CN115446092A - 层压件辐照处理系统和方法 - Google Patents
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Abstract
本发明公开一种层压件辐照处理系统和方法,层压件辐照处理系统包括辐照机构、冷却装置和废气处理装置,所述辐照机构包括辐照发生器和波导装置,所述波导装置的一端贴合所述辐照发生器,所述波导装置的另一端邻近层压件,所述冷却装置与所述辐照发生器相连,所述废气处理装置与所述辐照机构相连通。本发明提供的一种层压件辐照处理系统具备处理层压件效率高、污染小辐照能量损耗少的优点。
Description
技术领域
本发明涉及固废回收处理技术领域,尤其涉及一种层压件辐照处理系统和方法。
背景技术
层压件结构稳定而复杂在土壤中很难降解,废弃层压件如果只是简单的掩埋处理,将会对土壤环境造成破坏,对生态环境造成极端恶劣的影响,所以回收废旧层压件势在必行。同时,废弃层压件中蕴藏着丰富的二次资源,例如废旧光伏组件作为一种常见层压件,其蕴含钢化玻璃、铜、铝、银以及高纯多晶硅等,具有较高的回收利用价值。此外,晶体硅在生产过程中的能耗较大,晶体硅原料的回收再利用可以有效地降低能耗、减少碳排放量,为碳中和目标添砖加瓦。废旧层压件中的材料种类较多,也难以分离,现有回收处理技术中多采用热分解技术或化学药剂分解,产生大量废气、废液不利于环保,增加了处理成本。
发明内容
本发明旨在至少在一定程度上解决相关技术中的技术问题之一。
为此,本发明的实施例提出一种层压件辐照处理系统,该层压件辐照处理系统具有处理层压件效率高、污染小辐照能量损耗少的优点。
根据本发明实施例的层压件辐照处理系统,层压件辐照处理系统包括辐照机构、冷却装置和废气处理装置,所述辐照机构包括辐照发生器和波导装置,所述波导装置的一端贴合所述辐照发生器,所述波导装置的另一端邻近层压件,所述冷却装置与所述辐照发生器相连,所述废气处理装置与所述辐照机构相连通。
根据本发明实施例的层压件辐照处理系统具有的处理层压件效率高、污染小辐照能量损耗少的优点。
在一些实施例中,层压件辐照处理系统还包括调节机构,所述调节机构用于调节所述层压件相对所述辐照发生器的距离和角度。
在一些实施例中,层压件辐照处理系统还包括控制装置,所述控制装置包括PLC模块,所述PLC模块与所述辐照发生器的电源电连接以调节所述辐照发生器的辐照频率、辐照时长和照射功率。
在一些实施例中,所述废气处理装置包括负压抽吸装置和废气降解机构,所述负压抽吸装置将所述辐照机构的废气送入废气降解机构。
在一些实施例中,所述冷却装置与所述辐照发生器相连,所述冷却装置包括设于辐照发生器的冷却套管。
在一些实施例中,所述辐照发生器包括灯泵浦、发光二极管、射线发生器、电磁波发生器和激光器中的任意一种或多种的组合。
在一些实施例中,所述波导装置包括一个或若干个波导通道,所述波导通道的一端与所述辐照发生器贴合,所述波导通道的另一端邻近所述层压件。
根据本发明实施例的层压件辐照处理方法,层压件辐照处理方法包括以下步骤:将层压件送入层压件辐照处理系统内,调节所述层压件相对所述辐照发生器的距离和角度;启动辐照发生器并辐照所述层压件预设时间;移动所述层压件远离所述辐照发生器,将所述层压件的光吸收层与透光层分离。
在一些实施例中,所述层压件的光吸收层包括高分子材料层。
在一些实施例中,所述辐照发生器产生的辐照的波段包括150nm-400nm波段。
附图说明
图1是根据本发明实施例中层压件辐照处理方法的流程图。
具体实施方式
下面详细描述本发明的实施例,所述实施例的示例在附图中示出。下面通过参考附图描述的实施例是示例性的,旨在用于解释本发明,而不能理解为对本发明的限制。
根据本发明实施例的层压件辐照处理系统,如图1所示,层压件辐照处理系统包括辐照机构、冷却装置和废气处理装置,辐照机构包括辐照发生器和波导装置,辐照发生器产生辐照,波导装置集中辐照能量使其均匀分布于照射对象即层压件上面,波导装置降低了辐照能量损耗,提高了辐照效率,波导装置的一端贴合辐照发生器,波导装置的另一端邻近层压件,冷却装置与辐照发生器相连,冷却装置对辐照发生器进行冷却,保证辐照发生器的工作效率,废气处理装置与辐照机构相连通,废气处理装置将辐照机构内辐照发生器对层压件辐照产生的废气进行抽取并处理,能够避免废气污染环境,实现层压件的环保、高效回收。层压件为废旧光伏组件、液晶面板等具有透光层和光吸收层结构的装置,层压件的光吸收层应包含受辐照照射粘性受破坏的高分子材料层。
根据本发明实施例的层压件辐照处理系统具有处理层压件效率高、污染小辐照能量损耗少的优点。
在一些实施例中,层压件辐照处理系统还包括调节机构,调节机构用于调节层压件相对辐照发生器的距离和角度。
具体地,调节机构包括承托件和驱动件,承托件用来承托并固定层压件,承托件的中央设置有镂空区域便于辐照发生器产生辐照对层压件进行辐照,驱动件包括转动部和升降部,转动部设置在承托件的两端,转动部与承托件转动连接,转动部通过电机驱动承托件旋转来调节承托件上层压件相对辐照发生器的角度,升降部一端与转动部相连接,升降部另一端可以与辐照机构的辐照发生器相连,升降部通过电动推杆或液压杆等其他直线驱动机构带动转动部和承托件上升和下降来改变承托件与辐照发生器之间的距离。
在一些实施例中,层压件辐照处理系统还包括控制装置,控制装置包括PLC模块,PLC模块与辐照发生器的电源电连接以调节辐照发生器的辐照频率、辐照时长和照射功率。
具体地,PLC模块与辐照发生器的电源相连来对电源进行相应的自动化控制,具体的控制参数可以是电流、电压、频率、幅长和时间等参数。辐照发生器以脉冲氙灯全光谱照射为例,控制模块通过控制电源的能量脉冲式输出效率,从而得到脉冲氙灯理想的照射功率、辐照频率和辐照时长等参数。
在一些实施例中,废气处理装置包括负压抽吸装置和废气降解机构,负压抽吸装置将辐照机构的废气送入废气降解机构。
具体地,负压抽吸装置与辐照机构相连,负压抽吸装置通过抽气形成负压将辐照机构内层压件受辐照产生的废气送入废气降解机构内,废气降解机构对废气中的挥发性气体进行处理达标后排放进入大气环境中,废气降解机构可以是活性炭、等离子净化装置等。
在一些实施例中,冷却装置与辐照发生器相连,冷却装置包括设于辐照发生器的冷却套管。
具体地,辐照发生器以脉冲氙灯为例,冷却装置主要吸收脉冲氙灯的谱带相匹配以外的泵浦光能,达到减小热效应的目的,从而保证脉冲氙灯正常工作。冷却装置可以选择使用灯水套管和棒水套管,对灯和激光棒进行吸热和辐射吸收。
在一些实施例中,辐照发生器包括灯泵浦、发光二极管、射线发生器、电磁波发生器和激光器中的任意一种或多种的组合。
具体地,辐照发生器向层压件发射辐照,层压件的光吸收层吸收辐照粘性降低,便于完整分离层压件的透光层和光吸收层。
在一些实施例中,波导装置包括若干个波导通道,波导通道的一端与辐照发生器贴合,波导通道的另一端邻近层压件。波导装置的波导通道数量可以是一个或者多个。
具体地,波导通道对应辐照发生器,波导通道可以是石英导光块,石英导光块能够降低辐照发生器的辐照能量损耗,更好地照射层压件提高分离效率。波导通道的石英导光块可以与层压件贴合抵接也可以与层压件存在间隙以减小受辐照升温的层压件对波导通道的影响。
根据本发明实施例的层压件辐照处理方法,如图1所示,层压件辐照处理方法包括以下步骤:
将层压件送入层压件辐照处理系统内,调节层压件相对辐照发生器的距离和角度;
启动辐照发生器并辐照层压件预设时间;
移动层压件远离辐照发生器,将层压件的光吸收层与透光层分离。
通过调节层压件相对辐照发生器的距离能够得到更好地辐照效果,以脉冲氙灯全光谱含紫外线照射为例,预设照射高度在10mm以内,照射角度为垂直,照射高度和照射角度根据层压件的种类和层压件的透光层的种类进行改变。
在一些实施例中,层压件的光吸收层为高分子材料。
具体地,层压件为光伏组件,对光伏组件或废弃光伏组件进行回收时,封装材料为光吸收层,封装材料可以是EVA材料,EVA材料受辐照影响粘性降低与光伏组件的光伏玻璃脱离,能够完整回收光伏玻璃。层压件也可以是废旧液晶显示屏。
在一些实施例中,辐照发生器产生的辐照的波段包含150nm-400nm。
具体地,辐照发生器产生的辐照波段为150nm-400nm时对层压件的封装材料的粘性的破坏效果较好,此时辐照能量会被层压件的光吸收层即EVA特异性吸收,对EVA的粘性的破坏效果好。对于其他封装材料可以选择适宜的波段范围对封装材料的粘性进行破坏。
根据本发明实施例的层压件辐照处理方法的技术优势与上述层压件辐照处理系统的技术优势相同,此处不再赘述。
在本发明的描述中,需要理解的是,术语“中心”、“纵向”、“横向”、“长度”、“宽度”、“厚度”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”“内”、“外”、“顺时针”、“逆时针”、“轴向”、“径向”、“周向”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系,仅是为了便于描述本发明和简化描述,而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作,因此不能理解为对本发明的限制。
在本发明中,除非另有明确的规定和限定,术语“安装”、“相连”、“连接”、“固定”等术语应做广义理解,例如,可以是固定连接,也可以是可拆卸连接,或成一体;可以是机械连接,也可以是电连接或彼此可通讯;可以是直接相连,也可以通过中间媒介间接相连,可以是两个元件内部的连通或两个元件的相互作用关系,除非另有明确的限定。对于本领域的普通技术人员而言,可以根据具体情况理解上述术语在本发明中的具体含义。
在本发明中,除非另有明确的规定和限定,第一特征在第二特征“上”或“下”可以是第一和第二特征直接接触,或第一和第二特征通过中间媒介间接接触。而且,第一特征在第二特征“之上”、“上方”和“上面”可是第一特征在第二特征正上方或斜上方,或仅仅表示第一特征水平高度高于第二特征。第一特征在第二特征“之下”、“下方”和“下面”可以是第一特征在第二特征正下方或斜下方,或仅仅表示第一特征水平高度小于第二特征。
在本发明中,术语“一个实施例”、“一些实施例”、“示例”、“具体示例”、或“一些示例”等意指结合该实施例或示例描述的具体特征、结构、材料或者特点包含于本发明的至少一个实施例或示例中。在本说明书中,对上述术语的示意性表述不必须针对的是相同的实施例或示例。而且,描述的具体特征、结构、材料或者特点可以在任一个或多个实施例或示例中以合适的方式结合。此外,在不相互矛盾的情况下,本领域的技术人员可以将本说明书中描述的不同实施例或示例以及不同实施例或示例的特征进行结合和组合。
尽管上面已经示出和描述了本发明的实施例,可以理解的是,上述实施例是示例性的,不能理解为对本发明的限制,本领域普通技术人员对上述实施例进行的变化、修改、替换和变型均在本发明的保护范围内。
Claims (10)
1.一种层压件辐照处理系统,其特征在于,包括:
辐照机构,所述辐照机构包括辐照发生器和波导装置,所述波导装置的一端贴合所述辐照发生器,所述波导装置的另一端邻近层压件;
冷却装置,所述冷却装置与所述辐照发生器相连;和
废气处理装置,所述废气处理装置与所述辐照机构相连通。
2.根据权利要求1所述的层压件辐照处理系统,其特征在于,还包括调节机构,所述调节机构用于调节所述层压件相对所述辐照发生器的距离和角度。
3.根据权利要求1所述的层压件辐照处理系统,其特征在于,还包括控制装置,所述控制装置包括PLC模块,所述PLC模块与所述辐照发生器的电源电连接以调节所述辐照发生器的辐照频率、辐照时长和照射功率。
4.根据权利要求1所述的层压件辐照处理系统,其特征在于,所述废气处理装置包括负压抽吸装置和废气降解机构,所述负压抽吸装置将所述辐照机构的废气送入废气降解机构。
5.根据权利要求1所述的层压件辐照处理系统,其特征在于,所述冷却装置与所述辐照发生器相连,所述冷却装置包括设于辐照发生器的冷却套管。
6.根据权利要求1所述的层压件辐照处理系统,其特征在于,所述辐照发生器包括灯泵浦、发光二极管、射线发生器、电磁波发生器和激光器中的任意一种或多种的组合。
7.根据权利要求1所述的层压件辐照处理系统,其特征在于,所述波导装置包括若干个波导通道,所述波导通道的一端与所述辐照发生器贴合,所述波导通道的另一端邻近所述层压件。
8.一种层压件辐照处理方法,其特征在于,包括以下步骤:
将层压件送入层压件辐照处理系统内,调节所述层压件相对所述辐照发生器的距离和角度;
启动辐照发生器并辐照所述层压件预设时间;
移动所述层压件远离所述辐照发生器,将所述层压件的光吸收层与透光层分离。
9.根据权利要求8所述的层压件辐照处理方法,其特征在于,所述层压件的光吸收层包括高分子材料层。
10.根据权利要求8所述的层压件辐照处理方法,其特征在于,所述辐照发生器产生的辐照的波段包括150nm-400nm波段。
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