CN115815087B - 紫外固化设备 - Google Patents

Abstract

本申请涉及半导体技术领域，尤其涉及一种紫外固化设备。紫外固化设备包括真空腔室，真空腔室内设有喷淋板和晶圆载盘，晶圆载盘位于喷淋板的下方，真空腔室内还包括分气环；分气环为环体结构，其环周顶部与喷淋板的周向下边沿相抵接设置；其环形内壁朝向真空腔室的内部设置，且环形内壁沿其周向设有多个分气孔；分气环的环形内壁、环周顶部、环形外壁和环周底部依次相接合围成环形气道，分气孔与环形气道相通设置，将环形气道内的气体通入至真空腔室的内部；晶圆载盘设置为可升降结构，其朝靠近或远离分气环的方向升降。紫外固化设备解决了真空腔室清洗效果不佳，导致单次设备维护与保养时间短、单次跑片数量低、成本过高的技术问题。

Description

紫外固化设备

技术领域

本申请涉及半导体技术领域，尤其涉及一种紫外固化设备。

背景技术

紫外固化设备(UV Cure设备)是一种应用紫外固化技术的设备，紫外固化是辐射固化的一种，是利用紫外线UV产生辐射聚合、辐射交联等反应，迅速将低分子量物质转变成高分子量产物的化学过程，体系中不含溶剂或含极少量溶剂，辐照后液膜几乎100％固化，因而挥发性有机化合物(VOC)排放量很低。因此，自60年代末以来，这一技术在国际上得到飞速发展，其产品在许多行业都得到广泛应用。

由于紫外固化设备在使用一段时间后，其真空腔室内包括喷淋板和晶圆载盘等器件表面以及真空腔室内表面都会有颗粒沉积，时间一长颗粒还会掉落，这会影响成膜的质量，故紫外固化设备每使用一段时间就需要对其真空腔室进行清洗保养及维护，从而保证薄膜的成品质量和紫外固化设备的正常高效使用。

现有技术一般是直接从真空腔室底部通过泵送的方式导入清洁气体离子(例如F离子)进入清洁，但是，一方面，抽气系统也在真空腔室底部设置，从底部进入的清洁气体离子很容易还没到达真空腔室内的喷淋板、晶圆载盘的表面就已经被抽气系统的抽吸环等结构抽吸出去了；另一方面，真空腔室存在需要清洗的颗粒最多的喷淋板及晶圆载盘均位于真空腔室内的中上部，真空腔室的主要工作区域也在中部位置左右，而清洁气体离子从真空腔室的底部进入，其进入位置距离主要需要清洗的区域较远，且进入的清洁气体离子本身也有其能够达到的冲击距离、冲力范围的限制，并且距离越远越影响清洁气体离子的活性及清洁效果。导致清洗真空腔室的效果较差，也就导致单次设备清洗维护、保养的效果一般，单次跑片数量低，每次设备清洗维护保养后到下次再需要设备清洗维护保养的间隔时间较短，维护成本较高。

发明内容

本申请的目的在于提供了一种紫外固化设备，以解决现有技术真空腔室清洗效果不佳，导致单次设备维护与保养时间短、单次跑片数量低、成本过高的技术问题。

本申请提供的一种紫外固化设备，包括真空腔室，所述真空腔室内设有喷淋板和晶圆载盘，所述晶圆载盘位于所述喷淋板的下方，

所述真空腔室内还包括分气环；

所述分气环为环体结构，其环周顶部与所述喷淋板的周向下边沿相抵接设置；其环形内壁朝向所述真空腔室的内部设置，且所述环形内壁沿其周向设有多个分气孔；

所述分气环的所述环形内壁、所述环周顶部、环形外壁和环周底部依次相接合围成环形气道，所述分气孔与所述环形气道相通设置，将所述环形气道内的气体通入至所述真空腔室的内部；

所述晶圆载盘设置为可升降结构，其朝靠近或远离所述分气环的方向升降。

进一步的，当需要清洗真空腔室内部时，通过升降控制所述晶圆载盘，使所述晶圆载盘的上表面到所述喷淋板的下表面之间的距离为10～50mm。

进一步的，所述紫外固化设备还包括压力控制单元；

当需要清洗真空腔室内部时，所述压力控制单元控制所述真空腔室的内部压力为1～6torr之间。

进一步的，所述分气环的所述环形内壁的高度范围在20～30mm之间。

更进一步的，所述晶圆载盘的圆心和所述分气环的圆心在同一纵轴线上；

所述晶圆载盘的外径小于所述分气环的内径，使所述晶圆载盘的外周边沿与所述环形内壁之间留有间隙，所述间隙的横向间距范围在2～3mm之间。

更进一步的，所述晶圆载盘的圆心和所述分气环的圆心在同一纵轴线上；

所述分气环的内径小于所述晶圆载盘的外径，且所述分气环的外径大于所述晶圆载盘的外径，使所述晶圆载盘能够上升至其外周边沿与所述分气环的所述环周底部相接触搭接。

更进一步的，所述分气环的内径比所述晶圆载盘的外径小1～3mm；和/或

所述分气环的所述环周底部为阶梯形底部，包括与所述环形内壁相接平齐的第一阶面和与所述环形外壁相接平齐的第二阶面，所述第一阶面与所述第二阶面通过竖直面相接；所述环形内壁的高度范围为5～15mm，所述晶圆载盘的外周边沿能够与所述第一阶面相接触搭接。

进一步的，所述分气孔的孔径大小为2～8mm，所述环形内壁沿其周向至少设置一圈所述分气孔，同一圈间隔设置40～90个所述分气孔。

进一步的，所述紫外固化设备还包括与所述环形气道相连通的进气管道，和与所述进气管道相连通的远程等离子体装置，以及与所述远程等离子体装置相连通的NF3气体进入管路；

所述进气管道、所述远程等离子体装置和所述NF3气体进入管路位于所述真空腔室外。

更进一步的，所述紫外固化设备包括至少两个所述真空腔室；

所述进气管道具有至少两个分支管道，分别与位于各所述真空腔室内的所述分气环的所述环形气道相连通设置。

更进一步的，所述紫外固化设备还包括与所述喷淋板相连通的氩气通入管道，所述喷淋板表面设有多个喷淋孔。

更进一步的，所述紫外固化设备包括至少两个所述喷淋板，至少包括上下依次设置的第一喷淋板和第二喷淋板，对应的，所述氩气通入管道包括与所述第一喷淋板相连通的第一氩气通入管道和与所述第二喷淋板相连通的第二氩气通入管道；和/或

控制所述氩气通入管道通入的氩气流量在500～1000sccm之间。

与现有技术相比，本申请提供的紫外固化设备的真空腔室内，在其喷淋板的下边沿环周设置有分气环，该分气环的环形内壁朝向真空腔室的内部设置，该环周内壁上沿其周向设有多个用于通入清洁气体离子(如F离子)的分气孔，该分气孔与分气环的环形气道相连通，将环形气道内的清洁气体离子直接通入到真空腔室的内部，由于该分气环紧贴于喷淋板的下方，而该喷淋板的下方和晶圆载盘的上方之间为真空腔室的主要使用区域，该分气环也就是将清洁气体离子直接通入至真空腔室的内部中间位置左右，也就是前述真空腔室的主要使用区域，也就是真空腔室最需要清洗的区域，该区域也是距离最需要清洗的喷淋板表面、晶圆载盘表面最近的区域，通入的清洁气体离子可直接扩散到喷淋板表面、晶圆载盘表面以及真空腔室内壁表面，并对各个表面的附着颗粒进行清洁；且该晶圆载盘为可升降结构，当需要清洗真空腔室时，可将晶圆载盘上升到靠近分气环的环形内壁的位置，进一步减小清洁气体离子到其表面的距离，进一步提高晶圆载盘的清洁效果和提高清洁效率，且调节晶圆载盘的升降高度还可调节喷淋板与晶圆载盘之间的气流，调节真空腔室内部的清洁气体离子的分布扩散情况，进而进一步提高真空腔室内部的清洁效果和清洁效率。

本申请提供的清洁真空腔室的技术方案可直接将清洁气体离子通入至工作使用率最高的真空腔室的内部较中间位置，即喷淋板和晶圆载盘之间的位置，大大减小清洁气体离子到喷淋板、晶圆载盘及真空腔室内壁的距离，离需要清洗的区域最近，确保清洁气体离子的活性，提高清洁效果；且晶圆载盘为可调节高度的可升降结构，可根据实际清洁情况，调整其高度位置，以调整晶圆载盘表面到分气环的环形内壁的距离，以及调节喷淋板与晶圆载盘之间的气流，调节真空腔室内部的清洁气体离子的分布扩散情况，从而达到更好的清洁效果。真空腔室内部的清洁效果提高，进而也就提高单次设备清洗维护、保养的效果，提高单次跑片数量，延长每次设备清洗维护保养后到下次再需要设备清洗维护保养的间隔时间，降低拥有成本。

附图说明

为了更清楚地说明本申请具体实施方式或现有技术中的技术方案，下面将对具体实施方式或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图是本申请的一些实施方式，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。

图1为本申请实施例所提供的紫外固化设备的结构截面示意图；

图2为本申请一种实施例所提供的紫外固化设备的部分结构的剖面示意图；

图3为本申请另一种实施例所提供的紫外固化设备的部分结构的剖面示意图；

图4为本申请实施例所提供的清洁气体离子和保护气体离子的流向示意图；

图5为本申请一种实施例所提供的分气环的截面示意图；

图6为本申请实施例所提供的清洁气体进入紫外固化设备内的流程示意图。

附图标记：

1000-紫外固化设备；

100-真空腔室；

11-第一喷淋板；

12-第二喷淋板；

13-喷淋孔；

20-晶圆载盘；

30-分气环；

31-环形内壁；

311-分气孔；

32-环周顶部；

33-环形外壁；

34-环周底部；

35-环形气道；

200-进气管道；

201-第一分支管道；

202-闸阀；

300-远程等离子体装置；

400-NF3气体进入管路；

500-抽气系统。

具体实施方式

为使本申请实施例的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合本申请实施例中的附图，对本申请实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例是本申请一部分实施例，而不是全部的实施例。通常在此处附图中描述和示出的本申请实施例的组件可以以各种不同的配置来布置和设计。

因此，以下对在附图中提供的本申请的实施例的详细描述并非旨在限制要求保护的本申请的范围，而是仅仅表示本申请的选定实施例。基于本申请中的实施例，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本申请保护的范围。

应注意到：相似的标号和字母在下面的附图中表示类似项，因此，一旦某一项在一个附图中被定义，则在随后的附图中不需要对其进行进一步定义和解释。

在本申请的描述中，需要说明的是，术语“中心”、“上”、“下”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，或者是该申请产品使用时惯常摆放的方位或位置关系，仅是为了便于描述本申请和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本申请的限制。此外，术语“第一”、“第二”、“第三”等仅用于区分描述，而不能理解为指示或暗示相对重要性。

此外，术语“水平”、“竖直”、“悬垂”等术语并不表示要求部件绝对水平或悬垂，而是可以稍微倾斜。如“水平”仅仅是指其方向相对“竖直”而言更加水平，并不是表示该结构一定要完全水平，而是可以稍微倾斜。

在本申请的描述中，还需要说明的是，除非另有明确的规定和限定，术语“设置”、“安装”、“相连”、“连接”应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或一体地连接；可以是机械连接，也可以是电连接；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通。对于本领域的普通技术人员而言，可以具体情况理解上述术语在本申请中的具体含义。

下面结合附图，对本申请的一些实施方式作详细说明。在不冲突的情况下，下述的实施例及实施例中的特征可以相互组合。

如图1至图4所示，本申请实施例提供的一种紫外固化设备1000，该紫外固化设备1000包括真空腔室100，该真空腔室100内设有喷淋板和晶圆载盘20，该晶圆载盘20位于喷淋板的下方，且该晶圆载盘20可升降设置，其为可升降的结构，具体其下方可连接有升降机构，该晶圆载盘20朝向靠近或远离该喷淋板下表面的方向升降运动。该紫外固化设备1000可包括至少两个该喷淋板，至少包括上下依次设置的第一喷淋板11和第二喷淋板12，该第一喷淋板11和第二喷淋板12的表面均具有多个喷淋孔13。

如图1至图5所示，本申请实施例提供的紫外固化设备1000还包括设置于真空腔室100内的分气环30，该分气环30为环体结构，该分气环30包括环形内壁31、环周顶部32、环形外壁33和环周底部34，以及由该环形内壁31、环周顶部32、环形外壁33和环周底部34依次相接合围成的环形气道35。该分气环30的环周顶部32与前述喷淋板的周向下边沿相抵接设置，若喷淋板设有多个，则与位于最下层的喷淋板(如第二喷淋板12)的周向下边沿相抵接设置。

前述分气环30的环形内壁31朝向真空腔室100的内部设置，且该环形内壁31沿其周向设有多个分气孔311，该分气孔311与前述环形气道35相通设置，将环形气道35内的清洁气体离子(如F离子)通入并扩散到真空腔室100的内部。优选该分气孔311沿其周向间隔均匀设置，且该分气孔311的孔径大小为2～8mm，以控制清洁气体离子进入的速度，同时还不影响清洁气体离子的活性，及进入真空腔室100的气流的大小及分布，以达到较好的清洁效果。更优选的，前述环形内壁31沿其周向至少设置一圈分气孔311，同一圈间隔设置40～90个分气孔311。再有，在清洁气体离子进入真空腔室100内部之前，先通入至前述分气环30的前述环形气道35内，可通过该环形气道35对清洁气体离子进行周向均匀分配，确保清洁气体离子在不过刻的前提下，对真空腔室100内包括喷淋板和晶圆载盘20的清洗的均匀性。

与现有技术相比，本申请实施例提供的紫外固化设备1000的真空腔室100内，在其喷淋板的下边沿环周设置有分气环30，该分气环30的环形内壁31朝向真空腔室100的内部设置，该环形内壁31上沿其周向设有多个用于通入清洁气体离子(如F离子)的分气孔311，该分气孔311与分气环30的环形气道35相连通，将环形气道35内的清洁气体离子直接通入到真空腔室100的内部，由于该分气环30紧贴于喷淋板的下方，而该喷淋板的下方和晶圆载盘20的上方之间为真空腔室100的主要使用区域，该分气环30也就是将清洁气体离子直接通入至真空腔室100的内部中间位置左右，也就是前述真空腔室100的主要使用区域，也就是真空腔室100最需要清洗的区域，该区域也是距离最需要清洗的喷淋板表面、晶圆载盘20表面最近的区域，通入的清洁气体离子可直接扩散到喷淋板表面、晶圆载盘20表面以及真空腔室100内壁表面，并对各个表面的附着颗粒进行清洁；且该晶圆载盘20为可升降结构，当需要清洗真空腔室100时，可将晶圆载盘20上升到靠近分气环30的环形内壁31的位置，进一步减小清洁气体离子到其表面的距离，进一步提高晶圆载盘20的清洁效果和提高清洁效率，且调节晶圆载盘20的升降高度还可调节喷淋板与晶圆载盘20之间的气流，调节真空腔室100内部的清洁气体离子的分布扩散情况，进而进一步提高真空腔室100内部的清洁效果和清洁效率。

本申请实施例提供的清洁真空腔室100的技术方案可直接将清洁气体离子通入至工作使用率最高的真空腔室100的内部较中间位置，即喷淋板和晶圆载盘20之间的位置，大大减小清洁气体离子到喷淋板、晶圆载盘20及真空腔室100内壁的距离，离需要清洗的区域最近，确保清洁气体离子的活性，提高清洁效果；且晶圆载盘20为可调节高度的可升降结构，可根据实际清洁情况，调整其高度位置，以调整晶圆载盘20表面到分气环30的环形内壁31的距离，以及调节喷淋板与晶圆载盘20之间的气流，调节真空腔室100内部的清洁气体离子的分布扩散情况，从而达到更好的清洁效果。真空腔室100内部的清洁效果提高，进而也就提高单次设备清洗维护、保养的效果，提高单次跑片数量，延长每次设备清洗维护保养后到下次再需要设备清洗维护保养的间隔时间，降低拥有成本。

优选的，当需要清洗真空腔室100时，可通过升降控制前述晶圆载盘20，使晶圆载盘20的上表面到喷淋板下表面之间的距离为10～50mm，若喷淋板设有多个，则控制晶圆载盘20的上表面与位于最下层的喷淋板(如第二喷淋板12)的下表面之间的距离在10～50mm。以调整喷淋板下方与晶圆载盘20上方之间的气流，及通入的清洁气体离子到喷淋板表面及到晶圆载盘20表面的最合适距离，以达到较好的清洁效果。该紫外固化设备1000还可包括压力控制单元，当需要清洗真空腔室100时，该压力控制单元控制真空腔室的内部压力为1～6torr之间，“torr”可音译为“托”，为一种压强单位。以将真空腔室100内部的喷淋板表面、晶圆载盘20表面及真空腔室100内表面清洁更彻底。

一种优选的实施例是，在准备清洗时，可将分气环30与可升降的晶圆载盘20及喷淋板之间形成一个相对密封空间，之所以称之为相对密闭空间，是因为该相对密闭空间不是绝对的密闭空间，不具有绝对的密闭性，只是形成一个密闭性相对较好的空间。形成相对密封空间的好处是：第一，这样尽量可以使清洁气体离子不会从晶圆载盘20的边沿与分气环30的环周底部之间的间隙中逸出，被真空腔室100底部的抽气系统500抽吸出去；第二，相对密闭的空间可以更好的清洗晶圆载盘20表面和喷淋板表面的颗粒附着物。该分气环30的环形内壁31的高度即可决定该相对密闭空间的高度，优选，该分气环30的环形内壁31的高度范围在20～30mm之间。

根据上述实施例所述，一种可选的实施例为，如图3所示，晶圆载盘20的圆心和分气环30的圆心在同一纵轴线上。优选设置晶圆载盘20的外径小于分气环30的内径，该分气环30的内经就是指环形内壁31的直径大小，使晶圆载盘20的外周边沿与环形内壁31之间留有间隙，但设置该间隙的横向间距范围在2～3mm之间，以使晶圆载盘20可上升至分气环30的内圈内，高于分气环30的底部边沿，进一步降低晶圆载盘20的表面到分气孔311的距离，同时间隙在前述间距范围内，可有效防止清洗气体离子从该间隙逸出，提高清洁效果。

另一种可选的实施例是，如图2所示，设置分气环30的内径小于晶圆载盘20的外径，且分气环30的外径大于晶圆载盘20的外径，该分气环30的内经就是指环形内壁31的直径大小，该分气环30的外径就是指环形外壁33的直径大小，如此设置，在真空腔室100内部清洗的过程中，可通过上升该晶圆载盘20，使晶圆载盘20能够上升至其外周边沿与分气环30的环周底部34相接触的位置使二者搭接，此时，晶圆载盘20的外周边沿与分气环30的环周底部34之间没有缝隙，这样不只可更加有效杜绝清洗气体离子从缝隙中逸出，还最大程度的提高了前述相对密闭空间的密闭性，进一步提高清洁效果。

具体的，在前述实施例的基础上，可设置分气环30的内径比晶圆载盘20的外径小1～3mm。更优选的，该分气环30的环周底部34可设置为阶梯形底部，其包括与环形内壁31相接且高度平齐的第一阶面和与环形外壁33相接且高度平齐的第二阶面，该第一阶面与第二阶面通过竖直面相连接，此时，优选该环形内壁的高度范围为5～15mm。优选该第二阶面高于该第一阶面，以使该竖直面可包围住晶圆载盘20的外壁，尤其是其外周边沿，可进一步防止清洁气体离子逸出。

如图1和图6所示，本申请实施例提供的紫外固化设备1000还包括与前述分气环30的环形气道35相连通的进气管道200，和与该进气管道200相连通的远程等离子体装置300，以及与该远程等离子体装置300相连通的NF3气体进入管路400；该进气管道200、远程等离子体装置300和NF3气体进入管路400位于前述真空腔室外。该进气管道200还可安装有闸阀202，如图4所示，当真空腔室100内部根据工艺情况决定需要进行内部清洁时，NF3气体可经由该NF3气体进入管路400进入至远程等离子体装置300内进行解离得到F离子，然后闸阀202打开，F离子通过进气管道200进入至分气环30的环形气道35内，再经过分气孔311进入至真空腔室100内部。该紫外固化设备1000的真空腔室100的底部还可具有抽气系统500，当真空腔室100内部清洗结束后，打开该抽气系统500，通过该抽气系统500将清洁后的副产物抽吸出去。

进一步的，前述真空腔室100可具有至少一个，如图1所示，包括两个真空腔室100，该两个真空腔室100可并排设置。对应的，前述进气管道200可具有至少两个分支管道，至少包括第一分支管道201和第二分支管道，分别与位于前述两个真空腔室100内的分气环30的环形气道35相连通设置。以将F离子等清洁气体离子分别通入至各真空腔室100的内部。

如图4所示，一种更优选的实施例是，由于喷淋板多为石英材质制成，为了保护喷淋板的石英表面外壁的内部结构不被F离子等清洁气体离子所侵蚀，同时还可以稀释清理掉喷淋板表面过量的F离子等清洁气体离子。该喷淋板还可以连通有氩气通入管道，使氩气离子(Ar离子)从氩气通入管道进入到喷淋板的气道内，并从喷淋板表面的喷淋孔13流出，并优选控制通入的氩气离子的流量在500～1000sccm之间，“sccm”为一种流量单位。

进一步的，当设有至少两个喷淋板(如第一喷淋板11和第二喷淋板12)时，优选该第一喷淋板11和第二喷淋板12均对应的相连通有第一氩气通入管道和第二氩气通入管道，使氩气离子从不同的气道流入，进一步保护第一喷淋板11和第二喷淋板12之间这两层石英外壁的内部结构不被F离子等清洁气体离子侵蚀，同时进一步稀释清理掉第一喷淋板11和第二喷淋板12之间这两层石英外壁表面过量的F离子。

最后应说明的是：以上各实施例仅用以说明本申请的技术方案，而非对其限制；尽管参照前述各实施例对本申请进行了详细的说明，本领域的普通技术人员应当理解：其依然可以对前述各实施例所记载的技术方案进行修改，或者对其中部分或者全部技术特征进行等同替换；而这些修改或者替换，并不使相应技术方案的本质脱离本申请各实施例技术方案的范围。

Claims (11)

1.一种紫外固化设备，包括真空腔室，所述真空腔室内设有喷淋板和晶圆载盘，所述晶圆载盘位于所述喷淋板的下方，其特征在于，

所述真空腔室内还包括分气环；

所述分气环为环体结构，其环周顶部与所述喷淋板的周向下边沿相抵接设置；其环形内壁朝向所述真空腔室的内部设置，且所述环形内壁沿其周向设有多个分气孔；

所述分气环的所述环形内壁、所述环周顶部、环形外壁和环周底部依次相接合围成环形气道，所述分气孔与所述环形气道相通设置，将所述环形气道内的气体通入至所述真空腔室的内部；

所述晶圆载盘设置为可升降结构，其朝靠近或远离所述分气环的方向升降；

当所述晶圆载盘的外径小于所述分气环的内径时，所述晶圆载盘的外周边沿与所述环形内壁之间留有间隙，所述间隙的横向间距范围在2～3mm之间；

当所述分气环的内径小于所述晶圆载盘的外径，且所述分气环的外径大于所述晶圆载盘的外径时，所述晶圆载盘能够上升至其外周边沿与所述分气环的所述环周底部相接触搭接。

2.根据权利要求1所述的紫外固化设备，其特征在于，

当需要清洗真空腔室内部时，通过升降控制所述晶圆载盘，使所述晶圆载盘的上表面到所述喷淋板的下表面之间的距离为10～50mm。

3.根据权利要求2所述的紫外固化设备，其特征在于，

所述紫外固化设备还包括压力控制单元；

当需要清洗真空腔室内部时，所述压力控制单元控制所述真空腔室的内部压力为1～6torr之间。

4.根据权利要求2所述的紫外固化设备，其特征在于，

所述分气环的所述环形内壁的高度范围在20～30mm之间。

5.根据权利要求4所述的紫外固化设备，其特征在于，

所述晶圆载盘的圆心和所述分气环的圆心在同一纵轴线上。

6.根据权利要求1所述的紫外固化设备，其特征在于，

当所述晶圆载盘的外径大于所述分气环的内径且小于所述分气环的外径时，所述分气环的内径比所述晶圆载盘的外径小1～3mm；和/或

所述分气环的所述环周底部为阶梯形底部，包括与所述环形内壁相接平齐的第一阶面和与所述环形外壁相接平齐的第二阶面，所述第一阶面与所述第二阶面通过竖直面相接；所述晶圆载盘的外周边沿能够与所述第一阶面相接触搭接。

7.根据权利要求1所述的紫外固化设备，其特征在于，

所述分气孔的孔径大小为2～8mm，所述环形内壁沿其周向至少设置一圈所述分气孔，同一圈间隔设置40～90个所述分气孔。

8.根据权利要求1-7任一项所述的紫外固化设备，其特征在于，

所述紫外固化设备还包括与所述环形气道相连通的进气管道，和与所述进气管道相连通的远程等离子体装置，以及与所述远程等离子体装置相连通的NF₃气体进入管路；

所述进气管道、所述远程等离子体装置和所述NF₃气体进入管路位于所述真空腔室外。

9.根据权利要求8所述的紫外固化设备，其特征在于，

所述紫外固化设备包括至少两个所述真空腔室；

所述进气管道具有至少两个分支管道，分别与位于各所述真空腔室内的所述分气环的所述环形气道相连通设置。

10.根据权利要求8所述的紫外固化设备，其特征在于，

所述紫外固化设备还包括与所述喷淋板相连通的氩气通入管道，所述喷淋板表面设有多个喷淋孔。

11.根据权利要求10所述的紫外固化设备，其特征在于，

包括至少两个所述喷淋板，至少包括上下依次设置的第一喷淋板和第二喷淋板，对应的，所述氩气通入管道包括与所述第一喷淋板相连通的第一氩气通入管道和与所述第二喷淋板相连通的第二氩气通入管道；和/或

控制所述氩气通入管道通入的氩气流量在500～1000sccm之间。