紧绷状态。紧绷状态的种植基底240承载种植资源，并保证种植资源在种植基底240的固定位置上。

根据一种优选实施方式，至少一个所述容器220构成的所述生长单元200在所述系统中的至少两个层中层叠设置，其中，每一层的所述生长单元200的一侧对应设置有至少一个播种单元100。基于播种单元100在所述生长单元200的同位置设置，当多个生长单元200层叠设置时，每一层设置的播种单元100的出料口130能够汇集在一起，形成如图5所示的管路。优选地，出料口130设置在系统的最高位置，以使得种植资源能够基于重力被分配至各个层的播种单元100。

根据一种优选实施方式，所述容器220包含分隔的用于容置水或营养液的洞221，其中，所述种植基底240位于所述洞221上。所述种植基底240设置有与洞221对应的植物生长区域241，如图3所示。优选地，当种植基底240覆盖容器220时，植物生长区域241位于洞221的正上方。植物生长区域241的面积小于洞221的面积。

根据一种优选实施方式，所述生长单元200设置有至少两个容器220，所述容器220沿所述张拉组件230的连接种植基底240的一端的延伸方向并列，以使得所述种植基底240能够覆盖所述容器220。如图1所示，多个容器220并列设置，彼此间没有间隔。优选地，多个容器220构成的所述生长单元200的面积小于种植基底240的覆盖面积。

根据一种优选实施方式，所述播种单元100设置有两端分别设置为进料口110和出料口130的缓冲通道120，其中，所述缓存通道相对种植基底240呈α倾斜角度，以使得自所述进料口110进入缓存通道的种植资源能够基于自身重力自所述出料口130掉落至所述种植基底240的第一面300上。优选地，容器220能够为格状。

根据一种优选实施方式，所述种植基底240配置为：孔径为1.5nm～10nm的透水膜。优选地，种植基底240能够是可透过最大粒度为10nm的透水膜。优选地，种植基底240能够是可透过最大粒度为5nm的透水膜。优选地，种植基底240能够是可透过最大粒度为3nm的透水膜。优选地，种植基底240能够是可透过最大粒度为2.5nm的透水膜。优选地，种植基底240能够是可透过最大粒度为2nm的透水膜。优选地，种植基底240能够是可透过最大粒度为1.5nm的透水膜。透水膜的可透过颗粒能够为水颗粒和/或养分颗粒。如图3所示，种植基底240被配置为：其表面设置能够与洞221匹配的植物生长区域241。

根据一种优选实施方式，容器220盛装营养液。与容器220方向一致的种植基底240被配置为：其表面设置能够与洞221匹配的植物生长区域241，如图3所示。基于植物生长区域241分布的孔径和容器220相对所述植物生长区域241的位置设置引导植物的根系生长趋势。

基于不同的孔径密度的分布，种植基底240能够生成多种适用于不同品种的植物生长的规格，其中，种植基底240在不同位置设置不同密度的孔径可引起生长在种植基底240上的植物的根部生成生长趋势差异。尤其地，该种植基底240能够针对地下收获植物或地上收获植物。

如图5所示，培育的植物为土豆。当土豆植株进入生殖生长时，土豆根茎生成块茎。在此过程中，块茎不需要体外环境提供养分，而是从根系中获得养分。基于土豆根系对水和营养的需求以及块茎需要低量水分维持生长环境，植物生长区域241能够根据土豆根系和块茎的不同生长要求而设置透水和不透水的两个部分。

又或者，植物生长区域241被配置为：自中心向外围的孔径密度逐渐增加。当植物在其对应的植物生长区域241生长时，植物生长需求的营养量逐渐增多。随着植物根系逐渐变长，作为植物营养物质吸收的主力的毛细根系在远端数量更多。基于此，外围的孔径密度的增加能够帮助植物吸收到更多的营养物质。在植物还未生长至根系能够延伸至外围高密度孔径2412的分布区域时，低营养量需求的植物仅需要通过更中心的低密度孔径2411吸收下方提供的营养量。通过此设置，一方面，植物根系能够在生长过程中尽量向外围延伸生长以获取更高含量的营养物质，避免根系在有限的活动范围内纠缠，使得主根和毛细根系都能够平铺在种植基底240表面；另一方面，伴随植物生长的需求，孔径密度的逐渐增大使得植物能够吸收到其所需要的营养量，避免育种期的植物过量接触营养物质和水而增加其表面的潮湿度，造成植物表面生成霉菌的概率更高。

容器220还能够相对种植基底240发生位移。一方面，在植物的不同生长阶段其所需要的营养物质配比不同，且植物生长过程中会吸收水和营养，容器220需要定时更换不同物质含量的营养液或添加营养液；另一方面，植物生长时间较长，不更换的容器220容易诱发霉菌在下方的滋生，霉菌在容器220中滋生会遮蔽种植基底240传导营养物质的孔径，还会与植物争夺容器220中营养液的营养物质。

优选地，容器220与种植基底240平铺的方向一致。通过在定位轴的方向设置容器220放置的进入口和在移动轴可移动的最远端的方向设置容器220放置的流出口，使得容器220能够在种植基底240下方平移。例如，当种植水稻时，水稻种子在发芽的初期阶段仅需要清水，以打破其休眠。此时，容器220内盛装灭菌水，并设置于植物生长区域241的低密度孔径2411分布的位置。伴随着水稻种植的生长，进入两叶期的水稻进入营养生长时期，需要补充由大量元素、微量元素和糖分构成的营养。操作者仅需要将盛装水的容器220顶出，将盛装营养液的容器220放置于植物生长区域241的高密度孔径2412的位置即可。优选地，操作者还能够在放置盛装营养液的容器220时在低密度孔径2411的位置重新放置盛装灭菌水的容器220，以保证植物的水分补充。由于水稻生长过程中，毛细根系是主要的营养摄入器官，因此，水稻的毛细根系的初生端会为了能够吸取更多的营养而向高密度孔径所在的能够渗透营养液的植物生长区域241延伸，并平铺于该区域以覆盖所有可渗透营养液的区域。该方法既能够降低通过液体向植物根系感染霉菌的概率，又能够诱导根系定向或趋势化生长，避免植物的不定根、毛细根、主根彼此间缠绕而影响其营养的吸收。

根据一种优选实施方式，所述移动轴配置为：与所述种植基底240暂时地连接，以允许种植基底240更替。种植基底240能够在每间隔第一距离的长度位置设置分割线，以方便使用过的种植基底240被撕扯。优选地，第一距离能够与生长单元200的长边距离相同。优选地，距离能够为1～10m。

本发明提供一种抑制发霉的植物种植方法。所述方法包含以下步骤：

当播种单元100开启工作而向生长单元200提供种植资源时，基于每一次播种单元100提供的对应数量/重量的种植资源，所述生长单元200的张拉组件230按照能够牵拉用于容置种植资源的种植基底240的方式沿所述生长单元200边缘的框架210向远离所述播种单元100的方向移动一个距离单位α；当所述张拉组件230移动至最远端时，所述播种单元100基于所述张拉组件230的停止移动而停止提供种植资源；向位于种植基底240下方的容器220中注入水或液体营养液。优选地，向位于种植基底240下方的容器220中注入水或液体营养液也能够设置在覆盖种植基底240的操作前。优选地，距离单位α能够为洞221与洞221之间的间隔距离。α为0.1～2m。

实施例1

本发明涉及一种种植系统。本发明还涉及一种适用于水培或气培的种植系统。本发明涉及一种适用于干种子的种植系统。

所述系统包含用于容置植物水培生长的生长单元200和用以向所述生长单元200播种的播种单元100。

如图1所示，播种单元100包含缓冲通道120，缓冲通道120朝向生长单元200的开口为出料口130。缓冲通道120为一矩形中控的倾斜立方体。立方体相对出料口130的一端与播种管道连接。播种管道内设置至少一个螺旋叶片。每一层的播种单元100的播种管道汇集并向系统的最高位置延伸，进料口110设置于汇集后的播种管道的最高端点，如图4所示。种子自进料口110进入播种管道，并基于播种管道中设置的螺旋叶片被吹至设置在每一层的生长单元200一侧的缓冲通道120中。种子基于缓冲通道120的倾斜坡道掉落至生长单元200。

所述播种单元100设置的出料口130朝向所述生长单元200容置植物生长的第一面300以定向向所述生长单元200分配种植资源，所述生长单元200包含一由框架210环绕在第一面300边缘的容器220。如图1所示，容器220为设置为具有1纵列、15个横列的洞221的长方体。6个容器220并列构成生长单元200，容器220彼此间无缝隙。

张拉组件230位于容器220上方。所述生长单元200包含至少一个连接种植基底240一端以将所述种植基底240平铺在高于所述第一面300的框架210上的张拉组件230。所述种植基底240配置为垫和/或膜。种植基底240为1.5nm的透明透水膜。透明透水膜能够为观察容器220中的营养液或水的状态的视野。当所述出料口130向所述生长单元200提供种植资源时，所述张拉组件230能够基于其设置的与所述框架210连接的移动件沿所述框架210延伸方向移动。移动轴基于其两侧设置的移动件沿设置在框架210内侧设置的轨道移动。

当需要对该周边框架210内设置的多层生长单元200播种时，操作人员设置移动轴的参数。参数包含移动轴的移动速度。在容器220还未被种植基底240被覆盖时，操作人员向容器220中的洞221添加对应的营养液或水。操作人员开启系统，播种单元100将自进料口110进入的种子分配至种植基底240的第一面300上。基于种植基底240感受到重力的变化，定位轴和移动轴开启工作。移动轴以设置的移动速度移动。定位轴以相对应的旋转速度旋转。定位轴和移动轴配合运动，使得种植基底240始终以保持紧绷的状态移动。当移动轴移动至生长单元200距离播种单元100的最远端时，播种单元100和定位轴停止工作。

具体地，系统适用于培育水稻种子。

操作人员依赖人工或设备向容器220中的洞221中注入包含营养液。

移动轴的移动速度设置为6m/min，定位轴的旋转速度设置为2r/s。操作人员向进料口110投放1公斤的水稻种子。操作人员开启系统。播种单元100分配水稻种子。移动轴和定位轴分别设置在种植基底240两端。移动轴和定位轴拉抻的种植基底240位于播种单元100的出料口130下方。当种植基底240接收到第一批水稻种子时，基于重力变化，移动轴和定位轴开启工作。播种单元100每秒向生长单元200提供18颗种子，分别掉落在对应的容器220的洞221的上方，每个洞221放置3颗种子。移动轴移动至距离播种单元100的最远端时，定位轴和播种单元100停止工作。

需要注意的是，上述具体实施例是示例性的，本领域技术人员可以在本发明公开内容的启发下想出各种解决方案，而这些解决方案也都属于本发明的公开范围并落入本发明的保护范围之内。本领域技术人员应该明白，本发明说明书及其附图均为说明性而并非构成对权利要求的限制。本发明的保护范围由权利要求及其等同物限定。本发明说明书包含多项发明构思，诸如“优选地”、“根据一个优选实施方式”或“可选地”均表示相应段落公开了一个独立的构思，申请人保留根据每项发明构思提出分案申请的权利。在全文中，“优选地”所引导的特征仅为一种可选方式，不应理解为必须设置，故此申请人保留随时放弃或删除相关优选特征之权利。

Claims (10)

1.一种抑制发霉的植物种植系统，所述系统包含用于容置植物水培生长的生长单元(200)和用以向所述生长单元(200)播种的播种单元(100)，其特征在于，所述播种单元(100)设置的出料口(130)朝向所述生长单元(200)容置植物生长的第一面(300)以定向向所述生长单元(200)分配种植资源，所述生长单元(200)包含一由框架(210)环绕在第一面(300)边缘的容器(220)，其中，

所述生长单元(200)包含至少一个连接种植基底(240)一端以将所述种植基底(240)平铺在高于所述第一面(300)的框架(210)上的张拉组件(230)，所述种植基底(240)配置为垫和/或膜，其中，

当所述出料口(130)向所述生长单元(200)提供种植资源时，所述张拉组件(230)能够基于其设置的与所述框架(210)连接的移动件沿所述框架(210)延伸方向移动。

2.根据权利要求1所述的植物种植系统，其特征在于，所述种植基底(240)设置为：背离营养液或水的所述第一面(300)朝向所述出料口(130)以承接所述种植资源，相对第一面(300)的第二面(400)设置于营养液或水的上方。

3.根据权利要求1或2所述的植物种植系统，其特征在于，所述张拉组件(230)设置有分别与种植基底(240)两端连接的定位轴(231)和移动轴(232)，其中，所述定位轴(231)设置于播种单元(100)一侧，所述移动轴(232)能够沿框架(210)往复运动以完成平铺种植基底(240)或回归起始位的指令。

4.根据权利要求3所述的植物种植系统，其特征在于，至少一个所述容器(220)构成的所述生长单元(200)在所述系统中的至少两个层中层叠设置，其中，每一层的所述生长单元(200)的一侧对应设置有至少一个播种单元(100)。

5.根据权利要求4所述的植物种植系统，其特征在于，所述容器(220)包含分隔的用于容置水或营养液的洞，其中，所述种植基底(240)位于所述洞上。

6.根据权利要求5所述的植物种植系统，其特征在于，所述生长单元(200)设置有至少两个容器(220)，所述容器(220)沿所述张拉组件(230)的连接种植基底(240)的一端的延伸方向并列，以使得所述种植基底(240)能够覆盖所述容器(220)。

7.根据权利要求6所述的植物种植系统，其特征在于，所述播种单元(100)设置有两端分别设置为进料口(110)和出料口(130)的缓冲通道(120)，其中，所述缓存通道相对种植基底(240)呈α倾斜角度，以使得自所述进料口(110)进入缓存通道的种植资源能够基于自身重力自所述出料口(130)掉落至所述种植基底(240)的第一面(300)上。

8.根据权利要求7所述的植物种植系统，其特征在于，所述种植基底(240)配置为：孔径为1.5nm～10nm的透水膜。

9.根据权利要求8所述的植物种植系统，其特征在于，所述移动轴配置为：与所述种植基底(240)暂时地连接，以允许种植基底(240)更替。

10.一种抑制发霉的植物种植方法，其特征在于，所述方法包含以下步骤：

当播种单元(100)开启工作而向生长单元(200)提供种植资源时，基于每一次播种单元(100)提供的对应数量/重量的种植资源，所述生长单元(200)的张拉组件(230)按照能够牵拉用于容置种植资源的种植基底(240)的方式沿所述生长单元(200)边缘的框架(210)向远离所述播种单元(100)的方向移动一个距离单位α；

当所述张拉组件(230)移动至最远端时，所述播种单元(100)基于所述张拉组件(230)的停止移动而停止提供种植资源；

向位于种植基底(240)下方的容器(220)中注入水或液体营养液。

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