CN115662932A - 晶圆位置的监测装置及具有该监测装置的晶圆载台 - Google Patents

Abstract

本发明涉及晶圆载台技术领域，具体公开了一种晶圆位置的监测装置及具有该监测装置的晶圆载台，所述晶圆位置的监测装置包括承载晶圆的工作台、带动所述工作台移动的移动机构以及获取该晶圆位置的监测组件；所述工作台包括容纳晶圆的台体、转动安装在所述台体中的转盘以及对所述台体进行支撑的支撑柱，所述台体位于所述转盘的周侧对称安装有至少两个转动限位组件。本发明在承载晶圆的工作台上设置转动限位组件对晶圆进行限位，使晶圆在跟随工作台移动过程中保持位置不变，避免晶圆窜动，提高晶圆移动的稳定性的同时解决现有技术中由于晶圆移动而产生的测量误差的问题，提高了晶圆位置的监测精度。

Description

晶圆位置的监测装置及具有该监测装置的晶圆载台

技术领域

本发明具体涉及晶圆载台技术领域，具体是一种晶圆位置的监测装置及具有该监测装置的晶圆载台。

背景技术

集成电路制造工艺过程通常是指将导体、半导体、绝缘层以一定的工艺顺序沉积在特定的基板上(如硅基晶圆)。在制造工艺过程中，化学机械平坦化(ChemicalMechanical Planarization，简称CMP)技术主要用于对晶圆在膜沉积工艺后的微观粗糙表面进行全局平坦化处理，以便进行后续的半导体工艺过程。CMP利用化学腐蚀和机械磨削的协同作用，可以有效兼顾晶圆局部和全局平坦度，并已在超大规模集成电路制造中得到了广泛应用。

CMP技术中，经过化学腐蚀后，需要对晶圆进行机械磨削，在晶圆移动过程中，需要使用装卸台将晶圆移动至抛光头位置处。装卸台上安装有载片台，经化学腐蚀后的晶圆放置在载片台上，装卸台由电气与气动设备控制，移动至抛光头下方，然后装卸台上升并接触抛光头，完成抛光头与装卸台的对心，载片台携带晶圆进行上升，完成晶圆与抛光头接触，使抛光头完成对晶圆的抓取。

其中，为使晶圆与抛光头精准对位，需要对晶圆的实时位置进行测量，而晶圆在经过化学腐蚀后通常会携带一些残留的倾斜液体，残留的清洗液体存在于晶圆和非金属缓冲垫片之间时，会形成水膜效应，在水膜效应下，晶圆与非金属缓冲垫片之间具有一定的粘连性，导致对晶圆形成一定的吸附作用，在进行晶圆传输时，可能会使晶圆发生形变或者滑动移位，对晶圆位置产生影响，从而影响晶圆位置测量的精准度。

发明内容

本发明的目的在于提供一种晶圆位置的监测装置及具有该监测装置的晶圆载台，以解决上述背景技术中提出的水膜效应下，晶圆与非金属缓冲垫片之间具有一定的粘连性，导致对晶圆形成一定的吸附作用，在进行晶圆传输时，可能会使晶圆发生形变或者滑动移位，对晶圆位置产生影响，从而影响晶圆位置测量的精准度的问题。

为实现上述目的，本发明提供如下技术方案：

一种晶圆位置的监测装置，包括承载晶圆的工作台、带动所述工作台移动的移动机构以及获取该晶圆位置的监测组件；所述工作台包括容纳晶圆的台体、转动安装在所述台体中的转盘以及对所述台体进行支撑的支撑柱，所述台体位于所述转盘的周侧对称安装有至少两个转动限位组件；所述转动限位组件包括安装架和安装于所述安装架上的防滑板，所述安装架通过连接滑块滑动安装在所述台体上；所述支撑柱的内部设有驱动轴，所述驱动轴的下侧设有环形凸沿，所述转盘的中心处滑动安装有支撑台，所述支撑台的下端与所述驱动轴固定连接；所述支撑柱的侧边处滑动安装有与所述安装架相对应的升降座，所述升降座的外侧与所述安装架通过连接杆连接，升降座的内侧连接在所述环形凸沿的底部；所述监测组件包括第一接收器、第一发送器以及第二接收器和第二发送器。

作为本发明进一步的方案：所述台体上开设有供所述连接滑块滑动的第一通槽，连接滑块滑动安装在所述通槽中，连接滑块的上侧与所述安装架固定连接，连接滑块的下侧与连接杆的一端转动连接。

作为本发明再进一步的方案：所述支撑柱的下侧开设有下腔室，所述支撑柱的侧壁上竖直开设有第二通槽，所述升降座滑动安装在第二通槽上，且升降座的一侧穿过所述第二通槽伸入下腔室内部，升降座的另一侧与所述连接杆的另一端转动连接。

作为本发明再进一步的方案所述安装架的内部开设有滑动槽，所述防滑板通过限位块滑动安装在所述滑动槽内部，且防滑板的侧边通过限位弹簧与滑动槽连接。

作为本发明再进一步的方案：所述移动机构包括机架、转动安装在所述机架上的调节丝杆以及滑动安装在所述机架上的移动座，所述调节丝杆上螺纹连接有螺纹套筒，所述螺纹套筒与所述移动座固定连接，所述移动座与所述支撑柱固定连接。

作为本发明再进一步的方案：所述支撑柱与所述台体固定连接，所述台体上转动安装有转盘，所述转盘的表面均匀设置有若干吸水棉，所述吸水棉具有弹性吸水面层。

作为本发明再进一步的方案：所述支撑柱的上部开设有上腔体，所述转盘的底部固定安装有驱动齿轮，所述驱动轴的上侧设置有螺纹段，所述螺纹段上螺纹连接有螺套，所述螺套上固定安装有从动齿轮，所述从动齿轮通过辅助齿轮传动连接。

作为本发明再进一步的方案：所述辅助齿轮包括第一齿轮和第二齿轮，所述第一齿轮和第二齿轮通过同一根连接轴转动安装在上腔体的内部，且第一齿轮与驱动齿轮啮合，第二齿轮与从动齿轮啮合。

作为本发明再进一步的方案：还包括有高度限位组件，所述高度限位组件包括安装在所述台体侧边的安装座以及转动安装在所述安装座上的压板，所述压板上固定安装有转轴，所述安装座位于转轴的左右两侧对称设置有两个轴承座，所述转轴与所述轴承座转动连接；所述轴承座的内部开设有弧形槽，弧形槽的内部滑动安装有滑块，滑块上开设有卡槽，转轴的端头处设置有与所述卡槽相适配的卡块；所述滑块通过连接弹簧与弧形槽连接，滑块由铁质材料制成，所述弧形槽的下部设置有电磁铁。

作为本发明再进一步的方案：所述连接弹簧包括第一弹簧和第二弹簧，所述滑块的上部通过第一弹簧与弧形槽的上部连接，滑块的下部通过第二弹簧与弧形槽的下部连接；所述下腔体的底部设置有控制电磁铁通断电的按钮，所述按钮与电磁铁的电源电连接。

与现有技术相比，本发明的有益效果是：本发明在承载晶圆的工作台上设置转动限位组件对晶圆进行限位，使晶圆在跟随工作台移动过程中保持位置不变，避免晶圆窜动，提高晶圆移动的稳定性的同时解决现有技术中由于晶圆移动而产生的测量误差的问题，提高了晶圆位置的监测精度；还在工作台上设置有高度限位组件，防止晶圆移动过程中收到外力与工作台脱落，进一步提高晶圆移动的稳定性，确保晶圆移动过程中不受损坏，提高晶圆后续加工的良品率。

附图说明

图1为晶圆位置的监测装置的结构示意图。

图2为晶圆位置的监测装置中工作台的结构示意图。

图3为晶圆位置的监测装置中工作台的剖视图。

图4为晶圆位置的监测装置中转动限位组件的剖视图。

图5为晶圆位置的监测装置的正视图。

图6为晶圆位置的监测装置中晶圆载台的结构示意图。

图7为晶圆位置的监测装置中转轴的结构示意图。

图8为晶圆位置的监测装置中轴承座的结构示意图。

图中：10-移动机构、11-机架、12-调节丝杆、13-移动座、14-第一接收器、15-第二发送器、16-驱动电机、17-第二接收器、18-第一发送器；

20-工作台、21-台体、22-转盘、23-支撑台、24-吸水棉；

30-转动限位组件、31-安装架、32-防滑板、33-连接滑块、34-限位块、35-限位弹簧；

40-驱动机构、41-支撑柱、411-支撑件、42-驱动轴、421-螺纹段、422-滑套、423-环形凸沿、43-辅助齿轮、44-驱动齿轮、45-从动齿轮、46-升降座、47-按钮、48-连接杆；

50-高度限位组件、51-压板、52-转轴、53-轴承座、531-壳体、532-弧形槽、533-连接弹簧、534-滑块、535-电磁铁。

具体实施方式

下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。

经过化学腐蚀后，需要对晶圆进行机械磨削，在晶圆移动过程中，需要使用装卸台将晶圆移动至抛光头位置处。装卸台上安装有载片台，经化学腐蚀后的晶圆放置在载片台上，装卸台由电气与气动设备控制，移动至抛光头下方，然后装卸台上升并接触抛光头，完成抛光头与装卸台的对心，载片台携带晶圆进行上升，完成晶圆与抛光头接触，使抛光头完成对晶圆的抓取。

为使晶圆与抛光头精准对位，需要对晶圆的实时位置进行测量，而晶圆在经过化学腐蚀后通常会携带一些残留的倾斜液体，残留的清洗液体存在于晶圆和非金属缓冲垫片之间时，会形成水膜效应，在水膜效应下，晶圆与非金属缓冲垫片之间具有一定的粘连性，导致对晶圆形成一定的吸附作用，在进行晶圆传输时，可能会使晶圆发生形变或者滑动移位，对晶圆位置产生影响，从而影响晶圆位置测量的精准度。

实施例1

请参阅图1-5，本发明实施例中，一种晶圆位置的监测装置，包括承载晶圆的工作台20、带动所述工作台20移动的移动机构10以及获取晶圆位置的监测组件；所述工作台20包括容纳晶圆的台体21、转动安装在所述台体21中的转盘22以及对所述台体21进行支撑的支撑柱41，所述台体21位于所述转盘22的周侧对称安装有至少两个转动限位组件30，转动限位组件30用于限制放入台体21中晶圆的窜动，所述窜动包括晶圆在台体21内部左右移动以及在台体21内部转动，以确保晶圆圆心与台体21中心始终重合，使晶圆在跟随工作台20移动过程中保持位置，确保晶圆位置实时监测结果的准确度；

所述转动限位组件30包括安装架31和安装于所述安装架31上的防滑板32，所述防滑板32朝向台体21中心设置，所述安装架31通过连接滑块33滑动安装在所述台体21上；所述支撑柱41的内部设有驱动轴42，所述驱动轴42的下侧设有环形凸沿423，所述转盘22的中心处滑动安装有支撑台23，所述支撑台23的下端与所述驱动轴42固定连接，放置于台体21上的晶圆在自身重力作用下挤压所述支撑台23以带动支撑台23和驱动轴42向下移动；所述支撑柱41的侧边处滑动安装有与所述安装架31相对应的升降座46，所述升降座46的外侧与所述安装架31通过连接杆48连接，升降座46的内侧连接在所述环形凸沿423的底部，驱动轴42向下移动是通过环形凸沿423控制升降座46向下移动，升降座46通过连接杆48拉动连接滑块33在台体21上滑动，以带动安装架31在台体21上滑动，缩小转动限位组件30与晶圆之间的距离，使防滑板32与晶圆侧边抵接，在左右两个转动限位组件30同时作用下，使晶圆放置在台体21的中心，并且有效防止晶圆窜动；

为了使连接滑块33的下侧能够与连接杆48连接，所述台体21上开设有供所述连接滑块33滑动的第一通槽，连接滑块33滑动安装在所述通槽中，连接滑块33的上侧与所述安装架31固定连接，连接滑块33的下侧与连接杆48的一端转动连接，以使连接滑块33带动所述安装架31沿通槽滑动；

还有，在本发明实施例中，所述支撑柱41的下侧开设有下腔室，所述支撑柱41的侧壁上竖直开设有第二通槽，所述升降座46滑动安装在第二通槽上，且升降座46的一侧穿过所述第二通槽伸入下腔室内部，升降座46的另一侧与所述连接杆48的另一端转动连接，设有环形凸沿423的驱动轴42的下侧段伸入所述下腔室内部，环形凸沿423与所述升降座46连接，驱动轴42在支撑柱41内部上下滑动时带动升降座46沿第二通槽上下滑动，升降座46向下滑动过程中通过连接杆48拉动连接滑块33向内（朝向晶圆）滑动，升降座46向上滑动过程中通过连接杆48向外（远离晶圆）滑动。

请参阅图4，在本发明实施例中，所述安装架31的内部开设有滑动槽，所述防滑板32通过限位块34滑动安装在所述滑动槽内部，且防滑板32的侧边通过限位弹簧35与滑动槽连接，与防滑板32抵接的晶圆在工作台20内部转动时，防滑板32在自身摩擦力和限位弹簧35弹力作用下迫使晶圆停止转动，以使晶圆在工作台20上保持位置；另外，需要说明的是，所述滑动槽为弧形槽，且与所述第一通槽垂直设置，以使防滑板32能够限制晶圆转动。

请参阅图1和6，所述移动机构10包括机架11、转动安装在所述机架11上的调节丝杆12以及滑动安装在所述机架11上的移动座13，所述调节丝杆12上螺纹连接有螺纹套筒，所述螺纹套筒与所述移动座13固定连接，所述移动座13与所述支撑柱41固定连接，驱动调节丝杆12旋转，以带动螺纹套筒和移动座13沿机架11滑动，调节支撑柱41、工作台20以及放置在工作台20中的晶圆位置；

进一步的，在本发明实施例中，所述机架11的一侧还固定安装有带动所述调节丝杆12转动的驱动电机16。

在本发明实施例中，所述监测组件包括固定安装在机架11一侧的第一接收器14、固定安装在移动座13一侧的第一发送器18以及固定安装在机架11另一侧的第二接收器17和固定安装在移动座13另一侧的第二发送器15，所述第一发送器18与第一接收器14相适配，第二发送器15与第二接收器17相适配，发送器与接收器之间通过发送和接收测距介质以获取两者之间的距离，例如超声波测距仪的一对发送器和接收器通过超声波的发送和接收时差来测量两者的实时距离；

需要说明的是，晶圆的实时位置不仅依赖于发送器和接收器之间的实时距离，还与晶圆与发送器之间的距离有关，本实施例中，台体21、支撑柱41和移动座13同心设置，当晶圆始终保持位置不变时，晶圆与发送器之间的距离是恒定的，那么晶圆的实时位置只需通过发送器和接收器之间的实时距离来进行计算即可。

请参阅图2-3，所述支撑柱41与所述台体21固定连接，所述台体21上转动安装有转盘22，可以理解的是，放入台体21中的晶圆实际上摆放在转盘22上；所述转盘22的表面均匀设置有若干吸水棉24，晶圆放入台体21后带动支撑台23向下滑动，在支撑台23下降过程中，吸水棉24逐渐与晶圆底部接触，吸收晶圆底部残留的液体，例如清洗液残留物，需要说明的是，所述吸水棉24具有一定厚度的弹性吸水面层，晶圆放置在转盘22后挤压吸水棉24，以使吸水棉24表面积增大，从而增加了吸水棉24的吸水效果；

进一步的，所述支撑柱41的上部开设有上腔体，所述转盘22的底部固定安装有驱动齿轮44，所述驱动轴42的上侧设置有螺纹段，所述螺纹段上螺纹连接有螺套，所述螺套上固定安装有从动齿轮45，所述从动齿轮45通过辅助齿轮43传动连接，驱动轴42在支撑台23压力作用下向下移动，使驱动轴42的螺纹段带动螺套和从动齿轮45旋转，进而通过辅助齿轮43带动驱动齿轮44旋转，最后带动转盘22以及设置在所述转盘22上的吸水棉24旋转，使晶圆下压支撑台23向下移动的过程中改变吸水棉24的位置，从而提高吸水棉24的吸水效率，增强吸水棉24的吸水效果，彻底清除晶圆底部残留的液体。

需要说明的是，所述转盘22的中心处开设有供所述支撑台23上下滑动的开口，以使支撑台23穿过转盘22与驱动轴42的上端连接。

还有，在本发明实施例中，所述辅助齿轮43包括第一齿轮和第二齿轮，所述第一齿轮和第二齿轮通过同一根连接轴转动安装在上腔体的内部，且第一齿轮与驱动齿轮44啮合，第二齿轮与从动齿轮45啮合。

另外，还需要说明的是，所述上腔体的内部还设置有对限制所述螺套移动的支撑件411，所述支撑组件411可选用滚珠轴承。

请再次参阅图3，所述支撑柱41的中间位置处开设有连接腔体，所述驱动轴42位于连接腔体的内部固定安装有滑套422，所述滑套422的上下两侧通过辅助弹簧与连接腔体的内壁连接，驱动轴42向下移动时，滑套422挤压所述辅助弹簧，使辅助弹簧具有一定的弹性势能，晶圆从台体21上取走后，辅助弹簧失去收到的挤压力并释放弹性势能，带动驱动轴42复位。

实施例2

本发明还公开了一种晶圆载台，所述晶圆载台包括如实施例1所述的晶圆位置的监测装置，该晶圆载台与实施例1的不同之处在于，还包括有高度限位组件50，如图6-8所示，所述高度限位组件50包括安装在所述台体21侧边的安装座以及转动安装在所述安装座上的压板51，所述压板51上固定安装有转轴52，所述安装座位于转轴52的左右两侧对称设置有两个轴承座53，所述转轴52与所述轴承座53转动连接；所述轴承座53的内部开设有弧形槽532，弧形槽532的内部滑动安装有滑块534，滑块534上开设有卡槽，转轴52的端头处设置有与所述卡槽相适配的卡块，滑块534沿弧形槽532滑动时带动所述转轴52旋转；所述滑块534通过连接弹簧533与弧形槽532连接，滑块534由铁质材料制成，所述弧形槽532的下部设置有电磁铁535，对所述电磁铁535通电，电磁铁535吸引所述滑块534向弧形槽532的下部滑动，以带动压板51向下转动，使压板51贴合晶圆表面，对晶圆进行固定，防止晶圆在移动过程中受外力上下窜动；

进一步的，在本发明实施例中，所述连接弹簧533包括第一弹簧和第二弹簧，所述滑块534的上部通过第一弹簧与弧形槽532的上部连接，滑块534的下部通过第二弹簧与弧形槽532的下部连接，在初始状态时，所述第一弹簧处于收缩状态，第二弹簧处于伸长状态，第一弹簧拉动滑块534向弧形槽532上部滑动一端距离，使压板51向上翘起，以便晶圆放入台体21中，当电磁铁535通电后，滑块534在电磁铁535的吸力作用下向弧形槽532的下部滑动，使压板51由翘起状态旋转至下压状态；

还有，在本发明实施例中，如图3所示，所述下腔体的底部设置有控制电磁铁535通断电的按钮47，所述按钮47与电磁铁535的电源电连接，当驱动轴42向下移动至最下侧时挤压按钮47，以使按钮47控制电源对电磁铁535供电，驱动轴42上升后，按钮47复位，电磁铁535断电。

综上所述，本发明在承载晶圆的工作台上设置转动限位组件对晶圆进行限位，使晶圆在跟随工作台移动过程中保持位置不变，避免晶圆窜动，提高晶圆移动的稳定性的同时解决现有技术中由于晶圆移动而产生的测量误差的问题，提高了晶圆位置的监测精度；还在工作台上设置有高度限位组件，防止晶圆移动过程中收到外力与工作台脱落，进一步提高晶圆移动的稳定性，确保晶圆移动过程中不受损坏，提高晶圆后续加工的良品率。

对于本领域技术人员而言，显然本发明不限于上述示范性实施例的细节，而且在不背离本发明的精神或基本特征的情况下，能够以其他的具体形式实现本发明。因此，无论从哪一点来看，均应将实施例看作是示范性的，而且是非限制性的，本发明的范围由所附权利要求而不是上述说明限定，因此旨在将落在权利要求的等同要件的含义和范围内的所有变化囊括在本发明内。不应将权利要求中的任何附图标记视为限制所涉及的权利要求。

此外，应当理解，虽然本说明书按照实施方式加以描述，但并非每个实施方式仅包含一个独立的技术方案，说明书的这种叙述方式仅仅是为清楚起见，本领域技术人员应当将说明书作为一个整体，各实施例中的技术方案也可以经适当组合，形成本领域技术人员可以理解的其他实施方式。

Claims (10)

1.一种晶圆位置的监测装置，其特征在于，包括：

用于承载晶圆的工作台（20），所述工作台（20）包括台体（21）、转动安装在所述台体（21）中的转盘（22）以及对所述台体（21）进行支撑的支撑柱（41），其中：

所述台体（21）位于所述转盘（22）的周侧对称安装有至少两个转动限位组件（30）；所述转动限位组件（30）包括安装架（31）和安装于所述安装架（31）上的防滑板（32），所述安装架（31）通过连接滑块（33）滑动安装在所述台体（21）上；

所述支撑柱（41）的内部设有驱动轴（42），所述驱动轴（42）的下侧设有环形凸沿（423），所述转盘（22）的中心处滑动安装有支撑台（23），所述支撑台（23）的下端与所述驱动轴（42）固定连接；所述支撑柱（41）的侧边处滑动安装有与所述安装架（31）相对应的升降座（46），所述升降座（46）的外侧与所述安装架（31）通过连接杆（48）连接，升降座（46）的内侧连接在所述环形凸沿（423）的底部；

还包括有：

带动所述工作台（20）移动的移动机构（10）；以及

用于获取该晶圆位置的监测组件，所述监测组件包括第一接收器（14）、第一发送器（18）以及第二接收器（17）和第二发送器（15）。

2.根据权利要求1所述的晶圆位置的监测装置，其特征在于，所述台体（21）上开设有供所述连接滑块（33）滑动的第一通槽，连接滑块（33）滑动安装在所述通槽中，连接滑块（33）的上侧与所述安装架（31）固定连接，连接滑块（33）的下侧与连接杆（48）的一端转动连接。

3.根据权利要求2所述的晶圆位置的监测装置，其特征在于，所述支撑柱（41）的下侧开设有下腔室，所述支撑柱（41）的侧壁上竖直开设有第二通槽，所述升降座（46）滑动安装在第二通槽上，且升降座（46）的一侧穿过所述第二通槽伸入下腔室内部，升降座（46）的另一侧与所述连接杆（48）的另一端转动连接。

4.根据权利要求1所述的晶圆位置的监测装置，其特征在于，所述安装架（31）的内部开设有滑动槽，所述防滑板（32）通过限位块（34）滑动安装在所述滑动槽内部，且防滑板（32）的侧边通过限位弹簧（35）与滑动槽连接。

5.根据权利要求1所述的晶圆位置的监测装置，其特征在于，所述移动机构（10）包括机架（11）、转动安装在所述机架（11）上的调节丝杆（12）以及滑动安装在所述机架（11）上的移动座（13），所述调节丝杆（12）上螺纹连接有螺纹套筒，所述螺纹套筒与所述移动座（13）固定连接，所述移动座（13）与所述支撑柱（41）固定连接。

6.根据权利要求1所述的晶圆位置的监测装置，其特征在于，所述支撑柱（41）与所述台体（21）固定连接，所述台体（21）上转动安装有转盘（22），所述转盘（22）的表面均匀设置有若干吸水棉（24），所述吸水棉（24）具有弹性吸水面层。

7.根据权利要求6所述的晶圆位置的监测装置，其特征在于，所述支撑柱（41）的上部开设有上腔体，所述转盘（22）的底部固定安装有驱动齿轮（44），所述驱动轴（42）的上侧设置有螺纹段，所述螺纹段上螺纹连接有螺套，所述螺套上固定安装有从动齿轮（45），所述从动齿轮（45）通过辅助齿轮（43）传动连接。

8.根据权利要求7所述的晶圆位置的监测装置，其特征在于，所述辅助齿轮（43）包括第一齿轮和第二齿轮，所述第一齿轮和第二齿轮通过同一根连接轴转动安装在上腔体的内部，且第一齿轮与驱动齿轮（44）啮合，第二齿轮与从动齿轮（45）啮合。

9.一种晶圆载台，包括如权利要求1-8任一所述的晶圆位置的监测装置，其特征在于，还包括有高度限位组件（50），所述高度限位组件（50）包括安装在所述台体（21）侧边的安装座以及转动安装在所述安装座上的压板（51），所述压板（51）上固定安装有转轴（52），所述安装座位于转轴（52）的左右两侧对称设置有两个轴承座（53），所述转轴（52）与所述轴承座（53）转动连接；所述轴承座（53）的内部开设有弧形槽（532），弧形槽（532）的内部滑动安装有滑块（534），滑块（534）上开设有卡槽，转轴（52）的端头处设置有与所述卡槽相适配的卡块；所述滑块（534）通过连接弹簧（533）与弧形槽（532）连接，滑块（534）由铁质材料制成，所述弧形槽（532）的下部设置有电磁铁（535）。

10.根据权利要求9所述的晶圆载台，其特征在于，所述连接弹簧（533）包括第一弹簧和第二弹簧，所述滑块（534）的上部通过第一弹簧与弧形槽（532）的上部连接，滑块（534）的下部通过第二弹簧与弧形槽（532）的下部连接；下腔体的底部设置有控制电磁铁（535）通断电的按钮（47），所述按钮（47）与电磁铁（535）的电源电连接。

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