CN115707289A - 显示设备 - Google Patents

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CN115707289A
CN115707289A CN202210908704.3A CN202210908704A CN115707289A CN 115707289 A CN115707289 A CN 115707289A CN 202210908704 A CN202210908704 A CN 202210908704A CN 115707289 A CN115707289 A CN 115707289A
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元秉喜
徐荣奭
尹仁善
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Samsung Display Co Ltd
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Abstract

本公开提供一种显示设备，所述显示设备包括：第一基体层，包括彼此间隔开的第一像素区域和第二像素区域以及将所述第一像素区域连接到所述第二像素区域的连接区域，所述第一基体层包括彼此相对的第一表面和第二表面；第一像素，设置在所述第一像素区域中；以及第二像素，设置在所述第二像素区域中。所述第一像素和所述第二像素布置在所述第一基体层的所述第一表面上，并且所述第一基体层包括布置在所述连接区域的所述第二表面上的多个第一突起。

Description

显示设备
相关申请的交叉引用
本申请要求于2021年8月6日提交的第10-2021-0104196号韩国专利申请的优先权和从其获取的所有权益，该韩国专利申请的内容通过引用全部包含于此。
技术领域
实施例涉及一种显示设备。
背景技术
移动电子装置正在被广泛地使用。近来，除了诸如移动电话的小型电子装置之外，平板个人计算机(“PC”)正在被广泛地用作移动电子装置。
为了支持各种功能，例如，为了向用户提供诸如图像或视频的视觉信息，移动电子装置包括显示器。近来，随着用于驱动这种显示器的组件正在变得小型化，显示器的在电子装置中的占有比例正在逐渐地增加。
最近正在研究和开发能够弯折、折叠或卷曲的柔性显示设备。此外，正在积极地进行能够改变为各种形状的可伸缩显示设备的研究和开发。
发明内容
实施例包括具有增加的灵活性的显示设备。
附加特征将在下面的描述中部分地阐述，并且部分地根据描述将是明显的，或者可以通过对所呈现的实施例的实践来了解所述附加特征。
根据本发明的实施例，一种显示设备包括：第一基体层，包括彼此间隔开的第一像素区域和第二像素区域以及将所述第一像素区域连接到所述第二像素区域的连接区域，所述第一基体层包括彼此相对的第一表面和第二表面；第一像素，设置在所述第一像素区域中；以及第二像素，设置在所述第二像素区域中。所述第一像素和所述第二像素布置在所述第一基体层的所述第一表面上，并且所述第一基体层包括布置在所述连接区域的所述第二表面上的多个第一突起。
在实施例中，所述多个第一突起可以布置在所述连接区域的相对端部上。
在实施例中，所述多个第一突起可以在所述连接区域的宽度方向上延伸。
在实施例中，所述显示设备还可以包括：第二基体层，设置在所述第一基体层的所述第二表面上；以及阻挡层，在所述第一基体层与所述第二基体层之间。所述第二基体层在所述第二基体层的厚度方向上可以与所述多个第一突起不重叠，并且所述阻挡层可以覆盖所述多个第一突起。
在实施例中，所述第二基体层的厚度可以基本上等于所述多个第一突起中的每一个的在所述第二基体层的所述厚度方向上的长度。
在实施例中，所述第一基体层还可以包括布置在所述第一像素区域和所述第二像素区域中的每一个的所述第二表面上的多个第二突起。
在实施例中，所述连接区域可以包括中心区域、所述中心区域与所述第一像素区域之间的第一边缘区域以及所述中心区域与所述第二像素区域之间的第二边缘区域，并且所述多个第一突起可以布置在所述中心区域、所述第一边缘区域和所述第二边缘区域中。
在实施例中，所述第一基体层还可以包括布置在所述连接区域的所述第二表面上的多个第二突起，所述连接区域还可以包括所述中心区域与所述第一边缘区域之间的第一区域以及所述中心区域与所述第二边缘区域之间的第二区域，所述多个第二突起可以布置在所述第一区域和所述第二区域中，并且所述多个第一突起之中的邻近的第一突起之间的第一距离可以与所述多个第二突起之中的邻近的第二突起之间的第二距离不同。
在实施例中，所述第一距离可以大于所述第二距离。
在实施例中，所述显示设备还可以包括：绝缘层，设置在所述第一基体层的所述第一表面上，并且在所述绝缘层中，多个第一凹槽限定在所述连接区域中。
在实施例中，所述连接区域可以包括中心区域、所述中心区域与所述第一像素区域之间的第一边缘区域以及所述中心区域与所述第二像素区域之间的第二边缘区域，并且所述多个第一凹槽可以布置在所述中心区域、所述第一边缘区域和所述第二边缘区域中的至少一个中。
在实施例中，在所述连接区域中，多个第二凹槽可以限定在所述绝缘层中，所述连接区域还可以包括所述中心区域与所述第一边缘区域之间的第一区域以及所述中心区域与所述第二边缘区域之间的第二区域，所述多个第一凹槽可以布置在所述中心区域、所述第一边缘区域和所述第二边缘区域中，所述多个第二凹槽可以布置在所述第一区域和所述第二区域中，并且所述多个第一凹槽中的每一个的第一宽度可以与所述多个第二凹槽中的每一个的第二宽度不同。
在实施例中，所述第一宽度可以大于所述第二宽度。
在实施例中，所述第一像素和所述第二像素中的每一个可以包括像素电路以及设置在所述像素电路上并连接到所述像素电路的显示元件，并且所述绝缘层可以在多个所述像素电路与多个所述显示元件之间。
在实施例中，所述第一像素和所述第二像素中的每一个可以包括像素电路以及包括设置在所述像素电路上并连接到所述像素电路的像素电极的显示元件，并且所述绝缘层可以包括所述第一像素和所述第二像素的所述像素电路与所述第一像素和所述第二像素的所述显示元件之间的平坦化层，以及设置在所述平坦化层上并暴露所述第一像素和所述第二像素的所述像素电极中的每一个的至少一部分的像素限定层。
在实施例中，所述平坦化层可以包括面向所述第一基体层的所述第一表面的第三表面以及与所述第三表面相对的第四表面，所述像素限定层可以包括暴露多个所述像素电极中的每一个的至少一部分的多个第一绝缘图案以及布置在所述连接区域中的多个第二绝缘图案，并且所述多个第一凹槽可以由所述平坦化层的所述第四表面的一部分、所述多个第一绝缘图案和所述多个第二绝缘图案限定。
根据本发明的实施例，一种显示设备包括：基体层，包括彼此间隔开的第一像素区域和第二像素区域以及将所述第一像素区域连接到所述第二像素区域的连接区域；第一像素，设置在所述第一像素区域中并且包括像素电路和连接到所述像素电路的像素电极；第二像素，设置在所述第二像素区域中并且包括像素电路和连接到所述像素电路的像素电极；第一绝缘层，在所述第一像素和所述第二像素的所述像素电路与所述第一像素和所述第二像素的所述像素电极之间；第一绝缘图案，设置在所述第一绝缘层上并且设置在所述连接区域中；以及第二绝缘图案，设置在所述第一绝缘图案上。
在实施例中，所述显示设备还可以包括：第二绝缘层，设置在所述第一绝缘层上并且包括多个第三绝缘图案和所述第一绝缘图案，所述多个第三绝缘图案暴露所述多个像素电极中的每一个的至少一部分。
在实施例中，所述第一绝缘图案和所述第二绝缘图案可以彼此一体。
在实施例中，所述显示设备还可以包括：遮光层，设置在所述第二绝缘图案上。
在实施例中，所述显示设备还可以包括：第一滤色器层，设置在所述遮光层上；第二滤色器层，设置在所述第一滤色器层上；以及第三滤色器层，设置在所述第二滤色器层上。
在实施例中，在所述连接区域中，多个凹槽可以限定在所述第一绝缘层中。
在实施例中，所述多个凹槽与所述第一绝缘图案和所述第二绝缘图案可以彼此不重叠。
在实施例中，所述连接区域可以包括中心区域、所述中心区域与所述第一像素区域之间的第一边缘区域、所述中心区域与所述第二像素区域之间的第二边缘区域、所述中心区域与所述第一边缘区域之间的第一区域以及所述中心区域与所述第二边缘区域之间的第二区域，所述多个凹槽可以布置在所述中心区域、所述第一边缘区域和所述第二边缘区域中的至少一个中，并且所述第一绝缘图案和所述第二绝缘图案可以布置在所述第一区域和所述第二区域中的至少一个中。
在实施例中，所述基体层可以包括彼此相对的第一表面和第二表面，所述第一像素和所述第二像素可以布置在所述基体层的所述第一表面上，并且所述基体层可以包括布置在所述连接区域的所述第二表面上的多个第一突起。
在实施例中，所述多个第一突起可以在所述连接区域的所述宽度方向上延伸。
在实施例中，所述基体层还可以包括布置在所述第一像素区域和所述第二像素区域中的每一个的所述第二表面上的多个第二突起。
在实施例中，所述连接区域可以包括中心区域、所述中心区域与所述第一像素区域之间的第一边缘区域以及所述中心区域与所述第二像素区域之间的第二边缘区域，并且所述多个第一突起可以布置在所述中心区域、所述第一边缘区域和所述第二边缘区域中的至少一个中。
在实施例中，所述基体层还可以包括布置在所述连接区域的所述第二表面上的多个第二突起，所述连接区域还可以包括所述中心区域与所述第一边缘区域之间的第一区域以及所述中心区域与所述第二边缘区域之间的第二区域，所述多个第一突起可以布置在所述中心区域、所述第一边缘区域和所述第二边缘区域中，所述多个第二突起布置在所述第一区域和所述第二区域中，并且所述多个第一突起之中的邻近的第一突起之间的第一距离可以与所述多个第二突起之中的邻近的第二突起之间的第二距离不同。
在实施例中，所述第一距离可以大于所述第二距离。
通过以下对实施例、权利要求和附图的描述，这些和/或其它特征将变得明显并且更容易理解。
这些实施例可以通过系统、方法、计算机程序或它们的组合实现。
附图说明
通过以下结合附图进行的描述，本发明的上述和其它实施例、特征和优点将更加明显，在附图中：
图1是显示设备的一部分的实施例的示意性放大平面图；
图2是像素的示意性等效电路图；
图3A是沿线I-I'截取的图1的显示设备的实施例的截面图；
图3B是沿线I-I'截取的图1的显示设备的实施例的截面图；
图4是沿线I-I'截取的图1的显示设备的实施例的截面图；
图5是显示设备的一部分的实施例的示意性放大平面图；
图6是显示设备的示意性截面图；
图7是示出外力已经被施加到显示设备的情况的实施例的截面图；
图8是显示设备的实施例的示意性截面图；
图9是显示设备的实施例的示意性截面图；
图10是显示设备的另一实施例的示意性截面图；
图11是显示设备的一部分的实施例的示意性放大平面图；
图12是显示设备的实施例的示意性截面图；
图13是显示设备的实施例的示意性截面图；
图14是显示设备的实施例的示意性截面图；
图15是显示设备的实施例的示意性截面图；
图16是显示设备的实施例的示意性截面图；
图17是显示设备的实施例的示意性截面图；以及
图18是显示设备的实施例的示意性截面图。
具体实施方式
现在将详细参考其示例在附图中被示出的实施例，在附图中，同样的附图标记始终指代同样的元件。在此方面，实施例可以具有不同的形式，并且不应被解释为限于本文中所阐述的描述。因此，下面仅通过参考附图描述实施例以解释描述的特征。如本文中所使用的，术语“和/或”包括一个或多个相关所列项的任意组合和所有组合。在整个公开中，表述“a、b和c中的至少一个”表示仅a、仅b、仅c、a和b两者、a和c两者、b和c两者、a、b和c的全部或者它们的变体。
尽管本公开允许各种改变和众多实施例，但是将在附图中示出并在书面描述中详细描述特定实施例。在下文中，将参照附图更充分地描述本发明的效果和特征以及用于实现它们的方法，在附图中示出了本发明的实施例。然而，本发明可以以许多不同的形式实施，并且不应被解释为限于本文中所阐述的实施例。
下面将参照附图更详细地描述本发明的实施例。相同或彼此对应的那些组件被呈现为相同的附图标记而不论图号如何，并且省略冗余说明。
将理解的是，尽管在本文中可以使用术语“第一”、“第二”等来描述各种组件，但是这些组件不应受这些术语的限制。这些术语仅用于将一个组件与另一组件区分开。
如本文中所使用的，除非上下文另外明确指出，否则单数形式“一个”、“一种”和“所述(该)”也意图包括复数形式。
将进一步理解的是，在本文中使用的术语“包括”和/或“包含”说明存在所陈述的特征或组件，但是不排除存在或添加一个或多个其它特征或组件。
将理解的是，当层、区或组件被称为“设置在”另一层、区或组件“上”时，所述层、区或组件可以直接或间接地“设置在”所述另一层、另一区或另一组件“上”。也就是说，例如，可以存在居间层、居间区或居间组件。
为了便于说明，附图中的元件的尺寸可能被放大。例如，由于为了便于说明而任意地示出了附图中的组件的尺寸和厚度，因此本发明不限于此。
当可以不同地实施特定实施例时，可以与描述的顺序不同地执行具体工艺顺序。例如，两个连续描述的工艺可以基本上同时执行或者以与所描述的顺序相反的顺序执行。
在说明书中，“A和/或B”表示A或B，或者A和B。表述“A和B中的至少一个”表示仅A、仅B、A和B两者或者它们的变体。
还将理解的是，当层、区或组件被称为“连接”或“耦接”到另一层、另一区或另一组件时，所述层、区或组件可以直接“连接”或“耦接”到所述另一层、另一区或/和另一组件，或者可以存在居间层、居间区或居间组件。例如，当层、区或组件被称为“电连接”或“电耦接”到另一层、另一区或另一组件时，所述层、区或组件可以直接“电连接”或“电耦接”到所述另一层、另一区和/或另一组件，或者可以存在居间层、居间区或居间组件。
在以下示例中，x轴、y轴和z轴不限于直角坐标系的三个轴，并且可以以更广泛的含义解释。例如，x轴、y轴和z轴可以彼此垂直，或者可以表示彼此不垂直的不同方向。
考虑到讨论中的测量和与特定量的测量相关的误差(即，测量系统的局限性)，如本文中所使用的“大约”或“近似”包括所述值，并且意指在如由本领域普通技术人员确定的用于特定值的可接受的偏差范围内。例如，术语“大约”可以指在一个或多个标准偏差内，或者在所述值的±30％、±20％、±10％、±5％以内。
除非另外定义，否则本文中使用的所有术语(包括技术术语和科学术语)具有与本发明所属领域的普通技术人员所通常理解的相同的含义。还将理解的是，除非在本文中明确地如此定义，否则术语(诸如在通用词典中定义的术语)应当被解释为具有与它们在相关领域的上下文和本发明中的含义相一致的含义，并且将不以理想化的或过于形式化的含义来解释所述术语。
图1是显示设备的一部分的实施例的示意性放大平面图。
参考图1，显示设备1可以包括像素区域PXA、连接区域CNA、穿透区域TP和像素PX。
像素区域PXA可以提供为多个，并且多个像素区域PXA可以彼此间隔开。两个邻近的像素区域PXA可以彼此对称。在实施例中，例如，在图1中，横向邻近于彼此的两个像素区域PXA可以关于定位在两个像素区域PXA之间并且平行于第一方向(例如，±y方向)的对称轴彼此对称。同样地，在图1中，垂直邻近于彼此的两个像素区域PXA可以关于定位在两个像素区域PXA之间并且平行于第二方向(例如，±x方向)的对称轴彼此对称。
图1示出了两个邻近的像素区域PXA彼此对称。然而，在另一实施例中，两个邻近的像素区域PXA可以布置为具有相同的形状。
在图1中，像素区域PXA具有近似四边形的(例如，矩形的)的平面形状。然而，在另一实施例中，像素区域PXA的平面形状可以是诸如多边形(例如，三角形、八边形和六边形)、圆形、椭圆形和闭环形状的各种形状中的任意一种。
连接区域CNA可以延伸到多个像素区域PXA之中的彼此邻近的像素区域PXA。连接区域CNA可以连接多个像素区域PXA之中的彼此邻近的像素区域PXA。连接区域CNA可以与像素区域PXA一体，并且可以从一个像素区域PXA延伸到另一像素区域PXA。在实施例中，例如，如图1中所示，连接区域CNA可以在第一方向(例如，±y方向)或第二方向(例如，±x方向)上延伸。
穿透区域TP可以被像素区域PXA和连接区域CNA围绕。穿透区域TP可以被限定为包括像素区域PXA的边缘和连接区域CNA的边缘的闭合曲线。
穿透区域TP可以对应于显示设备1的被穿透的至少一部分或显示设备1的被凹陷的一部分。穿透区域TP可以减轻显示设备1的重量并改善显示设备1的柔性。当外力(诸如，弯折力、弯曲力、拉力或推力)被施加到显示设备1时，穿透区域TP的形状可以被改变，从而容易地减少在显示设备1的变形期间的应力的发生。由于穿透区域TP，可以防止显示设备1的异常变形，并且可以改善显示设备1的耐久性。
像素PX可以显示图像。像素PX可以是显示图像的最小单元，并且可以包括至少一个像素电路和至少一个显示元件。像素PX可以提供为多个，并且多个像素PX可以分别设置在多个像素区域PXA上。
显示元件可以是包括有机发射层的有机发光二极管(“OLED”)。在替代实施例中，显示元件可以是发光二极管(“LED”)。LED的尺寸可以是微米级或纳米级。在实施例中，例如，LED可以是微型LED或纳米棒LED。在替代实施例中，显示元件可以是包括量子点发射层的量子点LED。在替代实施例中，显示元件可以是包括无机半导体的无机LED。
现在将参照图2通过集中于显示元件是OLED的情况来描述图1中所示的像素PX的实施例。
图2是像素的实施例的示意性等效电路图。
参考图2，每个像素PX可以包括连接到扫描线SL和数据线DL的像素电路PC以及连接到像素电路PC的显示元件DE。显示元件DE的阴极可以是第二驱动电压ELVSS所施加到的公共电极。
在图2中，像素PX包括一个像素电路PC和一个显示元件DE。然而，像素PX可以包括至少一个像素电路PC和至少一个显示元件DE。在实施例中，例如，像素PX可以包括三个像素电路PC和三个显示元件DE，或者可以包括四个像素电路PC和四个显示元件DE。可以对此进行其它各种修改。
像素电路PC可以包括第一晶体管T1、第二晶体管T2和存储电容器Cst。
第一晶体管T1可以是其中根据栅极-源极电压确定漏极电流的大小的驱动晶体管，并且第二晶体管T2可以是根据栅极-源极电压(基本上根据栅极电压)导通/截止的开关晶体管。第一晶体管T1和第二晶体管T2可以使用薄膜晶体管实现。
在下文中，第一晶体管T1也可以被称为驱动晶体管，并且第二晶体管T2也可以被称为扫描晶体管。
存储电容器Cst连接在电源线PL与驱动晶体管T1的栅极之间。存储电容器Cst可以包括连接到电源线PL的第二电极CE2和连接到驱动晶体管T1的栅极的第一电极CE1。存储电容器Cst可以存储对应于从扫描晶体管T2接收的电压与供给到电源线PL的第一驱动电压ELVDD之间的差的电压。
驱动晶体管T1可以根据栅极-源极电压控制从电源线PL流动到显示元件DE的电流Id的大小。显示元件DE可以通过驱动电流Id发射具有预定亮度的光。驱动晶体管T1可以包括连接到存储电容器Cst的第一电极CE1的栅极、连接到电源线PL的源极以及连接到显示元件DE的漏极。
扫描晶体管T2可以响应于扫描信号Sn将数据电压Dm传输到驱动晶体管T1的栅极。扫描晶体管T2可以包括连接到扫描线SL的栅极、连接到数据线DL的源极以及连接到驱动晶体管T1的栅极的漏极。
尽管在图2中示出了像素电路PC包括两个晶体管和一个存储电容器的情况，但是本发明不限于此。在实施例中，例如，像素电路PC可以包括三个或更多个晶体管和/或两个或更多个存储电容器。在实施例中，像素电路PC可以包括七个晶体管和一个存储电容器。
图3A、图3B和图4是沿线I-I'截取的图1的显示设备的截面图。详细地，图3A示出了外力施加到显示设备1之前的显示设备1，并且图3B示出了外力施加到显示设备1之后的显示设备1。图4是图3A的修改，并且由此与图3A的不同之处在于封装层40的结构。现在将集中于并且描述图3A，并且将主要描述图3A与图4之间的不同之处。
参考图3A和图3B，显示设备1可以包括显示面板10、柱层20、柔性基底30、封装层40、光学功能层50和覆盖窗60。
显示面板10可以包括设置在像素区域PXA中的像素部分10a和设置在连接区域CNA中的连接部分10b。像素部分10a可以包括像素PX。像素部分10a可以是通过像素PX显示图像的部分。连接部分10b可以延伸到彼此邻近的像素部分10a。连接部分10b可以连接彼此邻近的像素部分10a。像素部分10a和连接部分10b可以彼此一体。
如稍后将描述的图6中所示，显示面板10可以包括绝缘层。因为连接部分10b可以省略一些绝缘层，所以连接部分10b的厚度可以小于像素部分10a的厚度。
返回参考图3A，柱层20可以设置在显示面板10下面。柱层20可以支撑显示面板10。即使当外力被施加到显示设备1时，柱层20的形状也可以不改变。
在实施例中，柱层20可以设置在显示面板10的像素部分10a下面。换句话说，柱层20可以与像素部分10a重叠并且可以与连接部分10b不重叠。换句话说，柱层20可以设置在像素区域PXA中。因为多个柱层20可以分别布置在彼此间隔开的多个像素部分10a下面，所以多个柱层20可以彼此间隔开。
柔性基底30可以设置在柱层20下面。柔性基底30可以设置在像素区域PXA和连接区域CNA中。柔性基底30可以包括柔性材料。柔性基底30可以具有比柱层20高的柔性。
封装层40可以设置在显示面板10上。封装层40可以覆盖像素PX。在一些实施例中，封装层40可以包括至少一个无机封装层。第一无机封装层可以包括至少一种诸如氧化硅(SiOx)、氮化硅(SiNx)、氮氧化硅(SiOxNy)、氧化铝(Al2O3)、氧化钛(TiO2)、氧化钽(Ta2O5)、氧化铪(HfO2)或氧化锌(ZnOx)的无机绝缘材料，并且可以通过化学气相沉积(“CVD”)形成或提供。在氧化锌(ZnOx)中，x可以是1与2之间的实数。在实施例中，x可以是1或2。换句话说，例如，氧化锌(ZnOx)可以是氧化锌(ZnO)和/或过氧化锌(ZnO2)。
在实施例中，封装层40还可以包括至少一个有机封装层。在实施例中，例如，封装层40可以包括第一无机封装层、第一无机封装层上的有机封装层以及有机封装层上的第二无机封装层。有机封装层可以包括聚合物类材料。聚合物类材料的示例可以包括丙烯酸树脂、环氧类树脂、聚酰亚胺和聚乙烯。
在实施例中，如图3A中所示，封装层40可以设置在像素区域PXA和连接区域CNA中。在另一实施例中，如图4中所示，封装层40可以设置在像素区域PXA中。对应于连接区域CNA的开口可以限定在封装层40中。换句话说，可以省略封装层40的设置在连接区域CNA中的部分。
在图3A中，像素PX被封装层40覆盖。然而，在另一实施例中，像素PX可以被封装基底密封。
光学功能层50可以设置在封装层40上。光学功能层50可以包括抗反射层。抗反射层可以降低从外部源朝向显示设备1入射的光(外部光)的反射率。
在一些实施例中，光学功能层50可以是偏振膜。
在一些实施例中，光学功能层50可以使用包括黑矩阵和滤色器的过滤板来实现。
尽管在图3A中未示出，但是触摸屏幕层可以在封装层40与光学功能层50之间。触摸屏幕层可以基于外部输入(例如触摸事件)获得坐标信息。触摸屏幕层可以包括触摸电极和连接到触摸电极的触摸布线。触摸屏幕层可以根据自电容方法或互电容方法感测外部输入。
覆盖窗60可以设置在光学功能层50上。覆盖窗60可以保护显示面板10。
覆盖窗60可以是柔性窗。覆盖窗60可以保护显示面板10同时容易地沿外力弯折而不产生裂缝等。覆盖窗60可以包括玻璃、蓝宝石或塑料。在实施例中，例如，覆盖窗60可以是超薄玻璃(UTGTM)或无色聚酰亚胺(“CPI”)。在实施例中，覆盖窗60可以具有其中柔性聚合物层设置在玻璃基底的一个表面上的结构，或者可以仅包括聚合物层。
当如图3B中所示外力被施加到显示设备1(例如，外力被施加到柔性基底30)时，显示设备1的一些构件的形状和/或位置可以改变。在实施例中，例如，当外力被施加到显示设备1时，显示面板10的像素部分10a之间的距离或柱层20之间的距离d可以减小。显示面板10的连接部分10b可以弯折和/或封装层40的至少一部分、光学功能层50的至少一部分和/或覆盖窗60的至少一部分可以弯折。
这样，当外力被施加显示设备1时，显示面板10的像素部分10a之间的距离或柱层20之间的距离d可以改变，并且显示面板10的像素部分10a的形状和柱层20的形状可以不改变。因此，因为像素部分10a和柱层20的各自的形状不改变，所以可以保护设置在像素部分10a中的像素PX。在像素PX正被保护的同时，显示设备1可以改变为具有各种形状。
图5是显示设备的一部分的实施例的示意性放大平面图，并且图6是显示设备的实施例的示意性截面图。可以省略一些构件。在实施例中，图6示出了图3A的显示面板10。例如，图5和图6示出了多个像素区域PXA之中的第一像素区域PXA1和第二像素区域PXA2以及多个像素PX之中的第一像素PX1和第二像素PX2。
首先，参考图5，显示设备1可以包括第一像素区域PXA1、第二像素区域PXA2、连接区域CNA、穿透区域TP、第一像素PX1和第二像素PX2。
第一像素区域PXA1和第二像素区域PXA2可以彼此间隔开，并且可以经由连接区域CNA彼此连接。第一像素PX1可以设置在第一像素区域PXA1中，并且第二像素PX2可以设置在第二像素区域PXA2中。
参考图6，显示设备1可以包括基底100。基底100可以包括第一基体层101、第二基体层103和阻挡层105。
第一基体层101可以包括彼此相对的第一表面101a和第二表面101b。设置在第一像素区域PXA1中的第一像素PX1和设置在第二像素区域PXA2中的第二像素PX2可以布置在第一基体层101的第一表面101a上。
第一基体层101可以包括布置在第一基体层101的第二表面101b上的多个突起101p。第一基体层101的突起101p可以布置在连接区域CNA中。
第一基体层101的突起101p可以在连接区域CNA的宽度方向上延伸。在实施例中，例如，如图5中所示，布置在在第二方向(例如，±x方向)上延伸的连接区域CNA中的突起101p可以各自在第一方向(例如，±y方向)上延伸。相反，布置在在第一方向(例如，±y方向)上延伸的连接区域CNA中的突起101p可以各自在第二方向(例如，±x方向)上延伸。
图5和图6示出了突起101p具有相同的宽度。然而，在另一实施例中，突起101p可以具有不同的宽度。
在实施例中，第一基体层101的突起101p可以布置在连接区域CNA的相对端部上。在实施例中，例如，如图5和图6中所示，连接区域CNA可以包括第一边缘区域CNAa、第二边缘区域CNAb和中心区域CNAc。第一边缘区域CNAa可以设置在第一像素区域PXA1与中心区域CNAc之间，并且第二边缘区域CNAb可以定位在第二像素区域PXA2与中心区域CNAc之间。在这种情况下，第一基体层101的突起101p可以布置在第一边缘区域CNAa和第二边缘区域CNAb中。
当第一像素区域PXA1与第二像素区域PXA2之间的分隔距离d由于对显示设备1施加外力而减小时，连接区域CNA的相对端部接收比连接区域CNA的另一部分相对大的应变。当第一基体层101的突起101p如在实施例中布置在连接区域CNA的相对端部上时，突起101p之间的凹槽gv被限定，并且因此由连接区域CNA的相对端部接收的应变可以减小。因为由连接区域CNA的相对端部接收的应变减小，所以可以减少由于应变导致的诸如连接区域CNA的切割或断裂的缺陷。
第二基体层103可以设置在第一基体层101的第二表面101b上。
第二基体层103可以在第二基体层103的厚度方向(例如，±z方向)上与第一基体层101的突起101p不重叠。在实施例中，例如，当第一基体层101的突起101p如图6中所示布置在第一边缘区域CNAa和第二边缘区域CNAb中时，第二基体层103的一部分可以设置在第一像素区域PXA1中，第二基体层103的另一部分可以设置在中心区域CNAc中，并且第二基体层103的又一部分可以设置在第二像素区域PXA2中。
第二基体层103的厚度t可以基本上等于突起101p中的每一个的在第二基体层103的厚度方向(例如，±z方向)上的长度l。由邻近的突起101p限定的凹槽gv可以在第二基体层103的一部分正被去除的同时被限定。因为凹槽gv由突起101p限定，所以凹槽gv中的每一个的长度可以基本上等于突起101p中的每一个的长度l。因为凹槽gv在第二基体层103的一部分正被去除的同时被限定，所以凹槽gv中的每一个的长度可以基本上等于第二基体层103的厚度t。因此，突起101p中的每一个的长度l可以基本上等于第二基体层103的厚度t。
阻挡层105可以在第一基体层101与第二基体层103之间。与第二基体层103不同，阻挡层105可以覆盖第一基体层101的突起101p。阻挡层105可以覆盖第一基体层101的第二表面101b，并且可以设置在第一像素区域PXA1、连接区域CNA和第二像素区域PXA2中。
现在将参照图6根据堆叠结构更详细地描述包括在显示设备1中的元件。图6示出了显示设备1，并且可以省略一些构件。
基底100可以包括第一基体层101、第二基体层103和阻挡层105。阻挡层105可以在第一基体层101与第二基体层103之间。
第一基体层101和第二基体层103中的至少一个可以包括聚合物树脂，诸如聚醚砜、聚丙烯酸酯、聚醚酰亚胺、聚萘二甲酸乙二醇酯、聚对苯二甲酸乙二醇酯、聚苯硫醚、聚酰亚胺、聚碳酸酯、三乙酸纤维素或乙酸丙酸纤维素。
阻挡层105可以防止或最小化外部异物渗透到半导体层Act等中。阻挡层105可以是包括诸如氮化硅(SiNx)、氧化硅(SiOx)和/或氮氧化硅(SiON)的无机材料的单层或多层。
缓冲层111可以设置在第一基体层101的第一表面101a上。缓冲层111可以设置在第一像素区域PXA1和第二像素区域PXA2中。缓冲层111可以包括无机材料(诸如氧化物或氮化物)、有机材料、或有机和无机化合物，并且可以是无机材料和有机材料的单层或多层。
像素电路PC可以设置在缓冲层111上。像素电路PC可以包括至少一个薄膜晶体管TFT和一个或多个电极层E1和E2。薄膜晶体管TFT可以包括半导体层Act和栅极电极GE。
半导体层Act可以设置在缓冲层111上。半导体层Act可以包括非晶硅或多晶硅。在另一实施例中，半导体层Act可以包括铟(In)、镓(Ga)、锡(Sn)、锆(Zr)、钒(V)、铪(Hf)、镉(Cd)、锗(Ge)、铬(Cr)、钛(Ti)、铝(Al)、铯(Cs)、铈(Ce)和锌(Zn)中的至少一种的氧化物。
半导体层Act可以包括半导体区和导电区。导电区可以是掺杂有杂质(掺杂物)的区。半导体层Act可以具有单层或多层结构。
栅极电极GE可以设置在半导体层Act上。栅极电极GE可以提供为使得栅极电极GE的至少一部分与半导体层Act重叠。半导体层Act的与栅极电极GE重叠的区也可以被称为半导体区。栅极电极GE可以包括例如钼(Mo)、铝(Al)、铜(Cu)或钛(Ti)，并且可以具有单层或多层结构。在实施例中，例如，栅极电极GE可以是单层Mo。
第一电极层E1和第二电极层E2可以在栅极电极GE上。第一电极层E1和第二电极层E2可以包括包含钼(Mo)、铝(Al)、铜(Cu)和钛(Ti)的导电材料，并且可以是包括前面提到的材料的多层或单层。在实施例中，例如，第一电极层E1和第二电极层E2可以各自具有包括Ti/Al/Ti的多层结构。
第一电极层E1和第二电极层E2可以连接到半导体层Act。第一电极层E1和第二电极层E2可以通过限定在将在下面描述的栅极绝缘层113和中间绝缘层115中的接触孔连接到半导体层Act。
栅极绝缘层113可以在半导体层Act与栅极电极GE之间。栅极绝缘层113可以设置在第一像素区域PXA1和第二像素区域PXA2中。栅极绝缘层113可以包括氧化硅(SiOx)、氮化硅(SiNx)、氮氧化硅(SiON)、氧化铝(Al2O3)、氧化钛(TiO2)、氧化钽(Ta2O5)、氧化铪(HfO2)或氧化锌(ZnOx)等。在氧化锌(ZnOx)中，x可以是1与2之间的实数。在实施例中，x可以是1或2。换句话说，例如，氧化锌(ZnOx)可以是氧化锌(ZnO)和/或过氧化锌(ZnO2)。
中间绝缘层115可以在栅极电极GE与第一电极层E1和第二电极层E2之间。中间绝缘层115可以设置在第一像素区域PXA1和第二像素区域PXA2中。中间绝缘层115可以包括氧化硅(SiOx)、氮化硅(SiNx)、氮氧化硅(SiON)、氧化铝(Al2O3)、氧化钛(TiO2)、氧化钽(Ta2O5)、氧化铪(HfO2)或氧化锌(ZnOx)等。在氧化锌(ZnOx)中，x可以是1与2之间的实数。在实施例中，x可以是1或2。换句话说，例如，氧化锌(ZnOx)可以是氧化锌(ZnO)和/或过氧化锌(ZnO2)。
第一电极层E1和第二电极层E2可以被无机保护层(未示出)覆盖。无机保护层可以是氮化硅(SiNx)和氧化硅(SiOx)的单层或多层。无机保护层可以被采用以覆盖和保护布置在中间绝缘层115上的一些布线。
布线部分WP可以设置在基底100上。布线部分WP可以经由连接区域CNA连接分别布置在彼此邻近的第一像素区域PXA1和第二像素区域PXA2中的第一像素PX1和第二像素PX2。布线部分WP可以包括图2的扫描线SL、数据线DL和电源线PL中的至少一条。
因为缓冲层111、栅极绝缘层113和中间绝缘层115不布置在连接区域CNA中，所以布线部分WP可以在连接区域CNA中具有凹陷形状。布线部分WP的与连接区域CNA重叠的部分可以直接接触基底100。
布线部分WP可以包括与第一像素区域PXA1和第二像素区域PXA2重叠的第一线LI1以及经由中间绝缘层115的接触孔桥接到第一线LI1且与连接区域CNA重叠的第二线LI2。第一线LI1可以设置在与其中设置栅极电极GE的层相同的层中，并且可以包括与栅极电极GE的材料相同的材料。第二线LI2可以设置在与其中设置第一电极层E1和第二电极层E2的层相同的层中，并且可以包括与第一电极层E1和第二电极层E2的材料相同的材料。
在图6中，第一线LI1和第二线LI2布置在不同的层中。然而，在另一实施例中，第一线LI1和第二线LI2可以布置在同一层中。在实施例中，例如，第一线LI1和第二线LI2可以彼此一体并且可以布置在栅极绝缘层113或中间绝缘层115上。
平坦化层117可以设置为覆盖第一电极层E1、第二电极层E2和布线部分WP。用于将像素电路PC连接到显示元件DE的接触孔可以限定在平坦化层117中。平坦化层117可以设置在第一像素区域PXA1、第二像素区域PXA2和连接区域CNA中。
平坦化层117可以具有包括有机材料的层的单层或多层结构，并且提供平坦的上表面。平坦化层117可以包括诸如苯并环丁烯(“BCB”)、聚酰亚胺、六甲基二硅氧烷(“HMDSO”)、聚甲基丙烯酸甲酯(“PMMA”)或聚苯乙烯(“PS”)的商用聚合物、具有酚类基团的聚合物衍生物、丙烯酸类聚合物、酰亚胺类聚合物、丙烯酸醚类聚合物、酰胺类聚合物、氟类聚合物、对二甲苯类聚合物、乙烯醇类聚合物或它们的任何组合等。
显示元件DE可以设置在平坦化层117上。显示元件DE可以包括像素电极210、包含有机发射层的中间层220和对电极230。显示元件DE可以通过限定在平坦化层117中的接触孔连接到像素电路PC。
像素电极210可以是(半)透光电极或反射电极。在一些实施例中，像素电极210可以包括包含银(Ag)、镁(Mg)、铝(Al)、铂(Pt)、钯(Pd)、金(Au)、镍(Ni)、钕(Nd)、铱(Ir)、铬(Cr)或它们的任何组合的反射层，以及形成或设置在反射层上的透明或半透明电极层。透明或半透明电极层可以包括氧化铟锡(ITO)、氧化铟锌(“IZO”)、氧化锌(ZnO)、氧化铟(In3O3)、氧化铟镓(“IGO”)和氧化铝锌(“AZO”)中的至少一种。在一些实施例中，像素电极210可以形成或提供为ITO/Ag/ITO。
像素限定层119可以在基底100的显示区域中设置在平坦化层117上。像素限定层119可以覆盖像素电极210的边缘，并且暴露像素电极210的中心部分的开口可以限定在像素限定层119中。开口可以限定显示元件DE的发射区。像素限定层119可以设置在第一像素区域PXA1和第二像素区域PXA2中。
像素限定层119可以通过增加像素电极210的边缘与像素电极210之上的对电极230之间的距离来防止在像素电极210的边缘上发生电弧等。
像素限定层119可以包括至少一种有机绝缘材料，所述有机绝缘材料包括聚酰亚胺、聚酰胺、丙烯酸树脂、BCB和酚醛树脂中的至少一种。在替代实施例中，像素限定层119可以包括诸如氧化硅(SiOx)、氮化硅(SiNx)或氮氧化硅(SiOxNy)的无机绝缘材料。在替代实施例中，像素限定层119可以包括有机绝缘材料和无机绝缘材料。在一些实施例中，像素限定层119可以包括遮光材料，并且可以具有黑色。遮光材料可以包括炭黑、碳纳米管、包含黑色颜料的树脂或浆料、金属颗粒(例如，镍、铝、钼和它们的合金)、金属氧化物颗粒(例如，氧化铬)或金属氮化物颗粒(例如，氮化铬)。当像素限定层119包括遮光材料时，可以减少由于布置在像素限定层119下面的金属结构引起的外部光反射。
中间层220可以设置在限定在像素限定层119中的开口中并且可以包括有机发射层。有机发射层可以包括包含发射红光、绿光或蓝光的荧光或磷光材料的有机材料。有机发射层可以包括低分子有机材料或高分子有机材料，并且诸如空穴传输层(“HTL”)、空穴注入层(“HIL”)、电子传输层(“ETL”)或电子注入层(“EIL”)的功能层可以进一步布置在有机发射层下方和上方。
对电极230可以是透光电极或反射电极。在一些实施例中，对电极230可以是透明或半透明电极，并且可以包括包含锂(Li)、钙(Ca)、氟化锂/钙(LiF/Ca)、氟化锂/铝(LiF/Al)、铝(Al)、银(Ag)、镁(Mg)或它们的任何组合的具有小功函数的金属薄膜。包括例如ITO、IZO、ZnO或In2O3的透明导电氧化物(“TCO”)层可以进一步设置在金属薄膜上。对电极230可以在显示区域之上延伸，并且可以设置在中间层220和像素限定层119上。对电极230可以形成为或提供为构成多个显示元件DE的单体，并且因此可以对应于多个像素电极210。
因为显示元件DE可能容易被外部湿气或氧等损坏，所以封装层(未示出)可以覆盖并保护显示元件DE。封装层可以覆盖显示区域，并且可以延伸到外围区域的至少一部分。封装层可以包括至少一个无机封装层。
图7是示出外力已经被施加到显示设备的情况的实施例的截面图；图7示出了图6的基底100。
参考图7，当第一像素区域PXA1与第二像素区域PXA2之间的间隔距离d(参考图5)由于对显示设备1施加外力而减小时，连接区域CNA可以因外力而弯折或弯曲。此时，连接区域CNA的相对端部(例如，第一边缘区域CNAa和第二边缘区域CNAb)接收比连接区域CNA的其它部分相对大的应变。
当第一基体层101的突起101p如在实施例中布置在连接区域CNA的相对端部上时，凹槽gv由于突起101p而被限定，并且因此由连接区域CNA的相对端部接收的应变可以减小。因为由连接区域CNA的相对端部接收的应变减小，所以可以减少由于应变导致的诸如连接区域CNA的切割或断裂的缺陷。
当第一基体层101的突起101p布置在连接区域CNA的相对端部上时，在基底100的上表面(即，第一基体层101的第一表面101a)的对应于第一边缘区域CNAa和第二边缘区域CNAb的部分中，拉伸可以被诱导，并且在基底100的下表面的对应于第一边缘区域CNAa和第二边缘区域CNAb的部分中，收缩可以被诱导。在基底100的上表面的对应于连接区域CNA的中心部分的部分中，收缩可以被诱导，并且在基底100的下表面的对应于连接区域CNA的中心部分的部分中，拉伸可以被诱导。连接区域CNA可以在-z方向上弯折或弯曲。基于基底100的上表面，连接区域CNA可以定位在-z方向上。
当基于基底100的上表面，连接区域CNA定位在+z方向上时，诸如窗的上部构件附接到基底100的上表面时施加的压力影响突出的连接区域CNA，并且因此可能产生诸如连接区域CNA的切割或断裂的缺陷。
当第一基体层101的突起101p如实施例中布置在连接区域CNA的相对端部上并且连接区域CNA被诱导在-z方向上弯折或弯曲时，诸如窗的上部构件附接到基底100的上表面时施加的压力不影响连接区域CNA，并且因此可以减少诸如连接区域CNA的切割或断裂的缺陷的发生。
图7示出了第一基体层101的突起101p布置在连接区域CNA的相对端部上并且连接区域CNA被诱导在-z方向上弯折或弯曲。然而，通过调整第一基体层101的突起101p的位置，可以控制因外力而变形的连接区域CNA的形状。由于第一基体层101的突起101p的位置的调整，可以控制其中连接区域CNA弯折的方向。
在实施例中，例如，突起101p可以与期望在产生外力期间变形的连接区域CNA内的接收大的应变的部分相对应地布置。可以通过模拟等预测接收大的应变的部分。
图8是显示设备的实施例的示意性截面图。图8是图6的修改，并且因此与图6的不同之处在于突起的结构。在下文中，将以图6的描述替代图8与图6之间的重叠内容，并且将主要描述不同之处。
参考图8，连接区域CNA可以包括第一边缘区域CNAa、第二边缘区域CNAb、中心区域CNAc、第一区域CNAd和第二区域CNAe。
第一边缘区域CNAa可以定位在第一像素区域PXA1与中心区域CNAc之间，并且第二边缘区域CNAb可以定位在第二像素区域PXA2与中心区域CNAc之间。第一区域CNAd可以定位在第一边缘区域CNAa与中心区域CNAc之间，并且第二区域CNAe可以定位在第二边缘区域CNAb与中心区域CNAc之间。
在实施例中，第一基体层101的突起101p可以布置在第一边缘区域CNAa、第二边缘区域CNAb和中心区域CNAc中的至少一个中。在实施例中，例如，如图8中所示，第一基体层101的突起101p可以布置在第一边缘区域CNAa、第二边缘区域CNAb和中心区域CNAc中。
因为第一基体层101的突起101p布置在当外力施加到显示设备1时接收相对大的应变的第一边缘区域CNAa、第二边缘区域CNAb和中心区域CNAc中的至少一个中，所以可以减少诸如连接区域CNA的切割或断裂的缺陷的发生。
此外，当第一基体层101的突起101p布置在第一边缘区域CNAa、第二边缘区域CNAb和中心区域CNAc中时，在基底100的上表面(即，第一基体层101的第一表面101a)的对应于第一边缘区域CNAa和第二边缘区域CNAb的部分中，拉伸可以被诱导，并且在基底100的下表面的对应于第一边缘区域CNAa和第二边缘区域CNAb的部分中，收缩可以被诱导。在基底100的上表面的对应于连接区域CNA的中心区域CNAc的部分中，收缩可以被诱导，并且在基底100的下表面的对应于连接区域CNA的中心区域CNAc的部分中，拉伸可以被诱导。连接区域CNA可以在-z方向上弯折或弯曲。基于基底100的上表面，连接区域CNA可以定位在-z方向上。当连接区域CNA被诱导在-z方向上弯折或弯曲时，在后续工艺期间施加的压力不被传递到连接区域CNA，并且因此可以减少诸如连接区域CNA的切割或断裂的缺陷的发生。
图9是显示设备的实施例的示意性截面图。图9是图6的修改，并且因此与图6的不同之处在于突起的结构。在下文中，将以图6的描述替代图9与图6之间的重叠内容，并且将主要描述不同之处。
参考图9，与图6和图8相比，第一基体层101的突起101p可以布置为遍及连接区域CNA的整个区域。换句话说，由第一基体层101的突起101p限定的凹槽gv可以布置为遍及连接区域CNA的整个区域。
凹槽gv可以减轻显示设备1的重量并改善显示设备1的柔性。当外力(诸如，弯折力、弯曲力、拉力或推力)被施加到显示设备1时，凹槽gv中的每一个的形状可以改变，从而容易地减少显示设备1的变形期间的应力的发生。通过凹槽gv，可以防止显示设备1的异常变形，并且可以改善显示设备1的耐久性。
图10是显示设备的另一实施例的示意性截面图。图10是图6的修改，并且因此与图6的不同之处在于基底的结构。在下文中，将以图6的描述替代图10与图6之间的重叠内容，并且将主要描述不同之处。
参考图10，基底100'可以包括第一基体层101和阻挡层105。与图6相比，可以省略第二基体层103。
第一基体层101可以包括彼此相对的第一表面101a和第二表面101b。设置在第一像素区域PXA1中的第一像素PX1和设置在第二像素区域PXA2中的第二像素PX2可以布置在第一基体层101的第一表面101a上。
第一基体层101可以包括布置在第一基体层101的第二表面101b上的多个第一突起101px和多个第二突起101py。第一突起101px可以对应于图6的突起101p。
第一基体层101的第一突起101px可以布置在连接区域CNA中，并且第一基体层101的第二突起101py可以布置在第一像素区域PXA1和第二像素区域PXA2中。
换句话说，由第一基体层101的第一突起101px限定的第一凹槽gvx可以布置在连接区域CNA中，并且由第一基体层101的第二突起101py限定的第二凹槽gvy可以布置在第一像素区域PXA1和第二像素区域PXA2中。第一凹槽gvx和第二凹槽gvy可以减轻显示设备1的重量并改善显示设备1的柔性。
图11是显示设备的一部分的实施例的示意性放大平面图，并且图12是显示设备的实施例的示意性截面图。图11和图12对应于图5和图6的修改，并且因此与图5和图6的不同之处在于突起的结构。在下文中，将以图5和图6的描述替代图11和图12与图5和图6之间的重叠内容，并且将主要描述不同之处。
首先，参考图11，显示设备1可以包括第一像素区域PXA1、第二像素区域PXA2、连接区域CNA、穿透区域TP、第一像素PX1和第二像素PX2。
第一像素区域PXA1和第二像素区域PXA2可以彼此间隔开，并且可以经由连接区域CNA彼此延伸。第一像素PX1可以设置在第一像素区域PXA1中，并且第二像素PX2可以设置在第二像素区域PXA2中。
连接区域CNA可以包括第一边缘区域CNAa、第二边缘区域CNAb、中心区域CNAc、第一区域CNAd和第二区域CNAe。第一边缘区域CNAa可以定位在第一像素区域PXA1与中心区域CNAc之间，并且第二边缘区域CNAb可以定位在第二像素区域PXA2与中心区域CNAc之间。第一区域CNAd可以定位在第一边缘区域CNAa与中心区域CNAc之间，并且第二区域CNAe可以定位在第二边缘区域CNAb与中心区域CNAc之间。
参考图12，显示设备1可以包括基底100。基底100可以包括第一基体层101、第二基体层103和阻挡层105。
第一基体层101可以包括彼此相对的第一表面101a和第二表面101b。设置在第一像素区域PXA1中的第一像素PX1和设置在第二像素区域PXA2中的第二像素PX2可以布置在第一基体层101的第一表面101a上。
第一基体层101可以包括布置在第一基体层101的第二表面101b上的多个第一突起101pa和多个第二突起101pb。多个第一突起101pa和多个第二突起101pb可以布置在连接区域CNA中，并且可以在连接区域CNA的宽度方向上延伸。在实施例中，例如，如图11中所示，布置在在第二方向(例如，±x方向)上延伸的连接区域CNA中的第一突起101pa和第二突起101pb可以各自在第一方向(例如，±y方向)上延伸。相反，布置在在第一方向(例如，±y方向)上延伸的连接区域CNA中的第一突起101pa和第二突起101pb可以各自在第二方向(例如，±x方向)上延伸。
在图11中，第一突起101pa中的每一个的宽度等于第二突起101pb中的每一个的宽度。然而，在另一实施例中，第一突起101pa中的每一个的宽度可以与第二突起101pb中的每一个的宽度不同。在另一实施例中，第一突起101pa可以具有不同的宽度，或者第二突起101pb可以具有不同的宽度。
在实施例中，第一基体层101的第一突起101pa可以布置在第一边缘区域CNAa、第二边缘区域CNAb和中心区域CNAc中，并且第一基体层101的第二突起101pb可以布置在第一区域CNAd和第二区域CNAe中。
多个第一突起101pa之中的邻近的第一突起101pa之间的第一距离d1可以与多个第二突起101pb之中的邻近的第二突起101pb之间的第二距离d2不同。在实施例中，例如，如图11和图12中所示，第一距离d1可以大于第二距离d2。
换句话说，由第一突起101pa限定的第一凹槽gva的各自的宽度可以与由第二突起101pb限定的第二凹槽gvb的各自的宽度不同。在实施例中，例如，第一凹槽gva的各自的宽度可以大于第二凹槽gvb的各自的宽度。
在实施例中，可以基于当外力施加到显示设备1时由连接区域CNA接收的应变来调整突起之间的距离。换句话说，可以基于当外力施加到显示设备1时由连接区域CNA接收的应变来调整限定在第一基体层101中的凹槽的各自的宽度。
在实施例中，例如，布置在当外力施加到连接区域CNA时接收相对大的应变的第一边缘区域CNAa、第二边缘区域CNAb和中心区域CNAc中的第一突起101pa之间的第一距离d1可以大于布置在第一区域CNAd和第二区域CNAe中的第二突起101pb之间的第二距离d2。
换句话说，限定在当外力施加到连接区域CNA时接收相对大的应变的第一边缘区域CNAa、第二边缘区域CNAb和中心区域CNAc中的第一凹槽gva中的每一个的宽度可以大于限定在第一区域CNAd和第二区域CNAe中的第二凹槽gvb中的每一个的宽度。
图13是显示设备的实施例的示意性截面图；图13是图8的修改，并且因此与图8的不同之处在于平坦化层的结构。在下文中，将以图8的描述替代图13与图8之间的重叠内容，并且将主要描述不同之处。
参考图13，与图8相比，多个凹槽gv'可以限定在像素电路PC与显示元件DE之间的平坦化层117中。平坦化层117可以包括各自在+z方向上突出的多个绝缘图案117p，并且多个凹槽gv'可以由多个绝缘图案117p限定。可以使用半色调掩模形成或提供平坦化层117的绝缘图案117p。
多个凹槽gv'可以布置在连接区域CNA中。在实施例中，例如，凹槽gv'可以布置在第一边缘区域CNAa、第二边缘区域CNAb和中心区域CNAc中的至少一个中。
类似于第一基体层101的突起101p，多个凹槽gv'可以在连接区域CNA的宽度方向上延伸。在实施例中，例如，如图5中所示，限定在在第二方向(例如，±x方向)上延伸的连接区域CNA中的凹槽gv'可以各自在第一方向(例如，±y方向)上延伸。相反，限定在在第一方向(例如，±y方向)上延伸的连接区域CNA中的凹槽gv'可以各自在第二方向(例如，±x方向)上延伸。
凹槽gv'可以减轻显示设备1的重量并改善显示设备1的柔性。当外力(诸如，弯折力、弯曲力、拉力或推力)被施加到显示设备1时，凹槽gv'中的每一个的形状可以改变，从而容易地减少在显示设备1的变形期间的应力的发生。通过凹槽gv'，可以防止显示设备1的异常变形，并且可以改善显示设备1的耐久性。
在图13中，凹槽gv'布置在第一边缘区域CNAa、第二边缘区域CNAb和中心区域CNAc中。然而，在另一实施例中，凹槽gv'可以仅布置在第一边缘区域CNAa和第二边缘区域CNAb中。在另一实施例中，凹槽gv'可以布置在第一区域CNAd和第二区域CNAe中。
在图13中，第一基体层101包括布置在第一边缘区域CNAa、第二边缘区域CNAb和中心区域CNAc中的突起101p。然而，在另一实施例中，第一基体层101可以包括图6、图9、图10和图12中的一个的突起。
图14是显示设备的实施例的示意性截面图。图14是图8的修改，并且因此与图8的不同之处在于绝缘层的结构。在下文中，将以图8的描述替代图14与图8之间的重叠内容，并且将主要描述不同之处。
参考图14，与图8相比，多个凹槽gv”可以限定在包括平坦化层117和像素限定层119的绝缘层IL中。
平坦化层117可以包括面对第一基体层101的第一表面101a的第三表面117a以及与第三表面117a相对的第四表面117b。像素限定层119可以包括暴露像素电极210中的每一个的至少一部分的多个第一绝缘图案119pa以及布置在连接区域CNA中的多个第二绝缘图案119pb。多个凹槽gv”可以由平坦化层117的第四表面117b、第一绝缘图案119pa和第二绝缘图案119pb限定。
多个凹槽gv”可以布置在连接区域CNA中。在实施例中，例如，凹槽gv”可以布置在第一边缘区域CNAa、第二边缘区域CNAb和中心区域CNAc中的至少一个中。
类似于第一基体层101的突起101p，多个凹槽gv”可以在连接区域CNA的宽度方向上延伸。在实施例中，例如，如图5中所示，限定在在第二方向(例如，±x方向)上延伸的连接区域CNA中的凹槽gv”可以各自在第一方向(例如，±y方向)上延伸。相反，限定在在第一方向(例如，±y方向)上延伸的连接区域CNA中的凹槽gv”可以各自在第二方向(例如，±x方向)上延伸。
凹槽gv”可以减轻显示设备1的重量并改善显示设备1的柔性。当外力(诸如，弯折力、弯曲力、拉力或推力)被施加到显示设备1时，凹槽gv”中的每一个的形状可以改变，从而容易地减少在显示设备1的变形期间的应力的发生。通过凹槽gv”，可以防止显示设备1的异常变形，并且可以改善显示设备1的耐久性。
在图14中，凹槽gv”布置在第一边缘区域CNAa、第二边缘区域CNAb和中心区域CNAc中。然而，在另一实施例中，凹槽gv”可以仅布置在第一边缘区域CNAa和第二边缘区域CNAb中。在另一实施例中，凹槽gv”可以布置在第一区域CNAd和第二区域CNAe中。
在图14中，第一基体层101包括布置在第一边缘区域CNAa、第二边缘区域CNAb和中心区域CNAc中的突起101p。然而，在另一实施例中，第一基体层101可以包括图6、图9、图10和图12中的一个的突起。
图15是显示设备的示意性截面图。图15是图12的修改，并且因此与图12的不同之处在于突起的结构。在下文中，将以图12的描述替代图15与图12之间的重叠内容，并且将主要描述不同之处。
参考图15，与图12相比，多个第一凹槽gv1和多个第二凹槽gv2可以限定在像素电路PC与显示元件DE之间的平坦化层117中。平坦化层117可以包括各自在+z方向上突出的多个第一绝缘图案117pa和多个第二绝缘图案117pb，多个第一凹槽gv1可以由多个第一绝缘图案117pa限定，并且多个第二凹槽gv2可以由多个第二绝缘图案117pb限定。可以使用半色调掩模形成或提供平坦化层117的第一绝缘图案117pa和第二绝缘图案117pb。
多个第一凹槽gv1和多个第二凹槽gv2可以布置在连接区域CNA中。在实施例中，例如，多个第一凹槽gv1可以布置在第一边缘区域CNAa、第二边缘区域CNAb和中心区域CNAc中，并且多个第二凹槽gv2可以布置在第一区域CNAd和第二区域CNAe中。
第一凹槽gv1中的每一个的第一宽度w1可以与第二凹槽gv2中的每一个的第二宽度w2不同。在实施例中，例如，如图15中所示，第一宽度w1可以大于第二宽度w2。
换句话说，多个第一绝缘图案117pa之中的邻近的第一绝缘图案117pa之间的距离可以与多个第二绝缘图案117pb之中的邻近的第二绝缘图案117pb之间的距离不同。在实施例中，例如，邻近的第一绝缘图案117pa之间的距离可以大于邻近的第二绝缘图案117pb之间的距离。
在实施例中，可以基于当外力施加到显示设备1时由连接区域CNA接收的应变来调整每个凹槽的宽度。换句话说，可以基于当外力施加到显示设备1时由连接区域CNA接收的应变来调整绝缘图案之间的距离。
在实施例中，例如，限定在当外力施加到连接区域CNA时接收相对大的应变的第一边缘区域CNAa、第二边缘区域CNAb和中心区域CNAc中的第一凹槽gv1中的每一个的第一宽度w1可以大于限定在第一区域CNAd和第二区域CNAe中的第二凹槽gv2中的每一个的第二宽度w2。
换句话说，布置在当外力施加到连接区域CNA时接收相对大的应变的第一边缘区域CNAa、第二边缘区域CNAb和中心区域CNAc中的第一绝缘图案117pa之间的距离可以大于第一区域CNAd和第二区域CNAe中的第二绝缘图案117pb之间的距离。
类似于第一基体层101的第一突起101pa和第二突起101pb，多个第一凹槽gv1和多个第二凹槽gv2可以在连接区域CNA的宽度方向上延伸。在实施例中，例如，如图11中所示，限定在在第二方向(例如，±x方向)上延伸的连接区域CNA中的第一凹槽gv1和第二凹槽gv2可以各自在第一方向(例如，±y方向)上延伸。相反，限定在在第一方向(例如，±y方向)上延伸的连接区域CNA中的第一凹槽gv1和第二凹槽gv2可以各自在第二方向(例如，±x方向)上延伸。
第一凹槽gv1和第二凹槽gv2可以减轻显示设备1的重量并改善显示设备1的柔性。当外力(诸如，弯折力、弯曲力、拉力或者推力)施加到显示设备1时，第一凹槽gv1和第二凹槽gv2中的每一个的形状可以改变，从而容易地减少在显示设备1的变形期间的应力的发生。通过第一凹槽gv1和第二凹槽gv2，可以防止显示设备1的异常变形，并且可以改善显示设备1的耐久性。
在图15中，第一凹槽gv1和第二凹槽gv2限定在平坦化层117中。然而，在另一实施例中，第一凹槽gv1和第二凹槽gv2可以限定在图14的绝缘层IL中。
在图15中，第一基体层101包括第一突起101pa和第二突起101pb，并且第一突起101pa之间的第一距离d1和第二突起101pb之间的第二距离d2由于应变而彼此不同。然而，在另一实施例中，第一基体层101可以包括图6、图8、图9和图10中的一个的突起。
图16是显示设备的实施例的示意性截面图。图6和图16中的相同的附图标记表示相同的元件，并且因此省略对其的重复描述。
参考图16，像素限定层119可以设置在像素电路PC与显示元件DE之间的作为绝缘层的平坦化层117上。像素限定层119可以包括设置在连接区域CNA中的第一绝缘图案119a和暴露像素电极210的至少一部分的第二绝缘图案119b。
在图16中，三个第一绝缘图案119a布置在平坦化层117上。然而，在另一实施例中，一个第一绝缘图案119a可以设置在平坦化层117上。换句话说，至少一个第一绝缘图案119a可以布置在平坦化层117上。
第三绝缘图案120可以设置在第一绝缘图案119a上。第三绝缘图案120可以包括诸如聚酰亚胺的有机绝缘材料。在替代实施例中，第三绝缘图案120可以包括诸如氮化硅(SiNx)或氧化硅(SiOx)的无机绝缘材料，或者可以包括无机绝缘材料和有机绝缘材料。
在实施例中，第三绝缘图案120可以包括与包括在第一绝缘图案119a中的材料不同的材料。在另一实施例中，第三绝缘图案120可以包括与包括在第一绝缘图案119a中的材料相同的材料。在这种情况下，可以在使用半色调掩模等的掩模工艺中一起形成或提供第一绝缘图案119a和第三绝缘图案120。第一绝缘图案119a和第三绝缘图案120可以彼此一体。
在图16中，第三绝缘图案120设置在第一绝缘图案119a之中的一个第一绝缘图案119a上。然而，在另一实施例中，第三绝缘图案120可以分别设置在第一绝缘图案119a上。
第二绝缘图案119b设置在第一像素区域PXA1和第二像素区域PXA2中，而第一绝缘图案119a和第一绝缘图案119a上的第三绝缘图案120布置在连接区域CNA中。因此，可以在第一像素区域PXA1和第二像素区域PXA2与连接区域CNA之间形成或提供台阶st。
当在第一像素区域PXA1和第二像素区域PXA2与连接区域CNA之间形成或提供台阶st并且诸如窗的上部构件附接到基底100的上表面时，一些压力可以通过第三绝缘图案120施加在连接区域CNA上。当在-z方向上的一些压力通过第三绝缘图案120施加到连接区域CNA并且第一像素区域PXA1与第二像素区域PXA2之间的间隔距离d(参见图5)由于对显示设备1施加外力而减小时，连接区域CNA可以在-z方向上弯折或弯曲。布置在连接区域CNA中的第一绝缘图案119a和第三绝缘图案120可以诱导连接区域CNA在-z方向上弯折或弯曲。当连接区域CNA通过第一绝缘图案119a和第三绝缘图案120被诱导在-z方向上弯折或弯曲时，在上部构件的附接期间施加的压力不传递到连接区域CNA，并且因此可以减少诸如连接区域CNA的切割或断裂的缺陷的发生。
图17是显示设备的实施例的示意性截面图。图17是图16的修改，并且因此与图16的不同之处在于基体层和平坦化层的结构。在下文中，将以图16的描述替代图17与图16之间的重叠内容，并且将主要描述不同之处。
参考图17，如上面参照图13所述，多个凹槽gv'可以限定在像素电路PC与显示元件DE之间的平坦化层117中。平坦化层117可以包括各自在+z方向上突出的多个绝缘图案117p，并且多个凹槽gv'可以由多个绝缘图案117p限定。可以使用半色调掩模形成或提供平坦化层117的绝缘图案117p。
包括第一绝缘图案119a和第二绝缘图案119b的像素限定层119可以设置在其中限定凹槽gv'的平坦化层117上，并且第三绝缘图案120可以设置在第一绝缘图案119a上。
在图17中，两个第一绝缘图案119a和两个第三绝缘图案120布置在平坦化层117上。然而，在另一实施例中，一个第一绝缘图案119a和一个第三绝缘图案120可以布置在平坦化层117上。换句话说，至少一个第一绝缘图案119a和至少一个第三绝缘图案120可以布置在平坦化层117上。
在实施例中，凹槽gv'可以与第一绝缘图案119a和第三绝缘图案120不重叠。在实施例中，例如，如图17中所示，凹槽gv'可以布置在第一边缘区域CNAa、第二边缘区域CNAb和中心区域CNAc中的至少一个中，并且第一绝缘图案119a和第三绝缘图案120可以布置在第一区域CNAd和第二区域CNAe中的至少一个中。
在图17中，凹槽gv'限定在平坦化层117中。然而，在另一实施例中，如图14中所示，凹槽gv”可以限定在绝缘层IL中。在这种情况下，第三绝缘图案120可以设置在绝缘层IL上以与凹槽gv”不重叠。
在图17中，凹槽gv'布置在第一边缘区域CNAa、第二边缘区域CNAb和中心区域CNAc中。然而，在另一实施例中，凹槽gv'可以仅布置在第一边缘区域CNAa和第二边缘区域CNAb中。在替代实施例中，凹槽gv'可以仅布置在中心区域CNAc中。
在图17中，第一基体层101包括布置在第一边缘区域CNAa、第二边缘区域CNAb和中心区域CNAc中的突起101p。然而，在另一实施例中，第一基体层101可以包括图6、图9、图10和图12中的一个的突起。
图18是显示设备的示意性截面图。图18是图16的修改，并且因此与图16的不同之处在于遮光层和滤色器层的结构。在下文中，将以图16的描述替代图18与图16之间的重叠内容，并且将主要描述不同之处。
参考图18，遮光层130可以设置在第三绝缘图案120上。作为黑矩阵的遮光层130可以是用于改善颜色锐度和对比度的层。遮光层130可以包括黑色颜料、黑色染料和黑色颗粒中的至少一种。在一些实施例中，遮光层130可以包括诸如Cr或CrOx、Cr/CrOx、Cr/CrOx/CrNy、树脂(例如，碳颜料或RGB混合颜料)、石墨、非Cr类材料等材料中的至少一种。
滤色器层140可以设置在遮光层130上。滤色器层140可以包括彼此顺序地堆叠的第一滤色器层141、第二滤色器层143和第三滤色器层145。第一滤色器层141可以仅透射具有在从大约630纳米(nm)到大约780nm的范围的波长的光，第二滤色器层143可以仅透射具有在从大约495nm到大约570nm的范围的波长的光，并且第三滤色器层145可以仅透射具有在从大约450nm到大约495nm的范围的波长的光。
因为遮光层130和滤色器层140布置在连接区域CNA中，所以可以在第一像素区域PXA1和第二像素区域PXA2与连接区域CNA之间形成或提供台阶st'。
当在第一像素区域PXA1和第二像素区域PXA2与连接区域CNA之间形成或提供台阶st'并且诸如窗的上部构件附接到基底100的上表面时，一些压力可以通过遮光层130和滤色器层140施加在连接区域CNA上。当在-z方向上的一些压力通过遮光层130和滤色器层140施加到连接区域CNA并且第一像素区域PXA1与第二像素区域PXA2之间的间隔距离d(参见图5)由于对显示设备1施加外力而减小时，连接区域CNA可以在-z方向上弯折或弯曲。布置在连接区域CNA中的遮光层130和滤色器层140可以诱导连接区域CNA在-z方向上弯折或弯曲。当连接区域CNA通过遮光层130和滤色器层140被诱导在-z方向上弯折或弯曲时，在上部构件的附接期间施加的压力不传递到连接区域CNA，并且因此可以减少诸如连接区域CNA的切割或断裂的缺陷的发生。
在图18中，遮光层130覆盖连接区域CNA。然而，在另一实施例中，遮光层130可以设置在连接区域CNA的一部分中。在实施例中，例如，遮光层130可以包括分别覆盖第一绝缘图案119a的遮光图案。
尽管上面已经描述了显示设备，但是本发明不限于此。例如，制造这种显示设备的方法也属于本发明的范围。
在如上所述的实施例中，可以实现具有增加的灵活性的显示设备。当然，本发明的范围不限于此。
应当理解的是，本文中描述的实施例应当仅在描述性的含义上考虑，而不是为了限制的目的。每个实施例中的特征或优点的描述通常应当被认为可以用于其它实施例中的其它类似特征或优点。尽管已经参照附图描述了实施例，但是本领域普通技术人员将理解的是，在不脱离如由所附权利要求限定的精神和范围的情况下，可以在其中作出形式和细节上的各种改变。

Claims (30)

1.一种显示设备，其中，所述显示设备包括：
第一基体层，包括彼此间隔开的第一像素区域和第二像素区域以及将所述第一像素区域连接到所述第二像素区域的连接区域，所述第一基体层包括彼此相对的第一表面和第二表面；
第一像素，设置在所述第一像素区域中；以及
第二像素，设置在所述第二像素区域中，
其中，所述第一像素和所述第二像素布置在所述第一基体层的所述第一表面上，并且
所述第一基体层包括布置在所述连接区域的所述第二表面上的多个第一突起。
2.根据权利要求1所述的显示设备，其中，所述多个第一突起布置在所述连接区域的相对端部上。
3.根据权利要求1所述的显示设备，其中，所述多个第一突起在所述连接区域的宽度方向上延伸。
4.根据权利要求1所述的显示设备，其中，所述显示设备还包括：
第二基体层，设置在所述第一基体层的所述第二表面上；以及
阻挡层，在所述第一基体层与所述第二基体层之间，
其中，所述第二基体层在所述第二基体层的厚度方向上与所述多个第一突起不重叠，并且
所述阻挡层覆盖所述多个第一突起。
5.根据权利要求4所述的显示设备，其中，所述第二基体层的厚度等于所述多个第一突起中的每一个的在所述第二基体层的所述厚度方向上的长度。
6.根据权利要求1所述的显示设备，其中，所述第一基体层还包括布置在所述第一像素区域和所述第二像素区域中的每一个的所述第二表面上的多个第二突起。
7.根据权利要求1所述的显示设备，其中，所述连接区域包括中心区域、所述中心区域与所述第一像素区域之间的第一边缘区域以及所述中心区域与所述第二像素区域之间的第二边缘区域，并且
所述多个第一突起布置在所述中心区域、所述第一边缘区域和所述第二边缘区域中。
8.根据权利要求7所述的显示设备，其中，所述第一基体层还包括布置在所述连接区域的所述第二表面上的多个第二突起，
所述连接区域还包括所述中心区域与所述第一边缘区域之间的第一区域以及所述中心区域与所述第二边缘区域之间的第二区域，
所述多个第二突起布置在所述第一区域和所述第二区域中，并且
所述多个第一突起之中的邻近的第一突起之间的第一距离与所述多个第二突起之中的邻近的第二突起之间的第二距离不同。
9.根据权利要求8所述的显示设备，其中，所述第一距离大于所述第二距离。
10.根据权利要求1所述的显示设备，其中，所述显示设备还包括：绝缘层，设置在所述第一基体层的所述第一表面上，并且在所述绝缘层中，多个第一凹槽限定在所述连接区域中。
11.根据权利要求10所述的显示设备，其中，所述连接区域包括中心区域、所述中心区域与所述第一像素区域之间的第一边缘区域以及所述中心区域与所述第二像素区域之间的第二边缘区域，并且
所述多个第一凹槽布置在所述中心区域、所述第一边缘区域和所述第二边缘区域中的至少一个中。
12.根据权利要求11所述的显示设备，其中，在所述连接区域中，多个第二凹槽限定在所述绝缘层中，
所述连接区域还包括所述中心区域与所述第一边缘区域之间的第一区域以及所述中心区域与所述第二边缘区域之间的第二区域，
所述多个第一凹槽布置在所述中心区域、所述第一边缘区域和所述第二边缘区域中，
所述多个第二凹槽布置在所述第一区域和所述第二区域中，并且
所述多个第一凹槽中的每一个的第一宽度与所述多个第二凹槽中的每一个的第二宽度不同。
13.根据权利要求12所述的显示设备，其中，所述第一宽度大于所述第二宽度。
14.根据权利要求10所述的显示设备，其中，所述第一像素和所述第二像素中的每一个包括像素电路以及设置在所述像素电路上并连接到所述像素电路的显示元件，并且
所述绝缘层在多个所述像素电路与多个所述显示元件之间。
15.根据权利要求10所述的显示设备，其中，所述第一像素和所述第二像素中的每一个包括像素电路以及包括设置在所述像素电路上并连接到所述像素电路的像素电极的显示元件，并且
所述绝缘层包括所述第一像素和所述第二像素的所述像素电路与所述第一像素和所述第二像素的所述显示元件之间的平坦化层，以及设置在所述平坦化层上并暴露所述第一像素和所述第二像素的所述像素电极中的每一个的至少一部分的像素限定层。
16.根据权利要求15所述的显示设备，其中，所述平坦化层包括面向所述第一基体层的所述第一表面的第三表面以及与所述第三表面相对的第四表面，
所述像素限定层包括暴露多个所述像素电极中的每一个的至少一部分的多个第一绝缘图案以及布置在所述连接区域中的多个第二绝缘图案，并且
所述多个第一凹槽由所述平坦化层的所述第四表面的一部分、所述多个第一绝缘图案和所述多个第二绝缘图案限定。
17.一种显示设备，其中，所述显示设备包括：
基体层，包括彼此间隔开的第一像素区域和第二像素区域以及将所述第一像素区域连接到所述第二像素区域的连接区域；
第一像素，设置在所述第一像素区域中并且包括像素电路和连接到所述像素电路的像素电极；
第二像素，设置在所述第二像素区域中并且包括像素电路和连接到所述像素电路的像素电极；
第一绝缘层，在所述第一像素和所述第二像素的所述像素电路与所述第一像素和所述第二像素的所述像素电极之间；
第一绝缘图案，设置在所述第一绝缘层上并且设置在所述连接区域中；以及
第二绝缘图案，设置在所述第一绝缘图案上。
18.根据权利要求17所述的显示设备，其中，所述显示设备还包括：第二绝缘层，设置在所述第一绝缘层上并且包括多个第三绝缘图案和所述第一绝缘图案，所述多个第三绝缘图案暴露所述多个像素电极中的每一个的至少一部分。
19.根据权利要求17所述的显示设备，其中，所述第一绝缘图案和所述第二绝缘图案彼此一体。
20.根据权利要求17所述的显示设备，其中，所述显示设备还包括：遮光层，设置在所述第二绝缘图案上。
21.根据权利要求20所述的显示设备，其中，所述显示设备还包括：
第一滤色器层，设置在所述遮光层上；
第二滤色器层，设置在所述第一滤色器层上；以及
第三滤色器层，设置在所述第二滤色器层上。
22.根据权利要求17所述的显示设备，其中，在所述连接区域中，多个凹槽限定在所述第一绝缘层中。
23.根据权利要求22所述的显示设备，其中，所述多个凹槽与所述第一绝缘图案和所述第二绝缘图案彼此不重叠。
24.根据权利要求22所述的显示设备，其中，所述连接区域包括中心区域、所述中心区域与所述第一像素区域之间的第一边缘区域、所述中心区域与所述第二像素区域之间的第二边缘区域、所述中心区域与所述第一边缘区域之间的第一区域以及所述中心区域与所述第二边缘区域之间的第二区域，
所述多个凹槽布置在所述中心区域、所述第一边缘区域和所述第二边缘区域中的至少一个中，并且
所述第一绝缘图案和所述第二绝缘图案布置在所述第一区域和所述第二区域中的至少一个中。
25.根据权利要求17所述的显示设备，其中，所述基体层包括彼此相对的第一表面和第二表面，
所述第一像素和所述第二像素布置在所述基体层的所述第一表面上，并且
所述基体层包括布置在所述连接区域的所述第二表面上的多个第一突起。
26.根据权利要求25所述的显示设备，其中，所述多个第一突起在所述连接区域的宽度方向上延伸。
27.根据权利要求25所述的显示设备，其中，所述基体层还包括布置在所述第一像素区域和所述第二像素区域中的每一个的所述第二表面上的多个第二突起。
28.根据权利要求25所述的显示设备，其中，所述连接区域包括中心区域、所述中心区域与所述第一像素区域之间的第一边缘区域以及所述中心区域与所述第二像素区域之间的第二边缘区域，并且
所述多个第一突起布置在所述中心区域、所述第一边缘区域和所述第二边缘区域中的至少一个中。
29.根据权利要求28所述的显示设备，其中，所述基体层还包括布置在所述连接区域的所述第二表面上的多个第二突起，
所述连接区域还包括所述中心区域与所述第一边缘区域之间的第一区域以及所述中心区域与所述第二边缘区域之间的第二区域，
所述多个第一突起布置在所述中心区域、所述第一边缘区域和所述第二边缘区域中，
所述多个第二突起设置在所述第一区域和所述第二区域中，并且
所述多个第一突起之中的邻近的第一突起之间的第一距离与所述多个第二突起之中的邻近的第二突起之间的第二距离不同。
30.根据权利要求29所述的显示设备，其中，所述第一距离大于所述第二距离。
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