CN115613001A - 镀膜筒体和镀膜筒体的使用方法 - Google Patents
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Abstract
本公开涉及一种镀膜筒体和镀膜筒体的使用方法,包括底座、张紧组件和筒壁,其中张紧组件包括多个调节杆、多个张紧杆和驱动件,多个调节杆水平延伸地设置在底座上,多个调节杆以底座的中心为辐射点,呈辐射状均匀地围绕底座布置,多个张紧杆一一对应地设置在多个调节杆上,张紧杆竖直设置且配置为沿调节杆的延伸方向移动,驱动件设置在底座上,用于驱动多个张紧杆沿调节杆的延伸方向移动,筒壁围合在多个张紧杆的外周并被张紧杆抵顶,以形成多边形横截面。通过上述技术方案,针对不同尺寸的平面产品,镀膜筒体能够被调节成不同形状或者是在原有形状的基础上进行等比例进行缩放调节,提高磁控溅射镀膜作业的效率。
Description
技术领域
本公开涉及光学镀膜领域,具体地,涉及一种镀膜筒体和镀膜筒体的使用方法。
背景技术
在对平面产品进行磁控溅射镀膜时,正多边形筒体作为固定平面产品的栽体,平面产品会附着在正多边形筒体的外表面上,并随着正多边形筒体绕着固有中心旋转,在正多边形筒体旋转同时,位于正多边形通体外侧的镀膜靶材会向外溅射出离子,作用在平面产品镀膜表面上形成膜层,靶材与平面产品间的距离即靶基距。不同光学膜层都对应有一个最优的靶基距区间。相关技术中,正多边形筒体多为固定式,无法主动调整靶基距,需要对不同的平面产品进行磁控溅射镀膜作业时,必须整体更换正多边形筒体才能实现靶基距调整。
发明内容
本公开的第一个目的是提供一种镀膜筒体,以解决相关技术中需要对不同的平面产品进行磁控溅射镀膜作业时靶基距难以调整的问题。
为了实现上述目的,本公开提供一种镀膜筒体,包括:
底座;
张紧组件,包括:
多个调节杆,水平延伸地设置在所述底座上,所述多个调节杆以所述底座的中心为辐射点,呈辐射状均匀地围绕所述底座布置;和
多个张紧杆,一一对应地设置在所述多个调节杆上,所述张紧杆竖直设置且配置为沿所述调节杆的延伸方向移动;
驱动件,设置在所述底座上,用于驱动多个所述张紧杆沿所述调节杆的延伸方向移动;以及
筒壁,围合在所述多个张紧杆的外周并被所述张紧杆抵顶,以形成多边形横截面。
可选地,所述驱动件具有轴线竖直的可转动的主轴,以及同轴设置在所述主轴上的第一圆锥齿轮;
所述调节杆的一端设置有能够与所述第一圆锥齿轮配合的轴线水平的第二圆锥齿轮,所述调节杆的外周设置有外螺纹,所述张紧杆上设置有能够与螺纹配合的第一螺纹孔,所述驱动件被配置为通过所述第一圆锥齿轮的转动而驱动所述第二圆锥齿轮转动,以使得所述张紧杆能够沿所述调节杆的延伸方向移动。
可选地,所述调节杆包括通过离合器同轴连接的第一杆体和第二杆体,所述第二圆锥齿轮设置在所述第一杆体上,所述外螺纹形成于所述第二杆体。
可选地,所述驱动件为手轮或者电机,所述手轮的手轮轴或者所述电机的输出轴形成为所述主轴。
可选地,所述底座包括用于安装并固定所述底座的基座以及从所述基座外周向外水平延伸的多个支撑台,所述多个支撑台一一对应地设置在所述多个调节杆下。
可选地,所述张紧杆下端向下延伸形成有凸起,所述支撑台上沿所述调节杆的延伸方向开设有与所述凸起配合的滑槽。
可选地,所述支撑台沿所述调节杆的延伸方向上设置有多个轴承座,所述轴承座中的轴承套设在所述调节杆上,用于支撑并固定所述调节杆。
可选地,所述支撑台上开设有沿所述调节杆的延伸方向设置的第一刻度标识。
可选地,所述筒壁为被卷绕成筒状的钢带,所述钢带在卷绕方向上的两端向内弯折并贴合以形成有用于保持所述筒壁的形状的固定部。
可选地,所述固定部的两侧分别设置有竖直贴合于所述固定部的压板,所述压板上开设有第二螺纹孔,所述固定部上开设有沿卷绕方向延伸的长条孔,所述固定部和两个所述压板通过穿过两个所述第二螺纹孔、所述长条孔的螺纹紧固件相连接。
可选地,所述底座还包括设置在相对于所述压板沿所述底座的径向的对侧位置的配重块,用于确保所述镀膜筒体在转动过程中的动平衡。
可选地,所述钢带上开设有沿所述卷绕方向间隔设置的第二刻度标识。
可选地,所述钢带为薄壁型板材,厚度为0.1mm-0.5mm。
可选地,所述张紧杆上设置有竖直延伸的抵顶件,所述抵顶件具有用于抵顶所述筒壁的尖锐边缘。
本公开的第二个目的是提供一种针对上述中任意一项所述的镀膜筒体的使用方法,所述方法包括:
获取待镀膜产品的宽度K和厚度H;
根据所述镀膜筒体的安装位置获取镀膜靶材到待镀膜产品表面的靶基距R1以及所述镀膜靶材到所述镀膜筒体的中心的距离X;
根据所述宽度K确定所述多边形横截面的理论边长L,其中L>K;
根据所述靶基距R1、所述厚度H、所述距离X和所述理论边长L确定所述多边形横截面的理论外接圆半径R,其中
根据所述理论边数N1确定所述多边形横截面的实际边数N,其中N取小于或等于N1的最大正整数;以及
驱动等间隔布置的数量为N的所述张紧杆移动,使每根所述张紧杆至所述底座中心的距离为R;以及
使所述筒壁围合在N根所述多个张紧杆的外周,以所述张紧杆为端点形成正N边形。
可选地,在所述使所述筒壁围合在N根所述多个张紧杆的外周,以所述张紧杆为端点形成正N边形的步骤,所述方法包括:
通过上述技术方案,底座用于安装镀膜筒体并且承载张紧组件和驱动部,驱动部使得张紧组件中的张紧杆沿调节杆的延伸方向移动,同时张紧杆抵顶筒壁以形成多边形横截面,因此镀膜筒体能够被调节成不同形状或者是在原有形状的基础上进行等比例进行缩放调节,在对不同尺寸的平面产品进行磁控溅射镀膜时,可以根据平面产品的尺寸不同来调节所需要的镀膜筒体的形状,而不需要更换整个镀膜筒体,提高磁控溅射镀膜作业的效率,并且也不再需要针对每种平面产品都生产相应的镀膜筒体,减少了磁控溅射镀膜的作业的成本。
本公开的其他特征和优点将在随后的具体实施方式部分予以详细说明。
附图说明
附图是用来提供对本公开的进一步理解,并且构成说明书的一部分,与下面的具体实施方式一起用于解释本公开,但并不构成对本公开的限制。在附图中:
图1是本公开示例性实施方式提供的镀膜筒体的结构示意图;
图2是本公开示例性实施方式提供的镀膜筒体中底座的结构示意图;
图3是本公开示例性实施方式提供的镀膜筒体中张紧组件的结构示意图;
图4是图3中A部分的放大图;
图5是本公开示例性实施方式提供的镀膜筒体中张紧杆的结构示意图;
图6是本公开示例性实施方式提供的镀膜筒体中筒壁的结构示意图;
图7是图6中B部分的放大图;
图8是本公开示例性实施方式提供的镀膜筒体中多边形横截面的示意图;
图9是本公开示例性实施方式提供的镀膜筒体的使用方法的流程框图。
附图标记说明
1-底座,11-基座,12-支撑台,13-滑槽,14-轴承座,15-第一刻度标识,16-配重块,2-张紧组件,21-调节杆,211-第二圆锥齿轮,212-第一杆体,213-第二杆体,214-离合器,22-张紧杆,221-第一螺纹孔,222-凸起,223-抵顶件,3-驱动件,31-第一圆锥齿轮,4-筒壁,41-钢带,42-固定部,421-压板,422-第二螺纹孔,423-长条孔,43-第二刻度标识,5-待镀膜产品,6-镀膜靶材,7-多边形横截面。
具体实施方式
以下结合附图对本公开的具体实施方式进行详细说明。应当理解的是,此处所描述的具体实施方式仅用于说明和解释本公开,并不用于限制本公开。
在本公开中,在未作相反说明的情况下,使用的方位词如“上、下、顶、底”通常是指以相关部件在实际使用状态的方位。“内、外”是指相应部件轮廓的内和外。另外,下面的描述涉及附图时,除非另有表示,不同附图中的相同数字表示相同或相似的要素。本公开中使用的术语“第一”、“第二”等是为了区别一个要素和另一个要素,不具有顺序性和重要性。
本公开提供一种镀膜筒体和镀膜筒体的使用方法,如图1至图7所示,镀膜筒体包括底座1、张紧组件2和筒壁4,其中张紧组件2包括多个调节杆21、多个张紧杆22和驱动件3,多个调节杆21水平延伸地设置在底座1上,多个调节杆21以底座1的中心为辐射点,呈辐射状均匀地围绕底座1布置,多个张紧杆22一一对应地设置在多个调节杆21上,张紧杆22竖直设置且配置为沿调节杆21的延伸方向移动,驱动件3设置在底座1上,用于驱动多个张紧杆22沿调节杆21的延伸方向移动,筒壁4围合在多个张紧杆22的外周并被张紧杆22抵顶,以形成多边形横截面7。
通过上述技术方案,底座1用于安装镀膜筒体并且承载张紧组件2和驱动部,驱动部使得张紧组件2中的张紧杆22沿调节杆21的延伸方向移动,同时张紧杆22抵顶筒壁4以形成多边形横截面7,因此镀膜筒体能够被调节成不同形状或者是在原有形状的基础上进行等比例进行缩放调节,在对不同尺寸的平面产品进行磁控溅射镀膜时,可以根据平面产品的尺寸不同来调节所需要的镀膜筒体的形状,而不需要更换整个镀膜筒体,提高磁控溅射镀膜作业的效率,并且也不再需要针对每种平面产品都生产相应的镀膜筒体,减少了磁控溅射镀膜的作业的成本。
当多个张紧杆22同时沿调节杆21的延伸方向移动时,表示镀膜筒体在原有形状的基础上进行等比例进行缩放,当部分张紧杆22沿调节杆21的延伸方向移动时,表示镀膜筒体被调节成不同形状。
驱动件3可以具有轴线竖直的可转动的主轴,以及同轴设置在主轴上的第一圆锥齿轮31,调节杆21的一端可以设置有能够与第一圆锥齿轮31配合的轴线水平的第二圆锥齿轮211,调节杆21的外周可以设置有外螺纹,张紧杆22上可以设置有能够与螺纹配合的第一螺纹孔221,驱动件3被配置为通过第一圆锥齿轮31的转动而驱动第二圆锥齿轮211转动以使得张紧杆22能够沿调节杆21的延伸方向移动。圆锥齿轮的传动方式能够应用于主轴与调节杆21之间的夹角为90°的情况,同时传动过程平稳并且承载能力强,还具有比较可靠的操控性,调节位置时能够更加精准,减少误差的出现。第一螺纹孔221和调节杆21外周的外螺纹形成丝杠传动,保证传动精度和传动效率,将调节杆21的旋转运动转化为张紧杆22沿调节杆21的延伸方向的直线运动,通过改变主轴的转动方向调节张紧杆22在调节杆21的延伸方向的位置。
进一步地,根据圆锥齿轮的特性,调节杆21和第二圆锥齿轮211可以非水平设置以满足不同的安装环境,此时调节杆21与主轴之间的夹角可以略小于90°,这样可以通过改变第一圆锥齿轮31和/或第二圆锥齿轮211的分锥角和/或齿形进行适应性调节,以保证第一圆锥齿轮31和第二圆锥齿轮211之间的相互啮合。
参照图4,调节杆21可以包括通过离合器214同轴连接的第一杆体212和第二杆体213,第二圆锥齿轮211设置在第一杆体212上,外螺纹形成于第二杆体213。离合器214可以切断第一杆体212与第二杆体213之间的传动,当需要部分张紧杆22沿调节杆21的延伸方向移动以改变镀膜筒体的形状时,可以控制离合器214将部分调节杆21中第一杆体212与第二杆体213之间的传动切断,以实现对部分张紧杆22位置的调节。
同时切断第一杆体212与第二杆体213之间的传动还使得上述镀膜筒体的形状在使用过程中不易变化,上述镀膜筒体在作业时,需要整体转动,在转动的过程中,驱动件3的主轴会因为震动而发生误转动,从而改变张紧杆22的位置,造成镀膜筒体形状上的误差。因此,当镀膜筒体的形状确定好后,可以将调节杆21上第一杆体212与第二杆体213之间的传动切断,作业时主轴的误转动不会传动给张紧杆22,使得张紧杆22的位置在作业时是不变的,镀膜筒体的形状也不会产生误差。
驱动件3可以为手轮或者电机,手轮的手轮轴或者电机的输出轴形成为主轴。驱动件3为手轮时,可以通过人工进行镀膜筒体形状的调节,驱动件3为电机时,可以自动化地进行镀膜筒体形状的调节,以满足多种作业环境。还可以同时将手轮与电机相结合,即电机的输出轴上安装有可以手动控制输出轴的手轮,这样当电机出现故障时可以通过转动输出轴上的手轮来调节张紧杆22的位置。
根据一些实施例,底座1可以包括用于安装并固定底座1的基座11以及从基座11外周向外水平延伸的多个支撑台12,多个支撑台12一一对应地设置在多个调节杆21下。基座11保证镀膜筒体的安装与固定,同时支撑台12用于支撑调节杆21,如图1所示,相比于将底座1直接做成一整块底板,具有基座11和支撑台12的设计能够减轻底座1的重量,方便上述镀膜筒体的拆装与搬运。
进一步地,张紧杆22下端可以向下延伸形成有凸起222,支撑台12上沿调节杆21的延伸方向可以开设有与凸起222配合的滑槽13。滑槽13和凸起222相互配合能够对张紧杆22的移动起到限位作用,确保张紧杆22的移动轨迹不会发生偏差,凸起222的底面还能够与滑槽13的槽底接触,能够支撑张紧杆22,保证张紧杆22的安装强度。
此外,支撑台12沿调节杆21的延伸方向上设置有多个轴承座14,轴承座14中的轴承套设在调节杆21上,用于支撑并固定调节杆21。轴承座14能够在不影响调节杆21转动的情况下能够固定调节杆21的位置,调节杆21可以与轴承座14中的轴承过盈配合,确保整个张紧组件2在作业过程中的稳定性。同时多个轴承座14还能够起到定位作用,在调节杆21安装时,多个轴承座14、调节杆21、第二圆锥齿轮211需要同轴线设置,保证调节杆21的方向不会偏移。轴承座14的安装位置应该避开滑槽13,避免张紧杆22与轴承座14发生干涉。
支撑台12上可以开设有沿调节杆21的延伸方向设置的第一刻度标识15。通过第一刻度标识15能够更加准确地判断张紧杆22的位置。第一刻度标识15可以开设在滑槽13的边沿,在凸起222与滑槽13配合时,凸起222的边缘能够贴合滑槽13的边沿,能够准确地判断此时张紧杆22的位置。
如图6和图7所示,筒壁4可以为被卷绕成筒状的钢带41,钢带41在卷绕方向上的两端向内弯折并贴合以形成有用于保持筒壁4的形状的固定部42。由于钢带41需要被卷绕成筒状,因此卷绕方向更趋近于周向,具体可以参照图1中所示出的卷绕方向。面状贴合的固定部42回更牢固地保持筒壁4的形状,筒壁4不容易变形或者松散。钢带41的两端向内弯折以形成固定部42,也不会影响到筒壁4的外表面安装待镀膜产品5,也避免了空间的浪费。
其中,固定部42的两侧可以分别设置有竖直贴合于固定部42的压板421,压板421上开设有第二螺纹孔422,固定部42上开设有沿卷绕方向延伸的长条孔423,即钢带41沿卷绕方向的两端均开设有长条孔423,固定部42和两个压板421通过穿过两个第二螺纹孔422、长条孔423的螺纹紧固件相连接。需指出,图7中隐藏掉了部分压板421的结构,以清晰展示第二螺纹孔422处的结构。压板421使得固定部42相互贴合并通过螺栓紧固件将两个压板421固定,确保固定部42不会松动导致筒壁4形状发生改变。长条孔423能够调节固定部42的尺寸,进而可以改变筒壁4的周长,进一步增加了泛用性。钢带41上开设有沿卷绕方向间隔设置的第二刻度标识43。第二刻度标识43可以沿卷绕方向延伸,以更好地确定筒壁4的周长。
底座1还可以包括设置在相对于压板421沿底座1的径向的对侧位置的配重块16,用于确保镀膜筒体在转动过程中的动平衡。配重块16的重量应该与压板421、固定部42和安装用的螺栓紧固件的重量之和相同,如果不设置有配重块16,当上述镀膜筒体转动时难以保持匀速转动,并且转动过程中也难以保持平稳,不仅增加了转动过程中的噪音,还会加剧转动零件的磨损。
钢带41被卷绕成筒状后需要被张紧杆22抵顶以形成多边形横截面7,因此钢带41的材质与厚度需要容易卷绕并且容易改变形状,因此钢带41的材质可以为薄壁型板材,其厚度可以为0.1mm-0.5mm。这样筒壁4在使用时产生的折痕也会更容易复原,使得钢带41能够多次重复性使用,进一步节约成本。
在一些实施方式中,张紧杆22上可以设置有竖直延伸的抵顶件223,抵顶件223具有用于抵顶筒壁4的尖锐边缘。抵顶件223使得筒壁4的形状更趋近于多边形横截面7的形状,满足镀膜筒体的使用条件。
参照图8和图9,本公开的第二个目的是提供一种针对上述中任一实施方式的镀膜筒体的使用方法,需要说明的是,在不矛盾的情况下,下面的各个步骤的顺序可以互换,例如步骤S102可以在步骤S101之前进行。
本实施例提供的方法中,在步骤S101,获取待镀膜产品5的宽度K和厚度H。
在步骤S102,根据镀膜筒体的安装位置获取镀膜靶材6到待镀膜产品5表面的靶基距R1以及镀膜靶材6到镀膜筒体的中心的距离X。当待镀膜产品5以及工作环境确定的情况下,上述信息均为能够直接获取的状态。
在步骤S103,根据宽度K确定多边形横截面7的理论边长L,其中L>K,该理论边长为镀膜筒体的用于贴设待镀膜产品5的表面边长,在镀膜筒体的横截面为正多边形的情况下,每条边的理论边长相同。多个待镀膜产品5在安装在镀膜筒体表面时,需要与镀膜筒体的棱边有一定间距,理论边长L实际上是宽度K与间距之和,对于间距的取值,可以根据待镀膜产品5的尺寸进行选择。
在步骤S106,根据理论边数N1确定多边形横截面7的实际边数N,其中N取小于或等于N1的最大正整数。进一步地,实际边数N可以取6的倍数,考虑到镀膜筒体最终要形成正棱柱状的结构,由于张紧组件2安装位置、安装条件以及自身宽度的影响,同时还需要尽可能多的设置张紧组件2以提高镀膜作业的效率,因此实际边数N可以取6的倍数以使得镀膜筒体形成正六棱柱或者正十二棱柱等最佳。
N如果取大于N1的正整数,可能会使得下述计算出的实际边长L1小于理论边长L,导致待镀膜产品5无法安装。
在步骤S107,驱动等间隔布置的数量为N的张紧杆22移动,使每根张紧杆22至底座1中心的距离为R。
在步骤S108,使筒壁4围合在N根多个张紧杆22的外周,以张紧杆22为端点形成正N边形。进一步地,在使筒壁4围合在N根多个张紧杆22的外周,以张紧杆22为端点形成正N边形的步骤中,可以根据理论外接圆半径R和实际边数N确定多边形横截面7的边长L1和周长C,其中C=N*L1。移动张紧杆22时可以通过第一刻度标识15进行调节,确定周长C后,筒壁4可以通过第二刻度标识43先进行调节,形成用于镀膜作业所需要的镀膜筒体。
在本公开的镀膜筒体的使用方法中,通过理论数值计算得出的实际数值,不要求几何意义上的绝对匹配,允许有误差的存在,只要能够大致满足上述镀膜筒体的使用即可。以边长L1为例,若L1根据公式计算得出的数值为小数,可以将边长取值为大于或等于L的最大正整数,更便于钢带41的生产与调节。
此外,张紧杆22的数量可以大于N布置,便于适应多种平面产品的镀膜作业,在上述镀膜筒体使用时,可以先将所有的张紧杆22均移动至靠近底座1圆心的位置,断开不需要抵顶筒壁4的张紧杆22的离合器,将需要抵顶筒壁4的张紧杆22移动至距离底座1中心为R的位置,通过调节张紧杆22的位置就能够满足不同平面产品的使用条件,还避免了与筒壁4等部件发生干涉。
以上结合附图详细描述了本公开的优选实施方式,但是,本公开并不限于上述实施方式中的具体细节,在本公开的技术构思范围内,可以对本公开的技术方案进行多种简单变型,这些简单变型均属于本公开的保护范围。
另外需要说明的是,在上述具体实施方式中所描述的各个具体技术特征,在不矛盾的情况下,可以通过任何合适的方式进行组合,为了避免不必要的重复,本公开对各种可能的组合方式不再另行说明。
此外,本公开的各种不同的实施方式之间也可以进行任意组合,只要其不违背本公开的思想,其同样应当视为本公开所公开的内容。
Claims (15)
1.一种镀膜筒体,其特征在于,包括:
底座;
张紧组件,包括:
多个调节杆,水平延伸地设置在所述底座上,所述多个调节杆以所述底座的中心为辐射点,呈辐射状均匀地围绕所述底座布置;和
多个张紧杆,一一对应地设置在所述多个调节杆上,所述张紧杆竖直设置且配置为沿所述调节杆的延伸方向移动;
驱动件,设置在所述底座上,用于驱动多个所述张紧杆沿所述调节杆的延伸方向移动;以及
筒壁,围合在所述多个张紧杆的外周并被所述张紧杆抵顶,以形成多边形横截面。
2.根据权利要求1所述的镀膜筒体,其特征在于,所述驱动件具有轴线竖直的可转动的主轴,以及同轴设置在所述主轴上的第一圆锥齿轮;
所述调节杆的一端设置有能够与所述第一圆锥齿轮配合的轴线水平的第二圆锥齿轮,所述调节杆的外周设置有外螺纹,所述张紧杆上设置有能够与螺纹配合的第一螺纹孔,
所述驱动件被配置为通过所述第一圆锥齿轮的转动而驱动所述第二圆锥齿轮转动,以使得所述张紧杆能够沿所述调节杆的延伸方向移动。
3.根据权利要求2所述的镀膜筒体,其特征在于,所述调节杆包括通过离合器同轴连接的第一杆体和第二杆体,所述第二圆锥齿轮设置在所述第一杆体上,所述外螺纹形成于所述第二杆体。
4.根据权利要求2所述的镀膜筒体,其特征在于,所述驱动件为手轮或者电机,所述手轮的手轮轴或者所述电机的输出轴形成为所述主轴。
5.根据权利要求1-4中任一项所述的镀膜筒体,其特征在于,所述底座包括基座以及从所述基座外周向外水平延伸的多个支撑台,所述多个支撑台一一对应地设置在所述多个调节杆下,
所述张紧杆下端向下延伸形成有凸起,所述支撑台上沿所述调节杆的延伸方向开设有与所述凸起配合的滑槽。
6.根据权利要求5所述的镀膜筒体,其特征在于,所述支撑台沿所述调节杆的延伸方向上设置有多个轴承座,所述轴承座中的轴承套设在所述调节杆上,用于支撑并固定所述调节杆。
7.根据权利要求5所述的镀膜筒体,其特征在于,所述支撑台上开设有沿所述调节杆的延伸方向设置的第一刻度标识。
8.根据权利要求1所述的镀膜筒体,其特征在于,所述筒壁为被卷绕成筒状的钢带,所述钢带在卷绕方向上的两端向内弯折并贴合,以形成有用于保持所述筒壁的形状的固定部。
9.根据权利要求8所述的镀膜筒体,其特征在于,所述固定部的两侧分别设置有竖直贴合于所述固定部的压板,所述压板上开设有第二螺纹孔,所述固定部上开设有沿卷绕方向延伸的长条孔,所述固定部和两个所述压板通过穿过两个所述第二螺纹孔、所述长条孔的螺纹紧固件相连接。
10.根据权利要求9所述的镀膜筒体,其特征在于,所述底座还包括设置在相对于所述压板沿所述底座的径向的对侧位置的配重块。
11.根据权利要求8所述的镀膜筒体,其特征在于,所述钢带上开设有沿所述卷绕方向间隔设置的第二刻度标识。
12.根据权利要求8所述的镀膜筒体,其特征在于,所述钢带为薄壁型板材,厚度为0.1mm-0.5mm。
13.根据权利要求1所述的镀膜筒体,其特征在于,所述张紧杆上设置有竖直延伸的抵顶件,所述抵顶件具有用于抵顶所述筒壁的尖锐边缘。
14.一种权利要求1-13中任一项所述的镀膜筒体的使用方法,其特征在于,所述方法包括:
获取待镀膜产品的宽度K和厚度H;
根据所述镀膜筒体的安装位置获取镀膜靶材到待镀膜产品表面的靶基距R1以及所述镀膜靶材到所述镀膜筒体的中心的距离X;
根据所述宽度K确定所述多边形横截面的理论边长L,其中L>K;
根据所述理论边数N1确定所述多边形横截面的实际边数N,其中N取小于或等于N1的最大正整数;
驱动等间隔布置的数量为N的所述张紧杆移动,使每根所述张紧杆至所述底座中心的距离为R;以及
使所述筒壁围合在N根所述多个张紧杆的外周,以所述张紧杆为端点形成正N边形。
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Citations (24)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0488165A (ja) * | 1990-07-30 | 1992-03-23 | Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> | スパッタ型イオン源 |
US5540821A (en) * | 1993-07-16 | 1996-07-30 | Applied Materials, Inc. | Method and apparatus for adjustment of spacing between wafer and PVD target during semiconductor processing |
US20060213762A1 (en) * | 2005-02-28 | 2006-09-28 | Nanoset Llc | Cylindrical sputtering apparatus |
JP2009191358A (ja) * | 2008-01-18 | 2009-08-27 | Victor Co Of Japan Ltd | マグネトロンスパッタリング装置 |
US20110062021A1 (en) * | 2009-09-11 | 2011-03-17 | Hon Hai Precision Industry Co., Ltd. | Sputter-coating apparatus |
CN102473578A (zh) * | 2009-07-13 | 2012-05-23 | 应用材料公司 | 溅射系统、可转动筒状靶材组件、衬管、靶材元件和冷却罩 |
CN103388125A (zh) * | 2013-07-19 | 2013-11-13 | 有度功能薄膜材料扬州有限公司 | 一种节能低辐射玻璃立式磁控溅射生产设备 |
CN103498128A (zh) * | 2012-04-29 | 2014-01-08 | 江苏中能硅业科技发展有限公司 | 磁控溅射镀膜装置及镀膜方法 |
CN105671508A (zh) * | 2016-03-31 | 2016-06-15 | 成都西沃克真空科技有限公司 | 一种卷对卷磁控溅射真空镀膜装置 |
CN205474083U (zh) * | 2016-01-28 | 2016-08-17 | 浙江金泽金属表面处理有限公司 | 一种滚镀设备 |
CN107723683A (zh) * | 2017-10-16 | 2018-02-23 | 江苏鲁汶仪器有限公司 | 化学气相沉积镀膜设备 |
CN108588668A (zh) * | 2018-04-28 | 2018-09-28 | 东北大学 | 用于制造柔性基底多层薄膜的卷绕镀膜系统 |
CN108774730A (zh) * | 2018-09-05 | 2018-11-09 | 北京丹鹏表面技术研究中心 | 一种用于真空镀膜的可移出式滚筒装置 |
CN110846632A (zh) * | 2019-12-05 | 2020-02-28 | 浙江工业大学 | 一种卷绕式纤维镀膜磁控溅射装置 |
KR20200100535A (ko) * | 2019-02-18 | 2020-08-26 | 아이원스 주식회사 | 스퍼터용 쉴드 및 그 제조 방법 |
CN111893445A (zh) * | 2019-05-05 | 2020-11-06 | 南昌欧菲显示科技有限公司 | 磁控溅射镀膜装置 |
CN212770930U (zh) * | 2020-07-02 | 2021-03-23 | 深圳市瀚瑞达科技有限公司 | 实验室用的大面积磁控溅射多层膜设备 |
CN213498779U (zh) * | 2020-10-30 | 2021-06-22 | 太原师范学院 | 一种光学玻璃镀膜用固定夹持装置 |
CN214142520U (zh) * | 2020-04-22 | 2021-09-07 | 广东生波尔光电技术有限公司 | 一种可调靶基距的基片装夹装置 |
CN214458296U (zh) * | 2021-03-17 | 2021-10-22 | 深圳市晶联星科技有限公司 | 一种真空镀膜机用自公转伞架 |
CN214655224U (zh) * | 2021-04-30 | 2021-11-09 | 南京埃帕克斯光学有限公司 | 一种真空镀膜夹具 |
CN113755806A (zh) * | 2021-09-10 | 2021-12-07 | 四川旭虹光电科技有限公司 | 反射式磁控溅射镀膜厚度监测装置、镀膜机及方法 |
CN113913768A (zh) * | 2021-10-26 | 2022-01-11 | 上海哈呐技术装备有限公司 | 磁控溅射镀膜设备及镀膜方法 |
CN114717522A (zh) * | 2022-05-12 | 2022-07-08 | 沈阳爱科斯科技有限公司 | 多弧离子镀膜装置 |
-
2022
- 2022-10-26 CN CN202211321667.2A patent/CN115613001B/zh active Active
Patent Citations (24)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0488165A (ja) * | 1990-07-30 | 1992-03-23 | Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> | スパッタ型イオン源 |
US5540821A (en) * | 1993-07-16 | 1996-07-30 | Applied Materials, Inc. | Method and apparatus for adjustment of spacing between wafer and PVD target during semiconductor processing |
US20060213762A1 (en) * | 2005-02-28 | 2006-09-28 | Nanoset Llc | Cylindrical sputtering apparatus |
JP2009191358A (ja) * | 2008-01-18 | 2009-08-27 | Victor Co Of Japan Ltd | マグネトロンスパッタリング装置 |
CN102473578A (zh) * | 2009-07-13 | 2012-05-23 | 应用材料公司 | 溅射系统、可转动筒状靶材组件、衬管、靶材元件和冷却罩 |
US20110062021A1 (en) * | 2009-09-11 | 2011-03-17 | Hon Hai Precision Industry Co., Ltd. | Sputter-coating apparatus |
CN103498128A (zh) * | 2012-04-29 | 2014-01-08 | 江苏中能硅业科技发展有限公司 | 磁控溅射镀膜装置及镀膜方法 |
CN103388125A (zh) * | 2013-07-19 | 2013-11-13 | 有度功能薄膜材料扬州有限公司 | 一种节能低辐射玻璃立式磁控溅射生产设备 |
CN205474083U (zh) * | 2016-01-28 | 2016-08-17 | 浙江金泽金属表面处理有限公司 | 一种滚镀设备 |
CN105671508A (zh) * | 2016-03-31 | 2016-06-15 | 成都西沃克真空科技有限公司 | 一种卷对卷磁控溅射真空镀膜装置 |
CN107723683A (zh) * | 2017-10-16 | 2018-02-23 | 江苏鲁汶仪器有限公司 | 化学气相沉积镀膜设备 |
CN108588668A (zh) * | 2018-04-28 | 2018-09-28 | 东北大学 | 用于制造柔性基底多层薄膜的卷绕镀膜系统 |
CN108774730A (zh) * | 2018-09-05 | 2018-11-09 | 北京丹鹏表面技术研究中心 | 一种用于真空镀膜的可移出式滚筒装置 |
KR20200100535A (ko) * | 2019-02-18 | 2020-08-26 | 아이원스 주식회사 | 스퍼터용 쉴드 및 그 제조 방법 |
CN111893445A (zh) * | 2019-05-05 | 2020-11-06 | 南昌欧菲显示科技有限公司 | 磁控溅射镀膜装置 |
CN110846632A (zh) * | 2019-12-05 | 2020-02-28 | 浙江工业大学 | 一种卷绕式纤维镀膜磁控溅射装置 |
CN214142520U (zh) * | 2020-04-22 | 2021-09-07 | 广东生波尔光电技术有限公司 | 一种可调靶基距的基片装夹装置 |
CN212770930U (zh) * | 2020-07-02 | 2021-03-23 | 深圳市瀚瑞达科技有限公司 | 实验室用的大面积磁控溅射多层膜设备 |
CN213498779U (zh) * | 2020-10-30 | 2021-06-22 | 太原师范学院 | 一种光学玻璃镀膜用固定夹持装置 |
CN214458296U (zh) * | 2021-03-17 | 2021-10-22 | 深圳市晶联星科技有限公司 | 一种真空镀膜机用自公转伞架 |
CN214655224U (zh) * | 2021-04-30 | 2021-11-09 | 南京埃帕克斯光学有限公司 | 一种真空镀膜夹具 |
CN113755806A (zh) * | 2021-09-10 | 2021-12-07 | 四川旭虹光电科技有限公司 | 反射式磁控溅射镀膜厚度监测装置、镀膜机及方法 |
CN113913768A (zh) * | 2021-10-26 | 2022-01-11 | 上海哈呐技术装备有限公司 | 磁控溅射镀膜设备及镀膜方法 |
CN114717522A (zh) * | 2022-05-12 | 2022-07-08 | 沈阳爱科斯科技有限公司 | 多弧离子镀膜装置 |
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Publication number | Publication date |
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